DE102014107500B4 - Amoled-anzeigefeld, verfahren zum herstellen einer folienschicht und anzeigevorrichtung - Google Patents

Amoled-anzeigefeld, verfahren zum herstellen einer folienschicht und anzeigevorrichtung Download PDF

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Abstract

AMOLED-Anzeigefeld (Active Matrix Organic Light Emitting Diode), beinhaltend ein Substrat (20), eine Anodenschicht (21), eine Lochleitungsschicht (22), eine Leuchtschicht, eine Elektronenleitungsschicht (24), eine Katodenschicht (25) und eine Katodenschutzschicht (26), wobei die Katodenschutzschicht (26) eine fortlaufende Folienschicht von gleichmäßiger Dicke ist und die Katodenschutzschicht (26) an einer von dem Substrat (20) abgewandten Seite der Katodenschicht (25) angeordnet ist, und eine Dicke der Katodenschutzschicht (26) zwischen 75 nm und 115 nm liegt.

Description

  • TECHNISCHES SACHGEBIET
  • Die vorliegende Erfindung bezieht sich auf das Gebiet der Anzeigetechnologien und insbesondere auf ein AMOLED-Anzeigefeld, ein Verfahren zum Herstellen einer Folienschicht und eine Anzeigevorrichtung.
  • HINTERGRUND DER ERFINDUNG
  • Organische Aktivmatrix-Leuchtdioden (Active Matrix Organic Light Emitting Diodes, AMOLEDs) haben im Vergleich zu herkömmlichen Flüssigkristallanzeigen unter anderem die Vorteile einer hohen Ansprechgeschwindigkeit, eines hohen Kontrastes, eines weiten Betrachtungswinkels, einer exzellenten Anzeigewirkung und einer niedrigen Leistungsaufnahme. AMOLEDs sind selbstleuchtend, kommen also ohne jede Hintergrundbeleuchtung aus und können daher leichter und dünner als eine Dünnschichttransistor-Flüssigkristallanzeige (Thin Film Transistor Liquid Crystal Display, TFT-LCD) aufgebaut werden, und mit AMOLEDs ohne Hintergrundbeleuchtung können die Kosten für eine Hintergrundbeleuchtung eingespart werden, die 30 bis 40 Prozent der TFT-LCD-Kosten ausmachen.
  • Bei selbstleuchtenden AMOLEDs können unterschiedliche Pixel im Lauf der Zeit unterschiedlich altern, was zu unterschiedlichen Helligkeiten und möglicherweise zu einem Nachbild auf dem Bildschirm führen kann, wobei die Helligkeit eines blauen Subpixels schneller nachlassen kann als die Helligkeit eines roten Subpixels und eines grünen Subpixels. Um das Problem zu beheben, dass ein solches Nachbild auf dem AMOLED-Bildschirm erscheint, nachdem dieser für eine gewisse Zeit in Betrieb war, besteht eine typische Praxis nach dem Stand der Technik darin, die Stromdichte einer leuchtenden Schicht von blauen Subpixeln 13, d.h. einer leuchtenden Schicht von B-Pixel-Subpixeln 13, durch Vergrößern ihrer Fläche zu senken, um dadurch das Nachlassen der Helligkeit der blauen Subpixel zu kompensieren, wie in 1 veranschaulicht, wo die Fläche der leuchtenden Schicht von blauen Subpixeln 13 größer als die Fläche einer leuchtenden Schicht von roten Subpixeln 11, d.h. einer leuchtenden Schicht von R-Pixeln 11, und größer als die Fläche einer leuchtenden Schicht von grünen Subpixeln 12, d.h. einer leuchtenden Schicht von G-Pixeln 12, eingestellt ist, wobei jedoch die Vergrößerung der leuchtenden Fläche von blauen Subpixeln zu einem Abfall der Gesamtauflösung des AMOLED-Bildschirms führen kann.
  • DE 10 2013 105 972 A1 offenbart eine organische lichtemittierende Diodenanzeigevorrichtung, umfassend: ein Substrat, eine erste Elektrode, die die Anode bildet, eine gemeinsame Löcherschicht, die eine Lochleitungsschicht und eine Lochinjektionsschicht enthält, eine organisch lichtemittierende Schicht, eine gemeinsame Elektronenschicht, die eine Elektronentransportschicht und eine Elektroneninjektionsschicht enthält, eine zweite Elektrode, die eine Kathode bildet, und eine Hilfselektrode.
  • Zusammenfassend gesagt, kann ein AMOLED-Bildschirm nach dem Stand der Technik den Nachteil einer niedrigen Gesamtauflösung und folglich einer schlechten Gesamtqualität aufweisen.
  • ZUSAMMENFASSENDE BESCHREIBUNG DER ERFINDUNG
  • Ausführungsformen der Erfindung stellen ein AMOLED-Anzeigefeld (Active Matrix Organic Light Emitting Diode), eine AMOLED-Anzeigevorrichtung und ein Verfahren zum Herstellen einer AMOLED-Folienschicht bereit, um die Auflösung eines AMOLED-Bildschirms zu erhöhen, die Leistungsaufnahme des AMOLED-Bildschirms zu senken, einen Prozess zum Herstellen des AMOLED-Bildschirms zu vereinfachen, den Ausgleich von Helligkeitsabfällen des AMOLED-Bildschirms zu verbessern und die Gesamtqualität des AMOLED-Bildschirms zu steigern.
