DE102009000293A1 - Bearbeitungsflüssigkeitsmischvorrichtung und Verfahren, Substratbearbeitungsvorrichtung und Speichermedium - Google Patents

Bearbeitungsflüssigkeitsmischvorrichtung und Verfahren, Substratbearbeitungsvorrichtung und Speichermedium Download PDF

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Abstract

Es ist offenbart, ein Mischverhältnis der Bearbeitungsflüssigkeit, welche in einem Mischtank hergestellt wird, konstant zu halten. Zunächst sind Abgabeventile (23, 24 und 25) offen und sind Zufuhrventile (26 bis 31) geschlossen, um Stammlösungen A, B und C durch die Abgabeventile (23, 24 und 25) nach außen abzugeben. Nachdem alle Durchflussraten der Stammlösungen A, B und C, die von LFC (20, 21 und 22) detektiert werden, eine vorbestimmte Durchflussrate erreichen, werden die Abgabeventile (23, 24 und 25) geschlossen und die Zufuhrventile (17, 29, 31) sind offen, um die Stammlösungen A, B und C dem zweiten Mischtank (3) durch die Zufuhrventile (17, 29, 31) zuzuführen.

Description

  • HINTERGRUND DER ERFINDUNG
  • 1. Gebiet der Erfindung
  • Die vorliegende Erfindung betrifft eine Bearbeitungsflüssigkeitsmischvorrichtung und ein Verfahren zum Mischen einer Bearbeitungsflüssigkeit, die im Stande sind, die Bearbeitungsflüssigkeit durch Mischen einer Vielzahl von Stammlösungen in einem vorbestimmten Verhältnis herzustellen, ein Speichermedium, das ein Bearbeitungsflüssigkeitsmischprogramm speichert und eine Substratbearbeitungsvorrichtung, die mit der Bearbeitungsflüssigkeitsmischvorrichtung vorgesehen ist.
  • 2. Beschreibung des Standes der Technik
  • Herstellungsverfahren von Halbleitereinrichtungen oder Flüssigkristallfeldern enthalten Flüssigkeitsbearbeitungsverfahren, wie beispielsweise Reinigung oder Ätzen. Flüssigkeitsbearbeitungsvorrichtungen enthalten ein Aufbringen einer Bearbeitungsflüssigkeit auf Zielobjekte oder Eintauchen von Zielobjekten in eine Bearbeitungsflüssigkeit. Eine Bearbeitungsflüssigkeit kann durch Mischen von Stammlösungen in einem vorbestimmten Verhältnis hergestellt werden. Verschiedene Bearbeitungsflüssigkeiten können in Flüssigkeitsbearbeitungsverfahren verwendet werden. Bearbeitungsflüssigkeiten zur Verwendung in einem Reinigungsverfahren sind beispielsweise in Tabelle 1 unten gezeigt. Tabelle 1
    Name Mischverhältnis Verwendung
    Mischung aus Ammoniakwasser und Wasserstoffperoxidlösung NH4OH:H2O2:H2O = 1:1:5 (Volumenverhältnis) Entfernung von Teilchen Entfernung von organischer Säure
    Mischung aus Chlorwasserstoffsäure und Wasserstoffperoxidlösung Cl:H2O2:H2O = 1:1:5 (Volumenverhältnis) Entfernung metallischer Verunreinigungen
    Mischung aus Schwefelsäure und Wasserstoffperoxidlösung H2SO4:H2O = 4:5 (Volumenverhältnis) Entfernung organischer Verunreinigungen Entfernung metallischer Verunreinigungen
    Fluorwasserstoffsäure HF (ungefähr 0.5–10%) Entfernung einer Si (natürlich) Oxidschicht Entfernung metallischer Verunreinigungen (Entfernung von Cu
    gepufferte Fluorwasserstoffsäurelösung HF:NH4F = 7:1 Entfernung einer Si (natürlich) Oxidschicht
  • Fertigungsanlagen können zugeordnete Röhren für jede Bearbeitungsflüssigkeit benötigen, wenn verschiedene Bearbeitungsflüssigkeiten hergestellt werden und die hergestellte Bearbeitungsflüssigkeit jeder Substratbearbeitungsvorrichtung zugeführt wird. Folglich wird eine Fertigungsanlage eine komplizierte innere Struktur aufweisen, die nicht zweckmäßig sein wird. Folglich enthalten Fertigungsanlagen Röhren, um Stammlösungen zum Herstellen von Bearbeitungsflüssigkeiten jeder Substratbearbeitungsvorrichtung zuzuführen. Ferner enthält jede Substratbearbeitungsvorrichtung Bearbeitungsflüssigkeitsmischvorrichtungen, um eine Bearbeitungsflüssigkeit herzustellen.
