DE102018111827A1 - Strukturiertes selbstreinigendes foliensystem und verfahren zur herstellung desselben - Google Patents
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- 238000004140 cleaning Methods 0.000 title claims abstract description 121
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 14
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title description 2
- 239000010410 layer Substances 0.000 claims abstract description 115
- 239000000463 material Substances 0.000 claims abstract description 82
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 68
- 230000001699 photocatalysis Effects 0.000 claims abstract description 46
- 239000002356 single layer Substances 0.000 claims abstract description 39
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 32
- 230000003667 anti-reflective effect Effects 0.000 claims abstract description 31
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 29
- 239000004408 titanium dioxide Substances 0.000 claims abstract description 26
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 claims abstract description 16
- 235000012239 silicon dioxide Nutrition 0.000 claims abstract description 16
- 150000002484 inorganic compounds Chemical class 0.000 claims abstract description 9
- 229910010272 inorganic material Inorganic materials 0.000 claims abstract description 9
- 150000004812 organic fluorine compounds Chemical class 0.000 claims abstract description 9
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 18
- YYGNTYWPHWGJRM-UHFFFAOYSA-N (6E,10E,14E,18E)-2,6,10,15,19,23-hexamethyltetracosa-2,6,10,14,18,22-hexaene Chemical compound CC(C)=CCCC(C)=CCCC(C)=CCCC=C(C)CCC=C(C)CCC=C(C)C YYGNTYWPHWGJRM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 17
- BHEOSNUKNHRBNM-UHFFFAOYSA-N Tetramethylsqualene Natural products CC(=C)C(C)CCC(=C)C(C)CCC(C)=CCCC=C(C)CCC(C)C(=C)CCC(C)C(C)=C BHEOSNUKNHRBNM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 17
- PRAKJMSDJKAYCZ-UHFFFAOYSA-N dodecahydrosqualene Natural products CC(C)CCCC(C)CCCC(C)CCCCC(C)CCCC(C)CCCC(C)C PRAKJMSDJKAYCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 17
- 229940031439 squalene Drugs 0.000 claims description 17
- TUHBEKDERLKLEC-UHFFFAOYSA-N squalene Natural products CC(=CCCC(=CCCC(=CCCC=C(/C)CCC=C(/C)CC=C(C)C)C)C)C TUHBEKDERLKLEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 17
- 239000002086 nanomaterial Substances 0.000 claims description 16
- 238000001755 magnetron sputter deposition Methods 0.000 claims description 14
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 claims description 13
- 239000004332 silver Substances 0.000 claims description 13
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 9
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 claims description 9
- 238000001020 plasma etching Methods 0.000 claims description 7
- 238000000151 deposition Methods 0.000 claims description 6
- 239000010408 film Substances 0.000 description 91
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 13
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 13
- 239000003921 oil Substances 0.000 description 13
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 11
- 230000005670 electromagnetic radiation Effects 0.000 description 10
- 239000011368 organic material Substances 0.000 description 7
- KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N Palladium Chemical compound [Pd] KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000000356 contaminant Substances 0.000 description 4
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 4
- 239000011888 foil Substances 0.000 description 4
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 4
- 238000013032 photocatalytic reaction Methods 0.000 description 4
- XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N tin dioxide Chemical class O=[Sn]=O XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000011941 photocatalyst Substances 0.000 description 3
- 230000003075 superhydrophobic effect Effects 0.000 description 3
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004215 Carbon black (E152) Substances 0.000 description 2
- CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N Carbon dioxide Chemical compound O=C=O CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N Fluorine atom Chemical compound [F] YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical compound [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KJTLSVCANCCWHF-UHFFFAOYSA-N Ruthenium Chemical compound [Ru] KJTLSVCANCCWHF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N Zinc monoxide Chemical compound [Zn]=O XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000011149 active material Substances 0.000 description 2
- 230000000845 anti-microbial effect Effects 0.000 description 2
- 239000006117 anti-reflective coating Substances 0.000 description 2
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000008199 coating composition Substances 0.000 description 2
- 235000014113 dietary fatty acids Nutrition 0.000 description 2
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 description 2
- 239000000194 fatty acid Substances 0.000 description 2
- 229930195729 fatty acid Natural products 0.000 description 2
- 150000004665 fatty acids Chemical class 0.000 description 2
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 description 2
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 2
- 229930195733 hydrocarbon Natural products 0.000 description 2
- 150000002430 hydrocarbons Chemical class 0.000 description 2
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 2
- 230000000813 microbial effect Effects 0.000 description 2
- 239000002105 nanoparticle Substances 0.000 description 2
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 2
- 229910052763 palladium Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 2
- BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N platinum Chemical compound [Pt] BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- -1 polytetrafluoroethylene Polymers 0.000 description 2
- 238000005215 recombination Methods 0.000 description 2
- 230000006798 recombination Effects 0.000 description 2
- 229910052707 ruthenium Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 2
- ZOXJGFHDIHLPTG-UHFFFAOYSA-N Boron Chemical compound [B] ZOXJGFHDIHLPTG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920002284 Cellulose triacetate Polymers 0.000 description 1
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N Molybdenum Chemical compound [Mo] ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N Potassium Chemical compound [K] ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N Sulfur Chemical compound [S] NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NNLVGZFZQQXQNW-ADJNRHBOSA-N [(2r,3r,4s,5r,6s)-4,5-diacetyloxy-3-[(2s,3r,4s,5r,6r)-3,4,5-triacetyloxy-6-(acetyloxymethyl)oxan-2-yl]oxy-6-[(2r,3r,4s,5r,6s)-4,5,6-triacetyloxy-2-(acetyloxymethyl)oxan-3-yl]oxyoxan-2-yl]methyl acetate Chemical compound O([C@@H]1O[C@@H]([C@H]([C@H](OC(C)=O)[C@H]1OC(C)=O)O[C@H]1[C@@H]([C@@H](OC(C)=O)[C@H](OC(C)=O)[C@@H](COC(C)=O)O1)OC(C)=O)COC(=O)C)[C@@H]1[C@@H](COC(C)=O)O[C@@H](OC(C)=O)[C@H](OC(C)=O)[C@H]1OC(C)=O NNLVGZFZQQXQNW-ADJNRHBOSA-N 0.000 description 1
- 238000004026 adhesive bonding Methods 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 229910000416 bismuth oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052796 boron Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 description 1
- 229910002092 carbon dioxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001569 carbon dioxide Substances 0.000 description 1
- 238000006555 catalytic reaction Methods 0.000 description 1
- 230000001413 cellular effect Effects 0.000 description 1
- 230000008859 change Effects 0.000 description 1
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011651 chromium Substances 0.000 description 1
- 230000003749 cleanliness Effects 0.000 description 1
- 229910017052 cobalt Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010941 cobalt Substances 0.000 description 1
- GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N cobalt atom Chemical compound [Co] GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000010276 construction Methods 0.000 description 1
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 1
- 238000000354 decomposition reaction Methods 0.000 description 1
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 1
- TYIXMATWDRGMPF-UHFFFAOYSA-N dibismuth;oxygen(2-) Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[Bi+3].[Bi+3] TYIXMATWDRGMPF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000010411 electrocatalyst Substances 0.000 description 1