  • Ein AMOLED-Anzeigefeld (Active Matrix Organic Light Emitting Diode) gemäß einer Ausführungsform der Erfindung beinhaltet ein Substrat, eine Anodenschicht, eine Lochleitungsschicht, eine Leuchtschicht, eine Elektronenleitungsschicht, eine Katodenschicht und eine Katodenschutzschicht, wobei die Katodenschutzschicht eine fortlaufende Folienschicht von gleichmäßiger Dicke ist; die Katodenschutzschicht an einer von dem Substrat abgewandten Seite der Katodenschicht angeordnet ist, und eine Dicke der Katodenschutzschicht zwischen 75 nm und 115 nm liegt.
  • Mit einem AMOLED-Anzeigefeld (Active Matrix Organic Light Emitting Diode) gemäß einer Ausführungsform der Erfindung lassen sich die Auflösung eines AMOLED-Anzeigefeldes erhöhen, die Leistungsaufnahme des AMOLED-Anzeigefeldes senken, ein Prozess zum Herstellen des AMOLED-Anzeigefeldes vereinfachen, Helligkeitsabfälle des AMOLED-Anzeigefeldes besser ausgleichen und die Gesamtqualität des AMOLED-Anzeigefeldes steigern, da das AMOLED-Anzeigefeld ein Substrat, eine Anodenschicht, eine Lochleitungsschicht, eine Leuchtschicht, eine Elektronenleitungsschicht, eine Katodenschicht und eine Katodenschutzschicht beinhaltet, wobei die Lochleitungsschicht eine fortlaufende Folienschicht von gleichmäßiger Dicke und/oder die Katodenschutzschicht eine fortlaufende Folienschicht von gleichmäßiger Dicke ist.
  • Eine Ausführungsform der Erfindung stellt ferner eine AMOLED-Anzeigevorrichtung bereit, beinhaltend das oben beschriebene AMOLED-Anzeigefeld.
  • Da eine AMOLED-Anzeigevorrichtung gemäß einer Ausführungsform der Erfindung das oben beschriebene AMOLED-Anzeigefeld beinhaltet, kann die Anzeigevorrichtung die Auflösung eines AMOLED-Bildschirms erhöhen, die Leistungsaufnahme des AMOLED-Bildschirms senken, einen Prozess zum Herstellen des AMOLED-Bildschirms vereinfachen, den Ausgleich von Helligkeitsabfällen des AMOLED-Bildschirms verbessern und die Gesamtqualität des AMOLED-Bildschirms steigern.
  • Eine Ausführungsform der Erfindung stellt ferner ein Verfahren zum Herstellen einer AMOLED-Folienschicht bereit, wobei das Verfahren die Schritte beinhaltet,
    eine Anodenschicht und eine Lochleitungsschicht auf einem Substrat der Reihe nach herzustellen und
    eine Leuchtschicht, eine Elektronenleitungsschicht, eine Katodenschicht und eine Katodenschutzschicht auf der Lochleitungsschicht der Reihe nach herzustellen, wobei die Katodenschutzschicht eine fortlaufende Folienschicht von gleichmäßiger Dicke ist; die Katodenschutzschicht an einer von dem Substrat abgewandten Seite der Katodenschicht angeordnet ist, und eine Dicke der Katodenschutzschicht zwischen 75 nm und 115 nm liegt.
  • Mit einem Verfahren zum Herstellen einer AMOLED-Folienschicht gemäß einer Ausführungsform der Erfindung lassen sich die Auflösung eines AMOLED-Anzeigefeldes erhöhen, die Leistungsaufnahme des AMOLED-Anzeigefeldes senken, ein Prozess zum Herstellen AMOLED-Anzeigefeldes vereinfachen, Helligkeitsabfälle des AMOLED-Anzeigefeldes besser ausgleichen und die Gesamtqualität AMOLED-Anzeigefeldes steigern, da eine Anodenschicht und eine Lochleitungsschicht auf einem Substrat der Reihe nach hergestellt werden und eine Leuchtschicht, eine Elektronenleitungsschicht, eine Katodenschicht und eine Katodenschutzschicht auf der Lochleitungsschicht der Reihe nach hergestellt werden, wobei die Lochleitungsschicht eine fortlaufende Folienschicht von gleichmäßiger Dicke und/oder die Katodenschutzschicht eine fortlaufende Folienschicht von gleichmäßiger Dicke ist.
  • KURZBESCHREIBUNG DER ZEICHNUNGEN
    • 1 ist eine schematische Darstellung der Anordnung von Pixeln in einem AMOLED-Anzeigefeld nach dem Stand der Technik.
    • 2 ist ein schematisches Strukturdiagramm eines AMOLED-Anzeigefeldes gemäß einer Ausführungsform der Erfindung.
    • 3 ist ein Diagramm, das einen Zusammenhang zwischen der Dicke einer Katodenschutzschicht und der Leuchtstärke einer Leuchtschicht in einem AMOLED-Anzeigefeld gemäß einer Ausführungsform der Erfindung wiedergibt.
    • 4 ist ein schematisches Strukturdiagramm eines AMOLED-Anzeigefeldes nach dem Stand der Technik.