  • Einige Bearbeitungsflüssigkeitsmischvorrichtungen wurden vorgeschlagen, um ein konstantes Mischverhältnis von Stammlösungen in einer Bearbeitungsflüssigkeit aufzuweisen. Beispielsweise offenbart das japanische ungeprüfte Patent Veröffentlichungsnr. 2003-275569 eine Bearbeitungsflüssigkeitsmischvorrichtung, welche Mischtanks, um verschiedene Stammlösungen zu mischen, eine Durchflusssteuereinheit, um einen Betrag der Stammlösungen zu steuern, und eine Zufuhrzeitsteuereinheit enthält, um die Zufuhrzeit jeder Stammlösung zu den Mischtanks so zu steuern, dass jede Stammlösung gleichzeitig den Mischtanks zugeführt werden kann.
  • Allerdings kann die Bearbeitungsflüssigkeitsmischvorrichtung, die in dem japanischen ungeprüften Patent Veröffentlichungsnr. 2003-275569 offenbart ist, eine Zufuhrrate jeder Stammlösung zu den Mischtanks nicht steuern, wohingegen sie einen Gesamtbetrag (d. h. eine akkumulierte Durchflussrate) jeder Stammlösung, die den Mischtanks zugeführt wird, und die Zufuhrzeit jeder Stammlösung zu den Mischtanks steuern.
  • Im Allgemeinen erhöht die Durchflusssteuerneinheit die Durchflussraten der Stammlösungen, die den Mischtanks zugeführt werden, nachdem die Abgabe der Stammlösungen beginnt, und hält die Abgaberaten der Stammlösungen konstant, wenn die Durchflussraten der Stammlösungen einen vorbestimmten Wert erreichen. Die Zeit zum Erhöhen der Durchflussraten der Stammlösungen auf den vorbestimmten Wert, nachdem die Abgabe der Stammlösungen beginnt, ist im Verhältnis zu den festgelegten Durchflussraten.
  • Folglich kann die Bearbeitungsflüssigkeitsmischvorrichtung, die in dem japanischen ungeprüften Patent Veröffentlichungsnr. 2003-275569 offenbart ist, die Durchflussratenanteile der Stammlösungen, die den Mischtanks zugeführt werden, nicht dazu bringen, mit dem Mischverhältnis der Bearbeitungsflüssigkeit zu einer bestimmten Zufuhrzeit überein zu stimmen. Im Besonderen kann bei einer anfänglichen Zufuhrzeit die Stammlösung, welche eine relativ hohe eingestellte Durchflussrate aufweist, nicht die eingestellte Durchflussrate erreichen, wohingegen die Stammlösung, welche eine relativ geringe eingestellte Durchflussrate aufweist, die eingestellte Durchflussrate erreichen kann. Folglich wird ein Betrag der Stammlösung, welche die verhältnismäßig geringe eingestellte Durchflussrate aufweist, größer.