- 230000007613 environmental effect Effects 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- 230000002209 hydrophobic effect Effects 0.000 description 1
- TUJKJAMUKRIRHC-UHFFFAOYSA-N hydroxyl Chemical compound [OH] TUJKJAMUKRIRHC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PNDPGZBMCMUPRI-UHFFFAOYSA-N iodine Chemical compound II PNDPGZBMCMUPRI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052746 lanthanum Inorganic materials 0.000 description 1
- FZLIPJUXYLNCLC-UHFFFAOYSA-N lanthanum atom Chemical compound [La] FZLIPJUXYLNCLC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 description 1
- VUZPPFZMUPKLLV-UHFFFAOYSA-N methane;hydrate Chemical compound C.O VUZPPFZMUPKLLV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052750 molybdenum Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011733 molybdenum Substances 0.000 description 1
- 229910052758 niobium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010955 niobium Substances 0.000 description 1
- GUCVJGMIXFAOAE-UHFFFAOYSA-N niobium atom Chemical compound [Nb] GUCVJGMIXFAOAE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052755 nonmetal Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002894 organic compounds Chemical class 0.000 description 1
- 239000005416 organic matter Substances 0.000 description 1
- 239000007800 oxidant agent Substances 0.000 description 1
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 1
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 1
- 230000001590 oxidative effect Effects 0.000 description 1
- 244000052769 pathogen Species 0.000 description 1
- 150000003904 phospholipids Chemical class 0.000 description 1
- 239000004033 plastic Substances 0.000 description 1
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004417 polycarbonate Substances 0.000 description 1
- 229920000515 polycarbonate Polymers 0.000 description 1
- 229920001343 polytetrafluoroethylene Polymers 0.000 description 1
- 239000004810 polytetrafluoroethylene Substances 0.000 description 1
- 229910052700 potassium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011591 potassium Substances 0.000 description 1
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 description 1
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 1
- 239000000376 reactant Substances 0.000 description 1
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 1
- 239000005871 repellent Substances 0.000 description 1
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 1
- 230000003595 spectral effect Effects 0.000 description 1
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 1
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011593 sulfur Substances 0.000 description 1
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 1
- 229910001887 tin oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000007704 transition Effects 0.000 description 1
- 239000012780 transparent material Substances 0.000 description 1
- 229910052720 vanadium Inorganic materials 0.000 description 1
- GPPXJZIENCGNKB-UHFFFAOYSA-N vanadium Chemical compound [V]#[V] GPPXJZIENCGNKB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000008016 vaporization Effects 0.000 description 1
- 239000011787 zinc oxide Substances 0.000 description 1
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Abstract
Ein selbstreinigendes Foliensystem enthält ein Substrat und eine Antireflexschicht, die auf dem Substrat angeordnet ist. Die Antireflexschicht enthält eine erste Schicht, die aus Titandioxid gebildet ist, eine zweite Schicht, die aus Siliziumdioxid gebildet und auf der ersten Schicht angeordnet ist, und eine dritte Schicht, die aus Titandioxid gebildet und auf der zweiten Schicht angeordnet ist. Das System umfasst eine selbstreinigende Folie, die auf der Antireflexschicht angeordnet ist und eine Monoschicht enthält, die auf der dritten Schicht angeordnet und aus einem fluorierten Material gebildet ist, das aus fluorierten organischen Verbindungen, fluorierten anorganischen Verbindungen und Kombinationen davon besteht. Die selbstreinigende Folie umfasst eine erste Vielzahl von Bereichen, die innerhalb der Monoschicht angeordnet sind, sodass jede der ersten Vielzahl von Bereichen an das fluorierte Material angrenzt und von diesem umgeben ist und ein photokatalytisches Material umfasst.
Description
- EINLEITUNG
- Die Offenbarung betrifft ein selbstreinigendes Foliensystem und ein Verfahren zum Bilden des selbstreinigenden Foliensystems.
- Vorrichtungen, wie zum Beispiel Anzeigesysteme, sind oft so ausgelegt, dass sie von einem Bediener berührt werden können. Zum Beispiel kann ein Fahrzeug ein Anzeigesystem umfassen, das einem Bediener Informationen über einen Touchscreen präsentiert. In ähnlicher Weise kann ein Geldautomat oder Kiosk ein Anzeigesystem umfassen, das durch Berührung aktiviert wird.
- Andere Vorrichtungen, wie z. B. Kameras und Brillen, umfassen im Allgemeinen eine Linsenoberfläche, die während der Verwendung unbeabsichtigt von einem Bediener berührt werden kann. Ferner können andere Vorrichtungen wie Fahrzeuge, Fenster, Spiegel, Geräte, Mobiliar, Möbel, Mobiltelefone, Fingerabdruckscanner, Sensoren, Kopierer, medizinische Instrumente und Arbeitsplatten auch eine oder mehrere Oberflächen aufweisen, die von einem Bediener berührt werden können. Daher kann ein Bediener während der Verwendung Fingerabdrücke und/oder Öle auf solche Vorrichtungen und Oberflächen hinterlassen.
- KURZDARSTELLUNG
- Ein selbstreinigendes Foliensystem enthält ein Substrat und eine Antireflexschicht, die auf dem Substrat angeordnet ist. Die Antireflexschicht enthält eine erste Schicht, die aus Titandioxid gebildet ist, eine zweite Schicht, die aus Silziumdioxid gebildet und auf der ersten Schicht angeordnet ist, und eine dritte Schicht, die aus Titandioxid gebildet und auf der zweiten Schicht angeordnet ist. Das selbstreinigende Foliensystem umfasst auch eine selbstreinigende Folie, die auf der Antireflexschicht angeordnet ist und eine Monoschicht enthält, die auf der dritten Schicht angeordnet ist und aus einem fluorierten Material gebildet ist, das aus fluorierten organischen Verbindungen, fluorierten anorganischen Verbindungen und Kombinationen davon besteht. Die selbstreinigende Folie umfasst auch eine erste Vielzahl von Bereichen, die innerhalb der Monoschicht angeordnet sind, sodass jeder der ersten Vielzahl von Bereichen an das fluorierte Material angrenzt und von diesem umgeben ist, wobei jeder der ersten Vielzahl von Bereichen ein photokatalytisches Material umfasst.
- In einem Aspekt kann die selbstreinigende Folie eine erste Fläche und eine zweite Fläche aufweisen, die gegenüber der ersten Fläche beabstandet ist und an die Antireflexschicht angrenzen. Die erste Fläche kann im Wesentlichen frei von Squalen und Wasser sein.
- Das Substrat kann eine proximale Fläche aufweisen, die an der Antireflexschicht anliegt, eine distale Fläche, die gegenüber der proximalen Fläche beabstandet ist, eine erste Kante, die die proximale Fläche und die distale Fläche verbindet, und eine zweite Kante, die gegenüber der ersten Kante beabstandet ist.
- In einem anderen Aspekt kann das selbstreinigende Foliensystem ferner eine Lichtquelle umfassen, die angrenzend an die erste Kante angeordnet und zum Emittieren elektromagnetischer Strahlung konfiguriert ist. Die elektromagnetische Strahlung kann eine Wellenlänge von 400 nm bis 100 nm aufweisen. Alternativ kann die elektromagnetische Strahlung eine Wellenlänge von 740 nm bis 380 nm aufweisen.
- Die selbstreinigende Folie kann einen Kontaktwinkel mit Wasser von mehr als 140° definieren. Das photokatalytische Material kann Titandioxid sein und kann in Rutilform vorliegen. In einem anderen Aspekt kann das photokatalytische Material Titandioxid sein und kann in einer Anatasform vorliegen. Alternativ kann das photokatalytische Material Titandioxid sein und kann als eine Kombination der Rutilform und der Anatasform vorliegen.
- In einem zusätzlichen Aspekt kann das photokatalytische Material mit Silber dotiert sein. Alternativ kann das selbstreinigende Foliensystem ferner eine zweite Vielzahl von Bereichen umfassen, die innerhalb der Monoschicht angeordnet sind, sodass jeder der zweiten Vielzahl von Bereichen an das fluorierte Material angrenzt und von diesem umgeben ist. Jede der zweiten Vielzahl von Bereichen kann Silber enthalten. In einem Aspekt ist das fluorierte Material fluorierter diamantartiger Kohlenstoff.
