DE102018106690B4 - Aufdampfmaskensubstrat, Aufdampfmaskensubstratherstellungsverfahren, Aufdampfmaskenherstellungsverfahren und Anzeigeeinrichtungsherstellungsverfahren - Google Patents

Aufdampfmaskensubstrat, Aufdampfmaskensubstratherstellungsverfahren, Aufdampfmaskenherstellungsverfahren und Anzeigeeinrichtungsherstellungsverfahren Download PDF

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Abstract

Aufdampfmaskensubstrat (1), das eine Metallfolie ist, die die Form eines Streifens hat und dazu ausgelegt ist, geätzt zu werden, um eine Vielzahl von Löchern (32H) aufzuweisen, und dazu verwendet zu werden, eine Aufdampfmaske herzustellen, wobeidie Metallfolie eine Längsrichtung (DL) und eine Breitenrichtung (DW) hat,die Metallfolie in der Breitenrichtung (DW) Formen hat, die an verschiedenen Positionen in der Längsrichtung (DL) der Metallfolie entnommen sind und sich voneinander unterscheiden,jede Form Wellen aufweist, die sich in der Breitenrichtung (DW) wiederholen,jede Welle an jedem von zwei Enden der Welle ein Tal aufweist,jede Welle eine Länge hat, welche eine Länge einer Geraden in der Breitenrichtung (DW) ist, die eines der Täler der Welle mit dem anderen Tal verbindet,ein Prozentsatz einer Höhe jeder Welle bezogen auf die Länge der Welle eine Einheitssteilheit ist,die Metallfolie eine Einheitslänge in der Längsrichtung (DL) von 500 mm hat,ein Maximalwert der Einheitssteilheiten der Metallfolie für die Einheitslänge eine erste Steilheit ist unddie erste Steilheit kleiner oder gleich 0,5% ist.

Description

  • Hintergrund
  • Die Erfindung bezieht sich auf ein Aufdampfmaskensubstrat, ein Verfahren zur Herstellung eines Aufdampfmaskensubstrats, ein Verfahren zur Herstellung einer Aufdampfmaske und ein Verfahren zur Herstellung einer Anzeigeeinrichtung.
  • Ein Aufdampfmaskensubstrat weist eine erste Oberfläche, eine zweite Oberfläche und Löcher auf, die sich durch die erste und zweite Oberfläche erstrecken. Die erste Oberfläche ist einem Target, etwa einem Substrat, zugewandt und die zweite Oberfläche ist zur ersten Oberfläche entgegengesetzt. Die Löcher weisen jeweils eine erste Öffnung, die sich in der ersten Oberfläche befindet, und eine zweite Öffnung auf, die sich in der zweiten Oberfläche befindet. Das Aufdampfmaterial, das durch die zweiten Öffnungen in die Löcher eindringt, bildet auf dem Target ein Muster, das der Position und Form der ersten Öffnungen entspricht (siehe zum Beispiel JP 2015 - 055 007 A ).
  • Jedes Loch der Aufdampfmaske hat eine Querschnittsfläche, die von der ersten Öffnung aus zur zweiten Öffnung zunimmt. Dies erhöht die Menge an Aufdampfmaterial, das durch die zweite Öffnung in das Loch eindringt, sodass die erste Öffnung eine ausreichende Menge an Aufdampfmaterial erreicht. Allerdings haftet zumindest etwas von dem Aufdampfmaterial, das durch die zweite Öffnung in das Loch eindringt, an der Wandoberfläche an, die das Loch definiert, weswegen es die erste Öffnung nicht erreichen kann. Das Aufdampfmaterial, das an der Wandoberfläche anhaftet, kann anderes Aufdampfmaterial daran hindern, durch das Loch zu gehen, was die Abmessungsgenauigkeit des Musters senkt.
  • Um das Volumen an Aufdampfmaterial zu verringern, das an den Wandoberflächen anhaftet, ist über einen Aufbau nachgedacht worden, bei dem die Dicke der Aufdampfmaske verringert wird, um die Flächen der Wandoberflächen zu verringern. Um die Dicke der Aufdampfmaske zu verringern, ist über eine Technik nachgedacht worden, die die Dicke der Metallfolie verringert, die als das Substrat zum Herstellen der Aufdampfmaske verwendet wird.
  • Bei dem Vorgang, bei dem die Metallfolie geätzt wird, um Löcher auszubilden, führt jedoch eine geringere Dicke der Metallfolie zu einem geringeren Volumen an Metall, das entfernt werden muss. Dies schränkt die zulässigen Bereiche bei den Bearbeitungsbedingungen ein, etwa die Dauer, während der ein Ätzmittel der Metallfolie zugeführt wird, und die Temperatur des zugeführten Ätzmittels. Dies erhöht die Schwierigkeit, die erforderliche Abmessungsgenauigkeit der ersten und zweiten Öffnungen zu erreichen. Die Herstellung der Metallfolie beinhaltet insbesondere einen Walzschritt, in dem das Grundmaterial mit Walzen gezogen wird, oder einen Elektrolyseschritt, in dem die Metallfolie, die auf einer Elektrode abgeschieden wird, von der Elektrode abgelöst wird. Die Metallfolie hat dementsprechend eine gewellte Form. Bei der Metallfolie, die eine solche Form hat, unterscheidet sich die Dauer, während der sich die Kämme in der gewellten Form mit dem Ätzmittel in Kontakt befinden, stark von der der Täler in der gewellten Form. Dies verschlimmert die geringere Genauigkeit, die aus den eingeschränkten zulässigen Bereichen, die oben beschrieben wurden, resultiert. Obwohl eine dünnere Aufdampfmaske als solches die Menge an Aufdampfmaterial, das an den Wandoberflächen anhaftet, verringert und dadurch bei wiederholtem Aufdampfen die Abmessungsgenauigkeit der Muster erhöht, hat eine solche Aufdampfmaske ein anderes Problem, dass bei jedem Aufdampfen die erforderliche Abmessungsgenauigkeit des Musters schwer zu erreichen ist.
  • Die US 2016 / 0 208 392 A1 schlägt zur Stabilisierung des Transports eine Metallfolie mit einer gewellten Form vor, die in der Breitenrichtung in einem zentralen Teil eine von zwei Tälern eingefasste Welle und in den Bereichen neben dem zentralen Teil zwei Steigungen aufweist, deren Endpunkte über die Wellenspitze hinausgehen.
  • Kurzdarstellung der Erfindung
  • Es ist ein Ziel der Erfindung, ein Aufdampfmaskensubstrat, ein Verfahren zur Herstellung eines Aufdampfmaskensubstrats, ein Verfahren zur Herstellung einer Aufdampfmaske und ein Verfahren zur Herstellung einer Anzeigeeinrichtung zur Verfügung zu stellen, die die Genauigkeit der beim Aufdampfen ausgebildeten Muster erhöhen.
  • Gemäß einer Ausgestaltung der Erfindung ist ein Aufdampfmaskensubstrat vorgesehen, das eine Metallfolie ist, die die Form eines Streifens hat und dazu ausgelegt ist, geätzt zu werden, um eine Vielzahl von Löchern aufzuweisen, und dazu verwendet zu werden, eine Aufdampfmaske herzustellen. Die Metallfolie hat eine Längsrichtung und eine Breitenrichtung. Die Metallfolie hat in der Breitenrichtung Formen, die an verschiedenen Positionen in der Längsrichtung der Metallfolie entnommen sind und sich voneinander unterscheiden. Jede Form weist Wellen auf, die sich in der Breitenrichtung wiederholen. Jede Welle weist an jedem von zwei Enden der Welle ein Tal auf. Jede Welle hat eine Länge, welche eine Länge einer Geraden in der Breitenrichtung ist, die eines der Täler der Welle mit dem anderen Tal verbindet. Ein Prozentsatz einer Höhe jeder Welle bezogen auf die Länge der Welle ist eine Einheitssteilheit. Die Metallfolie hat eine Einheitslänge in der Längsrichtung von 500 mm. Ein Maximalwert der Einheitssteilheiten der Metallfolie für die Einheitslänge ist eine erste Steilheit. Die erste Steilheit ist kleiner oder gleich 0,5%.
  • Gemäß einer anderen Ausgestaltung der Erfindung ist ein Verfahren zur Herstellung eines Aufdampfmaskensubstrats vorgesehen. Das Aufdampfmaskensubstrat ist eine Metallfolie, die die Form eines Streifens hat und dazu ausgelegt ist, geätzt zu werden, um eine Vielzahl von Löchern aufzuweisen, und dazu verwendet zu werden, eine Aufdampfmaske herzustellen. Das Verfahren umfasst, die Metallfolie zu erzielen, indem ein Grundmaterial gewalzt wird. Die Metallfolie hat eine Längsrichtung und eine Breitenrichtung. Die Metallfolie hat Formen in der Breitenrichtung, die an verschiedenen Positionen in der Längsrichtung der Metallfolie entnommen sind und sich voneinander unterscheiden. Jede Form weist Wellen auf, die sich in der Breitenrichtung wiederholen. Jede Welle weist an jedem von zwei Enden der Welle ein Tal auf. Jede Welle hat eine Länge, welche eine Länge einer Geraden in der Breitenrichtung ist, die eines der Täler der Welle mit dem anderen Tal verbindet. Ein Prozentsatz einer Höhe jeder Welle bezogen auf die Länge der Welle ist eine Einheitssteilheit. Die Metallfolie hat eine Einheitslänge in der Längsrichtung von 500 mm. Ein Maximalwert der Einheitssteilheiten der Metallfolie für die Einheitslänge ist eine erste Steilheit. Das Grundmaterial wird derart gewalzt, dass die erste Steilheit kleiner oder gleich 0,5% ist.
  • Gemäß einer weiteren Ausgestaltung der Erfindung ist ein Verfahren zur Herstellung einer Aufdampfmaske vorgesehen. Das Verfahren umfasst, auf einer Metallfolie, die die Form eines Streifens hat, eine Resistschicht auszubilden und, indem die Resistschicht als eine Maske verwendet wird, in der Metallfolie durch Ätzen eine Vielzahl von Löchern auszubilden, um einen Maskenabschnitt auszubilden. Die Metallfolie hat eine Längsrichtung und eine Breitenrichtung. Die Metallfolie hat Formen in der Breitenrichtung, die an verschiedenen Positionen in der Längsrichtung der Metallfolie entnommen sind und sich voneinander unterscheiden. Jede Form weist Wellen auf, die sich in der Breitenrichtung wiederholen. Jede Welle weist an jedem von zwei Enden der Welle ein Tal auf. Jede Welle hat eine Länge, welche eine Länge einer Geraden in der Breitenrichtung ist, die eines der Täler der Welle mit dem anderen Tal verbindet. Ein Prozentsatz einer Höhe jeder Welle bezogen auf die Länge der Welle ist eine Einheitssteilheit. Die Metallfolie hat eine Einheitslänge in der Längsrichtung von 500 mm. Ein Maximalwert der Einheitssteilheiten der Metallfolie für die Einheitslänge ist eine erste Steilheit. Die erste Steilheit ist kleiner oder gleich 0,5%.
  • Gemäß noch einer anderen Ausgestaltung der Erfindung ist ein Verfahren zur Herstellung einer Anzeigeeinrichtung vorgesehen. Das Verfahren umfasst, eine Aufdampfmaske vorzubereiten, die durch das oben beschriebene Verfahren zur Herstellung einer Aufdampfmaske hergestellt wurde, und unter Verwendung der Aufdampfmaske durch Aufdampfen ein Muster auszubilden.
  • Kurze Beschreibung der Zeichnungen
  • Die Merkmale der vorliegenden Erfindung, die als neu angesehen werden, sind im Einzelnen in den beigefügten Ansprüchen dargelegt. Die Erfindung lässt sich zusammen mit ihren Aufgaben und Vorteilen am besten zusammen mit den beigefügten Zeichnungen anhand der folgenden Beschreibung der derzeit bevorzugten Ausführungsbeispiele verstehen.
    • 1 ist eine Perspektivansicht, die ein Aufdampfmaskensubstrat zeigt.
    • 2 ist eine Draufsicht, die ein Messsubstrat zeigt.
    • 3 ist ein Schaubild, das eine Kurve zur Darstellung einer Steilheit zusammen mit dem Querschnittaufbau eines Messsubstrats zeigt.
    • 4 ist eine Draufsicht, die den planaren Aufbau einer Maskeneinrichtung zeigt.
    • 5 ist eine Teilschnittansicht, die ein Beispiel des Querschnittaufbaus eines Maskenabschnitts zeigt.
    • 6 ist eine Teilschnittansicht, die ein anderes Beispiel des Querschnittaufbaus eines Maskenabschnitts zeigt.
    • 7 ist eine Teilschnittansicht, die ein Beispiel des Verbindungsaufbaus zwischen einer Kante eines Maskenabschnitts und einem Rahmenabschnitt zeigt.
    • 8 ist eine Teilschnittansicht, die ein anderes Beispiel des Verbindungsaufbaus zwischen einer Kante eines Maskenabschnitts und einem Rahmenabschnitt zeigt.
    • 9(a) ist eine Draufsicht, die ein Beispiel des planaren Aufbaus einer Aufdampfmaske zeigt.
    • 9(b) ist eine Schnittansicht, die ein Beispiel des Querschnittaufbaus der Aufdampfmaske zeigt.
    • 10(a) ist eine Draufsicht, die ein anderes Beispiel des planaren Aufbaus einer Aufdampfmaske zeigt.
    • 10(b) ist eine Schnittansicht, die ein anderes Beispiel des Querschnittaufbaus der Aufdampfmaske zeigt.
    • 11 ist ein Prozessbild, das einen Walzschritt zur Herstellung eines Aufdampfmaskensubstrats zeigt.
    • 12 ist ein Prozessbild, das einen Heizschritt zur Herstellung eines Aufdampfmaskensubstrats zeigt.
    • 13 bis 18 sind Prozessbilder, die einen Ätzschritt zur Herstellung eines Maskenabschnitts zeigen.
    • 19(a) bis 19(h) sind Prozessbilder zur Darstellung eines Beispiels eines Verfahrens zum Herstellen einer Aufdampfmaske.
    • 20(a) bis 20(e) sind Prozessbilder zur Darstellung eines Beispiels eines Verfahrens zur Herstellung einer Aufdampfmaske.