  • ZUSAMMENFASSUNG DER ERFINDUNG
  • Die vorliegende Erfindung stellt eine Bearbeitungsflüssigkeitsmischvorrichtung und ein Verfahren zum Mischen einer Bearbeitungsflüssigkeit, die im Stande sind, ein Mischverhältnis der Bearbeitungsflüssigkeit, die in einem Mischtank hergestellt wird, konstant zu halten, eine Substratbearbeitungsvorrichtung, die mit der Bearbeitungsflüssigkeitsmischvorrichtung vorgesehen ist, und ein Speichermedium bereit, welches ein Programm speichert, um den Bearbeitungsflüssigkeitsmischtank zu steuern.
  • Gemäß einem Beispiel wird eine Bearbeitungsflüssigkeitsmischvorrichtung bereitgestellt. Die Vorrichtung enthält einen Mischtank, um eine Vielzahl von Stammlösungen zu mischen, eine Durchflussteuereinheit, die in Zufuhrströmungswegen vorgesehen ist, um Durchflussraten von Stammlösungen, welche durch die Zufuhrströmungswege mit vorbestimmten Durchflussraten fließen, zu steuern, die Zufuhrströmungswege, wobei jeder die Stammlösungen von Stammlösungszufuhrquellen den Mischtanks zuführt, einen Durchflussdetektor, um die Durchflussraten der Stammlösungen, welche durch die Zufuhrströmungswege fließen, zu detektieren, Abgabeventile, die zwischen der Durchflusssteuereinheit der Zufuhrströmungswege und dem Mischtank vorgesehen sind, um die Stammlösungen, welche durch die Zufuhrströmungswege fließen, nach außen abzugeben, Zufuhrventile, die zwischen den Abgabeventilen der Zufuhrströmungswege und dem Mischtank vorgesehen sind, um die Zufuhrströmungswege zu öffnen/zu schließen, und eine Steuereinheit, um die Zufuhrventile der Zufuhrströmungswege zu schließen und die Abgabeventile der Zufuhrströmungswege zu öffnen, wenn die Zufuhr der Stammlösungen zum Mischtank beginnt, und die Abgabeventile der Zufuhrströmungswege zu schließen und die Zufuhrventile der Zufuhrströmungswege zu öffnen, nachdem alle Durchflussraten der Stammlösungen, die von dem Durchflussdetektor detektiert werden, die vorbestimmten Durchflussraten erreichen.
  • Die Steuereinheit kann die Abgabeventile schließen und die Zufuhrventile öffnen, wenn alle Durchflussraten, die von dem Durchflussdetektor detektiert werden, die vorbestimmten Durchflussraten erreichen.
  • Die Steuereinheit kann die Abgabeventile schließen und die Zufuhrventile öffnen, wenn alle Durchflussraten, die von dem Durchflussdetektor detektiert werden, die vorbestimmten Durchflussraten erreichen und eine vorbestimmte Zeit abläuft.
  • Die Steuereinheit kann die Abgabeventile für jede Stammlösung mit Zeitdifferenzen gemäß den festgelegten Durchflussraten der Durchflusssteuereinheit und einer Charakteristik der Zeitablaufrate steuern.
  • Die Steuereinheit kann die Abgabeventile in der absteigenden Reihenfolge der eingestellten Durchflussraten der Durchflusssteuereinheit öffnen.
  • Eine Substratsbearbeitungsvorrichtung gemäß der vorliegenden Erfindung kann mit der oben beschriebenen Bearbeitungsflüssigkeitsmischvorrichtung vorgesehen sein.