- In noch einem anderen Aspekt kann die Monoschicht eine Textur aufweisen, die durch eine Kombination einer Vielzahl von Mikrostrukturen und einer Vielzahl von Nanostrukturen definiert ist.
- In einem weiteren Aspekt kann die Antireflexschicht ferner eine vierte Schicht umfassen, die auf der dritten Schicht angeordnet und aus Siliziumdioxid gebildet ist. Die erste Schicht kann eine erste Dicke aufweisen, die zweite Schicht kann eine zweite Dicke aufweisen, die größer als die erste Dicke ist, und die dritte Schicht kann eine dritte Dicke aufweisen, die größer als die erste Dicke und die zweite Dicke ist.
- In einer anderen Ausführungsform umfasst ein selbstreinigendes Foliensystem ein Substrat und eine Antireflexschicht, die auf dem Substrat angeordnet ist. Die Antireflexschicht enthält eine erste Schicht, die aus Titandioxid gebildet ist, eine zweite Schicht, die aus Siliziumdioxid gebildet und auf der ersten Schicht angeordnet ist, und eine dritte Schicht, die aus Titandioxid gebildet und auf der zweiten Schicht angeordnet ist. Die erste Schicht hat eine erste Dicke, die zweite Schicht hat eine zweite Dicke, die größer als die erste Dicke ist, und die dritte Schicht hat eine dritte Dicke, die größer als die erste Dicke und die zweite Dicke ist. Das selbstreinigende Foliensystem umfasst auch eine selbstreinigende Folie, die auf der Antireflexschicht angeordnet ist und eine Monoschicht enthält, die auf der dritten Schicht angeordnet ist und aus einem fluorierten Material gebildet ist, das aus fluorierten organischen Verbindungen, fluorierten anorganischen Verbindungen und Kombinationen davon besteht. Die Monoschicht hat eine Textur, die durch eine Vielzahl von voneinander entlang der Monoschicht beabstandeten Mikrostrukturen definiert ist, und eine Vielzahl von Nanostrukturen, die auf jeder der Vielzahl von Mikrostrukturen angeordnet sind. Die selbstreinigende Folie umfasst auch eine erste Vielzahl von Bereichen, die innerhalb der Monoschicht angeordnet sind, sodass jeder der ersten Vielzahl von Bereichen an das fluorierte Material angrenzt und von diesem umgeben ist, wobei jeder der ersten Vielzahl von Bereichen ein photokatalytisches Material umfasst.
- In einem Aspekt weist jede der Vielzahl von Mikrostrukturen eine konische Form und eine erste Höhe von 0,5 µm bis 2 µm auf, und ferner weist jede der Vielzahl von Nanostrukturen eine zweite Höhe von 1 nm bis 4 nm auf. In einem anderen Aspekt kann die Antireflexschicht ferner eine vierte Schicht aufweisen, die auf der dritten Schicht angeordnet und aus Siliziumdioxid gebildet ist.
- Ein Verfahren zum Bilden einer selbstreinigenden Folie umfasst das Abscheiden einer Antireflexschicht auf einem Substrat. Die Antireflexschicht enthält eine erste Schicht, die aus Titandioxid gebildet ist, eine zweite Schicht, die aus Siliziumdioxid gebildet und auf der ersten Schicht angeordnet ist, eine dritte Schicht, die aus Titandioxid gebildet und auf der zweiten Schicht angeordnet ist. Das Verfahren umfasst ferner Magnetron-Sputtern einer selbstreinigenden Folie auf der Antireflexschicht. Die selbstreinigende Folie umfasst eine Monoschicht, die auf der dritten Schicht angeordnet und aus einem fluorierten Material gebildet ist, das aus der Gruppe ausgewählt ist, die aus fluorierten organischen Verbindungen, fluorierten anorganischen Verbindungen und Kombinationen davon besteht. Die selbstreinigende Folie umfasst auch eine erste Vielzahl von Bereichen, die innerhalb der Monoschicht angeordnet sind, sodass jeder der ersten Vielzahl von Bereichen an das fluorierte Material angrenzt und von diesem umgeben ist. Jede der ersten Vielzahl von Bereichen umfasst ein photokatalytisches Material. Das Verfahren umfasst, nach dem Magnetron-Sputtern, auch das reaktive Ionenätzen der selbstreinigenden Folie mit SF6-O2-Gas, um eine Textur zu erzeugen, die durch eine Vielzahl von voneinander entlang der Monoschicht beabstandeten Mikrostrukturen definiert ist, und eine Vielzahl von Nanostrukturen, die auf jeder der Vielzahl von Mikrostrukturen angeordnet sind.
- In einem Aspekt umfasst das reaktive Ionenätzen das Ausbilden jeder der Vielzahl von Mikrostrukturen mit einer konischen Form und einer ersten Höhe von 0,5 µm bis 2 µm und das Ausbilden jeder der mehreren Nanostrukturen mit einer zweiten Höhe von 1 nm bis 4 nm.
- Die vorstehend genannten Funktionen und Vorteile sowie andere Funktionen und Vorteile der vorliegenden Offenbarung gehen aus der folgenden ausführlichen Beschreibung der bestmöglichen praktischen Umsetzung der dargestellten Offenbarung in Verbindung mit den zugehörigen Zeichnungen hervor.