    • 21(a) bis 21(f) sind Prozessbilder zur Darstellung eines Beispiels eines Verfahrens zur Herstellung einer Aufdampfmaske.
    • 22 ist eine Draufsicht, die den planaren Aufbau eines Messsubstrats eines Beispiels zusammen mit Abmessungen zeigt.
  • Ausführliche Beschreibung der bevorzugten Ausführungsbeispiele
  • Unter Bezugnahme auf 1 bis 22 werden nun Ausführungsbeispiele eines Aufdampfmaskensubstrats, eines Verfahrens zur Herstellung eines Aufdampfmaskensubstrats, eines Verfahrens zur Herstellung einer Aufdampfmaske und eines Verfahrens zur Herstellung einer Anzeigeeinrichtung beschrieben.
  • - Aufbau Aufdampfmaskensubstrat -
  • Wie in 1 gezeigt ist, ist ein Aufdampfmaskensubstrat 1 eine Metallfolie, die die Form eines Streifens hat. Das Aufdampfmaskensubstrat 1 hat eine gewellte Form, bei der sich in der Breitenrichtung DW an jeder von verschiedenen Positionen in der Längsrichtung DL Wellen wiederholen. Die gewellten Formen an den verschiedenen Positionen in der Längsrichtung DL des Aufdampfmaskensubstrats 1 sind voneinander verschieden. Die verschiedenen gewellten Formen unterscheiden sich bei den Kennwerten, etwa der Anzahl an Wellen (Vorsprüngen und Vertiefungen), der Wellenlänge und der Höhe der Wellen in den gewellten Formen. Zu Darstellungszwecken sind die Formen des Aufdampfmaskensubstrats 1 in 1 übertrieben dargestellt. Die Dicke des Aufdampfmaskensubstrats 1 liegt zwischen einschließlich 10 µm und 50 µm. Die Gleichmäßigkeit der Dicke des Aufdampfmaskensubstrats 1 ist derart, dass das Verhältnis der Differenz zwischen der maximalen Dicke und der minimalen Dicke zur mittleren Dicke zum Beispiel kleiner oder gleich 5% ist.
  • Das Aufdampfmaskensubstrat 1 kann aus Nickel oder einer Nickel-Eisen-Legierung bestehen, etwa aus einer Nickel-Eisen-Legierung, die mindestens 30 Masse% Nickel enthält. Das Aufdampfmaskensubstrat 1 kann insbesondere aus Invar bestehen, das hauptsächlich aus einer Legierung besteht, die 36 Masse% Nickel und 64 Masse% Eisen enthält. Wenn der Hauptbestandteil die Legierung aus 36 Masse% Nickel und 64 Masse% Eisen ist, enthält der Rest Zusätze wie Chrom, Mangan, Kohlenstoff und Cobalt. Wenn das Aufdampfmaskensubstrat 1 aus Invar besteht, hat das Aufdampfmaskensubstrat 1 einen Wärmeausdehnungskoeffizienten von etwa 1,2 × 10-6/°C. Das Aufdampfmaskensubstrat 1, das einen solchen Wärmeausdehnungskoeffizienten hat, erzeugt eine Maske, die ihre Größe aufgrund der Wärmeausdehnung in einem Ausmaß ändert, das dem eines Glassubstrats und einer Polyimidfolie entspricht. Somit wird als Aufdampftarget geeigneter Weise ein Glassubstrat oder eine Polyimidfolie verwendet.
  • - Steilheit -
  • Wenn das Aufdampfmaskensubstrat 1 auf einer ebenen Oberfläche platziert ist, wird die Position (Höhe) der Oberfläche des Aufdampfmaskensubstrats 1 bezüglich der ebenen Oberfläche als Oberflächenposition bezeichnet.
  • Um die Oberflächenposition zu messen, wird eine Metallfolie, die durch Walzen oder Elektrolyse hergestellt wurde, derart geschnitten, dass die Abmessung der Metallfolie auf 2 bezugnehmend in der Breitenrichtung DW eine Breite W ist. Dann wird das Aufdampfmaskensubstrat 1, das eine Metallfolie ist, die die Form eines Streifens hat, aufgewickelt, um eine Rolle auszubilden. Dann erfolgt ein Längsschneideschritt, in dem das Aufdampfmaskensubstrat 1 quer in der Breitenrichtung DW (entlang der Breite) geschnitten wird, sodass als ein Abschnitt des Aufdampfmaskensubstrats 1 in der Längsrichtung DL ein Messsubstrat 2M herausgeschnitten wird. Die Breite W in der Breitenrichtung DW des Messsubstrats 2M ist gleich der Abmessung in der Breitenrichtung DW des Aufdampfmaskensubstrats 1. Dann wird an verschiedenen Positionen in der Breitenrichtung DW und in vorbestimmten Intervallen in der Längsrichtung DL die Oberflächenposition der Oberfläche 2S des Messsubstrats 2M gemessen. Der Bereich, in dem die Oberflächenposition gemessen wird, ist ein Messbereich ZL.
  • Der Messbereich ZL ist ein Bereich, der die Nichtmessbereiche ZE ausschließt, die sich an den zwei Kanten in der Längsrichtung DL des Messsubstrats 2M befinden. Der Messbereich ZL schließt auch die (nicht gezeigten) Nichtmessbereiche aus, die sich an den zwei Kanten in der Breitenrichtung DW des Messsubstrats 2M befinden. Der Längsschneideschritt zum Schneiden des Aufdampfmaskensubstrats 1 kann dem Messsubstrat eine neue gewellte Form verleihen, die sich von der gewellten Form des Aufdampfmaskensubstrats 1 unterscheidet. Die Länge in der Längsrichtung DL jedes Nichtmessbereichs ZE entspricht dem Bereich, in dem eine solche neue gewellte Form ausgebildet werden kann, und die Nichtmessbereiche ZE werden von der Messung der Oberflächenposition ausgeschlossen. Die Länge in der Längsrichtung DL jedes Nichtmessbereichs ZE beträgt zum Beispiel 100 mm. Um die neue gewellte Form auszuschließen, die beim Längsschneideschritt an den Kanten in der Breitenrichtung DW ausgebildet wird, hat jeder der Nichtmessbereiche an den Kanten in der Breitenrichtung DW von der Kante aus eine Abmessung von zum Beispiel 10 mm in der Breitenrichtung DW.
  • 3 ist eine Kurve, die zusammen mit dem Querschnittaufbau eines Schnitts, der in der Breitenrichtung DW des Messsubstrats 2M genommen wurde, ein Beispiel der Oberflächenposition an verschiedenen Positionen in der Breitenrichtung DW des Messsubstrats 2M zeigt. 3 zeigt ein Beispiel von einem der verschiedenen Schnitte in der Längsrichtung DL. Dieser Schnitt hat in der Breitenrichtung DW drei Wellen.
  • Wie in 3 gezeigt ist, werden die verschiedenen Positionen in der Breitenrichtung DW, an denen die Oberflächenpositionen gemessen werden, in Intervallen eingestellt, die eine Darstellung der gewellten Form des Aufdampfmaskensubstrats 1 ermöglichen. Die verschiedenen Positionen in der Breitenrichtung DW, an denen die Oberflächenpositionen gemessen werden, liegen zum Beispiel in Intervallen zwischen einschließlich 1 mm und 20 mm in der Breitenrichtung DW. Die Linie LC, die die Oberflächenpositionen an den verschiedenen Positionen in der Breitenrichtung DW verbindet, wird als eine Linie angesehen, die entlang der Oberfläche des Aufdampfmaskensubstrats 1 verläuft. Die Länge der Linie LC ist die Strecke entlang der Oberfläche des Aufdampfmaskensubstrats 1. Die Wellen in der Linie LC haben jeweils eine Länge L1, L2 oder L3, welche die Länge der Geraden ist, die eines der Täler der Welle in der Breitenrichtung mit dem anderen verbindet. Die Wellen in der Linie LC haben jeweils eine Höhe HW1, HW2 oder HW3, welche die Höhe der Geraden ist, die eines der Täler der Welle mit dem anderen verbindet. Die Prozentzahl der Höhe einer Welle bezogen auf die Länge der Welle ist eine Einheitssteilheit des Aufdampfmaskensubstrats 1. In dem Beispiel in 3 sind die Einheitssteilheiten die Höhe HW1/Länge L1 × 100 (%), die Höhe HW2/Länge L2 × 100 (%) und die Höhe HW3/Länge L3 × 100 (%). Wenn sich die Spitze einer Welle in der Breitenrichtung DW an einer Kante befindet, wird die Länge in der Breitenrichtung DW der Welle auf das Doppelte der Länge von der Spitze bis zum Tal der Welle geschätzt.
  • Das Aufdampfmaskensubstrat 1 hat eine Einheitslänge in der Längsrichtung DL von 500 mm.
  • Das Aufdampfmaskensubstrat 1 hat eine erste Steilheit, die in einem Abschnitt in dem Aufdampfmaskensubstrat 1, der die Einheitslänge und die Breite W hat, der Maximalwert der Einheitssteilheiten aller Wellen ist.
  • Das Aufdampfmaskensubstrat 1 hat außerdem an einer Position in der Längsrichtung DL eine zweite Steilheit, die der Maximalwert der Einheitssteilheiten aller Wellen in der Breitenrichtung DW ist. Das heißt, dass die erste Steilheit des Aufdampfmaskensubstrats 1 der Maximalwert der zweiten Steilheiten für die Einheitslänge ist.
  • Die Anzahl an Wellen in der Breitenrichtung DW an einer Position in der Längsrichtung DL des Aufdampfmaskensubstrats 1 wird als eine Wellenmenge an dieser Position bezeichnet.
  • Die erste Steilheit des Aufdampfmaskensubstrats 1 erfüllt die Bedingung 1 unten. Was die Steilheiten in der Breitenrichtung DW des Aufdampfmaskensubstrats 1 betrifft, ist es vorzuziehen, dass die zweiten Steilheiten die Bedingung 2 erfüllen und die Wellenmengen die Bedingungen 3 und 4 erfüllen.
  • Bedingung 1: Die erste Steilheit ist kleiner oder gleich 0,5%.
  • Bedingung 2: Der Mittelwert der zweiten Steilheiten ist kleiner oder gleich 0,25%.
  • Bedingung 3: Der Maximalwert der Wellenmengen für die Einheitslänge ist kleiner oder gleich vier.
  • Bedingung 4: Der Mittelwert der Wellenmengen für die Einheitslänge ist kleiner oder gleich zwei.
  • In dem Aufdampfmaskensubstrat 1, das die Bedingung 1 erfüllt, ist der Maximalwert der Einheitssteilheiten, die die Steilheiten in der Breitenrichtung DW sind, kleiner oder gleich 0,5%. Dementsprechend ist das Aufdampfmaskensubstrat 1 bei Betrachtung in der Längsrichtung DL ohne eine Welle, die einen steilen Vorsprung oder eine steile Vertiefung hat. Ein steiler Vorsprung oder eine steile Vertiefung führt tendenziell zum einem Stocken der Flüssigkeit, die dem Vorsprung oder der Vertiefung zugeführt wird. Das Vorhandensein oder die Abwesenheit einer solchen Welle lässt sich zum Beispiel nicht ohne Weiteres anhand des Mittelwerts der Einheitssteilheiten feststellen. Wenn der Oberfläche des Aufdampfmaskensubstrats 1, das in der Längsrichtung DL weitergeleitet wird, die Flüssigkeit für die Bearbeitung zugeführt wird, wird die Flüssigkeit somit nicht um die vorstehenden Wellen herum ins Stocken kommen. Dies fördert auch dann, wenn der gleiche Prozess in der Längsrichtung DL wiederholt wird, den gleichmäßigen Flüssigkeitsfluss auf der Oberfläche des Aufdampfmaskensubstrats 1. Dementsprechend ist es unwahrscheinlich, dass die Flüssigkeit, die der Oberfläche des Aufdampfmaskensubstrats zugeführt wird, in einem Abschnitt in der Längsrichtung DL ins Stocken kommt. Dies erhöht die Gleichmäßigkeit der Bearbeitung, die die Behandlung in der Längsrichtung DL mittels einer Flüssigkeit wie eines Ätzmittels umfasst, also die Gleichmäßigkeit der Löcher in dem Aufdampfmaskensubstrat 1 in der Längsrichtung DL. Dies erhöht wiederum die Genauigkeit des Musters, das durch Aufdampfen ausgebildet wird.
  • Bei einer Rollenbearbeitung, bei der das Aufdampfmaskensubstrat 1 aus einer Rolle herausgezogen und dann weitergeleitet wird, wirkt zudem der Zug, der das Aufdampfmaskensubstrat 1 zieht, in der Längsrichtung DL des Aufdampfmaskensubstrats 1. Der Zug, der in der Längsrichtung DL wirkt, streckt die Ausbeulung und die Vertiefungen in dem Aufdampfmaskensubstrat 1 in der Längsrichtung DL. Dieser Zug wirkt zunächst auf dem Abschnitt des Aufdampfmaskensubstrats 1, der gerade aus der Rolle herausgezogen wird. In diesem Abschnitt erhöht eine größere Steilheit in der Breitenrichtung DW die Schwankung bei den Streckungsgraden. Jedes Mal, wenn sich die Rolle dreht, wiederholen sich der Zeitpunkt, an dem der Zug wahrscheinlich eine Streckung hervorruft, und der Zeitpunkt, an dem der Zug wahrscheinlich keine Streckung hervorruft. Dies führt zu Problemen wie Abweichungen bei der Weiterleitung und Falten des Aufdampfmaskensubstrats 1, das in der Längsrichtung DL weitergeleitet wird. Als solches verursachen bei der Rollenbearbeitung größere Steilheiten in der Breitenrichtung DW tendenziell Abweichungen bei der Weiterleitung. Wenn am Aufdampfmaskensubstrat 1 eine andere Schicht, etwa ein Trockenfilmresist, aufgebracht wird, rufen größere Steilheiten außerdem tendenziell Probleme wie eine Fehlausrichtung und eine geringere Haftung aufgrund von Falten hervor. Der Aufbau, der die Bedingung 1 erfüllt, begrenzt Abweichungen bei der Weiterleitung, eine Fehlausrichtung und Falten, wodurch er die Genauigkeit der Muster verbessert, die durch Aufdampfen ausgebildet werden.
