DE102015213253A1 - Spiegel, insbesondere für eine mikrolithographische Projektionsbelichtungsanlage - Google Patents
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Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US11086055B2 (en) | 2017-01-17 | 2021-08-10 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Mirror, in particular for a microlithographic projection exposure apparatus or an inspection system |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP3454119B1 (en) | 2017-09-09 | 2023-12-27 | IMEC vzw | Euv absorbing alloys |
Citations (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US20100182710A1 (en) * | 2007-05-31 | 2010-07-22 | Carl Zeiss Smt Ag | Method for producing an optical element through a molding process, optical element produced according to the method, collector, and lighting system |
| DE102009032779A1 (de) | 2009-07-10 | 2011-01-13 | Carl Zeiss Smt Ag | Spiegel für den EUV-Wellenlängenbereich, Projektionsobjektiv für die Mikrolithographie mit einem solchen Spiegel und Projektionsbelichtungsanlage für die Mikrolithographie mit einem solchen Projektionsobjektiv |
| DE102009049640A1 (de) | 2009-10-15 | 2011-04-21 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Projektionsobjektiv für eine mikrolithographische EUV-Projektionsbelichtungsanlage |
| DE102009054653A1 (de) | 2009-12-15 | 2011-06-16 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Spiegel für den EUV-Wellenlängenbereich, Substrat für einen solchen Spiegel, Verwendung einer Quarzschicht für ein solches Substrat, Projektionsobjektiv für die Mikrolithographie mit einem solchen Spiegel oder einem solchen Substrat und Projetktionsbelichtungsanlage für die Mikrolithographie mit einem solchen Projektionsobjektiv |
| DE102011085358B3 (de) * | 2011-10-28 | 2012-07-12 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Optische Anordnung für die EUV-Lithographie und Verfahren zum Konfigurieren einer solchen optischen Anordnung |
| DE102011075579A1 (de) | 2011-05-10 | 2012-11-15 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Spiegel und Projektionsbelichtungsanlage für die Mikrolithographie mit einem solchen Spiegel |
| DE102012202675A1 (de) | 2012-02-22 | 2013-01-31 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Abbildende Optik sowie Projektionsbelichtungsanlage für die Projektionslithografie mit einer derartigen abbildenden Optik |
| DE102011084117A1 (de) * | 2011-10-07 | 2013-04-11 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Reflektives optisches Element für den EUV-Wellenlängenbereich, Verfahren zur Erzeugung und zur Korrektur eines solchen Elements, Projektionsobjektiv für die Mikrolithographie mit einem solchen Element und Projektionsbelichtungsanlage für die Mikrolithographie mit einem solchen Projektionsobjektiv |
Family Cites Families (14)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5086443A (en) * | 1990-08-03 | 1992-02-04 | The United States Of America As Represented By The United States Department Of Energy | Background-reducing x-ray multilayer mirror |
| EP1333323A3 (en) * | 2002-02-01 | 2004-10-06 | Nikon Corporation | Self-cleaning reflective optical elements for use in x-ray optical systems, and optical systems and microlithography systems comprising same |
| JP2007329368A (ja) * | 2006-06-09 | 2007-12-20 | Canon Inc | 多層膜ミラー、評価方法、露光装置及びデバイス製造方法 |
| JPWO2008065821A1 (ja) * | 2006-11-27 | 2010-03-04 | 株式会社ニコン | 光学素子、これを用いた露光装置、及びデバイス製造方法 |
| NL2003299A (en) * | 2008-08-28 | 2010-03-11 | Asml Netherlands Bv | Spectral purity filter and lithographic apparatus. |
| DE102009033511A1 (de) | 2009-07-15 | 2011-01-20 | Carl Zeiss Smt Ag | Mikrospiegelanordnung mit Anti-Reflexbeschichtung sowie Verfahren zu deren Herstellung |
| EP2463693A3 (de) * | 2009-07-15 | 2013-02-20 | Carl Zeiss SMT GmbH | Mikrospiegelanordnung mit Beschichtung sowie Verfahren zu deren Herstellung |
| EP2513686B1 (en) | 2009-12-15 | 2019-04-10 | Carl Zeiss SMT GmbH | Reflective optical element for euv lithography |
| EP2550563A1 (en) * | 2010-03-24 | 2013-01-30 | ASML Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and spectral purity filter |
