DE102017009110B3 - Flüssigphasenepitaxievorrichtung - Google Patents
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Abstract
Flüssigphasenepitaxievorrichtung (10), aufweisend einen Reaktionsbehälter (12) zur Aufnahme von mindestens einer Halbleiterscheibe (30), wobei- - der Reaktionsbehälter (12) einen Gaseinlass (14) und einen Gasauslass (16) aufweist und um eine Drehachse (D) um mindestens +/- 60° kipp- oder drehbar ist,- - in dem Reaktionsbehälter (12) ein erster Behälter (26) mit einer Haltevorrichtung (36, 38) für die mindestens eine Halbleiterscheibe (28) und ein zweiter Behälter (30) zur Aufnahme einer ersten Schmelze (34.1) jeweils mit dem Reaktionsbehälter (12) mitdrehend angeordnet sind,- - der erste Behälter (26) eine Oberseite mit mindestens einer Einlauföffnung aufweist,- - der zweite Behälter (30) einen Boden und eine zu dem Boden einen ersten Abstand (A1) aufweisende Auslauföffnung (46) aufweist und- - der zweite Behälter (30) oberhalb des ersten Behälters (26) angeordnet ist, dadurch gekennzeichnet, dass- in dem Reaktionsbehälter (12) mindestens ein dritter Behälter (32) zur Aufnahme einer zweiten Schmelze (34.2) mit dem Reaktionsbehälter (12) mitdrehend angeordnet ist,- der dritte Behälter (32) einen Boden und eine zu dem Boden einen zweiten Abstand (A2) aufweisende Auslauföffnung (48) aufweist und oberhalb des ersten Behälters (26) angeordnet ist,- wobei der zweite Abstand (A2) größer als der erste Abstand (A1) ist und/oder die Auslauföffnung (48) des dritten Behälters (32) in Bezug auf eine durch die Drehachse (D) verlaufende Vertikale (V) auf einer der Auslauföffnung (46) des zweiten Behälters (30) entgegengesetzten Seite angeordnet ist,- so dass bei einer Drehung des Reaktionsbehälters (12) um einen ersten Winkel (a1) zu der Vertikalen (V) die erste Schmelze (34.1.) aus dem zweiten Behälter (30) durch die Auslauföffnung (46) in den ersten Behälter (26) gelangt und bei einer Drehung des Reaktionsbehälters (12) um einen zweiten Winkel (a2) zu der Vertikalen (V) die zweite Schmelze (34.2) aus dem dritten Behälter (32) durch die Auslauföffnung (48) in den ersten Behälter (26) gelangt, wobei der zweite Winkel (a2) betragsmäßig größer als der erste Winkel (a1) ist und/oder ein entgegengesetztes Vorzeichen aufweist.
Description
- Die Erfindung betrifft eine Flüssigphasenepitaxievorrichtung.
- Aus „GaAs Power Devices“ von German Ashkinazi, ISBN 965-7094-19-4, Seiten 58 bis 63 ist eine Flüssigphasenepitaxievorrichtung mit einem kippbar gelagerten Doppelschiffchen bekannt.
- Andere Ausführungsformen von Flüssigphasenepitaxievorrichtungen sind aus der
DE 101 35 574 A1 , derDE 692 09 564 T2 oder derDE 31 06 484 A1 bekannt. Auch aus derWO 2004 / 024 999 A1 - Vor diesem Hintergrund besteht die Aufgabe der Erfindung darin, eine Vorrichtung anzugeben, die den Stand der Technik weiterbildet.
- Die Aufgabe wird durch eine Flüssigphasenepitaxievorrichtung mit den Merkmalen des Patentanspruchs 1 gelöst. Vorteilhafte Ausgestaltungen der Erfindung sind Gegenstand von Unteransprüchen.
- Gemäß dem Gegenstand der Erfindung wird eine Flüssigphasenepitaxievorrichtung bereitgestellt, aufweisend einen Reaktionsbehälter zur Aufnahme von mindestens einer Halbleiterscheibe.
- Der Reaktionsbehälter weist einen Gaseinlass und einen Gasauslass auf und ist um eine Drehachse um mindestens +/- 60° kipp- oder drehbar. Vorzugsweise ist der Reaktionsbehälter um mindestens +/- 90° oder mindestens +/-180° oder mindestens +/-270° kipp- oder drehbar.