- Figurenliste
-
-
1 ist eine schematische Darstellung einer perspektivischen Ansicht eines selbstreinigenden Foliensystems. -
2 ist eine schematische Darstellung einer Querschnittsansicht des selbstreinigenden Foliensystems von1 entlang der Linie 2-2. -
3 ist eine schematische Darstellung einer perspektivischen Ansicht einer anderen Ausführungsform des selbstreinigenden Foliensystems von1 . -
4 ist eine schematische Darstellung einer vergrößerten Ansicht einer Fläche der selbstreinigenden Foliensysteme der1 und3 . -
5 ist eine schematische Darstellung eines Verfahrens zum Ausbilden des selbstreinigenden Foliensystems der1 und3 . - AUSFÜHRLICHE BESCHREIBUNG
- Unter Bezugnahme auf die Figuren, in denen sich gleiche Referenznummern auf gleiche Elemente beziehen, ist ein selbstreinigendes Foliensystem
10 ,110 allgemein in1 und3 gezeigt. Das selbstreinigende Foliensystem10 ,110 kann für Anwendungen geeignet sein, bei denen ein Bediener Fingerabdrücke, Öle und/oder andere organische oder kohlenstoffbasierte Verunreinigungen oder Krankheitserreger100 (4 ) auf einem Bildschirm, einer Linse, oder Oberfläche hinterlässt. Insbesondere kann das selbstreinigende Foliensystem10 ,110 für Anwendungen nützlich sein, die einen sauberen, im Wesentlichen ölfreien, fingerabdruckfreien und wasserfreien Bildschirm, eine Linse oder eine Oberfläche erfordern. Das heißt, das selbstreinigende Foliensystem10 ,110 kann zum Entfernen von Fingerabdrücken und anderen organischen Verunreinigungen100 von solchen Schirmen, Linsen oder Oberflächen nützlich sein und kann als superoleophob und superhydrophob charakterisiert werden. - Zum Beispiel kann das selbstreinigende Foliensystem
10 ,110 für Automobilanwendungen nützlich sein, wie beispielsweise im Armaturenbrett befindliche Navigationssysteme mit einem Touchscreen, Fahrzeugkameras mit einer Linse, Fahrzeugspiegel und Fahrzeuginnenflächen. Alternativ kann das selbstreinigende Foliensystem10 ,110 für nicht-automobile Anwendungen, wie z. B. Unterhaltungselektronik, Mobiltelefone, Brillen, persönliche Schutzausrüstung, Geräte, Möbel, Kioske, Fingerabdruckscanner, medizinische Geräte, Sensoren, Flugzeuge und Industriefahrzeuge nützlich sein. - Bezugnehmend auf
1 umfasst das selbstreinigende Foliensystem10 ein Substrat12 . Das Substrat12 kann aus einem glasartigen, transparenten Material gebildet sein, das zum Brechen von sichtbarem Licht geeignet ist. Beispielsweise kann in einer Ausführungsform das Substrat12 aus Siliziumdioxid gebildet sein. In einem anderen Beispiel kann das Substrat12 aus einem Polycarbonat oder einem anderen Kunststoff gebildet sein. In einer Ausführungsform kann das Substrat12 aus Cellulosetriacetat gebildet sein. Das Substrat12 kann eine geeignete Substratdicke14 (2 ) gemäß einer gewünschten Anwendung des selbstreinigenden Foliensystems10 aufweisen. Beispielsweise kann das Substrat12 eine Substratdicke14 von 100 nm bis 500 nm aufweisen. Im Allgemeinen kann das Substrat12 als nicht einschränkende Beispiele als ein Bildschirm eines Anzeigesystems, eine Linse einer Brille oder einer Schutzbrille, ein Visier eines Helms, eine Oberfläche eines Kühlschranks oder eine Vorderseite eines Gehäuses, eine Türverkleidung eines Fahrzeugs, ein Touchscreen eines Kiosk oder als eine andere Oberfläche oder ein anderes Gerät konfiguriert sein, das von einem Bediener berührt werden kann. - Ein selbstreinigendes Foliensystem
10 enthält auch eine auf dem Substrat12 angeordnete Antireflexschicht16 . Die Antireflexschicht16 kann konfiguriert sein, um eine Reflexion von dem selbstreinigenden Foliensystem10 zu reduzieren und dadurch eine Effizienz des selbstreinigenden Foliensystems10 zu verbessern, da verlorenes Licht in dem System10 minimiert werden kann. Somit weist das selbstreinigende Foliensystem10 sowohl selbstreinigende Fähigkeiten als auch eine vergleichsweise geringe Reflexion auf. Die Antireflexschicht16 kann aus einer Antireflexbeschichtung gebildet sein, die alternierende Schichten18 ,20 ,22 aus Siliziumdioxid und Titandioxid aufweist. Jede der alternierenden Schichten18 ,20 ,22 aus Siliziumdioxid und Titandioxid kann eine Dicke26 ,28 ,30 (2 ) von 5 nm bis 125 nm aufweisen. Ferner kann die Dicke26 ,28 ,30 jeder Schicht18 ,20 ,22 wie unten dargelegt optimiert werden, um eine Breitband-Spektralleistung über breite Einfallswinkel zu erreichen. - Zum Beispiel, wie mit Bezug auf
2 beschrieben wurde, umfasst die Antireflexschicht16 eine erste Schicht18 , die aus Titandioxid gebildet ist. Die erste Schicht18 kann eine erste Dicke26 von 5 nm bis 25 nm, z. B. 10 nm, aufweisen und kann einen vergleichsweise niedrigen Brechungsindex aufweisen. Die Antireflexschicht16 umfasst eine zweite Schicht20 , die aus Siliziumdioxid gebildet und auf der ersten Schicht18 angeordnet ist. Die zweite Schicht20 kann eine zweite Dicke28 aufweisen, die größer als die erste Dicke26 ist, und einen vergleichsweise hohen Brechungsindex aufweist. Zum Beispiel kann die zweite Dicke28 von 20 nm bis 45 nm, z. B. 33 nm, aufweisen. Die Antireflexschicht16 umfasst eine dritte Schicht22 , die aus Titandioxid gebildet und auf der zweiten Schicht20 angeordnet ist. Die dritte Schicht22 kann eine dritte Dicke30 aufweisen, die größer als die erste Dicke26 und die zweite Dicke28 ist, und einen vergleichsweise niedrigen Brechungsindex aufweist. Die dritte Dicke30 kann 50 nm bis 200 nm, z. B. 100 nm, betragen. Obwohl nicht gezeigt, kann die Antireflexschicht16 auch mehr als drei Schichten18 ,20 ,22 umfassen. Zum Beispiel kann, in einer Ausführungsform, die mit Bezug auf3 beschrieben wurde, die Antireflexschicht16 eine vierte Schicht24 enthalten, die auf der dritten Schicht22 angeordnet ist. Die vierte Schicht24 kann aus Siliziumdioxid gebildet sein und kann eine vierte Dicke32 von 50 nm bis 150 nm, z. B. 75 nm, aufweisen. Die vierte Schicht24 kann einen vergleichsweise hohen Brechungsindex aufweisen. In einer Ausführungsform ist die vierte Dicke32 kleiner als die dritte Dicke30 und größer als die zweite Dicke28 . - Unter erneuter Bezugnahme auf
1 umfasst das selbstreinigende Foliensystem10 auch eine selbstreinigende Folie34 , die auf der Antireflexschicht16 angeordnet ist, z. B. chemisch mit der Antireflexschicht16 verbunden ist, wie nachstehend ausführlicher dargelegt wird. Die selbstreinigende Folie34 kann dazu ausgelegt sein, das Substrat12 und die Antireflexschicht16 vor Fingerabdrücken, Ölen und organischen Verunreinigungen100 abzudecken und zu schützen (4 ). Das heißt, die selbstreinigende Folie34 kann konfiguriert sein, um zu bewirken, dass Fingerabdrücke, Öle, Wasser und organische Verunreinigungen100 , die sich auf der selbstreinigenden Folie34 ablagern, verschwinden oder verdampfen, sodass für die Anzeige von scharfen Bildern oder Reflexionen ein sauberes Substrat12 erhalten bleibt. Insbesondere kann die selbstreinigende Folie34 in einigen Ausführungsformen eine oberste Schicht der Antireflexschicht16 ersetzen, um so Antireflex- und Selbstreinigungsfähigkeiten in eine einzige Schicht zu integrieren. Somit kann das selbstreinigende Foliensystem10 die Komplexität und die Herstellung und das Design des Schichtstapels minimieren. Beispielsweise können die Klebezeit und die Materialverbrauchskosten für das selbstreinigende Foliensystem10 vergleichsweise niedriger sein. - Genauer gesagt, wie mit Bezug auf