  • Gemäß einem weiteren Beispiel wird ein Verfahren zum Mischen von Bearbeitungsflüssigkeit unter Verwendung einer Bearbeitungsflüssigkeitsmischvorrichtung bereitgestellt. Die Bearbeitungsflüssigkeitsmischvorrichtung enthält einen Mischtank, um eine Vielzahl von Stammlösungen zu mischen, eine Durchflusssteuereinheit, die in Zufuhrströmungswegen vorgesehen ist, um Durchflussraten der Stammlösungen, die durch die Zufuhrströmungswege mit vorbestimmten Durchflussraten fließen, zu steuern, die Zufuhrströmungswege, wobei jeder die Stammlösungen von Stammlösungszufuhrquellen dem Mischtank zuführt, einen Durchflussdetektor, um die Durchflussraten der Stammlösungen, welche durch die Zufuhrströmungswege fließen, zu detektieren, Abgabeventile, die zwischen der Durchflusssteuereinheit der Zufuhrströmungswege und dem Mischtank vorgesehen sind, um die Stammlösungen, welche durch die Zufuhrströmungswege fließen, nach außen abzugeben, und Zufuhrventile, die zwischen den Abgabeventilen der Zufuhrströmungswege und den Mischtanks vorgesehen sind, um die Zufuhrströmungswege zu öffnen/zu schließen. Das Verfahren enthält ein Schließen der Zufuhrventile der Zufuhrströmungswege und ein öffnen der Abgabeventile der Zufuhrströmungswege, wenn die Zufuhr der Stammlösungen zu dem Mischtank beginnt und ein Schließen der Abgabeventile der Zufuhrströmungswege und ein öffnen der Zufuhrventile der Zufuhrströmungswege, nachdem alle Durchflussraten der Stammlösungen, die von dem Durchflussdetektor detektiert werden, die vorbestimmten Durchflussraten erreichen.
  • Das Verfahren kann ferner ein Schließen der Abgabeventile und ein öffnen der Zufuhrventile enthalten, wenn alle Durchflussraten, die von dem Durchflussdetektor detektiert werden, die vorbestimmten Durchflussraten erreichen.
  • Das Verfahren kann ferner ein Schließen der Abgabeventile und ein öffnen der Zufuhrventile enthalten, wenn alle Durchflussraten, die von dem Durchflussdetektor detektiert werden, die vorbestimmten Durchflussraten erreichen und eine vorbestimmte Zeit verstrichen ist.
  • Das Verfahren kann ferner ein öffnen der Abgabeventile für jede Stammlösung mit Zeitdifferenzen gemäß den festgelegten Durchflussraten der Durchflusssteuereinheit und einer Charakteristik der Zeitablaufrate enthalten.
  • Das Verfahren kann ferner ein Öffnen der Abgabeventile in der absteigenden Reihenfolge der eingestellten Durchflussraten der Durchflusssteuereinheit enthalten.
  • Gemäß noch einem weiteren Beispiel wird ein Speichermedium, das ein Programm speichert, das von einem Computer ausgeführt wird, der eine Bearbeitungsflüssigkeitsmischvorrichtung steuert, bereitgestellt. Die Bearbeitungsflüssigkeitsmischvorrichtung enthält einen Mischtank, um eine Vielzahl von Stammlösungen zu mischen, eine Durchflusssteuereinheit, die in Zufuhrströmungswegen vorgesehen ist, um Durchflussraten der Stammlösungen, welche durch die Zufuhrströmungswege mit vorbestimmten Strömungsraten fließen, zu steuern, die Zufuhrströmungswege, wobei jeder die Stammlösungen von Stammlösungszufuhrquellen zum Mischtank zuführt, einen Durchflussdetektor, um die Durchflussraten der Stammlösungen, welche durch die Zufuhrströmungswege fließen, zu detektieren, Abgabeventile, die zwischen der Durchflusssteuereinheit der Zufuhrströmungswege und den Mischtanks vorgesehen sind, um die Stammlösungen, welche durch die Zufuhrströmungswege fließen, nach außen abzugeben, und Zufuhrventile, die zwischen den Abgabeventilen der Zufuhrströmungswege und dem Mischtank vorgesehen sind, um die Zufuhrströmungswege zu öffnen/zu schließen. Das Programm enthält ein Schließen der Zufuhrventile der Zufuhrströmungswege und ein Öffnen der Abgabeventile der Zufuhrströmungswege, wenn die Zufuhr der Stammlösungen zum Mischtank beginnt, und ein Schließen der Abgabeventile der Zufuhrströmungswege und ein Öffnen der Zufuhrventile der Zufuhrströmungswege, nachdem alle Durchflussraten der Stammlösungen, die von dem Durchflussdetektor detektiert werden, die vorbestimmten Durchflussraten erreichen.