- In dem Reaktionsbehälter sind ein erster Behälter mit einer Haltevorrichtung für die mindestens eine Halbleiterscheibe und ein zweiter Behälter zur Aufnahme einer ersten Schmelze jeweils mit dem Reaktionsbehälter mitdrehend angeordnet.
- Der erste Behälter weist eine Oberseite mit mindestens einer Einlauföffnung auf.
- Der zweite Behälter weist einen Boden und eine zu dem Boden einen ersten Abstand aufweisende Auslauföffnung auf, wobei der zweite Behälter oberhalb des ersten Behälters angeordnet ist.
- In dem Reaktionsbehälter ist mindestens ein dritter Behälter zur Aufnahme einer zweiten Schmelze mit dem Reaktionsbehälter mitdrehend angeordnet.
- Der dritte Behälter weist einen Boden und eine zu dem Boden einen zweiten Abstand aufweisende Auslauföffnung auf.
- Der dritte Behälter ist oberhalb des ersten Behälters angeordnet, wobei der zweite Abstand größer als der erste Abstand ist, so dass bei einer Drehung des Reaktionsbehälters um einen ersten Winkel, bevorzugt zwischen 10° und 50°, besonders bevorzugt 30°, zu einer Vertikalen die erste Schmelze aus dem zweiten Behälter durch die Auslauföffnung in den ersten Behälter gelangt.
- Bei einer Drehung des Reaktionsbehälters um einen zweiten Winkel zu einer Vertikalen, bevorzugt zwischen 40° und 80° oder zwischen -10° und -50°, besonders bevorzugt 60°, gelangt die zweite Schmelze aus dem dritten Behälter durch die Auslauföffnung in den ersten Behälter, wobei der zweite Winkel größer als der erste Winkel ist und/oder ein entgegengesetztes Vorzeichen aufweist.
- Als Vertikale wird eine durch die Drehachse des Reaktionsbehälters verlaufende, vertikal ausgerichtete Achse bezeichnet. Die Drehachse verläuft bevorzugt horizontal.
- Es versteht sich, dass in flüssigem Zustand der jeweilige Abstand zwischen der Auslauföffnung und dem Boden des zweiten bzw. dritten Behälters, also die Höhe der Auslauföffnung über dem Behälterboden ebenso wie die Seite auf der die Auslauföffnung bezogen auf die Vertikale angeordnet ist und die Füllhöhe, also die Menge bzw. das Volumen der Schmelze Einfluss auf denjenigen notwendigen Drehwinkel des Reaktionsbehälters haben, der mindestens erreicht werden muss, um ein Austreten der Schmelze aus dem jeweiligen Behälter zu erreichen.
- Dabei wird das Austreten durch eine Drehung in Richtung der Auslauföffnung erreicht, während durch eine Drehung in die entgegengesetzte Richtung ein Auslaufen verhindert wird.
- So wird durch einen größeren zweiten Abstand zwischen Auslauföffnung und Boden des dritten Behälters im Vergleich zu dem ersten Abstand zwischen Auslauföffnung und Boden des zweiten Behälters oder durch eine Anordnung der Auslauföffnungen des zweiten und des dritten Behälters auf unterschiedlichen Seiten bezogen auf die Vertikale erreicht, dass die erste Schmelze bei einem ersten Drehwinkel in den ersten Behälter eintritt, ohne dass die zweite Schmelze den dritten Behälter verlässt.
- Ein Eintreten der zweiten Schmelze in den ersten Behälter wird erst bei einem zweiten Drehwinkel erreicht. So ist der Eintritt der Schmelzen auf einfache Weise zeitlich steuerbar.
- Es versteht sich, dass der zweite Behälter sowie der dritte Behälter so ober-halb des ersten Behälters angeordnet sind, dass sich die Auslauföffnungen jeweils zumindest bei Erreichen des jeweils für ein Austreten der Schmelze notwendigen Drehwinkels oberhalb der Einlauföffnung des ersten Behälters befinden.
- Ein Vorteil der erfindungsgemäßen Vorrichtung ist, dass mit einem einzigen Befüll-Vorgang des Reaktionsbehälters auch unterschiedliche Schichten, insbesondere Schichten mit unterschiedlicher Zusammensetzung und/oder mit unterschiedlicher Dotierung, aufgewachsen werden können. Die hierfür notwendigen unterschiedlichen Schmelzen werden getrennt in unterschiedlichen Behältern bereitgestellt und das Eintreten der unterschiedlichen Schmelzen in den ersten Behälter mit den Halbleiterscheiben wird auf einfache Weise über den Drehwinkel bzw. die Drehwinkelposition des Reaktionsbehälters geregelt.