    • 5 ist eine schematische Darstellung einer Aufdampfmaske, die bei der Herstellung einer Katodenschutzschicht im AMOLED-Anzeigefeld in 4 verwendet wird.
    • 6 ist eine schematische Darstellung einer Aufdampfmaske, die bei der Herstellung einer Katodenschutzschicht in einem AMOLED-Anzeigefeld gemäß einer Ausführungsform der Erfindung verwendet wird.
    • 7 ist ein schematisches Strukturdiagramm eines AMOLED-Anzeigefeldes gemäß einer Ausführungsform der Erfindung.
    • 8 ist ein schematisches Strukturdiagramm eines AMOLED-Anzeigefeldes gemäß einer Ausführungsform der Erfindung.
    • 9 ist ein schematisches Strukturdiagramm eines AMOLED-Anzeigefeldes gemäß einer Ausführungsform der Erfindung.
    • 10 ist ein schematisches Strukturdiagramm einer AMOLED-Anzeigevorrichtung gemäß einer Ausführungsform der Erfindung.
  • AUSFÜHRLICHE BESCHREIBUNG DER BEVORZUGTEN AUSFÜHRUNGSFORMEN
  • Ausführungsformen der Erfindung stellen ein AMOLED-Anzeigefeld (Active Matrix Organic Light Emitting Diode), eine AMOLED-Anzeigevorrichtung und ein Verfahren zum Herstellen einer AMOLED-Folienschicht bereit, um die Auflösung eines AMOLED-Bildschirms zu erhöhen, die Leistungsaufnahme des AMOLED-Bildschirms zu senken, einen Prozess zum Herstellen des AMOLED-Bildschirms zu vereinfachen, den Ausgleich von Helligkeitsabfällen des AMOLED-Bildschirms zu verbessern und die Gesamtqualität des AMOLED-Bildschirms zu steigern.
  • Nachstehend werden technische Lösungen anhand von Ausführungsformen der Erfindung ausführlich beschrieben.
  • Wie in 2 veranschaulicht, beinhaltet ein AMOLED-Anzeigefeld gemäß einer besonderen Ausführungsform der Erfindung ein Substrat 20, eine Anodenschicht 21, eine Lochleitungsschicht 22, eine Leuchtschicht, eine Elektronenleitungsschicht 24, eine Katodenschicht 25 und eine Katodenschutzschicht 26, wobei die Katodenschutzschicht 26 eine fortlaufende Folienschicht von gleichmäßiger Dicke ist und die Leuchtschicht eine Leuchtschicht von R-Pixeln 231, eine Leuchtschicht von G-Pixeln 232 und eine Leuchtschicht von B-Pixeln 233 beinhaltet, und wobei die Katodenschutzschicht 26 aus Aluminium-tris(8-hydroxychinolin) (Alq3) oder anderen organischen Werkstoffen oder die Katodenschutzschicht 26 aus CaO, SiO2 oder anderen keramischen Werkstoffen bestehen kann.
  • Ein Verfahren zum Herstellen einer AMOLED-Folienschicht gemäß einer Ausführungsform der Erfindung beinhaltet die Schritte, eine Anodenschicht 21 und eine Lochleitungsschicht 22 auf einem Substrat 20 der Reihe nach herzustellen und eine Leuchtschicht, eine Elektronenleitungsschicht 24, eine Katodenschicht 25 und eine Katodenschutzschicht 26 auf der Lochleitungsschicht 22 der Reihe nach herzustellen, wobei die Katodenschutzschicht 26 eine fortlaufende Folienschicht von gleichmäßiger Dicke ist und die Leuchtschicht eine Leuchtschicht von R-Pixeln 231, eine Leuchtschicht von G-Pixeln 232 und eine Leuchtschicht von B-Pixeln 233 beinhaltet.
  • In einer besonderen Ausführungsform der Erfindung ist die Dicke der Katodenschutzschicht 26 so gewählt, dass die Dicke der Katodenschutzschicht 26 einen optimalen optischen Koppelwirkungsgrad für die Leuchtschicht von B-Pixeln 233 ermöglicht. Da die Leuchtschicht von R-Pixeln 231, die Leuchtschicht von G-Pixeln 232 und die Leuchtschicht von B-Pixeln 233 auf unterschiedlichen Wellenlängen leuchten, ergeben sich gewöhnliche Koppelwirkungsgrade für die Leuchtschicht von R-Pixeln 231 und die Leuchtschicht von G-Pixeln 232, wenn die Dicke der Katodenschutzschicht 26 einen optimalen optischen Koppelwirkungsgrad für die Leuchtschicht von B-Pixeln 233 ermöglicht.