  • Gemäß der vorliegenden Erfindung, da die Stammlösungen dem Mischtank zugeführt werden, nachdem alle Durchflussraten der Stammlösungen die vorbestimmten Durchflussraten erreichen, wird die Bearbeitungsflüssigkeit mit einem vorbestimmten Mischverhältnis (d. h. Dichte) zu einer anfänglichen Zufuhrzeit der Stammlösungen hergestellt.
  • Ferner kann durch Beginnen der Abgabe der Stammlösungen mit Zeitdifferenzen gemäß der Charakteristiken der Zeitablaufrate der mehreren Steuereinheit die Wartezeit zum Zuführen der Stammlösungen zu den Mischtanks, bis die Durchflussrate einer Stammlösung die vorbestimmte Durchflussrate erreicht nachdem die Durchflussrate der anderen Stammlösung die vorbestimmte Durchflussrate erreicht, verringert werden, oder ist nicht erforderlich. Folglich kann eine Verschwendung einer vorbestimmten Stammlösung minimiert werden.
  • KURZE BESCHREIBUNG DER ZEICHNUNGEN
  • 1 ist eine Konzeptansicht, welche eine Substratbearbeitungsvorrichtung gemäß einer Ausführungsform der vorliegenden Erfindung darstellt;
  • 2 ist ein Ablaufschema, welches die Bearbeitungsflüssigkeitszufuhr der Substratbearbeitungsvorrichtung gemäß einem Bearbeitungsflüssigkeitszufuhrprogramm gemäß einer Ausführungsform der vorliegenden Erfindung darstellt;
  • 3 ist ein Ablaufschema, welches einen detaillierten Bedienfolge von jedem Ventil in einem Herstellungsschritt der Bearbeitungsflüssigkeit in einem zweiten Mischtank (S2) gemäß einer Ausführungsform der vorliegenden Erfindung darstellt;
  • 4 ist ein Zeitdiagramm, welches Beziehungen zwischen der Durchflussratenänderung der Stammlösungen A, B und C mit Zeiten und dem Bedienungstiming von jedem Ventil beim Herstellungsschritt der Bearbeitungsflüssigkeit in einem zweiten Mischtank (S2) gemäß einer Ausführungsform der vorliegenden Erfindung zeigt; und
  • 5 ist ein Zeitdiagramm, welches verbesserte Beispiele des Bedienungstimings entsprechender Ventile beim Herstellungsschritt der Bearbeitungsflüssigkeit in einem zweiten Mischtank (S2) gemäß einer Ausführungsform der vorliegenden Erfindung zeigt.
  • DETAILLIERTE BESCHREIBUNG DER ERFINDUNG
  • In der folgenden detaillierten Beschreibung wird auf die begleitenden Zeichnungen Bezug genommen, die ein Teil davon ausbilden. Die beispielhaften Ausführungsformen, die in der detaillierten Beschreibung beschrieben sind, Zeichnungen und Ansprüche sind nicht als beschränkend anzusehen. Andere Ausführungsformen können angewendet werden und andere Änderungen können durchgeführt werden, ohne sich vom Rahmen des hier dargestellten Gegenstands zu entfernen.
  • 1 ist eine Konzeptansicht, welche eine Substratbearbeitungsvorrichtung gemäß einer Ausführungsform der vorliegenden Erfindung darstellt.