| DE102011003357A1 (de) | 2011-01-31 | 2012-08-02 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Spiegel für den EUV-Wellenlängenbereich, Herstellungsverfahren für einen solchen Spiegel, Projektionsobjektiv für die Mikrolithographie mit einem solchen Spiegel und Projektionsbelichtungsanlage für die Mikrolithographie mit einem solchen Projektionsobjektiv |
| DE102013215541A1 (de) * | 2013-08-07 | 2015-02-12 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Spiegel, insbesondere für eine mikrolithographische Projektionsbelichtungsanlage |
| DE102014219755A1 (de) | 2013-10-30 | 2015-04-30 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Reflektives optisches Element |
| DE102014204660A1 (de) | 2014-03-13 | 2015-09-17 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Spiegel, insbesondere für eine mikrolithographische Projektionsbelichtungsanlage |
| DE102015213249A1 (de) | 2015-07-15 | 2017-01-19 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Verfahren zum Herstellen eines Spiegels, insbesondere für eine mikrolithographische Projektionsbelichtungsanlage |
-
2015
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-
2016
- 2016-07-07 WO PCT/EP2016/066178 patent/WO2017009185A1/de not_active Ceased
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-
2018
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Patent Citations (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US20100182710A1 (en) * | 2007-05-31 | 2010-07-22 | Carl Zeiss Smt Ag | Method for producing an optical element through a molding process, optical element produced according to the method, collector, and lighting system |
| DE102009032779A1 (de) | 2009-07-10 | 2011-01-13 | Carl Zeiss Smt Ag | Spiegel für den EUV-Wellenlängenbereich, Projektionsobjektiv für die Mikrolithographie mit einem solchen Spiegel und Projektionsbelichtungsanlage für die Mikrolithographie mit einem solchen Projektionsobjektiv |
| DE102009049640A1 (de) | 2009-10-15 | 2011-04-21 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Projektionsobjektiv für eine mikrolithographische EUV-Projektionsbelichtungsanlage |
| DE102009054653A1 (de) | 2009-12-15 | 2011-06-16 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Spiegel für den EUV-Wellenlängenbereich, Substrat für einen solchen Spiegel, Verwendung einer Quarzschicht für ein solches Substrat, Projektionsobjektiv für die Mikrolithographie mit einem solchen Spiegel oder einem solchen Substrat und Projetktionsbelichtungsanlage für die Mikrolithographie mit einem solchen Projektionsobjektiv |
| US20130038929A1 (en) | 2009-12-15 | 2013-02-14 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Mirror for the euv wavelength range, substrate for such a mirror, projection objective for microlithography comprising such a mirror or such a substrate, and projection exposure apparatus for microlithography comprising such a projection objective |
| DE102011075579A1 (de) | 2011-05-10 | 2012-11-15 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Spiegel und Projektionsbelichtungsanlage für die Mikrolithographie mit einem solchen Spiegel |
| DE102011084117A1 (de) * | 2011-10-07 | 2013-04-11 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Reflektives optisches Element für den EUV-Wellenlängenbereich, Verfahren zur Erzeugung und zur Korrektur eines solchen Elements, Projektionsobjektiv für die Mikrolithographie mit einem solchen Element und Projektionsbelichtungsanlage für die Mikrolithographie mit einem solchen Projektionsobjektiv |
| DE102011085358B3 (de) * | 2011-10-28 | 2012-07-12 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Optische Anordnung für die EUV-Lithographie und Verfahren zum Konfigurieren einer solchen optischen Anordnung |
| DE102012202675A1 (de) | 2012-02-22 | 2013-01-31 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Abbildende Optik sowie Projektionsbelichtungsanlage für die Projektionslithografie mit einer derartigen abbildenden Optik |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US11086055B2 (en) | 2017-01-17 | 2021-08-10 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Mirror, in particular for a microlithographic projection exposure apparatus or an inspection system |
Also Published As
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