  • Tabelle 1 gibt einen Zusammenhang zwischen der Dicke einer Katodenschutzschicht und den Leuchtstärken jeweiliger Leuchtschichten von Subpixeln in einem AMOLED-Anzeigefeld gemäß einer Ausführungsform der Erfindung im Einzelnen wieder. Tabelle 1
    Dicke der Katodenschutzschi cht Leuchtstärke der Leuchtschicht der B-Pixel Leuchtstärke der Leuchtschicht der G-Pixel Leuchtstärke der Leuchtschicht der R-Pixel
    55 11 160 30
    65 13 140 30
    75 15,1 120 40
    85 16,6 100 30
    95 17,2 100 30
    105 16,8 100 30
    115 15,6 100 20
    125 13,8 120 20
    135 11,9 140 20
    145 10,1 165 15
  • Wenn, wie in Tabelle 1 dargestellt, die Katodenschutzschicht 26 eine Dicke von 55 nm hat, haben die Leuchtschicht von B-Pixeln 233 eine Leuchtstärke von 11 Candela, die Leuchtschicht von G-Pixeln 232 eine Leuchtstärke von 160 Candela und die Leuchtschicht von R-Pixeln 231 eine Leuchtstärke von 30 Candela; wenn die Katodenschutzschicht 26 eine Dicke von 65 nm hat, haben die Leuchtschicht von B-Pixeln 233 eine Leuchtstärke von 13 Candela, die Leuchtschicht von G-Pixeln 232 eine Leuchtstärke von 140 Candela und die Leuchtschicht von R-Pixeln 231 eine Leuchtstärke von 30 Candela; wenn die Katodenschutzschicht 26 eine Dicke von 75 nm hat, haben die Leuchtschicht von B-Pixeln 233 eine Leuchtstärke von 15,1 Candela, die Leuchtschicht von G-Pixeln 232 eine Leuchtstärke von 120 Candela und die Leuchtschicht von R-Pixeln 231 eine Leuchtstärke von 40 Candela; wenn die Katodenschutzschicht 26 eine Dicke von 85 nm hat, haben die Leuchtschicht von B-Pixeln 233 eine Leuchtstärke von 16,6 Candela, die Leuchtschicht von G-Pixeln 232 eine Leuchtstärke von 100 Candela und die Leuchtschicht von R-Pixeln 231 eine Leuchtstärke von 30 Candela; wenn die Katodenschutzschicht 26 eine Dicke von 95 nm hat, haben die Leuchtschicht von B-Pixeln 233 eine Leuchtstärke von 17,2 Candela, die Leuchtschicht von G-Pixeln 232 eine Leuchtstärke von 100 Candela und die Leuchtschicht von R-Pixeln 231 eine Leuchtstärke von 30 Candela; wenn die Katodenschutzschicht 26 eine Dicke von 105 nm hat, haben die Leuchtschicht von B-Pixeln 233 eine Leuchtstärke von 16,8 Candela, die Leuchtschicht von G-Pixeln 232 eine Leuchtstärke von 100 Candela und die Leuchtschicht von R-Pixeln 231 eine Leuchtstärke von 30 Candela; wenn die Katodenschutzschicht 26 eine Dicke von 115 nm hat, haben die Leuchtschicht von B-Pixeln 233 eine Leuchtstärke von 15,6 Candela, die Leuchtschicht von G-Pixeln 232 eine Leuchtstärke von 100 Candela und die Leuchtschicht von R-Pixeln 231 eine Leuchtstärke von 20 Candela; wenn die Katodenschutzschicht 26 eine Dicke von 125 nm hat, haben die Leuchtschicht von B-Pixeln 233 eine Leuchtstärke von 13,8 Candela, die Leuchtschicht von G-Pixeln 232 eine Leuchtstärke von 120 Candela und die Leuchtschicht von R-Pixeln 231 eine Leuchtstärke von 20 Candela; wenn die Katodenschutzschicht 26 eine Dicke von 135 nm hat, haben die Leuchtschicht von B-Pixeln 233 eine Leuchtstärke von 11,9 Candela, die Leuchtschicht von G-Pixeln 232 eine Leuchtstärke von 140 Candela und die Leuchtschicht von R-Pixeln 231 eine Leuchtstärke von 20 Candela, und wenn die Katodenschutzschicht 26 eine Dicke von 145 nm hat, haben die Leuchtschicht von B-Pixeln 233 eine Leuchtstärke von 10,1 Candela, die Leuchtschicht von G-Pixeln 232 eine Leuchtstärke von 165 Candela und die Leuchtschicht von R-Pixeln 231 eine Leuchtstärke von 15 Candela.
  • 3 enthält ein Diagramm, das einen Zusammenhang zwischen der Dicke einer Katodenschutzschicht und der Leuchtstärke einer Leuchtschicht wiedergibt, wobei 231 die Leuchtstärke der Leuchtschicht von R-Pixeln, 232 die Leuchtstärke der Leuchtschicht von G-Pixeln und 233 die Leuchtstärke der Leuchtschicht von B-Pixeln bezeichnet. Wie sowohl aus Tabelle 1 als auch aus 3 ersichtlich, hat die Katodenschutzschicht eine Dicke von 95 nm, wenn ein optimaler optischer Koppelwirkungsgrad für die Leuchtschicht von B-Pixeln 233 vorliegt; die Katodenschutzschicht hat eine Dicke von 55 nm oder 145 nm, wenn ein optimaler optischer Koppelwirkungsgrad für die Leuchtschicht von G-Pixeln 232 vorliegt, und die Katodenschutzschicht hat eine Dicke von 55 nm oder 75 nm, wenn ein optimaler optischer Koppelwirkungsgrad für die Leuchtschicht von R-Pixeln 231 vorliegt. Für die Dicke der Katodenschutzschicht in einer besonderen Ausführungsform der Erfindung wird ein Wert von 95 nm gewählt, um einen optimalen optischen Koppelwirkungsgrad für die Leuchtschicht von B-Pixeln 233 zu gewährleisten, während für die Leuchtschicht von R-Pixeln 231 und die Leuchtschicht von G-Pixeln 232 gewöhnliche optimale optische Wirkungsgrade vorliegen.