  • Wie es in 1 dargestellt ist, enthält eine Substratbearbeitungsvorrichtung 1 erste und zweite Mischtanks 2 und 3, um eine Bearbeitungsflüssigkeit durch Mischen von Stammlösungen A, B und C herzustellen, hin- und hergehende Strömungswege der Art geschlossener Kreise 4 und 5, die mit den ersten und zweiten Mischtanks 2 und 3 in Kommunikation stehen, Ausflusswege 6 und 7 und Einflusswege 8 und 9, die beginnenden Enden der Ausflusswege 6 und 7 und die Anschlussenden der Einflusswege 8 und 9, die entsprechend mit den hin- und hergehenden Strömungswegen 4 und 5 in Kommunikation stehen. Die Substratbearbeitungsvorrichtung 1 enthält ferner einen gemeinsamen Umlaufstromweg 10, der zwischen den Anschlussenden der Ausflusswege 6 und 7 und den beginnenden Enden der Einflusswege 8 und 9 kommuniziert, und erste und zweite Bearbeitungseinheiten der chemischen Lösung 12 und 13, die mit dem Umlaufstromweg 10 in Kommunikation stehen, um einen Zielwafer 11 mit Bearbeitungsflüssigkeit zu bearbeiten, stehen mit dem Umlaufstromweg 10 in Kommunikation.
  • Die Substratbearbeitungsvorrichtung 1 enthält ferner einen A-Lösungszufuhrströmungsweg 14, einen B-Lösungszufuhrströmungsweg 15 und einen C-Lösungszufuhrströmungsweg 16, wobei jeder die Stammlösungen A, B und C von A-, B- und C-Lösungszufuhrquellen (nicht dargestellt) an die ersten und zweiten Mischtanks 2 und 3 zuführt, die mit den ersten und zweiten Mischtanks 2 und 3 in Kommunikation stehen, und Übergabeventile 17, 18 und 19, die zwischen den A-, B- und C-Lösungszufuhrquellen und den ersten und zweiten Mischtanks 2 und 3 vorgesehen sind, um das Übergeben von Stammlösungen A, B und C durch A-, B- und C-Lösungszufuhrströmungswege 14, 15 und 16 zu beginnen/zu beenden.
  • Die Substratbearbeitungsvorrichtung 1 enthält ferner Durchflusssteuereinheiten (LFC) 20, 21 und 22, Abgabeventile 23, 24 und 25, Zufuhrventile 26 bis 31, die zwischen den Übergabeventilen 17, 18 und 19 der A-, B- und C-Lösungszufuhrströmungswege 14, 15 und 16 und den ersten und zweiten Mischtanks 2 und 3 vorgesehen sind, und eine Steuereinheit 32.
  • Die LFC 20, 21 und 22 steuern so die Durchflussraten der Stammlösungen A, B und C, dass die Stammlösungen A, B und C durch die A-, B- und C-Lösungszufuhrströmungswege 14, 15 und 16 mit einer Durchflussrate, die von der Steuereinheit 32 festgelegt ist (d. h. eine festgelegte bzw. eingestellte Durchflussrate), fließen, detektieren die Durchflussraten der Stammlösungen A, B und C, welche durch die A-, B- und C-Lösungszufuhrströmungswege 14, 15 und 16 fließen, und schicken die detektierten Durchflussraten zurück an die Steuereinheit 32. D. h. die LFC 20, 21 und 22 steuern die Durchflussraten der Stammlösungen und detektieren ferner die Durchflussraten der Stammlösungen.
  • Die Steuereinheit 32 steuert das Öffnen/Schließen der Abgabeventile 23, 24 und 25 und der Zufuhrventile 26 bis 31. Wenn die Abgabeventile 23, 24 und 25 offen sind und die Zufuhrventile 26 bis 31 geschlossen sind, werden die Stammlösungen A, B und C, welche durch die A-, B- und C-Lösungszufuhrströmungswege 14, 15 und 16 fließen, nach außen abgegeben. Im Gegensatz dazu, wenn die Abgabeventile 23, 24 und 25 geschlossen sind und die Zufuhrventile 26 bis 31 geöffnet sind, werden die Stammlösungen A, B und C, welche durch die A-, B- und C-Lösungszufuhrströmungswege 14, 15 und 16 fließen, den ersten und zweiten Mischtanks 2 und 3 zugeführt. D. h. durch Auswählen des Öffnens/Schließens der Abgabeventile 23, 24 und 25 und der Zufuhrventile 26 bis 31 können die Ausflusspunkte der Stammlösungen A, B und C, welche durch die A-, B und C-Lösungszufuhrströmungswege 14, 15 und 16 fließen, verändert werden. Ferner kann das Öffnen/Schließen der Übergabeventile 17, 18 und 19 durch die Steuereinheit 32 gesteuert werden.