2 beschrieben wurde, kann die selbstreinigende Folie34 eine erste Fläche36 und eine zweite Fläche38 aufweisen, die gegenüber der ersten Fläche36 beabstandet ist. Die zweite Fläche38 kann an die Antireflexschicht16 angrenzen, und die erste Fläche36 kann im Wesentlichen frei von Squalen und Wasser, organischem Material und/oder anderen Ölen von Fettsäuren sein. Wie hierin verwendet, bezieht sich die Terminologie Squalen auf eine organische Verbindung mit 30 Kohlenstoffatomen, die durch den Namen der Internationalen Union für reine und angewandte Chemie (6E ,10E ,14E ,18E )-2,6, 10,15, 19,23 -Hexamethyltetracosa-2,6,10,14,18,22-hexaen repräsentiert wird. Im Allgemeinen kann die selbstreinigende Folie34 als eine dünne Folie charakterisiert werden und kann eine Foliendicke40 von beispielsweise 5 nm bis 30 nm, wie etwa 10 nm, aufweisen. - Das Substrat
12 kann auch eine proximale Fläche42 aufweisen, die an die Antireflexschicht16 angrenzt, und eine distale Fläche44 , die gegenüber der proximalen Fläche42 beabstandet ist. Daher sind das Substrat12 , die Antireflexschicht16 und die selbstreinigende Folie34 konfiguriert, sichtbares Licht durch die proximale Fläche42 , die distale Fläche44 , die erste Fläche36 und die zweite Fläche38 zu übertragen. Das Substrat12 kann auch eine erste Kante46 aufweisen, die die proximale Fläche42 und die distale Fläche44 verbindet, und eine zweite Kante48 , die gegenüber der ersten Kante46 beabstandet ist. - Die selbstreinigende Folie
34 kann einen Kontaktwinkel50 mit Wasser von größer als oder gleich 115°, z. B. mehr als 140° definieren. Beispielsweise kann die selbstreinigende Folie34 einen Kontaktwinkel50 mit Wasser von größer als oder gleich 150° definieren. Somit können Wasser, Öle und Verunreinigungen100 (4 ) effektiv auf der ersten Fläche36 Tropfen formen und sich über diese hinweg bewegen. Anders ausgedrückt, Wasser, Öle und Verunreinigungen100 können beweglich sein und sich entlang der ersten Fläche36 wirksam derart bewegen, dass die selbstreinigende Folie34 superoleophob und superhydrophob ist. - Unter Bezugnahme auf
2 kann das selbstreinigende Foliensystem10 ferner eine Lichtquelle52 umfassen, die angrenzend an die erste Kante46 angeordnet und zum Emittieren elektromagnetischer Strahlung konfiguriert ist. So kann die Lichtquelle52 beispielsweise eine Ultraviolettlicht emittierende Diode sein und die elektromagnetische Strahlung kann eine Wellenlänge von 400 nm bis 100 nm aufweisen. Alternativ kann die Lichtquelle52 eine Glühbirne oder eine sichtbares Licht emittierende Diode sein und die elektromagnetische Strahlung kann eine Wellenlänge von 740 nm bis 380 nm aufweisen. - Die selbstreinigende Folie
34 ist aus einer selbstreinigenden Beschichtungszusammensetzung gebildet. Das heißt, die selbstreinigende Folie34 kann Fingerabdrücke, Wasser und Ölablagerungen abschwächen, d. h. sich selbst reinigen. Die selbstreinigende Beschichtungszusammensetzung und die selbstreinigende Folie34 umfassen ein photokatalytisches Material54 (1 ) und ein fluoriertes Material56 (1 ), wie nachstehend ausführlicher dargelegt wird. - Unter jetziger Bezugnahme auf
1 beinhaltet die selbstreinigende Folie34 eine auf der dritten Schicht22 angeordnete Monoschicht58 , die aus einem fluorierten Material56 , ausgewählt aus der Gruppe bestehend aus fluorierten organischen Verbindungen, fluorierten anorganischen Verbindungen und Kombinationen davon, gebildet ist. Wie am besten in1 gezeigt kann die Monoschicht58 einen Großteil der selbstreinigenden Folie34 bilden und kann als ein Monoschicht-Feld charakterisiert werden. Wie hierin verwendet, bezieht sich der Ausdruck Monoschicht auf eine Schicht mit einer Dicke40 (2 ) eines Moleküls. Das heißt, die Monoschicht58 ist ein Molekül dick und kann als eine dünne Schicht charakterisiert werden. In einer Ausführungsform ist das fluorierte Material fluorierter diamantartiger Kohlenstoff. In einer anderen Ausführungsform ist das fluorierte Material fluoriertes Zinn-(IV)-Oxid. Das fluorierte Material, d. h. fluorierte organische Verbindungen, fluorierte anorganische Verbindungen und Kombinationen davon, wie fluorierter diamantartiger Kohlenstoff oder fluoriertes Zinn-(IV)-Oxid, verleiht der selbstreinigenden Folie34 Superhydrophobie, Wasserbeständigkeit und antimikrobielle Eigenschaften, schmutzabweisende Eigenschaften und Kratzfestigkeit. Die selbstreinigende Folie34 kann auch zu einer sauberen Luftqualität einer Umgebung beitragen, in der die selbstreinigende Folie34 verwendet wird. - Wie in
1 dargestellt, kann die selbstreinigende Folie34 ferner eine erste Vielzahl von Bereichen62 umfassen, die innerhalb der Monoschicht58 angeordnet sind, sodass jeder der ersten Vielzahl von Bereichen62 an das fluorierte Material angrenzt und von diesem umgeben ist. Das heißt, die erste Vielzahl von Bereichen62 kann innerhalb und entlang der Monoschicht58 angeordnet sein. In einer Ausführungsform kann die erste Vielzahl von Bereichen62 entlang der ersten Fläche36 gleichmäßig voneinander beabstandet sein. In anderen Ausführungsformen kann die erste Vielzahl von Bereichen62 zufällig entlang der Monoschicht58 entlang der ersten Fläche36 beabstandet sein. In noch anderen Ausführungsformen kann die erste Vielzahl von Bereichen62 in einem Muster innerhalb der Monoschicht58 angeordnet sein. Die erste Vielzahl von Bereichen62 kann in der selbstreinigenden Folie34 in einer Menge von etwa 10 Volumenteilen bis etwa 85 Volumenteilen, bezogen auf 100 Volumenteile der selbstreinigenden Folie34 , z. B. etwa 50 Volumenteile bezogen auf 100 Volumenteile der selbstreinigenden Folie34 , vorhanden sein. - Jede der ersten Vielzahl von Bereichen
62 umfasst ein photokatalytisches Material, wie etwa Titandioxid. Das photokatalytische Material54 kann eine selbstreinigende Folie34 bereitstellen, die sich selbst reinigen kann. Das heißt, das photokatalytische Material54 kann organisches Material, z. B. Squalen, das auf der ersten Fläche36 der selbstreinigenden Folie34 vorhanden ist, oxidieren und/oder verdampfen, wie nachstehend ausführlicher dargelegt wird. Insbesondere kann das photokatalytische Material54 ein lichtaktivierter Photokatalysator bei Belichtung mit beispielsweise sichtbarem oder ultraviolettem Licht sein. - Geeignete photokatalytisch Materialien
54 können beinhalten, sind aber nicht beschränkt auf, photooxidative Halbleiter, halbleitende Oxide, dotierte Metalloxide, Heteroübergangsmaterialien und Kombinationen davon. - In einer Ausführungsform kann das photokatalytische Material
54 Titandioxid sein und kann in der ersten Vielzahl von Bereichen62 in einer Rutilform vorliegen. Alternativ kann das photokatalytische Material54 Titandioxid sein und kann in der ersten Vielzahl von Bereichen62 in einer Anatasform vorliegen, die eine vergleichsweise höhere photokatalytische Aktivität als die Rutilform aufweisen kann. In anderen Ausführungsformen kann das photokatalytische Material54 Titandioxid sein und kann in der ersten Vielzahl von Bereichen62 als eine Kombination der Rutilform und der Anatasform vorliegen. Ferner kann das photokatalytische Material54 dotiert sein, um ein funktionalisiertes photokatalytisches Material, z. B. funktionalisiertes Titandioxid, zu bilden. Zum Beispiel kann das funktionalisierte photokatalytische Material mit einem Metall wie etwa Chrom, Kobalt, Kupfer, Vanadium, Eisen, Silber, Platin, Molybdän, Lanthan, Niob und Kombinationen davon dotiert sein, ist aber nicht darauf beschränkt. In einer Ausführungsform kann das photokatalytische Material54 mit Silber dotiert sein. Alternativ kann das photokatalytische Material mit einem Nichtmetall dotiert sein, wie, jedoch nicht beschränkt auf, Stickstoff, Schwefel, Kohlenstoff, Bor, Kalium, Iod, Fluor und Kombinationen davon. - Das photokatalytische Material