  • Vorzugsweise gibt es in einem praktischen Herstellungsprozess unter Bezugnahme sowohl auf Tabelle 1 als auch auf 3 einen optimalen Dickenbereich der Katodenschutzschicht in einer besonderen Ausführungsform der Erfindung, welcher 75 nm bis 115 nm beträgt. Wenn die Dicke der Katodenschutzschicht weiter erhöht wird, variieren die Leuchtstärke der Leuchtschicht von R-Pixeln, die Leuchtstärke der Leuchtschicht von G-Pixeln und die Leuchtstärke der Leuchtschicht von B-Pixeln periodisch über ihre Wellenberge und -täler hinweg. Wie aus Tabelle 1 ersichtlich, variiert die Dicke der Katodenschutzschicht periodisch von 55 nm bis 135 nm, aber der Dickenbereich der Katodenschutzschicht in einer besonderen Ausführungsform der Erfindung ist nicht auf 75 nm bis 115 nm beschränkt, sondern kann in Abhängigkeit von einem praktischen Herstellungsprozess periodisch erweitert werden.
  • Wie in 4 veranschaulicht, ist die Dicke einer Katodenschutzschicht 26 nach dem Stand der Technik nicht gleichmäßig, und die Katodenschutzschicht 26 ist eine nicht fortlaufende, unterbrochene Folienschicht. Nach dem Stand der Technik ist die Fläche der Leuchtschicht von B-Pixeln 233 größer als die Fläche der Leuchtschicht von R-Pixeln 231 und die Fläche der Leuchtschicht von G-Pixeln 232. Die Katodenschutzschicht muss aus drei Aufdampfmasken 51, 52 und 53, wie sie in 5 veranschaulicht sind, hergestellt werden, wobei die Katodenschutzschicht auf der Leuchtschicht von R-Pixeln aus der Aufdampfmaske 51 hergestellt wird und die Aufdampfmaske 51 mehrere Öffnungen 511 beinhaltet und die Öffnungen 511 von derselben Größenordnung wie die R-Pixel sind, wobei die Katodenschutzschicht auf der Leuchtschicht von G-Pixeln aus der Aufdampfmaske 52 hergestellt wird und die Aufdampfmaske 52 mehrere Öffnungen 522 beinhaltet und die Öffnungen 522 von derselben Größenordnung wie die G-Pixel sind, und wobei die Katodenschutzschicht auf der Leuchtschicht von B-Pixeln aus der Aufdampfmaske 53 hergestellt wird und die Aufdampfmaske 53 mehrere Öffnungen 533 beinhaltet und die Öffnungen 533 von derselben Größenordnung wie die B-Pixel sind. Das Steuern von Prozessen sowohl zum Herstellen einer Maske als auch zum Zugriff auf die Maske selbst kann nach dem Stand der Technik ziemlich schwierig sein, und die Herstellung mehrerer Masken kann den Herstellungsprozess ebenfalls kompliziert machen.
  • Die Katodenschutzschicht wird in einer Ausführungsform der Erfindung hergestellt, indem die Katodenschutzschicht auf der Katodenschicht unter Verwendung einer Aufdampfmaske abgeschieden wird, wobei die Öffnungen der Aufdampfmaske dieselbe Größe wie ein Anzeigebereich des Anzeigefeldes haben, wie in 6 veranschaulicht, wo eine Aufdampfmaske 60 mehrere Öffnungen 61 in derselben Größe wie ein Anzeigebereich des Anzeigefeldes hat. Somit wird die Katodenschutzschicht in der Ausführungsform der Erfindung lediglich aus einer Maske in einem vereinfachten Herstellungsprozess hergestellt, und die Öffnungen der Maske haben dieselbe Größe wie der Anzeigebereich des Anzeigefeldes.
  • Das AMOLED-Anzeigefeld nach dem Stand der Technik und das AMOLED-Anzeigefeld gemäß der Ausführungsform der Erfindung wurden getestet, was in experimentellen Daten resultierte, die in Tabelle 2 dargestellt sind. Tabelle 2
    Position Stand der Technik Ausführungsform der Erfindung
    Helligkeit in Rot (cd/m2) 62 62
    Helligkeit in Grün (cd/m2) 187 187
    Helligkeit in Blau (cd/m2) 51 51
    Helligkeit in Weiß (cd/m2) 300 300
    Chrominanz in Rot (x, y) (0,65, 0,33) (0,65, 0,33)
    Chrominanz in Grün (x, y) (0,33, 0,65) (0,33, 0,65)
    Chrominanz in Blau (x, y) (0,15, 0,12) (0,15, 0,12)
    Chrominanz in Weiß (x, y) (0,33, 0,33) (0,33, 0,33)
    Wirkungsgrad in Rot (cd/A) 15 15
    Wirkungsgrad in Grün (cd/A) 30 30
    Wirkungsgrad in Blau (cd/A) 5 10
    Strom in Rot (mA) 41 41
    Strom in Grün (mA) 62 62
    Strom in Blau (mA) 25,5 12,8
    Fläche in Rot (mm2) 0,01 0,01
    Fläche in Grün (mm2) 0,01 0,01
    Fläche in Blau2) 0,02 0,01
    Lebensdauer in Rot (Stunden) 50 50
    Lebensdauer in Grün (Stunden) 50 50
    Lebensdauer in Blau (Stunden) 50 50
  • Wie aus Tabelle 2 ersichtlich, wurden die Helligkeit und die Chrominanz in Rot, Grün und Blau, d.h. der Weißabgleich, im AMOLED-Anzeigefeld gemäß der Ausführungsform der Erfindung beibehalten, während der Wirkungsgrad in Blau verdoppelt und der Ansteuerungsstrom in Blau halbiert wurde, was bedeutet, dass der Wirkungsgrad in Blau erhöht und der Strom in Blau verringert wurde, um im Vergleich zum Stand der Technik dieselbe Helligkeit zu erreichen und somit die Leistungsaufnahme des AMOLED-Anzeigefeldes gemäß der Ausführungsform der Erfindung zu senken, so dass im Vergleich zum Stand der Technik die Fläche in Blau halbiert und somit die Auflösung des AMOLED-Anzeigefeldes gemäß der Ausführungsform der Erfindung erhöht wurde, und dass die Lebensdauerwerte in Rot, Grün und Blau trotz der Änderungen der Fläche und des Wirkungsgrades in Blau im AMOLED-Anzeigefeld gemäß der Ausführungsform der Erfindung weiterhin beständig waren, so dass Helligkeitsabfälle ausgeglichen wurden, während die Leistungsaufnahme des AMOLED-Anzeigefeldes gemäß der Ausführungsform der Erfindung gesenkt und seine Auflösung erhöht wurde.