  • Die Flüssigkeit, die der Oberfläche des Aufdampfmaskensubstrats 1 zugeführt wird, kann eine Entwicklungslösung zum Entwickeln der Resistschicht auf der Oberfläche des Aufdampfmaskensubstrats 1 und eine Reinigungslösung zum Entfernen der Entwicklungslösung von der Oberfläche sein. Die Flüssigkeit, die der Oberfläche des Aufdampfmaskensubstrats 1 zugeführt wird, kann auch ein Ätzmittel zum Ätzen des Aufdampfmaskensubstrats 1 und eine Reinigungslösung zum Entfernen des Ätzmittels von der Oberfläche sein. Des Weiteren kann die Flüssigkeit, die der Oberfläche des Aufdampfmaskensubstrats 1 zugeführt wird, eine Stripplösung zum Strippen der Resistschicht, die nach dem Ätzen auf der Oberfläche des Aufdampfmaskensubstrats 1 zurückgeblieben ist, und eine Reinigungslösung zum Entfernen der Stripplösung von der Oberfläche sein.
  • Der oben beschriebene Aufbau, bei dem es unwahrscheinlich ist, dass der Fluss an Flüssigkeit, die der Oberfläche des Aufdampfmaskensubstrats 1 zugeführt wird, in der Längsrichtung DL ins Stocken kommt, erhöht die Gleichmäßigkeit der Bearbeitung auf der Oberfläche des Aufdampfmaskensubstrats 1 mittels der Flüssigkeit. Außerdem begrenzt der Aufbau, bei dem der Mittelwert der zweiten Steilheit die Bedingung 2 erfüllt, über die gesamte Länge in der Längsrichtung DL die Einheitssteilheit, was die Genauigkeit der Muster weiter erhöht. Darüber hinaus verbessert dieser Aufbau die Haftung zwischen dem Aufdampfmaskensubstrat 1, das in der Längsrichtung DL weitergeleitet wird, und der Resistschicht, etwa einem Trockenfilm, und die Genauigkeit des Kontakts mit der Resistschicht. Der Aufbau, der die Bedingungen 1 und 2 erfüllt, verbessert also zusätzlich dazu, dass er das Stocken des Flüssigkeitsflusses in der Längsrichtung DL begrenzt, die Genauigkeit des Kontakts. Dies verbessert die Gleichmäßigkeit der Bearbeitung weiter.
  • In dem Aufdampfmaskensubstrat 1, das die Bedingung 3 erfüllt, ist zudem der Maximalwert der Wellenmengen für die Einheitslänge kleiner oder gleich vier. Dementsprechend hat das Aufdampfmaskensubstrat 1 bei Betrachtung in der Längsrichtung DL nicht viele Wellen. Wenn der Oberfläche des Aufdampfmaskensubstrats 1, das in der Längsrichtung DL weitergeleitet wird, Flüssigkeit für die Bearbeitung zugeführt wird, wird die Flüssigkeit somit nicht ins Stocken kommen, was geschehen würde, wenn ein Abschnitt in der Längsrichtung DL eine große Wellenmenge hätte. Dies fördert auch dann, wenn der gleiche Prozess in der Längsrichtung DL wiederholt wird, den gleichmäßigen Flüssigkeitsfluss auf der Oberfläche des Aufdampfmaskensubstrats 1.
  • In dem Aufdampfmaskensubstrat 1, das die Bedingung 4 erfüllt, ist darüber hinaus der Mittelwert der Wellenmengen für die Einheitslänge kleiner oder gleich zwei, sodass über die gesamte Länge in der Längsrichtung DL die Anzahl an Wellen nicht groß ist. Dementsprechend verbessert dieser Aufbau die Haftung zwischen dem Aufdampfmaskensubstrat 1, das in der Längsrichtung DL weitergeleitet wird, und der Resistschicht, etwa dem Trockenfilm, weiter und er erhöht die Genauigkeit des Kontakts mit der Resistschicht.
  • Der Aufbau, der die Bedingungen 1 bis 4 erfüllt, und die Vorteile dieses Aufbaus sind als solches nur dann erreichbar, wenn das Problem bei der Oberflächenbearbeitung mittels der Flüssigkeit, das in dem Aufdampfmaskensubstrat 1 auftritt, das in der Längsrichtung DL weitergeleitet wird, und auch das Problem, das mit der Auswirkung des in der Längsrichtung DL wirkenden Zugs verbunden ist, erkannt werden.
  • - Aufbau Maskeneinrichtung -
  • 4 zeigt schematisch den planaren Aufbau einer Maskeneinrichtung, die eine Aufdampfmaske umfasst, die unter Verwendung des Aufdampfmaskensubstrats 1 hergestellt wurde. 5 zeigt ein Beispiel des Querschnittaufbaus eines Maskenabschnitts einer Aufdampfmaske. 6 zeigt ein anderes Beispiel des Querschnittaufbaus eines Maskenabschnitts einer Aufdampfmaske. Die Anzahl der Aufdampfmasken in der Maskeneinrichtung und die Anzahl an Maskenabschnitten in einer Aufdampfmaske 30 sind lediglich exemplarisch gezeigt.
  • Wie in 4 gezeigt ist, umfasst eine Maskeneinrichtung 10 einen Hauptrahmen 20 und drei Aufdampfmasken 30. Der Hauptrahmen 20 hat die Form eines rechteckigen Rahmens und trägt die Aufdampfmasken 30. Der Hauptrahmen 20 wird an einer Aufdampfvorrichtung angebracht, die Aufdampfen ausübt. Der Hauptrahmen 20 weist Hauptrahmenlöcher 21 auf, die sich durch den Hauptrahmen 20 erstrecken und im Wesentlichen über die gesamten Bereiche verlaufen, in denen die Aufdampfmasken 30 platziert sind.
  • Die Aufdampfmasken 30 weisen eine Vielzahl von Rahmenabschnitten 31, die jeweils die Form eines planaren Streifens haben, und in jedem Rahmenabschnitt 31 drei Maskenabschnitte 32 auf. Jeder Rahmenabschnitt 31, der Maskenabschnitte 32 trägt und die Form eines planaren Streifens hat, ist am Hauptrahmen 20 angebracht. Jeder Rahmenabschnitt 31 enthält Rahmenlöcher 33, die sich durch den Rahmenabschnitt 31 erstrecken und im Wesentlichen über die gesamten Bereiche verlaufen, in denen die Maskenabschnitte 32 platziert sind. Der Rahmenabschnitt 31 hat eine höhere Steifheit als die Maskenabschnitte 32 und ist als ein Rahmen geformt, der die Rahmenlöcher 33 umgibt. Die Maskenabschnitte 32 sind separat durch Schweißen oder Verkleben an Rahmeninnenkantenabschnitten des Rahmenabschnitts 31 befestigt, die die Rahmenlöcher 33 definieren.
  • Wie in 5 gezeigt ist, besteht ein Beispiel eines Maskenabschnitts 32 aus einer Maskenplatte 323. Die Maskenplatte 323 kann ein einzelnes planares Element, das aus einem Aufdampfmaskensubstrat 1 besteht, oder eine Aufschichtung aus einem einzelnen planaren Element, das aus einem Aufdampfmaskensubstrat 1 besteht, und einer Kunststofffolie sein. 5 zeigt ein einzelnes planares Element, das aus dem Aufdampfmaskensubstrat 1 besteht.
  • Die Maskenplatte 323 weist eine erste Oberfläche 321 (die Unterseite in 5) und eine zweite Oberfläche 322 (die Oberseite in 5) auf, die entgegengesetzt zur ersten Oberfläche 321 ist. Die erste Oberfläche 321 ist dem Aufdampftarget, etwa einem Glassubstrat, zugewandt, wenn die Maskeneinrichtung 10 an einer Aufdampfvorrichtung angebracht wird. Die zweite Oberfläche 322 ist der Aufdampfquelle der Aufdampfvorrichtung zugewandt. Der Maskenabschnitt 32 weist eine Vielzahl von Löchern 32H auf, die sich durch die Maskenplatte 323 erstrecken. Die Wandoberfläche, die jedes Loch 32H definiert, ist in einer Schnittansicht bezüglich der Dickenrichtung der Maskenplatte 323 geneigt. In einer Schnittansicht kann die Wandoberfläche, die jedes Loch 32H definiert, eine aus dem Loch 32H herausragende Halbkreisform, wie in 5 gezeigt ist, oder eine komplex gekrümmte Form mit einer Vielzahl von Biegungspunkten haben.
  • Die Maskenplatte 323 hat eine Dicke zwischen einschließlich 1 µm und 50 µm, vorzugsweise zwischen einschließlich 2 µm und 20 µm. Eine Dicke der Maskenplatte 323, die kleiner oder gleich 50 µm ist, ermöglicht den in der Maskenplatte 323 ausgebildeten Löchern 32H, eine Tiefe von kleiner oder gleich 50 µm zu haben. Diese dünne Maskenplatte 323 erlaubt den Wandoberflächen, die die Löcher 32H definieren, kleine Flächen zu haben, wodurch das Volumen an Abdampfmaterial verringert wird, das an den Wandoberflächen anhaftet, die die Löcher 32H definieren.
  • Die zweite Oberfläche 322 weist zweite Öffnungen H2 auf, die Öffnungen der Löcher 32H sind. Die erste Oberfläche 321 weist erste Öffnungen H1 auf, die Öffnungen der Löcher 32H sind. Die zweiten Öffnungen H2 sind in Draufsicht größer als die ersten Öffnungen H1. Jedes Maskenloch 32H ist ein Durchgang für die Abdampfpartikel, die von der Abdampfquelle sublimiert werden. Das von der Abdampfquelle sublimierte Abdampfmaterial bewegt sich von den zweiten Öffnungen H2 zu den ersten Öffnungen H1. Die zweiten Öffnungen H2, die größer als die ersten Öffnungen H1 sind, erhöhen die Menge an Abdampfmaterial, das durch die zweiten Öffnungen H2 in die Löcher 32H eindringt. Die Fläche jedes Lochs 32H in einem Querschnitt entlang der ersten Oberfläche 321 kann von der ersten Öffnung H1 aus zur zweiten Öffnung H2 hin monoton zunehmen, oder sie kann in einem Abschnitt zwischen der ersten Öffnung H1 und der zweiten Öffnung H2 im Wesentlichen gleichmäßig sein.
  • Wie in 6 gezeigt ist, weist ein anderes Beispiel eines Maskenabschnitts 32 eine Vielzahl von Löchern 32H auf, die sich durch die Maskenplatte 323 erstrecken. Die zweiten Öffnungen H2 sind in einer Draufsicht größer als die ersten Öffnungen H1. Jedes Loch 32H besteht aus einem großen Loch 32LH, das eine zweite Öffnung H2 aufweist, und einem kleinen Loch 32SH, das eine erste Öffnung H1 aufweist. Das große Loch 32LH hat eine Querschnittsfläche, die von der zweiten Öffnung H2 aus zur ersten Oberfläche 321 monoton abnimmt. Das kleine Loch 32SH hat eine Querschnittsfläche, die von der ersten Öffnung H1 aus zur zweiten Oberfläche 322 monoton abnimmt. Der Abschnitt der jedes Loch 32H definierenden Wandoberfläche, an dem das große Loch 32LH an einem mittleren Abschnitt in der Dickenrichtung der Maskenplatte 323 das kleine Loch 32SH trifft, steht ins Innere des Lochs 32H vor. Der Abstand zwischen der ersten Oberfläche 321 und dem vorstehenden Abschnitt der das Loch 32H definierenden Wandoberfläche ist eine Stufenhöhe SH. Das Beispiel des in 5 gezeigten Querschnittaufbaus hat null Stufenhöhe SH. Um die Menge des Aufdampfmaterials zu erhöhen, das die ersten Öffnungen H1 erreicht, ist die Stufenhöhe SH vorzugsweise null. Damit ein Maskenabschnitt 32 null Stufenhöhe SH hat, sollte die Maskenplatte 323 dünn genug sein, sodass die Ausbildung der Löcher 32H durch Nassätzen von nur einer Seite des Aufdampfmaskensubstrats 1 aus erreicht wird. Die Maskenplatte 323 kann zum Beispiel eine Dicke von kleiner oder gleich 50 µm haben.
  • - Maskenabschnittverbindungsaufbau -
  • 7 zeigt ein Beispiel des Querschnittaufbaus einer Verbindung zwischen einem Maskenabschnitt 32 und einem Rahmenabschnitt 31. 8 zeigt ein anderes Beispiel des Querschnittaufbaus einer Verbindung zwischen einem Maskenabschnitt 32 und einem Rahmenabschnitt 31.
  • In dem Beispiel, das in 7 gezeigt ist, ist der Außenkantenabschnitt 32E einer Maskenplatte 323 ein Gebiet, das frei von Löchern 32H ist. Der Teil der zweiten Oberfläche 322 der Maskenplatte 323, die im Außenkantenabschnitt 32E der Maskenplatte 323 enthalten ist, ist ein Beispiel einer Seitenfläche des Maskenabschnitts und ist mit dem Rahmenabschnitt 31 verbunden. Der Rahmenabschnitt 31 weist Innenkantenabschnitte 31E auf, die Rahmenlöcher 33 definieren. Jeder Innenkantenabschnitt 31E weist eine Verbindungsfläche 311 (die Unterseite in 7), die der Maskenplatte 323 zugewandt ist, und eine Nichtverbindungsfläche 312 (die Oberseite in 7) auf, die entgegengesetzt zur Verbindungsfläche 311 ist. Die Dicke T31 des Innenkantenabschnitts 31E, also der Abstand zwischen der Verbindungsfläche 311 und der Nichtverbindungsfläche 312 ist ausreichend größer als die Dicke T32 der Maskenplatte 323, was dem Rahmenabschnitt 31 erlaubt, eine höhere Steifheit als die Maskenplatte 323 zu haben. Der Rahmenabschnitt 31 hat eine hohe Steifheit, die insbesondere ein Absacken des Innenkantenabschnitts 31E aufgrund seines Eigengewichts und einen Versatz des Innenkantenabschnitts 31E zum Maskenabschnitt 32 begrenzt. Die Verbindungsfläche 311 des Innenkantenabschnitts 31E weist einen Verbindungsabschnitt 32BN auf, der mit der zweiten Oberfläche 322 verbunden ist.