54 kann als ein Nanopartikel charakterisiert werden und kann einen durchschnittlichen Durchmesser aufweisen, der im Nanometerbereich messbar ist. Alternativ kann das photokatalytische Material54 als ein Partikel charakterisiert werden und einen durchschnittlichen Durchmesser aufweisen, der im Mikrometermaßstab gemessen werden kann. Im Allgemeinen kann das photokatalytische Material54 in der selbstreinigenden Folie34 in einer Menge von etwa 2 Volumenteilen bis etwa 35 Volumenteilen vorhanden sein, bezogen auf 100 Volumenteile der selbstreinigenden Folie34 . - In anderen nicht einschränkenden Ausführungsformen kann das photokatalytische Material
54 ein halbleitendes Oxid beinhalten, wie, jedoch nicht beschränkt auf, Zinkoxid, Wismutoxid, Zinnoxid und Kombinationen davon. Das Halbleiteroxid kann mit einer entsprechend großen Bandlücke ausgewählt werden, die für eine photokatalytische Reaktion geeignet ist, wie nachfolgend ausführlicher beschrieben. - Wie oben dargelegt, kann die selbstreinigende Folie
34 in einigen Ausführungsformen die oberste Schicht, z. B. die vierte Schicht24 (3 ), der Antireflexschicht16 ersetzen. Ferner kann das fluorierte Material56 einen Brechungsindex von etwa 1,2 bis etwa 1,6, z. B. von etwa 1,3 bis etwa 1,5, gemäß dem Prozentsatz an Fluor, der in dem fluorierten Material vorhanden ist, aufweisen. Folglich kann das selbstreinigende Foliensystem10 eine vergleichsweise dickere Monoschicht58 enthalten, die aus dem fluorierten Material56 gebildet ist, was wiederum zu einer vergleichsweise größeren photokatalytischen Aktivität des photokatalytischen Materials54 beitragen kann. Das fluorierte Material56 kann auch transparent sein und eine ausgezeichnete Haltbarkeit aufweisen. Somit kann das fluorierte Material für einige Ausführungsformen den Ersatz der obersten Schicht, z. B. der vierten Schicht24 , der Antireflexschicht16 ermöglichen. - In einer anderen Ausführungsform kann die selbstreinigende Folie
34 auch eine zweite Vielzahl von Bereichen64 beinhalten, die innerhalb der Monoschicht58 angeordnet sind, sodass jeder der zweiten Vielzahl von Bereichen64 an das fluorierte Material56 angrenzt und von diesem umgeben ist, wobei jeder der zweiten Vielzahl von Bereichen64 Silber umfasst. - Das heißt, die zweite Vielzahl von Bereichen
64 kann auch innerhalb und entlang der Monoschicht58 angeordnet sein. In einer Ausführungsform kann die zweite Vielzahl von Bereichen64 entlang der ersten Fläche36 gleichmäßig voneinander beabstandet sein. In anderen Ausführungsformen kann die zweite Vielzahl von Bereichen64 zufällig entlang der Monoschicht58 entlang der ersten Fläche36 beabstandet sein. In noch anderen Ausführungsformen kann die zweite Vielzahl von Bereichen64 in einem Muster innerhalb der Monoschicht58 angeordnet sein. Die zweite Vielzahl von Bereichen64 kann in der selbstreinigenden Folie34 in einer Menge von etwa 10 Volumenteilen bis etwa 85 Volumenteilen, bezogen auf 100 Volumenteile der selbstreinigenden Folie34 , z. B. etwa 25 Volumenteile bezogen auf 100 Volumenteile der selbstreinigenden Folie34 , vorhanden sein. - Das Silber kann als ein Nanopartikel charakterisiert werden und kann einen durchschnittlichen Durchmesser aufweisen, der im Nanometerbereich messbar ist. Alternativ kann das Silber als ein Partikel charakterisiert werden und kann einen durchschnittlichen Durchmesser aufweisen, der im Mikrometerbereich gemessen werden kann. Im Allgemeinen kann das Silber in der selbstreinigenden Folie
34 in einer Menge von etwa 2 Volumenteilen bis etwa 35 Volumenteilen vorhanden sein, bezogen auf 100 Volumenteile der selbstreinigenden Folie34 . Das Silber kann die selbstreinigende Folie34 mit antimikrobiellen und Luftreinigungseigenschaften und Schmutzresistenz versehen. Zum Beispiel kann Silber die zelluläre Mikrobenfunktion stören. Insbesondere kann das Silber zur Phospholipidzersetzung beitragen, sodass eine Mikrobenzellenvertiefung nicht atmen kann. - Bezugnehmend auf
4 kann die Monoschicht58 eine Textur66 aufweisen, die durch eine Kombination einer Vielzahl von Mikrostrukturen68 und einer Vielzahl von Nanostrukturen70 definiert ist. Insbesondere kann die Vielzahl von Mikrostrukturen68 entlang der Monoschicht58 voneinander beabstandet sein, und die Vielzahl von Nanostrukturen70 kann auf jeder der Vielzahl von Mikrostrukturen68 angeordnet sein. Ferner kann jede der Vielzahl von Mikrostrukturen68 eine konische Form und eine erste Höhe72 von 0,5 µm bis 2 µm, z. B. 1 µm, aufweisen. Jede der Vielzahl von Nanostrukturen70 kann eine zweite Höhe74 von 1 nm bis 4 nm, z. B. 2 nm, aufweisen. Die Textur66 , die durch die Kombination der Vielzahl von Mikrostrukturen68 und der Vielzahl von Nanostrukturen70 definiert ist, kann eine blumenkohlartige oder himbeerartige, nicht glatte erste Fläche36 bilden. In einer spezifischen Ausführungsform kann die Monoschicht58 als texturierter diamantartiger Kohlenstoff charakterisiert werden. Die Vielzahl von Nanostrukturen70 , die auf der Vielzahl von Mikrostrukturen68 angeordnet sind, kann eine hierarchische, stochastische Struktur oder Textur66 bilden, die zu den Selbstreinigungsfähigkeiten der selbstreinigenden Folie34 beiträgt. Die Vielzahl von Mikrostrukturen68 und die Vielzahl von Nanostrukturen70 zusammen können den Kontaktwinkel50 (2 ) mit Wasser und Ölen derart erhöhen, dass die selbstreinigende Folie34 eine ausgezeichnete Schmutzbeständigkeit und minimale Benetzbarkeit aufweist. - Das heißt, der Kontaktwinkel
50 kann umgekehrt mit einer Flächenenergie der ersten Fläche36 in Beziehung stehen. Mit anderen Worten, der Kontaktwinkel50 kann zunehmen, wenn die Flächenenergie der ersten Fläche36 abnimmt. Wenn der Kontaktwinkel50 zunimmt, kann außerdem die erste Fläche36 vergleichsweise weniger benetzbar und hydrophober werden. Da die selbstreinigende Folie34 die Textur66 aufweist, die durch die Vielzahl von Mikrostrukturen68 und die Vielzahl von Nanostrukturen70 definiert ist, kann die selbstreinigende Folie34 den Kontaktwinkel50 mit Wasser von größer als 140°, z. B. größer als 150°, definieren, und die erste Fläche36 kann daher sowohl superoleophob als auch superhydrophob sein. - Bezugnehmend auf
5 umfasst ein Verfahren76 zum Bilden des selbstreinigenden Foliensystems10 ,110 das Abscheiden78 der Antireflexschicht16 auf dem Substrat12 . Insbesondere kann das Abscheiden78 der Antireflexschicht16 das Magnetron-Sputtern80 der aus Titandioxid gebildeten ersten Schicht18 (2 ), das Magnetron-Sputtern180 der aus Siliciumdioxid gebildeten zweiten Schicht20 (2 ) auf die erste Schicht18 und Magnetron-Sputtern280 der dritten Schicht22 (2 ), die aus Titandioxid gebildet ist, auf die zweite Schicht20 umfassen. In einer anderen Ausführungsform kann das Abscheiden78 auch ein Magnetron-Sputtern der vierten Schicht24 , die aus Siliziumdioxid gebildet ist, auf die dritte Schicht22 umfassen. Das Magnetron-Sputtern80 ,180 ,280 kann das Ansammeln der ersten, zweiten und dritten Schicht18 ,20 ,22 unter Verwendung von rotierenden oder planaren Targets umfassen. Die Abscheidung78 der Antireflexschicht16 kann abwechselnde Schichten18 ,20 ,22 bilden, wie in2 gezeigt. - Das Verfahren