  • Die hin- und hergehenden Strömungswege 4 und 5 enthalten seitlich gehende Strömungswege 33 und 34 und zurückkehrende Strömungswege 35 und 36. An jedem der seitlich gehenden Strömungswege 33 und 34 sind ein Heizer 37 und 38, eine Pumpe 39 und 40 und ein Öffnungs-/Schließventil 41 und 42 sequentiell vorgesehen. Die Heizer 37 und 38, die Pumpen 39 und 40 und die Öffnungs-/Schließventile 41 und 42 sind mit der Steuereinheit 32 verbunden und deren Betrieb oder das Öffnen/Schließen wird von der Steuereinheit 32 gesteuert.
  • Die beginnenden Enden der Ausflusswege 6 und 7 sind zwischen den Pumpen 39 und 40 und den Öffnungs-/Schließventilen 41 und 42 der seitlich gehenden Strömungswege 33 und 34 verbunden. Die Ausflusswege 6 und 7 enthalten Öffnungs-/Schließventile 43 und 44. Die Öffnungs-/Schließventile 43 und 44 sind mit der Steuereinheit 32 verbunden und deren Öffnen/Schließen wird von der Steuereinheit 32 gesteuert.
  • Ferner sind die Anschlussenden der Einflusswege 8 und 9 mit den zurückkehrenden Strömungswegen 35 und 36 verbunden und die Strömungswege 8 und 9 sind mit Öffnungs-/Schließventilen 45 und 46 vorgesehen. Die Öffnungs-/Schließventile 45 und 46 sind mit der Steuereinheit 32 verbunden und deren Öffnen/Schließen wird von der Steuereinheit 32 gesteuert.
  • Die Anschlussenden der Ausflusswege 6 und 7 sind miteinander verbunden und ein beginnendes Ende des Umlaufstromwegs 10 ist mit dem Verbindungsteil des Anschlussendes der Ausflusswege 6 und 7 verbunden. Ferner sind die beginnenden Enden der Einflusswege 8 und 9 miteinander verbunden und das Anschlussende des Umlaufstromwegs 10 ist mit dem Verbindungsteil des beginnenden Endes der Einflusswege 8 und 9 verbunden. Folglich steht der Umlaufstromweg 10 gemeinsam mit den ersten und zweiten Mischtanks 2 und 3 über die hin- und hergehenden Strömungswege 4 und 5, den Ausflusswegen 6 und 7 und den Einflusswegen 8 und 9 in Kommunikation.
  • An dem Anschlussende des Umlaufstromwegs 10 ist ein Dichtesensor 47 zum Detektieren der Dichte der Bearbeitungsflüssigkeit in der Substratbearbeitungsvorrichtung 1 vorgesehen. Der Dichtesensor 47 ist mit der Steuereinheit 32 verbunden.
  • Ferner sind an einem Zwischenteil des Umlaufstromwegs 10 Zufuhrströmungswege 48 und 49 der ersten und zweiten Bearbeitungseinheit der chemischen Lösung 12 und 13 verbunden. Die Zufuhrströmungswege 48 und 49 sind mit Öffnungs-/Schließventilen 50 und 51 vorgesehen. Die Öffnungs-/Schließventile 50 und 51 und die erste und zweite Bearbeitungseinheit der chemischen Lösung 12 und 13 sind mit der Steuereinheit 32 verbunden und deren Öffnen/Schließen wird von der Steuereinheit gesteuert.
  • Die Substratbearbeitungsvorrichtung 1 mischt und stellt die Bearbeitungsflüssigkeit her und führt die Bearbeitungsflüssigkeit den ersten und zweiten Bearbeitungseinheiten der chemischen Lösung 12 und 13 gemäß einem Bearbeitungsflüssigkeitszufuhrprogramm zu, das in einem Speichermedium 32a (wie beispielsweise ein Speicher, eine Festplatte, ein diskartiger Speicher und dergleichen) gespeichert ist, das in der Steuereinheit 32 installiert ist.