  • Der Verbindungsabschnitt 32BN verläuft kontinuierlich oder mit Unterbrechungen im Wesentlichen entlang des gesamten Umfangs des Innenkantenabschnitts 31E. Der Verbindungsabschnitt 32BN kann eine Schweißmarke sein, die durch Verschweißen der Verbindungsfläche 311 der zweiten Oberfläche 322 ausgebildet wurde, oder eine Verbindungsschicht, die die Verbindungsfläche 311 mit der zweiten Oberfläche 322 verbindet. Wenn die Verbindungsfläche 311 des Innenkantenabschnitts 31E mit der zweiten Oberfläche 322 der Maskenplatte 323 verbunden ist, bringt der Rahmenabschnitt 31 auf die Maskenplatte 323 eine Spannung F auf, die die Maskenplatte 323 nach außen zieht.
  • Der Hauptrahmen 20 bringt auf den Rahmenabschnitt 31 ebenfalls eine Spannung auf, die den Rahmenabschnitt 31 nach außen zieht. Diese Spannung entspricht der Spannung F, die auf die Maskenplatte 323 aufgebracht wird. Dementsprechend ist die Aufdampfmaske 30, die vom Hauptrahmen 20 entfernt wurde, von der Spannung befreit, die durch die Verbindung zwischen dem Hauptrahmen 20 und dem Rahmenabschnitt 31 hervorgerufen wird, und die auf die Maskenplatte 323 aufgebrachte Spannung F ist gelöst. Die Position des Verbindungsabschnitts 32BN in der Verbindungsfläche 311 wird vorzugsweise derart eingestellt, dass die Spannung F isotrop auf die Maskenplatte 323 wirkt. Eine solche Position kann entsprechend der Form der Maskenplatte 323 und der Form der Rahmenlöcher 33 gewählt werden.
  • Die Verbindungsfläche 311 ist eine Ebene, die den Verbindungsabschnitt 32BN enthält und sich vom Außenkantenabschnitt 32E der zweiten Oberfläche 322 aus zur Außenseite der Maskenplatte 323 erstreckt. Mit anderen Worten hat der Innenkantenabschnitt 31E einen planaren Aufbau, der die zweite Oberfläche 322 gewissermaßen nach außen verlängert, sodass sich der Innenkantenabschnitt 31E vom Außenkantenabschnitt 32E der zweiten Oberfläche 322 aus zur Außenseite der Maskenplatte 323 erstreckt. In dem Bereich, in dem die Verbindungsfläche 311 verläuft, ist es wahrscheinlich, dass um die Maskenplatte 323 herum ein Raum V ausgebildet wird, der der Dicke der Maskenplatte 323 entspricht. Dies begrenzt eine physikalische Beeinträchtigung zwischen dem Aufdampftarget S und dem Rahmenabschnitt 31 um die Maskenplatte 323 herum.
  • 8 zeigt ein anderes Beispiel, in dem der Außenkantenabschnitt 32E der zweiten Oberfläche 322 ein Gebiet aufweist, das frei von Löchern 32H ist. Der Außenkantenabschnitt 32E der zweiten Oberfläche 322 weist einen Verbindungsabschnitt 32BN auf, mittels dem der Außenkantenabschnitt 32E mit der Verbindungsfläche 311 des Rahmenabschnitts 31 verbunden ist. Der Rahmenabschnitt 31 bringt auf die Maskenplatte 323 eine Spannung F auf, die die Maskenplatte 323 nach außen zieht. Der Rahmenabschnitt 31 erzeugt in dem Bereich, in dem die Verbindungsfläche 311 verläuft, außerdem einen Raum V, der der Dicke der Maskenplatte 323 entspricht.
  • Die Maskenplatte 323, die nicht der Spannung F ausgesetzt ist, kann ähnlich wie das Aufdampfmaskensubstrat 1 einige Wellen haben. Die Maskenplatte 323, die der Spannung F ausgesetzt ist, also die an der Aufdampfmaske 30 montierte Maskenplatte 323 kann sich derart verformen, dass die Höhen der Wellen geringer ausfallen. Allerdings überschreitet keine Verformung, die durch die Spannung F hervorgerufen wird, den zulässigen Grad, wenn das Aufdampfmaskensubstrat 1 die oben beschriebenen Bedingungen erfüllt. Dementsprechend ist es weniger wahrscheinlich, dass sich die Löcher 32H in der Aufdampfmaske 30 verformen, was die Genauigkeit der Position und Form der Muster verbessert.
  • - Menge an Maskenabschnitten -
  • 9(a) und 9(b) zeigen ein Beispiel des Zusammenhangs zwischen der Menge an Löchern 32H in einer Aufdampfmaske 30 und der Menge an Löchern 32H in einem Maskenabschnitt 32. 10(a) und 10(b) zeigen ein anderes Beispiel des Zusammenhangs zwischen der Menge an Löchern 32H in einer Aufdampfmaske 30 und der Menge an Löchern 32H in einem Maskenabschnitt 32.
  • 9(a) zeigt ein Beispiel, in dem der Rahmenabschnitt 31 drei Rahmenlöcher 33 (33A, 33B und 33C) aufweist. Wie in 9(b) gezeigt ist, weist die Aufdampfmaske 30 dieses Beispiels in jedem der Rahmenlöcher 33 einen Maskenabschnitt 32 (32A, 32B oder 32C) auf. Der Innenkantenabschnitt 31E, der das Rahmenloch 33A definiert, ist mit einem Maskenabschnitt 32A verbunden, der Innenkantenabschnitt 31E, der das Rahmenloch 33B definiert, ist mit einem anderen Maskenabschnitt 32B verbunden, und der Innenkantenabschnitt 31E, der das Rahmenloch 33C definiert, ist mit dem anderen Maskenabschnitt 32C verbunden.
  • Die Aufdampfmaske 30 wird wiederholt für eine Vielzahl von Aufdampftargets verwendet. Somit müssen die Position und der Aufbau der Löcher 32H in der Aufdampfmaske 30 hochgradig genau sein. Wenn die Position und der Aufbau der Löcher 32H nicht die gewünschte Genauigkeit haben, kann bei der Herstellung ein Austausch der Maskenabschnitte 32 oder eine Reparatur der Aufdampfmaske 30 erforderlich sein.
  • Wenn zum Beispiel nur einer der Maskenabschnitte 32 ausgetauscht werden muss, erfordert der Aufbau, in dem die Menge an Löchern 32H, die in einem Rahmenabschnitt 31 vorgeschrieben ist, wie in 9(a) und 9(b) in drei Maskenabschnitte 32 aufgeteilt wird, nur den Austausch von einem der drei Maskenabschnitte 32. Mit anderen Worten können zwei der drei Maskenabschnitte 32 weiterverwendet werden. Somit verringert der Aufbau, in dem die Maskenabschnitte 32 mit den jeweiligen Rahmenlöchern 33 separat verbunden sind, den Verbrauch von verschiedenen Materialien, der mit der Herstellung einhergeht, und eine Reparatur der Aufdampfmaske 30. Außerdem verringern eine dünnere Maskenplatte 323 und kleinere Löcher 32H tendenziell die Ausbeute des Maskenabschnitts 32 und erhöhen die Notwendigkeit für einen Austausch des Maskenabschnitts 32. Dementsprechend ist der Aufbau, in dem jedes Rahmenloch 33 einen Maskenabschnitt 32 hat, besonders für eine Aufdampfmaske 30 geeignet, die eine hohe Auflösung voraussetzt.
  • Die Position und der Aufbau der Löcher 32H werden vorzugsweise festgelegt, während die Spannung F aufgebracht wird, also während die Maskenabschnitte 32 mit dem Rahmenabschnitt 31 verbunden sind. Hinsichtlich dessen verläuft der Verbindungsabschnitt 32BN vorzugsweise in Teilen und unterbrochen entlang des Innenkantenabschnitts 31E, sodass der Maskenabschnitt 32 austauschbar ist.
  • 10(a) zeigt ein Beispiel, in dem der Rahmenabschnitt 31 drei Rahmenlöcher 33 (33A, 33B und 33C) aufweist. Wie in dem Beispiel von 10(b) gezeigt ist, kann die Aufdampfmaske 30 einen Maskenabschnitt 32 aufweisen, der den Rahmenlöchern 33 gemeinsam ist. Der Innenkantenabschnitt 31E, der das Rahmenloch 33A definiert, der Innenkantenabschnitt 31E, der das Rahmenloch 33B definiert, und der Innenkantenabschnitt 31E, der das Rahmenloch 33C definiert, sind mit dem gemeinsamen Maskenabschnitt 32 verbunden. Der Aufbau, in dem die Menge der Löcher 32H, die in einem Rahmenabschnitt 31 vorgeschrieben ist, einem einzelnen Maskenabschnitt 32 zugewiesen wird, umfasst nur einen Maskenabschnitt 32, der mit dem Rahmenabschnitt 31 verbunden ist. Dies verringert die Belastung, die für die Verbindung zwischen dem Rahmenabschnitt 31 und den Maskenabschnitten 32 erforderlich ist. Außerdem erhöhen eine dickere Maskenplatte 323, die den Maskenabschnitt 32 ausbildet, und größere Löcher 32H tendenziell die Ausbeute des Maskenabschnitts 32 und verringern die Notwendigkeit für einen Austausch des Maskenabschnitts 32. Somit ist der Aufbau, bei dem sich die Rahmenlöcher 33 den gemeinsamen Maskenabschnitt 32 teilen, besonders für eine Aufdampfmaske 30 geeignet, die eine geringe Auflösung voraussetzt.
  • - Verfahren zur Herstellung eines Aufdampfmaskensubstrats -
  • Es werden nun Verfahren zur Herstellung des Aufdampfmaskensubstrats beschrieben. Als Verfahren zur Herstellung eines Aufdampfmaskensubstrats werden getrennt ein Verfahren, das Walzen verwendet, und ein Verfahren, das Elektrolyse verwendet, beschrieben. Das Verfahren, das Walzen verwendet, wird zuerst beschrieben, gefolgt von dem Verfahren, das Elektrolyse verwendet. 11 und 12 zeigen ein Beispiel, das Walzen verwendet.
  • Mit Bezug auf 11 bereitet das Verfahren, das Walzen verwendet, ein Grundmaterial 1a aus zum Beispiel Invar vor. Das Grundmaterial 1a erstreckt sich in der Längsrichtung DL. Dann wird das Grundmaterial 1a derart zu einem Walzwerk 50 weitergeleitet, das die Längsrichtung DL des Grundmaterials 1a parallel zu der Richtung ist, in der das Grundmaterial 1a weitergeleitet wird. Das Walzwerk 50 kann ein Paar Walzen 51 und 52 aufweisen, die das Grundmaterial 1a walzen. Dies streckt das Grundmaterial 1a in der Längsrichtung DL, wodurch ein gewalztes Material 1b ausgebildet wird. Das gewalzte Material 1b wird geschnitten, sodass es in der Breitenrichtung DW eine Breite W hat. Das gewalzte Material 1b kann um einen Kern C herum aufgewickelt werden oder in einem Zustand gehandhabt werden, in dem es in der Form eines Streifens verläuft. Das gewalzte Material 1b hat eine Dicke zwischen zum Beispiel einschließlich 10 µm und 50 µm. 11 zeigt ein Beispiel, in dem ein einzelnes Paar Walzen verwendet wird, doch es kann auch eine Vielzahl von Walzenpaaren verwendet werden.
  • Wie in 12 gezeigt wird, wird das gewalzte Material 1b dann zu einer Glühvorrichtung 53 weitergeleitet. Die Glühvorrichtung 53 erhitzt das gewalzte Material 1b, das in der Längsrichtung DL gestreckt ist. Dies entfernt die Restspannung, die in dem gewalzten Material 1b zurückbleibt, und bildet das Aufdampfmaskensubstrat 1 aus. Die Presskraft zwischen den Walzen 51 und 52, die Rotationsgeschwindigkeit der Walzen 51 und 52 und die Glühtemperatur des gewalzten Materials 1b werden so eingestellt, dass die Bedingung 1 erfüllt wird. Vorzugsweise werden Parameter wie die Presskraft zwischen den Walzen 51 und 52, die Rotationsgeschwindigkeit der Walzen 51 und 52, die Presstemperatur der Walzen 51 und 52 und die Glühtemperatur des gewalzten Materials 1b so eingestellt, dass neben der Bedingung 1 die Bedingungen 2 bis 4 erfüllt werden. Das gewalzte Material 1b kann nach dem Glühvorgang geschnitten werden, sodass es in der Breitenrichtung DW die Breite W hat.
  • In dem Verfahren, das Elektrolyse verwendet, wird das Aufdampfmaskensubstrat 1 auf der Oberfläche der Elektrode für die Elektrolyse ausgebildet und dann von der Oberfläche entfernt. Dabei kann eine Elektrolysetrommelelektrode, die eine hochglanzpolierte Oberfläche hat und in das Elektrolysebad eingetaucht wird, und eine andere Elektrode verwendet werden, die die Elektrolysetrommelelektrode von der Unterseite stützt und der Oberfläche der Elektrolysetrommelelektrode zugewandt ist. Zwischen der Elektrolysetrommelelektrode und der anderen Elektrode fließt ein elektrischer Strom, und auf der Elektrodenoberfläche, die die Oberfläche der Elektrolysetrommelelektrode ist, wird das Aufdampfmaskensubstrat 1 abgeschieden. Wenn das Aufdampfmaskensubstrat 1 auf der sich drehenden Elektrolysetrommelelektrode die gewünschte Dicke erreicht, wird das Aufdampfmaskensubstrat 1 von der Oberfläche der Elektrolysetrommelelektrode abgelöst und zu einer Rolle aufgewickelt.