76 umfasst ferner Magnetron-Sputtern380 einer selbstreinigenden Folie34 auf die Antireflexschicht16 . Das Magnetron-Sputtern380 kann das Anordnen des fluorierten Materials56 auf der Antireflexschicht16 unter Verwendung von beispielsweise einem Kohlenstofftarget und einem Polytetrafluorethylentarget umfassen. Insbesondere kann das Verfahren76 das Anordnen des fluorierten Materials56 ausgewählt aus der Gruppe bestehend aus fluorierten organischen Verbindungen, fluorierten anorganischen Verbindungen und Kombinationen davon auf der Antireflexschicht16 umfassen. Zum Beispiel kann das Verfahren76 das Anordnen von fluoriertem diamantartigem Kohlenstoff auf der Antireflexschicht16 umfassen. Alternativ kann das Verfahren76 das Anordnen von fluoriertem Zinn-(IV)-Oxid auf der Antireflexschicht16 umfassen. Das fluorierte Material56 kann auf geeignete Weise auf die erste Schicht18 magnetrongesputtert werden. Zum Beispiel kann das Magnetron-Sputtern380 unter Verwendung eines planaren Targets oder eines rotierenden Targets reaktiv sein. - Nach dem Magnetron-Sputtern
80 umfasst das Verfahren76 auch das reaktive Ionenätzen82 der selbstreinigenden Folie mit SF6-O2-Gas, um die Textur66 (4 ) zu erzeugen, die durch eine Vielzahl von voneinander entlang der Monoschicht58 beabstandeten Mikrostrukturen68 definiert ist, und eine Vielzahl von Nanostrukturen70 , die auf jeder der Vielzahl von Mikrostrukturen68 angeordnet sind. Das reaktive Ionenätzen82 kann das Variieren und Optimieren einer oder mehrerer einer relativen Strömungsrate von SF6-Gas und O2-Gas, einen Druck und eine Ätzzeit umfassen, um die Vielzahl von Mikrostrukturen mit der allgemein konischen Form, der ersten Höhe72 von etwa 1 µm und einem Konuswinkel von etwa 50° zu erhalten. Genauer gesagt kann das reaktive Ionenätzen82 das Ausbilden jeder der Vielzahl von Mikrostrukturen68 mit einer konischen Form84 und einer ersten Höhe72 von 0,5 µm bis 2 µm und das Ausbilden jeder der mehreren Nanostrukturen70 mit einer zweiten Höhe74 von 1 nm bis 4 nm beinhalten. Ferner kann das reaktive Ionenätzen82 das Minimieren einer Ablagerungsenergie während des Magnetron-Sputterns80 umfassen. - Während der Verwendung des selbstreinigenden Foliensystems
10 ,110 kann eine Bedienperson Fingerabdrücke, Squalen, organisches Material und/oder Öle auf der ersten Fläche36 (2 ) ablagern. Öle können Öle von Fettsäuren einschließen und können natürlich synthetisiert und auf die erste Fläche36 aufgebracht werden, wenn der Bediener die erste Fläche36 berührt, oder sie können künstlich auf die erste Fläche36 aufgebracht werden, beispielsweise durch Sprühen oder Beschichten. - Ein Kontakt zwischen den Squalen, dem photokatalytischen Material
54 , das elektromagnetischer Strahlung ausgesetzt ist, die von einer Lichtquelle mit einer Wellenlänge von weniger als 357 nm emittiert wird, und Wasser kann die Bildung von Radikalen initiieren. Die Radikale können dann mit Kohlenwasserstofftrümmern reagieren. Genauer gesagt kann das photokatalytische Material54 ein Photokatalysator wie Titandioxid sein. Eine photokatalytische Reaktion kann ein starkes Oxidationsmittel erzeugen und das organische Material, z. B. Squalen, in Gegenwart des Photokatalysators, d. h. des photokatalytischen Materials54 , zu Kohlenwasserstoff mit niedriger Kettenlänge zu Kohlendioxid und Wasser, elektromagnetische Strahlung, d. h. ultraviolettes Licht, und Wasser, d. h. Feuchtigkeit von Umgebungsbedingungen, aufspalten. Somit kann das photokatalytische Material54 nicht durch die katalytische Reaktion verbraucht werden, sondern kann stattdessen lediglich die photokatalytische Reaktion als ein Nicht-Reaktant beschleunigen. - Genauer gesagt kann, wenn elektromagnetische Strahlung der gewünschten Wellenlänge das photokatalytische Material
54 beleuchtet, der Übergang eines Elektrons vom Valenzband des photokatalytischen Materials54 in das Leitungsband des photokatalytisch aktiven Material54 beispielsweise gefördert werden, wodurch wiederum ein Loch im Valenzband und ein Überschuss von negativer Ladung oder Elektronen im Leitungsband erzeugt werden können. Das Loch kann die Oxidation unterstützen und das Elektron kann die Reduktion unterstützen. Im Allgemeinen kann das Loch sich mit Wasser kombinieren und ein Hydroxylradikal (•OH) bilden. Das Loch kann auch unmittelbar mit Squalen oder anderem organischen Material reagieren, um den gesamten Wirkungsgrad der Selbstreinigung des selbstreinigenden Foliensystems10 ,110 zu erhöhen. Ähnlich kann Sauerstoff in der Umgebung des photokatalytisch aktiven Materials54 durch das Elektron reduziert werden, und ein Superoxidion (•O2-) wiederum das auf dem selbstreinigenden Foliensystem10 ,110 vorhandene organische Material oxidieren kann. - Zusätzlich kann das Loch vor der Rekombination mit dem Elektron eingeschlossen werden. Für diese Situationen kann das photokatalytische Material
54 funktionalisiert werden. So kann Titandioxid beispielsweise mit Palladium oder Ruthenium dotiert sein. Palladium und Ruthenium können kann als Elektrokatalysator agieren und eine Übertragung von Elektronen zu Sauerstoffmolekülen erhöhen, was wiederum das Auftreten der Rekombination von Elektronen und Löcher verringern kann. - Ferner kann sich organisches Material, das auf dem fluorierten Material
56 und nicht in direktem Kontakt mit dem photokatalytischen Material54 vorhanden ist, in einem dynamischen Gleichgewicht mit der ersten Fläche36 (2 ) befinden und zu einer Stelle vergleichsweise höherer Energie auf der selbstreinigenden Folie34 , d. h. dem photokatalytischen Material54 , diffundieren. Daher kann die selbstreinigende Folie34 die Squalen entlang der selbstreinigenden Folie34 von dem fluorierten Material56 zu dem photokatalytischen Material54 diffundieren. Um eine solche Diffusion zu verbessern, kann die Lichtquelle52 abgestimmt sein, um elektromagnetische Strahlung mit einer Wellenlänge zu emittieren, die auf eine Vibrationsresonanz der Squalen und des fluorierten Materials56 abgestimmt ist. Eine solche Abstimmung kann ermöglichen, dass die Squalen oder der Fingerabdruck entlang des fluorierten Materials56 zu dem photokatalytischen Material54 wackelt oder sich dort bewegt, wo die Squalen die oben beschriebene photokatalytische Reaktion eingehen können. Alternativ oder zusätzlich kann die selbstreinigende Folie34 auch erwärmt werden, beispielsweise durch Infrarotstrahlung, um die Diffusion über das fluorierte Material56 hin zu dem photokatalytischen Material54 weiter zu verbessern. - Sobald die Squalen das photokatalytische Material
54 kontaktieren, können die Squalen in vergleichsweise kleine Stücke oder Teile mit einem niedrigen Dampfdruck photolysiert werden, die von der selbstreinigenden Folie34 verdampfen und dadurch den Fingerabdruck oder die Squalen von der selbstreinigenden Folie34 entfernen können. Daher kann die selbstreinigende Folie34 das Substrat12 durch Entfernen, z. B. Oxidieren und Verdampfen der Fingerabdrücke, Squalen, Öle und/oder organischen Materialien, die durch die Berührung eines Bedieners abgeschieden werden, schützen. Folglich kann das selbstreinigende Foliensystem10 ,110 die Ästhetik, Sauberkeit und Ablesbarkeit von Displaysystemen, Linsen, Sensoren und Oberflächen verbessern. - Während die besten Arten zur Ausführung der Offenbarung ausführlich beschrieben wurden, werden Fachleute auf dem Gebiet, auf das sich diese Offenbarung bezieht, verschiedene alternative Konstruktionen und Ausführungsformen zur praktischen Ausführung der Offenbarung innerhalb des Schutzumfangs der hinzugefügten Ansprüche erkennen.