  • Somit können mit dem AMOLED-Anzeigefeld gemäß der Ausführungsform der Erfindung die Auflösung eines AMOLED-Anzeigefeldes erhöht, die Leistungsaufnahme des AMOLED-Anzeigefeldes gesenkt, der Ausgleich von Helligkeitsabfällen des AMOLED-Anzeigefeldes verbessert, ein Prozess zum Herstellen des AMOLED-Anzeigefeldes vereinfacht und somit die Gesamtqualität des AMOLED-Anzeigefeldes gesteigert werden.
  • Wie in 7 veranschaulicht, beinhaltet ein AMOLED-Anzeigefeld gemäß einer besonderen Ausführungsform ein Substrat 20, eine Anodenschicht 21, eine Lochleitungsschicht 22, eine Leuchtschicht, eine Elektronenleitungsschicht 24, eine Katodenschicht 25 und eine Katodenschutzschicht 26, wobei die Lochleitungsschicht 22 eine fortlaufende Folienschicht von gleichmäßiger Dicke ist und die Leuchtschicht eine Leuchtschicht von R-Pixeln 231, eine Leuchtschicht von G-Pixeln 232 und eine Leuchtschicht von B-Pixeln 233 beinhaltet.
  • Ein Verfahren zum Herstellen einer AMOLED-Folienschicht gemäß der Ausführungsform der Erfindung beinhaltet die Schritte, eine Anodenschicht 21 und eine Lochleitungsschicht 22 auf einem Substrat 20 der Reihe nach herzustellen und eine Leuchtschicht, eine Elektronenleitungsschicht 24, eine Katodenschicht 25 und eine Katodenschutzschicht 26 auf der Lochleitungsschicht 22 der Reihe nach herzustellen, wobei die Lochleitungsschicht 22 eine fortlaufende Folienschicht von gleichmäßiger Dicke ist und die Leuchtschicht eine Leuchtschicht von R-Pixeln 231, eine Leuchtschicht von G-Pixeln 232 und eine Leuchtschicht von B-Pixeln 233 beinhaltet.
  • Die Lochleitungsschicht 22 in dieser Ausführungsform ist eine fortlaufende Folienschicht von einheitlicher Dicke, und die Dicke der Lochleitungsschicht 22 ist so gewählt, dass die Dicke der Lochleitungsschicht 22 einen optimalen optischen Koppelwirkungsgrad für die Leuchtschicht von B-Pixeln 233 ermöglicht, während sich für die Leuchtschicht von R-Pixeln 231 und die Leuchtschicht von G-Pixeln 232 gewöhnliche Koppelwirkungsgrade ergeben. Wenn die Dicke der Lochleitungsschicht 22 in dieser Ausführungsform 37 nm beträgt, hat die Leuchtschicht von B-Pixeln 233 eine Leuchtstärke von 10,97 Candela, die Leuchtschicht von G-Pixeln 232 eine Leuchtstärke von 4,6 Candela und die Leuchtschicht von R-Pixeln 231 eine Leuchtstärke von 3,7 Candela; wenn die Dicke der Lochleitungsschicht 22 85 nm beträgt, hat die Leuchtschicht von G-Pixeln 232 eine Leuchtstärke von 18,4 Candela und die Leuchtschicht von B-Pixeln 233 eine Leuchtstärke von weniger als 10,97 Candela, und wenn die Dicke der Lochleitungsschicht 22 140 nm beträgt, hat die Leuchtschicht von R-Pixeln 231 eine Leuchtstärke von 10,4 Candela und die Leuchtschicht von B-Pixeln 233 eine Leuchtstärke von weniger als 10,97 Candela, was bedeutet, dass bei einer Dicke der Lochleitungsschicht 22 von 37 nm ein optimaler optischer Koppelwirkungsgrad für die Leuchtschicht von B-Pixeln 233 vorliegt, während für die Leuchtschicht von R-Pixeln 231 und die Leuchtschicht von G-Pixeln 232 gewöhnliche optische Koppelwirkungsgrade vorliegen, so dass für die Dicke der Lochleitungsschicht 22 in dieser Ausführungsform ein Wert von 37 nm gewählt wird.