  • Wenn das Aufdampfmaskensubstrat 1 aus Invar besteht, enthält das Elektrolysebad für die Elektrolyse zum Beispiel eine Eisenionenquelle, eine Nickelionenquelle und einen pH-Puffer. Das Elektrolysebad, das für die Elektrolyse verwendet wird, kann auch ein Spannungsabbaumittel, ein Fe3+-Ionen-Maskierungsmittel und ein Komplexbildungsmittel wie Apfelsäure und Zitronensäure enthalten, und es ist eine schwach saure Lösung mit einem für die Elektrolyse angepassten pH-Wert. Beispiele für die Eisenionenquelle schließen Eisen(II)-sulfat-Heptahydrat, Eisen(II)-chlorid und Eisen(II)-sulfamat ein. Beispiele der Nickelionenquelle schließen Nickel(II)-sulfat, Nickel(II)-chlorid, Nickelsulfamat und Nickelbromid ein. Beispiele des pH-Puffers schließen Borsäure und Malonsäure ein. Malonsäure dient auch als ein Fe3+-Ionen-Maskierungsmittel. Das Spannungsabbaumittel kann zum Beispiel Natriumsaccharin sein. Das Elektrolysebad, das zur Elektrolyse verwendet wird, kann eine wässrige Lösung sein, die die oben angeführten Zusatzstoffe enthält und die mittels eines pH-Einstellmittels wie 5% Schwefelsäure oder Nickelcarbonat so eingestellt ist, dass sie einen pH-Wert zwischen zum Beispiel einschließlich 2 und 3 hat. Falls notwendig, kann ein Glühschritt einbezogen werden.
  • Als Bedingungen für die Elektrolyse werden die Temperatur des Elektrolysebads, die Stromdichte und die Elektrolysezeit entsprechend den Eigenschaften des Aufdampfmaskensubstrats 1, etwa der Dicke und dem Zusammensetzungsverhältnis, eingestellt. Die Anode, die im Elektrolysebad verwendet wird, kann aus reinem Eisen und Nickel bestehen. Die Kathode, die im Elektrolysebad verwendet wird, kann eine Platte aus rostfreiem Stahl wie SUS304 sein. Die Temperatur des Elektrolysebads kann zwischen einschließlich 40°C und 60°C liegen. Die Stromdichte kann zwischen einschließlich 1 A/dm2 und 4 A/dm2 liegen. Die Stromdichte auf der Oberfläche der Elektrode wird so eingestellt, dass die Bedingung 1 erfüllt wird. Vorzugsweise wird die Stromdichte an der Oberfläche der Elektrode so eingestellt, dass neben der Bedingung 1 die Bedingungen 2 bis 4 erfüllt werden.
  • Das Aufdampfmaskensubstrat 1, das durch Elektrolyse hergestellt wurde, und das Aufdampfmaskensubstrat 1, das durch Walzen hergestellt wurde, können weiter durch chemisches oder elektrisches Polieren gedünnt werden. Die Polierlösung, die zum chemischen Polieren verwendet wird, kann eine chemische Polierlösung für eine Eisenlegierung sein, die als Hauptbestandteil Wasserstoffperoxid enthält. Der Elektrolyt, der zum elektrischen Polieren verwendet wird, ist eine Elektropolierlösung auf Perchlorsäurebasis oder eine Elektropolierlösung auf Schwefelsäurebasis. Da die oben beschriebenen Bedingungen erfüllt sind, hat die Oberfläche des Aufdampfmaskensubstrats 1 infolge des Polierens mittels der Polierlösung und infolge des Reinigens der Polierlösung mittels einer Reinigungslösung nur eine begrenzte Schwankung.
  • - Verfahren zur Herstellung eines Maskenabschnitts -
  • Unter Bezugnahme auf 13 bis 18 wird nun ein Prozess zur Herstellung des in 6 gezeigten Maskenabschnitts 32 beschrieben. Der Prozess zur Herstellung des in 5 gezeigten Maskenabschnitts 32 ist mit Ausnahme dessen, dass als die Durchgangslöcher die kleinen Löcher 32SH ausgebildet werden und dass der Schritt, in dem die großen Löcher 32LH ausgebildet werden, entfällt, der gleiche wie der Prozess zur Herstellung des in 6 gezeigten Maskenabschnitts 32. Die sich deckenden Schritte werden nicht beschrieben.
  • Bezugnehmend auf 13 beginnt die Herstellung eines Maskenabschnitts mit der Vorbereitung eines Aufdampfmaskensubstrats 1, das eine erste Oberfläche 1Sa und eine zweite Oberfläche 1Sb aufweist, eines ersten Trockenfilmresists 2 (eines ersten TFR 2), der an der ersten Oberfläche 1Sa anzubringen ist, und eines zweiten Trockenfilmresists 3 (eines zweiten TFR 3), der an der zweiten Oberfläche 1Sb anzubringen ist. Die TFRs 2 und 3 werden getrennt vom Aufdampfmaskensubstrat 1 ausgebildet. Dann wird der erste TFR 2 an der ersten Oberfläche 1Sa angebracht und der zweite TFR 3 wird an der zweiten Oberfläche 1Sb angebracht. Da die oben beschriebenen Bedingungen erfüllt sind, ist es weniger wahrscheinlich, dass die Anbringung der TFRs 2 und 3, die entlang des Aufdampfmaskensubstrats 1 weitergeleitet werden, an dem Aufdampfmaskensubstrat 1, das in der Längsrichtung DL weitergeleitet wird, zu Abweichungen bei der Weiterleitung, einer Fehlausrichtung oder Falten führt.
  • Bezugnehmend auf 14 werden die anderen Abschnitte der TFRs 2 und 3 als die Abschnitte, in denen die Löcher auszubilden sind, belichtet, und die TFRs werden dann entwickelt. Dies bildet im ersten TFR 2 die ersten Durchgangslöcher 2a und im zweiten TFR 3 die zweiten Durchgangslöcher 3a aus. Die Entwicklung der belichteten TFRs verwendet als die Entwicklungslösung zum Beispiel eine Natriumcarbonat-Lösung. Da die oben beschriebenen Bedingungen erfüllt sind, hat die Oberfläche des Aufdampfmaskensubstrats 1 infolge der Entwicklung mittels der Entwicklungslösung und infolge eines Reinigens mittels einer Reinigungslösung eine begrenzte Schwankung. Außerdem ist es unwahrscheinlich, dass der Prozess des Anbringens zu Abweichungen bei der Weiterleitung, einer Fehlausrichtung oder Falten führt, wodurch ein damit verbundener Versatz der Belichtungsposition begrenzt wird und die Belichtungsgenauigkeit erhöht wird. Dies erhöht die Gleichmäßigkeit der Form und Größe der ersten und zweiten Durchgangslöcher 2a und 3a in der Oberfläche des Aufdampfmaskensubstrats 1.
  • Wie in 15 gezeigt ist, kann die erste Oberfläche 1Sa des Aufdampfmaskensubstrats 1 mit einer Eisen(III)-chlorid-Lösung geätzt werden, wobei der entwickelte erste TFR 2 als Maske verwendet wird. Dabei wird über der zweiten Oberfläche 1Sb eine zweite Schutzschicht 61 ausgebildet, sodass die zweite Oberfläche 1Sb nicht zusammen mit der ersten Oberfläche 1Sa geätzt wird. Die zweite Schutzschicht 61 kann aus einem Material bestehen, das der Eisen(III)-chlorid-Lösung chemisch standhält. Auf diese Weise werden in der ersten Oberfläche 1Sa kleine Löcher 32SH ausgebildet, die sich zur zweiten Oberfläche 1Sb erstrecken. Jedes kleine Loch 32SH weist eine erste Öffnung H1 auf, die sich in der ersten Oberfläche 1Sa öffnet. Da die oben beschriebenen Bedingungen erfüllt sind, hat die Oberfläche des Aufdampfmaskensubstrats 1 infolge eines Ätzens mittels eines Ätzmittels und infolge eines Reinigens mittels einer Reinigungslösung eine begrenzte Schwankung. Dies erhöht die Gleichmäßigkeit der Form und Größe der kleinen Löcher 32SH in der Oberfläche des Aufdampfmaskensubstrats 1.
  • Das Ätzmittel zum Ätzen des Aufdampfmaskensubstrats 1 kann ein saures Ätzmittel sein. Wenn das Aufdampfmaskensubstrat 1 aus Invar besteht, kann ein Ätzmittel verwendet werden, das dazu imstande ist, Invar zu ätzen. Das saure Ätzmittel kann eine Lösung, die Perchlorsäure, Salzsäure, Schwefelsäure, Ameisensäure oder in Eisen(III)-perchlorat-Lösung eingemischte Essigsäure enthält, oder ein Gemisch aus einer Eisen(III)-perchlorat-Lösung und einer Eisen(III)-chlorid-Lösung sein. Das Aufdampfmaskensubstrat 1 kann durch ein Eintauchverfahren, dass das Aufdampfmaskensubstrat 1 in ein saures Ätzmittel eintaucht, oder durch ein Sprühverfahren geätzt werden, das auf das Aufdampfmaskensubstrat 1 ein saures Ätzmittel aufsprüht.
  • Bezugnehmend auf 16 werden der erste TFR 2, der auf der ersten Oberfläche 1Sa ausgebildet ist, und die zweite Schutzschicht 61 auf dem zweiten TFR 3 entfernt. Außerdem wird auf der ersten Oberfläche 1Sa eine erste Schutzschicht 4 ausgebildet, um ein zusätzliches Ätzen der ersten Oberfläche 1Sa zu verhindern. Die erste Schutzschicht 4 kann aus einem Material bestehen, das der Eisen(III)-chlorid-Lösung chemisch standhält.
  • Wie in 17 gezeigt ist, wird die zweite Oberfläche 1Sb dann mit Eisen(III)-chlorid-Lösung geätzt, wobei der entwickelte zweite TFR 3 als Maske verwendet wird. In der zweiten Oberfläche 1Sb werden auf diese Weise große Löcher 32LH ausgebildet, die sich zur ersten Oberfläche 1Sa erstrecken. Jedes große Loch 32LH hat eine zweite Öffnung H2, die sich in der ersten Oberfläche 1Sb öffnet. Die zweiten Öffnungen H2 sind in einer Draufsicht der zweiten Oberfläche 1Sb größer als die ersten Öffnungen H1. Da die oben beschriebenen Bedingungen erfüllt sind, hat die Oberfläche des Aufdampfmaskensubstrats 1 infolge eines Ätzens mittels eines Ätzmittels und infolge eines Reinigens des Ätzmittels mittels einer Reinigungslösung eine begrenzte Schwankung. Dies erhöht die Gleichmäßigkeit der Form und Größe der großen Löcher 32LH in der Oberfläche des Aufdampfmaskensubstrats 1. Das Ätzmittel, das in diesem Schritt verwendet wird, kann ebenfalls ein saures Ätzmittel sein. Wenn das Aufdampfmaskensubstrat 1 aus Invar besteht, kann ein Ätzmittel verwendet werden, das dazu imstande ist, Invar zu ätzen. Das Aufdampfmaskensubstrat 1 kann ebenfalls durch ein Tauchverfahren, das das Aufdampfmaskensubstrat 1 in ein saures Ätzmittel eintaucht, oder durch ein Sprühverfahren geätzt werden, das auf das Aufdampfmaskensubstrat 1 ein saures Ätzmittel aufsprüht.
  • Wie in 18 gezeigt ist, sorgt das Entfernen der ersten Schutzschicht 4 und des zweiten TFR 3 vom Aufdampfmaskensubstrat 1 für den Maskenabschnitt 32, der eine Vielzahl von kleinen Löchern 32SH und von mit den kleinen Löchern 32SH verbundenen großen Löchern 32LH hat.
  • Bei dem Herstellungsverfahren, das Walzen verwendet, weist das Aufdampfmaskensubstrat 1 eine gewisse Menge eines Metalloxids wie Aluminiumoxid oder Magnesiumoxid auf. Und zwar wird in das Material typischerweise ein Desoxidationsmittel wie körniges Aluminium oder Magnesium eingemischt, um ein Einmischen von Sauerstoff in das Grundmaterial 1a zu verhindern, wenn das Grundmaterial 1a ausgebildet wird. Das Aluminium oder Magnesium bleibt in dem Grundmaterial 1a in einem gewissen Umfang als Metalloxid wie Aluminiumoxid oder Magnesiumoxid zurück. Hinsichtlich dessen begrenzt das Herstellungsverfahren, das Elektrolyse verwendet, das Einmischen des Metalloxids in den Maskenabschnitt 32.
  • - Verfahren zur Herstellung einer Aufdampfmaske -
  • Es werden nun verschiedene Beispiele eines Verfahrens zur Herstellung einer Aufdampfmaske beschrieben. Unter Bezug auf 19(a) bis 19(h) wird ein Beispiel eines Verfahrens zum Ausbilden von Löchern durch Nassätzen (das erste Herstellungsverfahren) beschrieben. Bezugnehmend auf 20(a) bis 20(e) wird ein Beispiel eines Verfahrens zum Ausbilden von Löchern durch Elektrolyse (das zweite Herstellungsverfahren) beschrieben. Bezugnehmend auf 21(a) bis 21(f) wird ein weiteres Beispiel eines Verfahrens zum Ausbilden von Löchern durch Elektrolyse (das dritte Herstellungsverfahren) beschrieben.
  • - Erstes Herstellungsverfahren -
  • Das Verfahren zur Herstellung einer Aufdampfmaske, die den unter Bezugnahme auf 5 beschriebenen Maskenabschnitt 32 aufweist, und das Verfahren zur Herstellung einer Aufdampfmaske, die den unter Bezugnahme auf 6 beschriebenen Maskenabschnitt 32 aufweist, umfassen mit Ausnahme des Schrittes, in dem ein Substrat 32K geätzt wird, im Wesentlichen identische Prozesse. Die folgende Beschreibung konzentriert sich hauptsächlich auf das Verfahren zur Herstellung einer Aufdampfmaske, die den in 5 gezeigten Maskenabschnitt 32 aufweist. Die sich deckenden Schritte in dem Verfahren zur Herstellung einer Aufdampfmaske, die den in 6 gezeigten Maskenabschnitt 32 aufweist, werden nicht beschrieben.