Claims (10)
- Selbstreinigendes Foliensystem, umfassend: ein Substrat; und eine Antireflexschicht, die auf dem Substrat angeordnet ist einschließlich: einer ersten Schicht, die aus Titandioxid gebildet ist; einer zweiten Schicht, die aus Siliciumdioxid gebildet und auf der ersten Schicht angeordnet ist; und einer dritten Schicht, die aus Titandioxid gebildet und auf der zweiten Schicht angeordnet ist; einer selbstreinigenden Folie, der auf der Antireflexschicht angeordnet ist und einschließlich: einer Monoschicht, die auf der dritten Schicht angeordnet und aus einem fluorierten Material gebildet ist, das aus fluorierten organischen Verbindungen, fluorierten anorganischen Verbindungen und Kombinationen davon besteht; und einer ersten Vielzahl von Bereichen, die innerhalb der Monoschicht angeordnet sind, sodass jeder der ersten Vielzahl von Bereichen an das fluorierte Material angrenzt und von diesem umgeben ist, wobei jeder der ersten Vielzahl von Bereichen ein photokatalytisches Material umfasst.
- Selbstreinigendes Foliensystem nach
Anspruch 1 , wobei die selbstreinigende Folie eine erste Fläche und eine zweite Fläche aufweist, die gegenüber der ersten Fläche beabstandet ist und an die Antireflexschicht angrenzt, und wobei ferner die erste Fläche im Wesentlichen frei von Squalen und Wasser ist. - Selbstreinigendes Foliensystem nach
Anspruch 1 , wobei die selbstreinigende Folie einen Kontaktwinkel mit Wasser von mehr als 140° definiert. - Selbstreinigendes Foliensystem nach
Anspruch 1 , wobei das photokatalytische Material Titandioxid ist und in der ersten Vielzahl von Bereichen in einer Anatasform vorliegt. - Selbstreinigendes Foliensystem nach
Anspruch 1 , wobei das photokatalytische Material mit Silber dotiert ist. - Selbstreinigendes Foliensystem nach
Anspruch 1 , ferner umfassend eine zweite Vielzahl von Bereichen, die innerhalb der Monoschicht angeordnet sind, sodass jeder der zweiten Vielzahl von Bereichen an das fluorierte Material angrenzt und von diesem umgeben ist, wobei jeder der zweiten Vielzahl von Bereichen Silber umfasst. - Selbstreinigendes Foliensystem nach
Anspruch 1 , wobei das fluorierte Material fluorierter diamantartiger Kohlenstoff ist. - Selbstreinigendes Foliensystem nach
Anspruch 1 , worin die Monoschicht eine Textur aufweist, die durch eine Kombination einer Vielzahl von Mikrostrukturen und einer Vielzahl von Nanostrukturen definiert ist. - Selbstreinigendes Foliensystem nach
Anspruch 1 , wobei die Antireflexschicht ferner eine vierte Schicht umfasst, die auf der dritten Schicht angeordnet und aus Siliciumdioxid gebildet ist. - Verfahren zum Bilden eines selbstreinigenden Foliensystems, wobei das Verfahren umfasst: Abscheiden einer Antireflexschicht auf einem Substrat, wobei die Antireflexschicht umfasst: eine erste Schicht, die aus Titandioxid gebildet ist; eine zweite Schicht, die aus Siliciumdioxid gebildet und auf der ersten Schicht angeordnet ist; und eine dritte Schicht, die aus Titandioxid gebildet und auf der zweiten Schicht angeordnet ist; Magnetron-Sputtern einer selbstreinigenden Folie auf die Antireflexschicht, wobei die selbstreinigende Folie umfasst: eine Monoschicht, die auf der dritten Schicht angeordnet und aus einem fluorierten Material gebildet ist, das aus fluorierten organischen Verbindungen, fluorierten anorganischen Verbindungen und Kombinationen davon besteht; und eine erste Vielzahl von Bereichen, die innerhalb der Monoschicht angeordnet sind, sodass jede der ersten Vielzahl von Bereichen an das fluorierte Material angrenzt und von diesem umgeben ist, wobei jeder der ersten Vielzahl von Bereichen ein photokatalytisches Material umfasst; und nach Magnetron-Sputtern, reaktives Ionenätzen der selbstreinigenden Folie mit SF6-O2-Gas, um eine Textur zu erzeugen, die definiert ist durch: eine Vielzahl von Mikrostrukturen, die voneinander entlang der Monoschicht beabstandet sind; und eine Vielzahl von Nanostrukturen, die auf jeder der Vielzahl von Mikrostrukturen angeordnet sind.
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US15/598,838 | 2017-05-18 | ||
US15/598,838 US10754067B2 (en) | 2017-05-18 | 2017-05-18 | Textured self-cleaning film system and method of forming same |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE102018111827A1 true DE102018111827A1 (de) | 2018-11-22 |
DE102018111827B4 DE102018111827B4 (de) | 2023-09-07 |
Family
ID=64269554
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE102018111827.9A Active DE102018111827B4 (de) | 2017-05-18 | 2018-05-16 | Verfahren zum bilden eines selbstreinigenden foliensystems |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
US (2) | US10754067B2 (de) |
CN (1) | CN108948889A (de) |
DE (1) | DE102018111827B4 (de) |
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Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
CN108948889A (zh) | 2018-12-07 |
DE102018111827B4 (de) | 2023-09-07 |
US20180333756A1 (en) | 2018-11-22 |
US10754067B2 (en) | 2020-08-25 |
US11067721B2 (en) | 2021-07-20 |
US20200200946A1 (en) | 2020-06-25 |
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