- Insbesondere lässt sich die Flüssigphasenepitaxie für die Epitaxie von III-V Halbeiterscheiben, wie beispielsweise GaAs-Scheiben verwenden.
- In einer alternativen Ausführungsform ist in dem Reaktionsbehälter ein vierter Behälter zur Aufnahme einer dritten Schmelze mit dem Reaktionsbehälter drehbar angeordnet, wobei der vierte Behälter einen Boden und einen zu dem Boden einen dritten Abstand aufweisende Auslauföffnung aufweist, der vierte Behälter oberhalb des ersten Behälter angeordnet ist und der dritte Abstand größer als der zweite Abstand ist. Durch weitere Behälter für weitere Schmelzen lassen sich weitere Schichten aufwachsen, ohne den Prozess unterbrechen und den Reaktionsbehälter öffnen zu müssen. Für den vierten Behälter bzw. jeden weiteren Behälter gelten die hinsichtlich des zweiten und dritten Behälters gemachten Ausführungen.
- In einer Weiterbildung ist in dem Reaktionsbehälter unterhalb des ersten Behälters ein Ausgussbecken angeordnet und der erste Behälter weist eine Auslauföffnung auf. Hierdurch kann eine Schmelze bzw. ein verbleibender Teil einer Schmelze beispielsweise vor dem Eintreten einer weiteren Schmelze durch eine Dreh- oder Kippbewegung aus dem ersten Behälter entfernt werden. Der hierfür notwendige Drehwinkel ergibt sich aus dem Abstand der Auslauföffnung zu einem Boden des ersten Behälters.
- Die Erfindung wird nachfolgend unter Bezugnahme auf die Zeichnungen näher erläutert. Hierbei werden gleichartige Teile mit identischen Bezeichnungen beschriftet. Die dargestellten Ausführungsformen sind stark schematisiert, d.h. die Abstände und die lateralen und die vertikalen Erstreckungen sind nicht maßstäblich und weisen, sofern nicht anders angegeben, auch keine ableitbaren geometrischen Relationen zueinander auf. Darin zeigt:
-
1 eine schematische Ansicht auf eine erste erfindungsgemäße Ausführungsform einer Flüssigphasenepitaxievorrichtung, -
2 einen schematischen Querschnitt einer ersten erfindungsgemäßen Ausführungsform eines Reaktionsbehälters, -
3A,B eine schematische Veranschaulichung einer Drehbewegung eines Reaktionsbehälters, -
4 eine schematische Ansicht auf eine zweite erfindungsgemäße Ausführungsform einer Flüssigphasenepitaxievorrichtung. - Die Abbildung der
1 zeigt eine Ansicht einer ersten Ausführungsform, aufweisend einer Flüssigphasenepitaxievorrichtung10 , aufweisend einen zylinderförmigen Reaktionsbehälter12 mit einem Gaseinlass14 und einem Gasauslass16 . Der Reaktionsbehälter12 ist innerhalb einer entsprechenden Aussparung in einem Ofen20 angeordnet und um eine Drehachse D Drehbar gelagert. In dem Reaktionsbehälter12 sind mehrere Schiffchen24 nebeneinander oder hintereinander angeordnet. - In der Abbildung der
2 ist ein Querschnitt des Reaktionsbehälters12 aus1 dargestellt. Im Folgenden werden nur die Unterschiede zu der Abbildung der1 erläutert. In einem Schiffchenträger24 ist ein Schiffchen22 angeordnet. Das Schiffchen22 besteht aus einem ersten Behälter26 zur Aufnahme mehrerer Halbleiterscheiben28 , einem zweiten Behälter30 und einem dritten Behälter32 , wobei der zweite Behälter30 und der dritte Behälter34 jeweils zur Aufnahme einer ersten Schmelze34.1 oder Lösung bzw. einer zweiten Schmelze34.2 oder Lösung dienen. - Die Halbleiterscheiben