  • In dem in 19(a) bis 19(h) gezeigten Beispiel eines Verfahrens zur Herstellung einer Aufdampfmaske wird zunächst ein Substrat 32K vorbereitet (19(a)). Das Substrat 32K ist das Aufdampfmaskensubstrat 1, das als die Maskenplatte 323 zu bearbeiten ist und neben dem Aufdampfmaskensubstrat 1 vorzugsweise einen Träger SP aufweist, der das Aufdampfmaskensubstrat 1 trägt. Die erste Oberfläche 321 des Substrats 32K (die Unterseite in 19(a) bis 19(h)) entspricht der oben beschriebenen ersten Oberfläche 1Sa, und die zweite Oberfläche 322 des Substrats 32K (die Oberseite in 19(a) bis 19(h)) entspricht der oben beschriebenen zweiten Oberfläche 1Sb.
  • Auf der zweiten Oberfläche 322 des vorbereiteten Substrats 32K wird eine Resistschicht PR ausgebildet (19(b)), und die Resistschicht PR wird einer Belichtung und Entwicklung unterzogen, sodass auf der zweiten Oberfläche 322 eine Resistmaske RM ausgebildet wird (19(c)). In dem Substrat 32K werden dann unter Verwendung der Resistmaske RM durch Nassätzen von der zweiten Oberfläche 322 aus Löcher 32H ausgebildet (19(d)).
  • In diesem Schritt werden in der zweiten Oberfläche 322 zweite Öffnungen H2 ausgebildet, an denen das Nassätzen beginnt, und in der ersten Oberfläche 321, die dem Nassätzen nach der zweiten Oberfläche 322 ausgesetzt wird, werden erste Öffnungen H1 ausgebildet, die kleiner als die zweiten Öffnungen H2 sind. Die Resistmaske RM wird dann von der zweiten Oberfläche 322 entfernt, was den oben beschriebenen Maskenabschnitt 32 zurücklässt (19(e)). Schließlich werden die Außenkantenabschnitte 32E der zweiten Oberfläche 322 mit den Innenkantenabschnitten 31E eines Rahmenabschnitts 31 verbunden und es wird der Träger SP vom Maskenabschnitt 32 entfernt, um die Aufdampfmaske 30 fertigzustellen (19(f)) bis 19(h)).
  • In dem Verfahren zur Herstellung einer Aufdampfmaske, die den in 6 gezeigten Maskenabschnitt 32 aufweist, erfolgen die oben beschriebenen Schritte auf der Oberfläche eines Substrats 32K, die der ersten Oberfläche 321 entspricht, um kleine Löcher 32SH auszubilden. Dieses Substrat 32K weist keinen Träger SP auf. Die kleinen Löcher 32SH werden dann mit einem Material wie einem Resist gefüllt, um die kleinen Löcher 32SH zu schützen. Dann erfolgen auf der Oberfläche des Substrats 32K, die der zweiten Oberfläche 322 entspricht, die oben beschriebenen Schritte, wodurch ein Maskenabschnitt 32 ausgebildet wird.
  • Das in 19(f) gezeigte Beispiel verwendet Widerstandsschweißen, um die Außenkantenabschnitte 32E der zweiten Oberfläche 322 mit den Innenkantenabschnitten 31E des Rahmenabschnitts 31 zu verbinden. Dieses Verfahren bildet in einem isolierenden Träger SP eine Vielzahl von Löchern SPH aus. Die Löcher SPH werden in den Abschnitten des Trägers SP ausgebildet, die den Abschnitten zugewandt sind, die zu den Verbindungsabschnitten 32BN werden. Dann werden die Verbindungsabschnitte 32BN separat durch Energiebeaufschlagung durch die Löcher SPH hindurch ausgebildet. Dies verschweißt die Außenkantenabschnitte 32E mit den Innenkantenabschnitten 31E.
  • Das in 19(g) gezeigte Beispiel verwendet Laserschweißen, um die Außenkantenabschnitte 32E der zweiten Oberfläche 322 mit den Innenkantenabschnitten 31E des Rahmenabschnitts 31 zu verbinden. Dieses Verfahren verwendet einen lichtdurchlässigen Träger SP und bestrahlt die Abschnitte, die zu den Verbindungsabschnitten 32BN werden, durch den Träger SP hindurch mit Laserlicht L. Es werden separate Verbindungsabschnitte 32BN ausgebildet, indem um den Außenkantenabschnitt 32E herum mit Unterbrechungen Laserlicht L aufgebracht wird. Alternativ wird entlang des gesamten Umfangs des Außenkantenabschnitts 32E ein kontinuierlicher Verbindungsabschnitt 32BN ausgebildet, indem um die Außenkantenabschnitte 32E herum kontinuierlich Laserlicht L aufgebracht wird. Dies verschweißt die Außenkantenabschnitte 32E mit den Innenkantenabschnitten 31E.
  • Das in 19(h) gezeigte Beispiel verwendet Ultraschallschweißen, um die Außenkantenabschnitte 32E der zweiten Oberfläche 322 mit den Innenkantenabschnitten 31E des Rahmenabschnitts 31 zu verbinden. Dieses Verfahren bringt auf die Abschnitte, die zu den Verbindungsabschnitten 32BN werden, Ultraschallwellen auf, wobei die Außenkantenabschnitte 32E und die Innenkantenabschnitte 31E durch Klemmen CP oder eine andere Einrichtung zusammengehalten werden. Das Element, auf das die Ultraschallwellen direkt aufgebracht werden, kann der Rahmenabschnitt 31 oder der Maskenabschnitt 32 sein. Das Verfahren, das Ultraschallschweißen verwendet, lässt in dem Rahmenabschnitt 31 und dem Träger SP Einkerbungen der Klemmen CP zurück.
  • In dem oben beschriebenen Verbindungsprozess kann ein Aufschmelzen oder Schweißen erfolgen, während auf dem Maskenabschnitt 32 eine Spannung zur Außenseite des Maskenabschnitts 32 wirkt. Wenn der Träger SP den Maskenabschnitt 32 trägt, während auf dem Maskenabschnitt 32 eine Spannung zur Außenseite des Maskenabschnitts 32 wirkt, kann die Aufbringung von Spannung auf den Maskenabschnitt 32 entfallen.
  • - Zweites Herstellungsverfahren -
  • Neben dem ersten Herstellungsverfahren können die Aufdampfmasken, die unter Bezugnahme auf 7 und 8 beschrieben wurden, durch ein anderes Beispiel hergestellt werden, das in 20(a) bis 20(e) gezeigt ist.
  • Das in 20(a) bis 20(e) gezeigte Beispiel bildet zunächst auf einer Elektrodenoberfläche EPS, die eine Oberfläche einer Elektrode EP ist, die zur Elektrolyse verwendet wird, eine Resistschicht PR aus (siehe 20(a)). Dann wird die Resistschicht PR einer Belichtung und Entwicklung unterzogen, sodass auf der Elektrodenoberfläche EPS eine Resistmaske RM ausgebildet wird (siehe 20(b)). Die Resistmaske RM weist in einem Querschnitt senkrecht zur Elektrodenoberfläche EPS die Form eines umgedrehten Kegelstumpfes auf. Die Querschnittsfläche jeder Form entlang der Elektrodenoberfläche EPS vergrößert sich weg von der Elektrodenoberfläche EPS. Dann erfolgt unter Verwendung der Elektrodenoberfläche EPS, die die Resistmaske RM hat, eine Elektrolyse und es wird über dem anderen Gebiet auf der Elektrodenoberfläche EPS als der Resistmaske RM ein Maskenabschnitt 32 ausgebildet (20(c)).
  • Der Maskenabschnitt 32 wird in diesem Schritt in dem Raum ausgebildet, der nicht durch die Resistmaske RM belegt ist. Dementsprechend weist der Maskenabschnitt 32 Löcher auf, die entsprechend der Form der Resistmaske RM geformt sind. In dem Maskenabschnitt 32 werden somit selbstausgerichtete Löcher 32A ausgebildet. Die Oberfläche, die sich mit der Elektrodenoberfläche EPS in Kontakt befindet, fungiert als die erste Oberfläche 321, die die ersten Öffnungen H1 hat, und die äußerste Oberfläche, die die zweiten Öffnungen H2 hat, die größer als die ersten Öffnungen H1 sind, fungiert als die zweite Oberfläche 322.
  • Dann wird von der Elektrodenoberfläche EPS nur die Resistmaske RM entfernt, was Löcher 32H zurücklässt, die Hohlräume sind, die sich von den ersten Öffnungen H1 zu den zweiten Öffnungen H2 erstrecken (siehe 20(d)). Schließlich wird die Verbindungsfläche 311 des Innenkantenabschnitts 31E mit dem Außenkantenabschnitt 32E der zweiten Oberfläche 322 verbunden, die die zweiten Öffnungen H2 aufweist, und dann wird auf den Rahmenabschnitt 31 Spannung aufgebracht, um den Maskenabschnitt 32 von der Elektrodenoberfläche EPS abzulösen. Auf diese Weise wird die Aufdampfmaske 30 hergestellt, bei der der Maskenabschnitt 32 mit dem Rahmenabschnitt 31 verbunden ist (20(e)).
  • In dem zweiten Herstellungsverfahren wird der Maskenabschnitt 32 ausgebildet, ohne das Aufdampfmaskensubstrat 1 zu ätzen. Wenn der Außenkantenabschnitt 32E die Bedingung 1 erfüllt, wobei die Richtung entlang einer Seite des Maskenabschnitts 32 die Breitenrichtung ist, werden die Lagegenauigkeit beim Verbinden zwischen dem Rahmenabschnitt 31 und dem Maskenabschnitt 32 und die Verbindungsfestigkeit erhöht.
  • - Drittes Herstellungsverfahren -
  • Neben dem ersten Herstellungsverfahren können die Aufdampfmasken die unter Bezugnahme auf 7 und 8 beschrieben wurden, durch ein anderes Beispiel hergestellt werden, das in 21(a) bis 21(f) gezeigt ist.
  • Das in 21(a) bis 21(f) gezeigte Beispiel bildet auf einer Elektrodenoberfläche EPS, die zur Elektrolyse verwendet wird, zunächst eine Resistschicht PR aus (siehe 21(a)). Dann wird die Resistschicht PR einer Belichtung und Entwicklung unterzogen, sodass auf der Elektrodenoberfläche EPS eine Resistmaske RM ausgebildet wird (siehe 21(b)). Die Resistmaske RM weist in einem Querschnitt senkrecht zur Elektrodenoberfläche EPS die Form eines Kegelstumpfs auf. Die Querschnittsfläche jeder Form entlang der Elektrodenoberfläche EPS verringert sich von der Elektrodenoberfläche EPS weg. Dann erfolgt unter Verwendung der Elektrodenoberfläche EPS, die die Resistmaske RM hat, eine Elektrolyse und es wird über dem anderen Gebiet auf der Elektrodenoberfläche EPS als der Resistmaske RM ein Maskenabschnitt 32 ausgebildet (21(c)).
  • In diesem Schritt wird der Maskenabschnitt 32 in dem Raum ausgebildet, der nicht durch die Resistmaske RM belegt ist. Dementsprechend weist der Maskenabschnitt 32 Löcher auf, die entsprechend der Form der Resistmaske RM geformt sind. In dem Maskenabschnitt 32 werden somit selbstausgerichtete Löcher 32H ausgebildet. Die Oberfläche, die sich mit der Elektrodenoberfläche EPS in Kontakt befindet, fungiert als die zweite Oberfläche 322, die die zweiten Öffnungen H2 hat, und die äußerste Oberfläche, die die ersten Öffnungen H1 hat, die kleiner als die zweiten Öffnungen H2 sind, fungiert als die erste Oberfläche 321.
  • Dann wird von der Elektrodenoberfläche EPS nur die Resistmaske RM entfernt, was Löcher 32H zurücklässt, die Hohlräume sind, die sich von den ersten Öffnungen H1 zu den zweiten Öffnungen H2 erstrecken (siehe 21(d)). Mit der ersten Oberfläche 321, die die ersten Öffnungen H1 aufweist, wird ein Zwischenübertragungssubstrat TM verbunden und dann wird auf das Zwischenübertragungssubstrat TM Spannung aufgebracht, um den Maskenabschnitt 32 von der Elektrodenoberfläche EPS abzulösen. Dies trennt die zweite Oberfläche 322 von der Elektrodenoberfläche EPS, wobei der Maskenabschnitt 32 mit dem Zwischenübertragungssubstrat TM verbunden ist (21(e)). Schließlich wird die Verbindungsfläche 311 des Innenkantenabschnitts 31E mit dem Außenkantenabschnitt 32E der zweiten Oberfläche 322 verbunden und dann wird das Zwischenübertragungssubstrat TM vom Maskenabschnitt 32 entfernt. Auf diese Weise wird die Aufdampfmaske 30 hergestellt, bei der der Maskenabschnitt 32 mit dem Rahmenabschnitt 31 verbunden ist (21(f)).
  • Im dritten Herstellungsverfahren wird der Maskenabschnitt 32 ausgebildet, ohne das Aufdampfmaskensubstratmaterial 1 zu ätzen. Wenn der Außenkantenabschnitt 32E die Bedingung 1 erfüllt, wobei die Richtung entlang einer Seite des Maskenabschnitts 32 die Breitenrichtung ist, werden die Lagegenauigkeit beim Verbinden zwischen dem Rahmenabschnitt 31 und dem Maskenabschnitt 32 und die Verbindungsfestigkeit erhöht.
  • In dem Verfahren zur Herstellung einer Anzeigeeinrichtung, das die oben beschriebene Aufdampfmaske 30 verwendet, wird die Maskeneinrichtung 10, an der die Aufdampfmaske 30 montiert ist, in die Vakuumkammer der Aufdampfvorrichtung gesetzt. Die Maskeneinrichtung 10 wird derart angebracht, dass die erste Oberfläche 321 dem Aufdampftarget, etwa einem Glassubstrat, zugewandt ist und die zweite Oberfläche 322 der Aufdampfquelle zugewandt ist. Dann wird das Aufdampftarget in die Vakuumkammer der Aufdampfvorrichtung gebracht und es wird das Aufdampfmaterial von der Aufdampfquelle sublimiert. Dies bildet auf dem Aufdampftarget, das der ersten Öffnung H1 zugewandt ist, ein Muster, das entsprechend der ersten Öffnung H1 geformt ist. Das Aufdampfmaterial kann zum Beispiel ein organisches, lichtemittierendes Material sein, um Pixel einer Anzeigeeinrichtung oder eine Pixelelektrode zum Ausbilden einer Pixelschaltung einer Anzeigeeinrichtung auszubilden.