  • Vorzugsweise wird die Lochleitungsschicht in dieser Ausführungsform hergestellt, indem die Lochleitungsschicht unter Verwendung einer Aufdampfmaske auf der Anodenschicht abgeschieden wird, wobei die Öffnungen der Aufdampfmaske dieselbe Größe wie ein Anzeigebereich des Anzeigefeldes aufweisen. Die Lochleitungsschicht in der Ausführungsform wird lediglich aus einer Maske in einem vereinfachten Herstellungsprozess hergestellt, und die Öffnungen der Maske haben dieselbe Größe wie der Anzeigebereich des Anzeigefeldes.
  • Sowohl das AMOLED-Anzeigefeld gemäß der Ausführungsform der Erfindung als auch das AMOLED-Anzeigefeld nach dem Stand der Technik wurden getestet, was in experimentellen Daten resultierte, die in Tabelle 2 dargestellt sind. Somit können mit dem AMOLED-Anzeigefeld gemäß dieser Ausführungsform die Auflösung eines AMOLED-Anzeigefeldes erhöht, die Leistungsaufnahme des AMOLED-Anzeigefeldes gesenkt, der Ausgleich von Helligkeitsabfällen des AMOLED-Anzeigefeldes verbessert, ein Prozess zum Herstellen des AMOLED-Anzeigefeldes vereinfacht und somit die Gesamtqualität des AMOLED-Anzeigefeldes gesteigert werden.
  • Wie in 8 veranschaulicht, beinhaltet ein AMOLED-Anzeigefeld gemäß einer besonderen Ausführungsform der Erfindung ein Substrat 20, eine Anodenschicht 21, eine Lochleitungsschicht 22, eine Leuchtschicht, eine Elektronenleitungsschicht 24, eine Katodenschicht 25 und eine Katodenschutzschicht 26, wobei die Lochleitungsschicht 22 und die Katodenschutzschicht 26 fortlaufende Folienschichten mit gleichmäßigen Dicken sind und die Leuchtschicht eine Leuchtschicht von R-Pixeln 231, eine Leuchtschicht von G-Pixeln 232 und eine Leuchtschicht von B-Pixeln 233 beinhaltet.
  • Ein Verfahren zum Herstellen der AMOLED-Folienschicht gemäß einer Ausführungsform der Erfindung beinhaltet die Schritte, eine Anodenschicht 21 und eine Lochleitungsschicht 22 auf einem Substrat 20 der Reihe nach herzustellen und eine Leuchtschicht, eine Elektronenleitungsschicht 24, eine Katodenschicht 25 und eine Katodenschutzschicht 26 auf der Lochleitungsschicht 22 der Reihe nach herzustellen, wobei die Lochleitungsschicht 22 und die Katodenschutzschicht 26 fortlaufende Folienschichten mit gleichmäßigen Dicken sind und die Leuchtschicht eine Leuchtschicht von R-Pixeln 231, eine Leuchtschicht von G-Pixeln 232 und eine Leuchtschicht von B-Pixeln 233 beinhaltet.
  • Die Dicken der Lochleitungsschicht 22 und der Katodenschutzschicht 26 im AMOLED-Anzeigefeld gemäß der besonderen Ausführungsform der Erfindung werden wie in allen vorgenannten Ausführungsformen gewählt, so dass auf deren wiederholte Beschreibung hier verzichtet wird, und wiederum wurden sowohl das gemäß dieser Ausführungsform angefertigte AMOLED-Anzeigefeld und das AMOLED-Anzeigefeld nach dem Stand der Technik getestet, was in experimentellen Daten resultierte, die in Tabelle 2 dargestellt sind. Somit können mit dem AMOLED-Anzeigefeld gemäß dieser Ausführungsform die Auflösung eines AMOLED-Anzeigefeldes erhöht, die Leistungsaufnahme des AMOLED-Anzeigefeldes gesenkt, der Ausgleich von Helligkeitsabfällen des AMOLED-Anzeigefeldes verbessert, ein Prozess zum Herstellen des AMOLED-Anzeigefeldes vereinfacht und somit die Gesamtqualität des AMOLED-Anzeigefeldes gesteigert werden.
  • 9 veranschaulicht ein AMOLED-Anzeigefeld gemäß einer Ausführungsform der Erfindung, wobei ein Mikrospiegel 90 auf einer Leuchtschicht von B-Subpixeln 233 in einem Tintenstrahlauftragsprozess hergestellt wird, während die übrigen Schichten im AMOLED-Anzeigefeld werden wie in allen vorgenannten Ausführungsformen hergestellt werden. Da Lichtstrahlen vom Mikrospiegel 90 gebrochen und übertragen werden können, was in einer höheren Auskopplung der Lichtstrahlen resultiert, wird für die Leuchtschicht von B-Subpixeln 233 ein besserer optischer Koppelwirkungsgrad bei demselben Ansteuerungsstrom erzielt, was bedeutet, dass für die Leuchtschicht von B-Subpixeln 233 ein niedrigerer Ansteuerungsstrom für dieselbe Leuchtstärke benötigt wird.