28 sind in einer Haltevorrichtung in dem an einer Oberseite offenen, ersten Behälter26 angeordnet. Die offene Oberseite bildet eine Einlauföffnung. Die Haltevorrichtung weist Halteplatten36 und Abstandshalter38 auf. Der zweite Behälter30 zur Aufnahme der ersten Schmelze34.1 ist auf der obersten Halteplatte36 und zumindest teilweise innerhalb des ersten Behälters26 angeordnet und wird seitlich durch einen ersten Keil40 gehalten. Der dritte Behälter32 zur Aufnahme der zweiten Schmelze34.2 ist auf einer Halteplatte42 des zweiten Behälters30 angeordnet und wird seitlich durch einen zweiten Keil44 gehalten. - Der zweite Behälter
30 weist eine Auslauföffnung46 und der dritte Behälter32 eine Auslauföffnung48 auf. Durch die beiden Auslauföffnungen46 und48 gelangen die erste Schmelze34.1 und die zweite Schmelze34.2 in flüssigem Zustand in den ersten Behälter26 und zu den Halbleiterscheiben28 . Das Eintreten der beiden Schmelzen34.1 und34.2 in den ersten Behälter26 wird durch das Drehen des Reaktionsbehälters12 um die Drehachse D gesteuert. - Dadurch dass ein Abstand der Auslauföffnung
46 des zweiten Behälters30 zu einem Boden des zweiten Behälters30 kleiner als ein Abstand er Auslauföffnung48 des dritten Behälters32 zu einem Boden des dritten Behälters32 ist, gelangt die erste Schmelze34.1 bereits bei einem geringeren Kippwinkel in den ersten Behälter26 , während die zweite Schmelze34.2 erst bei einem größeren Kippwinkel in den ersten Behälter26 gelangt. - Die Drehbewegung ist in den
3A und3B skizziert, wobei der Übersichtlichkeit halber nur der zweite Behälter30 und der dritte Behälter32 dargestellt sind und im Folgenden nur die Unterschiede zu der Abbildung der2 erläutert werden. - Der dritte Behälter
32 ist auf dem zweiten Behälter30 angeordnet. Wird der Reaktionsbehälter (nicht dargestellt) um einen ersten Drehwinkel a1 im Uhrzeigersinn um die Drehachse D gedreht (3A ), so läuft die erste Schmelze34.1 in einem flüssigen Zustand aus der Auslauföffnung46 des zweiten Behälters30 heraus, während die zweite Schmelze34.2 auch in flüssigem Zustand die Auslauföffnung48 des dritten Behälters32 noch nicht erreicht und somit in dem dritten Behälter32 verbleibt. - Wird der Reaktionsbehälter (nicht dargestellt) im Uhrzeigersinn um einen weiteren Winkel um die Drehachse D gedreht (
3B ), so dass sich ge-genüber einer Vertikalen V ein Winkel a2 ergibt, so läuft auch die zweite Schmelze34.2 aus der Auslauföffnung48 des dritten Behälters32 heraus. - In der Abbildung der
4 ist ein Querschnitt eines Reaktionsbehälters12 gemäß einer zweiten Ausführungsform dargestellt. Im Folgenden wer-den nur die Unterschiede zu der Abbildung der2 erläutert. - In dem Reaktionsbehälter
12 ist in dem Schiffchenträger24 unterhalb des ersten Behälters26 ein Ausgussbecken50 angeordnet. Der erste Behälter26 weist eine Auslauföffnung52 auf. Bezogen auf eine durch die Drehachse D verlaufende Vertikale V ist die Auslauföffnung auf einer den Auslauföffnungen46 und48 des zweiten und dritten Behälters30 und32 gegenüberliegenden Seite der Vertikalen V angeordnet. Die Auslauföffnung52 des ersten Behälters26 ist an einer Seitenwand des ersten Behälters26 in einem dritten Abstand A3 zu einem Boden des ersten Behälters26 angeordnet. - Während das Eintreten der ersten Schmelze
34.1 und der zweiten Schmelze34.2 in den ersten Behälter26 durch eine Drehung im Uhrzeigersinn in Abhängigkeit von dem Drehwinkel gesteuert wird, wird das Austreten von sich im ersten Behälter26 befindender Schmelze durch eine Drehung gegen den Uhrzeigersinn erreicht.