  • - Beispiele -
  • Unter Bezugnahme auf 22 werden nun Beispiele beschrieben.
  • Ein Grundmaterial 1a, das aus Invar bestand, wurde einem Walzschritt unterzogen, um eine Metallfolie auszubilden. Die Metallfolie wurde einem Längsschneideschritt unterzogen, in dem die Metallfolie in der Breitenrichtung DW in Abschnitte der gewünschten Abmessung geschnitten wurde, um ein gewalztes Material 1b auszubilden. Das gewalzte Material 1b wurde geglüht, um ein Aufdampfmaskensubstrat 1 gemäß Beispiel 1 auszubilden, das eine Länge in der Breitenrichtung DW von 500 mm und eine Dicke von 20 µm hatte.
  • Mit Ausnahme dessen, dass die Rotationsgeschwindigkeit und Presskraft der Walzen 51 und 52 gegenüber denen im Beispiel 1 geändert wurden, wurde außerdem unter den gleichen Bedingungen wie im Beispiel 1 ein Aufdampfmaskensubstrat 1 gemäß Beispiel 2 erzielt, das eine Länge in der Breitenrichtung DW von 500 mm und eine Dicke von 20 µm hatte.
  • Mit Ausnahme dessen, dass die Presskraft zwischen den Walzen 51 und 52 gegenüber der im Beispiel 1 geändert wurde, wurde unter den gleichen Bedingungen wie im Beispiel 1 das Aufdampfmaskensubstrat 1 gemäß Beispiel 3 erzielt, das eine Länge in der Breitenrichtung DW von 500 mm und eine Dicke von 50 µm hatte.
  • Mit Ausnahme dessen, dass die Anzahl an Walzen 51 und 52 gegenüber der im Beispiel 1 geändert wurde, wurde des Weiteren ein Aufdampfmaskensubstrat 1 gemäß Beispiel 4 erzielt, das eine Länge in der Breitenrichtung DW von 500 mm und eine Dicke von 20 µm hatte.
  • Mit Ausnahme dessen, dass die Anzahl und Temperatur der Walzen 51 und 52 gegenüber denen in den Beispielen 1 und 4 geändert wurden, wurde anschließend unter den gleichen Bedingungen wie im Beispiel 1 ein Aufdampfmaskensubstrat 1 gemäß Vergleichsbeispiel 1 erzielt, das eine Länge in der Breitenrichtung DW von 500 mm und eine Dicke von 20 µm hatte.
  • Mit Ausnahme dessen, dass die Anzahl und die Presskraft der Walzen 51 und 52 gegenüber denen in den Beispielen 1 und 3 geändert wurden, wurde außerdem unter den gleichen Bedingungen wie im Beispiel 1 ein Aufdampfmaskensubstrat 1 gemäß Vergleichsbeispiel 2 erzielt, das eine Länge in der Breitenrichtung DW von 500 mm und eine Dicke von 20 µm hatte.
  • Mit Ausnahme dessen, dass die Anzahl und die Presskraft der Walzen 51 und 52 gegenüber denen im Beispiel 1 geändert wurden, wurde des Weiteren unter den gleichen Bedingungen wie im Beispiel 1 ein Aufdampfmaskensubstrat 1 gemäß Vergleichsbeispiel 3 erzielt, das eine Länge in der Breitenrichtung von 500 mm und eine Dicke von 20 µm hatte.
  • Bezugnehmend auf 22 wurde aus dem Aufdampfmaskensubstrat 1 von jedem der Beispiele und Vergleichsbeispiele ein Messsubstrat 2M herausgeschnitten, das eine Länge in der Längsrichtung DL von 700 mm hatte. Dann wurden über dem gesamten Messbereich ZL die Steilheiten in der Breitenrichtung DW von jedem der erzielten Messsubstrate 2M gemessen. Die Messbedingungen der Steilheiten in der Breitenrichtung DW waren wie folgt.
    Messeinrichtung: CNC-Bildmesssystem VMR-6555, hergestellt von Nikon Corporation
    Länge in der Längsrichtung DL des Messbereichs ZL: 500 mm (Einheitslänge)
    Länge in der Längsrichtung DL des Nichtmessbereichs ZE: 100 mm
    Messintervall in der Längsrichtung DL: 20 mm
    Messintervall in der Breitenrichtung DW: 20 mm
  • Um die gewellte Form auszuschließen, die im Längsschneideschnitt hinzugefügt wird, erfolgte die Messung in der Breitenrichtung für den Bereich von 480 mm in der Breitenrichtung DW, was von den Kanten in der Breitenrichtung DW aus die Bereiche von 10 mm ausschloss. Die Messung erfolgte im Einzelnen auf jeweils 26 Linien, die in der Längsrichtung DL angeordnet waren, an 25 Punkten entlang der Breitenrichtung DW. Bei jedem der Messintervalle in jedem der Beispiele und Vergleichsbeispiele ist die Längsrichtung DL die Richtung, in der das Grundmaterial 1a durch Walzen gestreckt ist.
  • Die Tabelle 1 gibt die Messergebnisse der ersten Steilheit, den Mittelwert der zweiten Steilheit, den Maximalwert der Wellenmengen und den Mittelwert der Wellenmengen von jedem der Bespiele 1 bis 4 und Vergleichsbeispiele 1 bis 3 an.
  • Die Tabelle 1 zeigt, dass die erste Steilheit des Beispiels 1 0,43% betrug, was angibt, dass das Beispiel 1 die Bedingung 1 erfüllte. Von den sechsundzwanzig Linien im Beispiel 1 hatten vier Linien jeweils einen Minimalwert der Einheitssteilheit von 0% und waren in der Breitenrichtung DW ohne eine merkliche Welle. Der Mittelwert der zweiten Steilheiten betrug im Beispiel 1 0,20%, was die Bedingung 2 erfüllt. Die Standardabweichung σ der zweiten Steilheiten betrug 0,12%. Der Maximalwert der Wellenmengen betrug im Beispiel 1 vier, was die Bedingung 3 erfüllt. Des Weiteren betrug der Mittelwert der Wellenmengen im Beispiel 1 eins, was die Bedingung 4 erfüllt.
  • Das Beispiel 2 hatte eine erste Steilheit von 0,29%, was die Bedingung 1 erfüllt. Unter den sechsundzwanzig Linien im Beispiel 2 hatten fünf Linien jeweils einen Minimalwert der Einheitssteilheiten von 0% und waren in der Breitenrichtung DW ohne eine merkliche Welle. Der Mittelwert der zweiten Steilheiten betrug im Beispiel 2 0,12%, was die Bedingung 2 erfüllt. Die Standardabweichung σ der zweiten Steilheiten betrug 0,09%. Der Maximalwert der Wellenmengen betrug im Beispiel 2 drei, was die Bedingung 3 erfüllt. Des Weiteren betrug der Mittelwert der Wellenmengen im Beispiel 2 eins, was die Bedingung 4 erfüllt.
  • Das Beispiel 3 hatte eine erste Steilheit von 0,37%, was die Bedingung 1 erfüllt. Unter den sechsundzwanzig Linien im Beispiel 3 hatten sieben Linien jeweils einen Minimalwert der Einheitssteilheiten von 0% und waren in der Breitenrichtung DW ohne eine merkliche Welle. Der Mittelwert der zweiten Steilheiten betrug im Beispiel 3 0,11%, was die Bedingung 2 erfüllt. Die Standardabweichung σ der zweiten Steilheiten betrug 0,12%. Der Maximalwert der Wellenmengen betrug im Beispiel 3 drei, was die Bedingung 3 erfüllt. Des Weiteren betrug der Mittelwert der Wellenmengen im Beispiel 3 eins, was die Bedingung 4 erfüllt.
  • Das Beispiel 4 hatte eine erste Steilheit von 0,44%, was die Bedingung 1 erfüllt. Unter den sechsundzwanzig Linien im Beispiel 4 hatte eine Linie einen Minimalwert der Einheitssteilheiten von 0% und war in der Breitenrichtung DW ohne eine merkliche Welle. Der Mittelwert der zweiten Steilheiten betrug im Beispiel 4 0,22%, was die Bedingung 2 erfüllt. Die Standardabweichung σ der zweiten Steilheiten betrug 0,11%. Der Maximalwert der Wellenmengen betrug im Beispiel 4 fünf, weswegen es ihm nicht gelang, die Bedingung 3 zu erfüllen. Des Weiteren betrug der Mittelwert der Wellenmengen im Beispiel 4 zwei, was die Bedingung 4 erfüllt.
  • Das Vergleichsbeispiel 1 hatte eine erste Steilheit von 0,90%, weswegen es ihm nicht gelang, die Bedingung 1 zu erfüllen. Der Minimalwert der Einheitssteilheiten betrug im Vergleichsbeispiel 1 0,11%. Der Mittelwert der zweiten Steilheiten betrug im Vergleichsbeispiel 1 0,33%, weswegen es ihm nicht gelang, die Bedingung 2 zu erfüllen. Die Standardabweichung σ der zweiten Steilheiten betrug 0,18%. Der Maximalwert der Wellenmengen betrug im Vergleichsbeispiel 1 acht, weswegen es ihm nicht gelang, die Bedingung 3 zu erfüllen. Des Weiteren betrug der Mittelwert der Wellenmengen im Vergleichsbeispiel 1 fünf, weswegen es ihm nicht gelang, die Bedingung 4 zu erfüllen. Der Minimalwert der Wellenmengen betrug im Vergleichsbeispiel 1 drei.
  • Das Vergleichsbeispiel 2 hatte eine erste Steilheit von 1,39%, weswegen es ihm nicht gelang, die Bedingung 1 zu erfüllen. Der Minimalwert der Einheitssteilheiten betrug im Vergleichsbeispiel 2 0,06%. Der Mittelwert der zweiten Steilheiten betrug im Vergleichsbeispiel 2 0,28%, weswegen es ihm nicht gelang, die Bedingung 2 zu erfüllen. Die Standardabweichung σ der zweiten Steilheiten betrug 0,29%. Der Maximalwert der Wellenmengen betrug im Vergleichsbeispiel 2 fünf, weswegen es ihm nicht gelang, die Bedingung 3 zu erfüllen. Des Weiteren betrug der Mittelwert der Wellenmengen im Vergleichsbeispiel 2 zwei, was die Bedingung 4 erfüllt. Der Minimalwert der Wellenmengen betrug im Vergleichsbeispiel 2 eins.
  • Das Vergleichsbeispiel 3 hatte eine erste Steilheit von 0,58%, weswegen es ihm nicht gelang, die Bedingung 1 zu erfüllen. Der Minimalwert der Einheitssteilheiten betrug im Vergleichsbeispiel 3 0,06%. Der Mittelwert der zweiten Steilheiten betrug im Vergleichsbeispiel 3 0,31%, weswegen es ihm nicht gelang, die Bedingung 2 zu erfüllen. Die Standardabweichung σ der zweiten Steilheiten betrug 0,14%. Der Maximalwert der Wellenmengen betrug im Vergleichsbeispiel 3 sechs, weswegen es ihm nicht gelang, die Bedingung 3 zu erfüllen. Des Weiteren betrug der Mittelwert der Wellenmengen im Vergleichsbeispiel 3 vier, weswegen es ihm nicht gelang, die Bedingung 4 zu erfüllen. Der Minimalwert der Wellenmengen betrug im Vergleichsbeispiel 3 eins. Tabelle 1
    Beispiel 1 Beispiel 2 Beispiel 3 Beispiel 4 Vergleichsbeispiel 1 Vergleichsbeispiel 2 Vergleichsbeispiel 3
    Erste Steilheit (%) 0,43 0,29 0,37 0,44 0,90 1,39 0,58
    Mittelwert zweite Steilheiten (%) 0,20 0,12 0,11 0,22 0,33 0,28 0,31
    Maximalwert Wellenmengen (Menge) 4 3 3 5 8 5 6
    Mittelwert Wellenmengen (Menge) 1 1 1 2 5 2 4
    Schwankung ◯ ◯ ◯ ◯ × × ×
  • - Mustergenauigkeit -
  • An der ersten Oberfläche 1Sa des Aufdampfmaskensubstrats 1 von jedem der Beispiele 1 bis 4 und der Vergleichsbeispiele 1 bis 3 wurde ein erster TFR 2 angebracht, der eine Dicke von 10 µm hatte. Jeder erste TFR 2 wurde einem Belichtungsschritt, in dem der erste TFR 2 belichtet wurde, während er sich mit einer Belichtungsmaske in Kontakt befand, und einem Entwicklungsschritt unterzogen. Dies bildete in dem ersten TFR 2 in einem Gittermuster Durchgangslöcher 2a aus, die einen Durchmesser von 30 µm hatten. Dann wurde die erste Oberfläche 1Sa unter Verwendung des ersten TFR 2 als Maske geätzt, sodass in dem Aufdampfmaskensubstrat 1 in einem Gittermuster Löcher 32H ausgebildet wurden. In der Breitenrichtung DW des Aufdampfmaskensubstrats 1 wurde der Durchmesser der Öffnung von jedem Loch 32H gemessen. Die Tabelle 1 gibt die Schwankungen beim Durchmesser der Öffnungen der Löcher 32H in der Breitenrichtung DW an. In der Tabelle 1 sind die Niveaus, bei denen die Differenz zwischen dem Maximalwert und dem Minimalwert der Öffnungsdurchmesser der Löcher 32H kleiner oder gleich 2,0 µm war, mit „O“ markiert, und die Niveaus, bei denen die Differenz zwischen dem Maximalwert und dem Minimalwert der Öffnungsdurchmesser größer als 2,0 µm war, sind mit „x“ markiert.
  • Wie in der Tabelle 1 angegeben ist, waren die Schwankungen beim Durchmesser der Öffnungen der Beispiele 1 bis 4 kleiner oder gleich 2,0 µm. Unter den Beispielen 1 bis 4 hatten die Beispiele 1 bis 3 kleinere Schwankungen beim Durchmesser der Öffnungen als das Beispiel 4. Des Weiteren waren die Schwankungen beim Durchmesser der Öffnungen der Vergleichsbeispiele 1 bis 3 größer als 2,0 µm. Der Vergleich zwischen den Beispielen 1 bis 4 und den Vergleichsbeispielen 1 bis 3 zeigt, dass ein Aufbau, bei dem die erste Steilheit kleiner oder gleich 0,5% ist, also ein Aufbau, der die Bedingung 1 erfüllt, eine Schwankung beim Durchmesser der Öffnungen begrenzt. Außerdem begrenzt ein Aufbau, bei dem der Mittelwert der zweiten Steilheiten kleiner oder gleich 0,25% ist, also ein Aufbau, der die Bedingung 2 erfüllt, die Schwankung beim Durchmesser der Öffnungen.