  • Wiederum wurden sowohl das gemäß dieser Ausführungsform der Erfindung angefertigte AMOLED-Anzeigefeld als auch das AMOLED-Anzeigefeld nach dem Stand der Technik getestet, was in experimentellen Daten resultierte, die in Tabelle 2 dargestellt sind. Somit können mit dem AMOLED-Anzeigefeld gemäß dieser Ausführungsform die Auflösung eines AMOLED-Anzeigefeldes erhöht, die Leistungsaufnahme des AMOLED-Anzeigefeldes gesenkt, der Ausgleich von Helligkeitsabfällen des AMOLED-Anzeigefeldes verbessert und die Gesamtqualität des AMOLED-Anzeigefeldes gesteigert werden.
  • Eine besondere Ausführungsform der Erfindung stellt ferner eine AMOLED-Anzeigevorrichtung bereit, beinhaltend das vorstehend beschriebene AMOLED-Anzeigefeld, wobei die AMOLED-Anzeigevorrichtung gemäß der besonderen Ausführungsform der Erfindung eine Anzeige der in 10 veranschaulichten Art sein kann.
  • Offensichtlich kann der Fachmann verschiedene Modifikationen und Änderungen an der Erfindung vornehmen, ohne vom Wesen und Geltungsbereich der Erfindung abzuweichen. Somit soll die Erfindung auch diese an ihr vorgenommenen Modifikationen und Änderungen umfassen, so lange die Modifikationen und Änderungen in den Geltungsbereich der dieser Erfindung beigefügten Patentansprüche und ihrer Äquivalente fallen.

Claims (11)

  1. AMOLED-Anzeigefeld (Active Matrix Organic Light Emitting Diode), beinhaltend ein Substrat (20), eine Anodenschicht (21), eine Lochleitungsschicht (22), eine Leuchtschicht, eine Elektronenleitungsschicht (24), eine Katodenschicht (25) und eine Katodenschutzschicht (26), wobei die Katodenschutzschicht (26) eine fortlaufende Folienschicht von gleichmäßiger Dicke ist und die Katodenschutzschicht (26) an einer von dem Substrat (20) abgewandten Seite der Katodenschicht (25) angeordnet ist, und eine Dicke der Katodenschutzschicht (26) zwischen 75 nm und 115 nm liegt.
  2. AMOLED-Anzeigefeld gemäß Anspruch 1, wobei die Leuchtschicht eine Leuchtschicht von R-Pixeln (231), eine Leuchtschicht von G-Pixeln (232) und eine Leuchtschicht von B-Pixeln (233) beinhaltet.
  3. AMOLED-Anzeigefeld gemäß Anspruch 2, wobei die Leuchtschicht von R-Pixeln (231), die Leuchtschicht von G-Pixeln (232) und die Leuchtschicht von B-Pixeln (233) dieselbe Fläche aufweisen.
  4. AMOLED-Anzeigefeld gemäß Anspruch 2 oder 3, wobei die Leuchtschicht ferner einen Mikrospiegel (90) beinhaltet, der auf der Leuchtschicht von B-Pixeln (233) angeordnet ist.
  5. AMOLED-Anzeigevorrichtung, beinhaltend das AMOLED-Anzeigefeld gemäß einem der Ansprüche 1 bis 4.
  6. Verfahren zum Herstellen einer AMOLED-Folienschicht, beinhaltend die Schritte, eine Anodenschicht und eine Lochleitungsschicht auf einem Substrat der Reihe nach herzustellen und eine Leuchtschicht, eine Elektronenleitungsschicht, eine Katodenschicht und eine Katodenschutzschicht auf der Lochleitungsschicht der Reihe nach herzustellen, wobei die Lochleitungsschicht eine fortlaufende Folienschicht von gleichmäßiger Dicke und/oder die Katodenschutzschicht eine fortlaufende Folienschicht von gleichmäßiger Dicke ist.
  7. Verfahren gemäß Anspruch 6, wobei die Lochleitungsschicht hergestellt wird, indem die Lochleitungsschicht unter Verwendung einer Aufdampfmaske auf der Anodenschicht abgeschieden wird, wobei die Öffnungen der Aufdampfmaske dieselbe Größe wie ein Anzeigebereich eines Anzeigefeldes aufweisen.
  8. Verfahren gemäß Anspruch 6, wobei die Katodenschutzschicht hergestellt wird, indem die Katodenschutzschicht unter Verwendung einer Aufdampfmaske auf der Katodenschicht abgeschieden wird, wobei die Öffnungen der Aufdampfmaske dieselbe Größe wie ein Anzeigebereich eines Anzeigefeldes aufweisen.
  9. Verfahren gemäß Anspruch 6, wobei die Leuchtschicht eine Leuchtschicht von R-Pixeln, eine Leuchtschicht von G-Pixeln und eine Leuchtschicht von B-Pixeln beinhaltet.
  10. Verfahren gemäß Anspruch 9, wobei die Leuchtschicht von R-Pixeln, die Leuchtschicht von G-Pixeln und die Leuchtschicht von B-Pixeln dieselbe Fläche aufweisen.
  11. Verfahren gemäß Anspruch 9 oder 10, ferner beinhaltend den Schritt, einen Mikrospiegel auf der Leuchtschicht von B-Pixeln herzustellen.
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