Claims (4)
- Flüssigphasenepitaxievorrichtung (10), aufweisend einen Reaktionsbehälter (12) zur Aufnahme von mindestens einer Halbleiterscheibe (30), wobei - - der Reaktionsbehälter (12) einen Gaseinlass (14) und einen Gasauslass (16) aufweist und um eine Drehachse (D) um mindestens +/- 60° kipp- oder drehbar ist, - - in dem Reaktionsbehälter (12) ein erster Behälter (26) mit einer Haltevorrichtung (36, 38) für die mindestens eine Halbleiterscheibe (28) und ein zweiter Behälter (30) zur Aufnahme einer ersten Schmelze (34.1) jeweils mit dem Reaktionsbehälter (12) mitdrehend angeordnet sind, - - der erste Behälter (26) eine Oberseite mit mindestens einer Einlauföffnung aufweist, - - der zweite Behälter (30) einen Boden und eine zu dem Boden einen ersten Abstand (A1) aufweisende Auslauföffnung (46) aufweist und - - der zweite Behälter (30) oberhalb des ersten Behälters (26) angeordnet ist, dadurch gekennzeichnet, dass - in dem Reaktionsbehälter (12) mindestens ein dritter Behälter (32) zur Aufnahme einer zweiten Schmelze (34.2) mit dem Reaktionsbehälter (12) mitdrehend angeordnet ist, - der dritte Behälter (32) einen Boden und eine zu dem Boden einen zweiten Abstand (A2) aufweisende Auslauföffnung (48) aufweist und oberhalb des ersten Behälters (26) angeordnet ist, - wobei der zweite Abstand (A2) größer als der erste Abstand (A1) ist und/oder die Auslauföffnung (48) des dritten Behälters (32) in Bezug auf eine durch die Drehachse (D) verlaufende Vertikale (V) auf einer der Auslauföffnung (46) des zweiten Behälters (30) entgegengesetzten Seite angeordnet ist, - so dass bei einer Drehung des Reaktionsbehälters (12) um einen ersten Winkel (a1) zu der Vertikalen (V) die erste Schmelze (34.1.) aus dem zweiten Behälter (30) durch die Auslauföffnung (46) in den ersten Behälter (26) gelangt und bei einer Drehung des Reaktionsbehälters (12) um einen zweiten Winkel (a2) zu der Vertikalen (V) die zweite Schmelze (34.2) aus dem dritten Behälter (32) durch die Auslauföffnung (48) in den ersten Behälter (26) gelangt, wobei der zweite Winkel (a2) betragsmäßig größer als der erste Winkel (a1) ist und/oder ein entgegengesetztes Vorzeichen aufweist.
- Flüssigphasenepitaxievorrichtung (10) nach
Anspruch 1 , dadurch gekennzeichnet, dass in dem Reaktionsbehälter (12) ein vierter Behälter zur Aufnahme einer dritten Schmelze mit dem Reaktionsbehälter (12) drehbar angeordnet ist, wobei der vierte Behälter einen Boden und einen zu dem Boden einen dritten Abstand aufweisende Auslauföffnung aufweist, der vierte Behälter oberhalb des ersten Behälter angeordnet ist und der dritte Abstand größer als der zweite Abstand ist. - Flüssigphasenepitaxievorrichtung (10) nach
Anspruch 1 oderAnspruch 2 , dadurch gekennzeichnet, dass in dem Reaktionsbehälter (12) unterhalb des ersten Behälters ein Ausgussbecken angeordnet ist und der erste Behälter eine Auslauföffnung aufweist. - Flüssigphasenepitaxievorrichtung (10) nach einem der
Ansprüche 1 bis3 , dadurch gekennzeichnet, dass der erste Winkel a1 zwischen 10° und 50° und der zweite Winkel a2 zwischen 40° und 80° oder zwischen -10° und - 50° beträgt.
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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DE3106484A1 (de) | 1980-02-27 | 1982-01-21 | Naamloze Vennootschap Philips' Gloeilampenfabrieken, Eindhoven | Schiffchen fuer eine vorrichtung fuer fluessigphasenepitaxie und fluessigphasenepitaxieverfahren unter anwendung dieses schiffchens |
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WO2004024999A1 (de) | 2002-09-09 | 2004-03-25 | Vishay Semiconductor Gmbh | Reaktor und verfahren zur flüssigphasenepitaxie |
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2017
- 2017-09-29 DE DE102017009110.2A patent/DE102017009110B3/de active Active
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Legal Events
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