  • Der Vergleich zwischen den Beispielen 1 bis 3 und dem Beispiel 4 zeigt, dass ein Aufbau, bei dem die Wellenmengen pro Einheitslänge kleiner oder gleich vier sind, also ein Aufbau, der die Bedingung 3 erfüllt, die Schwankungen beim Durchmesser der Öffnungen weiter begrenzt. Außerdem begrenzt ein Aufbau, bei dem der Mittelwert der Wellenmengen pro Einheitslänge kleiner oder gleich zwei ist, also ein Aufbau, der die Bedingung 4 erfüllt, die Schwankung beim Durchmesser der Öffnungen weiter.
  • Das oben beschriebene Ausführungsbeispiel hat die folgenden Vorteile.
    1. (1) Die höhere Genauigkeit der Form und Größe der Löcher im Maskenabschnitt 32 erhöht die Genauigkeit des Musters, das durch Aufdampfen ausgebildet wird. Das Verfahren zum Belichten des Resists ist nicht auf ein Verfahren beschränkt, das die Belichtungsmaske mit dem Resist in Kontakt bringt. Die Belichtung kann erfolgen, ohne den Resist mit der Belichtungsmaske in Kontakt zu bringen. Wird der Resist mit der Belichtungsmaske in Kontakt gebracht, presst dies das Aufdampfmaskensubstrat auf die Oberfläche der Belichtungsmaske. Dies begrenzt eine Verringerung der Belichtungsgenauigkeit, die andernfalls aufgrund der gewellten Form des Aufdampfmaskensubstrats auftreten würde. Die Genauigkeit in dem Schritt, in dem die Oberfläche mit Flüssigkeit bearbeitet wird, wird ungeachtet des Belichtungsverfahrens erhöht, wodurch die Genauigkeit des Musters erhöht wird, das durch Aufdampfen ausgebildet wird.
    2. (2) Die Oberfläche des Aufdampfmaskensubstrats 1 hat eine begrenzte Schwankung infolge einer Entwicklung mittels einer Entwicklungslösung und infolge eines Reinigens mittels einer Reinigungslösung. Dies erhöht die Gleichmäßigkeit der Form und Größe der ersten und zweiten Durchgangslöcher 2a und 3a in der Oberfläche des Aufdampfmaskensubstrats 1, die durch den Belichtungsschritt und den Entwicklungsschritt ausgebildet werden.
    3. (3) Die Oberfläche des Aufdampfmaskensubstrats 1 hat eine begrenzte Schwankung infolge eines Ätzens mittels eines Ätzmittels und infolge eines Reinigens des Ätzmittels mittels einer Reinigungslösung. Die Oberfläche des Aufdampfmaskensubstrats 1 hat eine begrenzte Schwankung infolge eines Strippens der Resistschicht mittels einer Stripplösung und infolge eines Reinigens der Stripplösung mittels einer Reinigungslösung. Dies erhöht die Gleichmäßigkeit der Form und Größe der kleinen Löcher 32SH und der großen Löcher 32LH in der Oberfläche des Aufdampfmaskensubstrats 1.
    4. (4) Die Menge der Löcher 32H, die in einem Rahmenabschnitt 31 vorausgesetzt wird, ist in drei Maskenabschnitte 32 aufgeteilt. Die Gesamtfläche der Maskenabschnitte 32, die in einem Rahmenabschnitt 31 vorausgesetzt wird, ist zum Beispiel in drei Maskenabschnitte 32 aufgeteilt. Eine teilweise Verformung eines Maskenabschnitts 32 in einem Rahmenabschnitt 31 erfordert somit keinen Austausch aller Maskenabschnitte 32 in dem Rahmenabschnitt 31. Verglichen mit einem Aufbau, in dem ein Rahmenabschnitt 31 nur einen Maskenabschnitt 32 aufweist, kann die Größe eines neuen Maskenabschnitts 32 beim Austausch des verformten Maskenabschnitts 32 auf etwa ein Drittel verringert werden.
    5. (5) Die Steilheiten von jedem Messsubstrat 2M wurden gemessen, während die Abschnitte an den zwei Kanten in der Längsrichtung DL des Messsubstrats 2M und die Abschnitte an den zwei Kanten in der Breitenrichtung DW des Messsubstrats 2M als Nichtmessbereiche von der Messung der Steilheiten ausgeschlossen wurden. Jeder Nichtmessbereich ist der Bereich, der eine gewellte Form haben kann, die ausgebildet wird, wenn das Aufdampfmaskensubstrat 1 geschnitten wird, und er unterscheidet sich somit von der gewellten Form des anderen Abschnitts des Aufdampfmaskensubstrats 1. Wird der Nichtmessbereich als solches von der Messung ausgeschlossen, erhöht dies die Messgenauigkeit der Steilheiten.
  • Das oben beschriebene Ausführungsbeispiel kann wie folgt abgewandelt werden.
  • - Verfahren zur Herstellung eines Aufdampfmaskensubstrats -
  • Im Walzschritt kann ein Walzwerk verwendet werden, das eine Vielzahl von Walzenpaaren aufweist, die das Grundmaterial 1a walzen. Das Verfahren, das eine Vielzahl von Walzenpaaren verwendet, erhöht die Flexibilität hinsichtlich der Steuerungsparameter zur Erfüllung der Bedingungen 1 bis 4.
  • Anstatt das gewalzte Material 1b zu glühen, während es in der Längsrichtung DL verläuft, kann das gewalzte Material 1b zudem in einem Zustand geglüht werden, in dem es in einer Rolle um den Kern C herumgewickelt ist. Wenn das Glühen mit dem gewalzten Material 1b erfolgt, das in einer Rolle aufgewickelt ist, kann das Aufdampfmaskensubstrat 1 entsprechend dem Durchmesser der Rolle eine Tendenz zur Wölbung zeigen. Abhängig von dem Material des Aufdampfmaskensubstrats 1 und dem Durchmesser der um den Kern C herumgewickelten Rolle kann es somit vorzuziehen sein, dass das gewalzte Material 1b geglüht wird, während es gelängt ist.
  • Des Weiteren können der Walzschritt und der Glühschritt wechselweise wiederholt werden, um ein Aufdampfmaskensubstrat 1 zu erzeugen.
  • Das durch Elektrolyse hergestellte Aufdampfmaskensubstrat 1 und das durch Walzen hergestellte Aufdampfmaskensubstrat 1 können durch chemisches oder elektrisches Polieren weiter gedünnt werden. Die Bedingungen wie die Zusammensetzung und das Zufuhrverfahren der Polierlösung können so eingestellt werden, dass nach dem Polieren die Bedingungen 1 bis 4 erfüllt sind. Um die Eigenspannung abzubauen, kann das polierte Aufdampfmaskensubstrat 1 einem Glühschritt unterzogen werden.
  • Es sind zwar hier mehrere Ausführungsbeispiele beschrieben worden, doch ist dem Fachmann ersichtlich, dass die vorliegende Erfindung in verschiedenen spezifischen Formen ausgeführt werden kann, ohne vom Grundgedanken der Erfindung abzuweichen. Die Erfindung ist nicht auf die hier angegebenen Einzelheiten beschränkt, sondern kann innerhalb des Schutzumfangs und Äquivalenzbereichs der beigefügten Ansprüche abgewandelt werden.

Claims (8)

  1. Aufdampfmaskensubstrat (1), das eine Metallfolie ist, die die Form eines Streifens hat und dazu ausgelegt ist, geätzt zu werden, um eine Vielzahl von Löchern (32H) aufzuweisen, und dazu verwendet zu werden, eine Aufdampfmaske herzustellen, wobei die Metallfolie eine Längsrichtung (DL) und eine Breitenrichtung (DW) hat, die Metallfolie in der Breitenrichtung (DW) Formen hat, die an verschiedenen Positionen in der Längsrichtung (DL) der Metallfolie entnommen sind und sich voneinander unterscheiden, jede Form Wellen aufweist, die sich in der Breitenrichtung (DW) wiederholen, jede Welle an jedem von zwei Enden der Welle ein Tal aufweist, jede Welle eine Länge hat, welche eine Länge einer Geraden in der Breitenrichtung (DW) ist, die eines der Täler der Welle mit dem anderen Tal verbindet, ein Prozentsatz einer Höhe jeder Welle bezogen auf die Länge der Welle eine Einheitssteilheit ist, die Metallfolie eine Einheitslänge in der Längsrichtung (DL) von 500 mm hat, ein Maximalwert der Einheitssteilheiten der Metallfolie für die Einheitslänge eine erste Steilheit ist und die erste Steilheit kleiner oder gleich 0,5% ist.
  2. Aufdampfmaskensubstrat (1) nach Anspruch 1, wobei an jeder Position in der Längsrichtung (DL) ein Maximalwert der Einheitssteilheiten aller Wellen in der Breitenrichtung (DW) eine zweite Steilheit ist und ein Mittelwert der zweiten Steilheiten der Metallfolie für die Einheitslänge kleiner oder gleich 0,25% ist.
  3. Aufdampfmaskensubstrat (1) nach Anspruch 1 oder 2, wobei an jeder Position in der Längsrichtung (DL) eine Anzahl der Wellen in der Breitenrichtung (DW) eine Wellenmenge an dieser Position ist und ein Maximalwert der Wellenmengen der Metallfolie für die Einheitslänge kleiner oder gleich vier ist.
  4. Aufdampfmaskensubstrat (1) nach einem der Ansprüche 1 bis 3, wobei an jeder Position in der Längsrichtung (DL) eine Anzahl der Wellen in der Breitenrichtung (DW) eine Wellenmenge an dieser Position ist und ein Mittelwert der Wellenmengen der Metallfolie für die Einheitslänge kleiner oder gleich zwei ist.
  5. Verfahren zur Herstellung eines Aufdampfmaskensubstrats (1), das eine Metallfolie ist, die die Form eines Streifens hat und dazu ausgelegt ist, geätzt zu werden, um eine Vielzahl von Löchern (32H) aufzuweisen, und dazu verwendet zu werden, eine Aufdampfmaske herzustellen, wobei das Verfahren Folgendes umfasst: Erzielen der Metallfolie, indem ein Grundmaterial (1a) gewalzt wird, wobei die Metallfolie eine Längsrichtung (DL) und eine Breitenrichtung (DW) hat, die Metallfolie Formen in der Breitenrichtung (DW) hat, die an verschiedenen Positionen in der Längsrichtung (DL) der Metallfolie entnommen sind und sich voneinander unterscheiden, jede Form Wellen aufweist, die sich in der Breitenrichtung (DW) wiederholen, jede Welle an jedem von zwei Enden der Welle ein Tal aufweist, jede Welle eine Länge hat, welche eine Länge einer Geraden in der Breitenrichtung (DW) ist, die eines der Täler der Welle mit dem anderen Tal verbindet, ein Prozentsatz einer Höhe jeder Welle bezogen auf die Länge der Welle eine Einheitssteilheit ist, die Metallfolie eine Einheitslänge in der Längsrichtung (DL) von 500 mm hat, ein Maximalwert der Einheitssteilheiten der Metallfolie für die Einheitslänge eine erste Steilheit ist und das Grundmaterial (1a) derart gewalzt wird, dass die erste Steilheit kleiner oder gleich 0,5% ist.
  6. Verfahren zur Herstellung einer Aufdampfmaske, wobei das Verfahren Folgendes umfasst: Ausbilden einer Resistschicht auf einer Metallfolie, die die Form eines Streifens hat; und Ausbilden einer Vielzahl von Löchern (32H) in der Metallfolie durch Ätzen, indem die Resistschicht als eine Maske verwendet wird, um einen Maskenabschnitt (32) auszubilden, wobei die Metallfolie eine Längsrichtung (DL) und eine Breitenrichtung (DW) hat, die Metallfolie Formen in der Breitenrichtung (DW) hat, die an verschiedenen Positionen in der Längsrichtung (DL) der Metallfolie entnommen sind und sich voneinander unterscheiden, jede Form Wellen aufweist, die sich in der Breitenrichtung (DW) wiederholen, jede Welle an jedem von zwei Enden der Welle ein Tal aufweist, jede Welle eine Länge hat, welche eine Länge einer Geraden in der Breitenrichtung (DW) ist, die eines der Täler der Welle mit dem anderen Tal verbindet, ein Prozentsatz einer Höhe jeder Welle bezogen auf die Länge der Welle eine Einheitssteilheit ist, die Metallfolie eine Einheitslänge in der Längsrichtung (DL) von 500 mm hat, ein Maximalwert der Einheitssteilheiten der Metallfolie für die Einheitslänge eine erste Steilheit ist und die erste Steilheit kleiner oder gleich 0,5% ist.
  7. Verfahren zur Herstellung einer Aufdampfmaske nach Anspruch 6, wobei der Maskenabschnitt einer von einer Vielzahl von Maskenabschnitten (32) ist, das Ausbilden des Maskenabschnitts umfasst, die Maskenabschnitte (32) in der einzelnen Metallfolie auszubilden, die Maskenabschnitte (32) jeweils eine separate Seitenfläche aufweisen, die einige der Löcher (32H) aufweist, und das Verfahren außerdem umfasst, die Seitenflächen der Maskenabschnitte (32) mit einem einzelnen Rahmenabschnitt (31) derart zu verbinden, dass der einzelne Rahmenabschnitt (31) die Löcher (32H) jedes Maskenabschnitts (32) umgibt.
  8. Verfahren zur Herstellung einer Anzeigeeinrichtung, das Folgendes umfasst: Vorbereiten einer Aufdampfmaske, die durch das Verfahren zur Herstellung einer Aufdampfmaske gemäß Anspruch 6 oder 7 hergestellt wurde; und Ausbilden eines Musters durch Aufdampfen unter Verwendung der Aufdampfmaske.
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