  • 2 ist ein Ablaufschema, welches die Bearbeitungsflüssigkeitszufuhr der Substratbearbeitungsvorrichtung gemäß eines Bearbeitungsflüssigkeitszufuhrprogramms gemäß einer Ausführungsform der vorliegenden Erfindung darstellt. Im Folgenden wird mit Bezug auf 2 die Bearbeitungsflüssigkeitszufuhr der Substratbearbeitungsvorrichtung gemäß dem Bearbeitungsflüssigkeitszufuhrprogramm gemäß einer Ausführungsform der vorliegenden Erfindung beschrieben.
  • Die Substratbearbeitungsvorrichtung 1 arbeitet, um abwechselnd zwischen einem Zustand, bei dem Bearbeitungsflüssigkeit von dem ersten Mischtank 2 den ersten und zweiten Bearbeitungseinheiten der chemischen Lösung 12 und 13 zugeführt wird, und einem Zustand hin und her zu schalten, bei dem die Bearbeitungsflüssigkeit von dem zweiten Mischtank 3 den ersten und zweiten Bearbeitungseinheiten der chemischen Lösung 12 und 13 zugeführt wird. Zum einfachen Erläutern zeigt 2 anhand eines Beispiels, dass die Bearbeitungsflüssigkeit in dem ersten Mischtank 2 hergestellt wird, und ein Umschalten von dem Zustand, in dem die Bearbeitungsflüssigkeit von dem ersten Mischtank 2 den ersten und zweiten Bearbeitungseinheiten der chemischen Lösung 12 und 13 zugeführt wird, in den Zustand stattfindet, in dem die Bearbeitungsflüssigkeit von dem zweiten Mischtank 3 den ersten und zweiten Bearbeitungseinheiten der chemischen Lösung 12 und 13 zugeführt wird.
  • [Zufuhrschritt vom ersten Mischtank (S1)]
  • Gemäß dem Bearbeitungslösungszufuhrprogramm wird die Bearbeitungsflüssigkeit von dem ersten Mischtank 2 den ersten und zweiten chemischen Bearbeitungseinheiten 12 und 13 zugeführt.
  • Zu der Zeit treibt die Steuereinheit 32 die Pumpe 39 an, bringt das Öffnungs-/Schließventil 41 des hin- und hergehenden Strömungswegs 4 in einen geschlossenen Zustand, bringt das Öffnungs-/Schließventil 43 des Ausflusswegs 6 und das Öffnungs-/Schließventil 45 des Einflusswegs 8 in einen geöffneten Zustand und öffnet/schließt die Öffnungs-/Schließventile 50 und 51 der Zufuhrströmungswege 48 und 49. Folglich wird die Bearbeitungsflüssigkeit in der Reihenfolge zirkuliert: erster Mischtank 2 → seitlich gehender Strömungsweg 33 → Ausflussweg 6 → Umlaufstromweg 10 → Einflussweg 8 → zurückkehrender Strömungsweg 35 → erster Mischtank 2. Folglich wird die Bearbeitungsflüssigkeit von dem Umlaufstromweg 10 den ersten und zweiten Bearbeitungseinheiten der chemischen Lösung 12 und 13 durch die Zufuhrströmungswege 48 und 49 zugeführt.
  • [Herstellungsschritt der Bearbeitungsflüssigkeit in dem zweiten Mischtank (S2)]
  • Während die Bearbeitungsflüssigkeit von dem ersten Mischtank 2 den ersten und zweiten Bearbeitungseinheiten der chemischen Lösung 12 und 13 zugeführt wird, stellt der zweite Mischtank 3 die Bearbeitungsflüssigkeit durch Mischen der Stammlösungen A, B und C in einem vorbestimmten Verhältnis her und durchmischt die hergestellte Bearbeitungsflüssigkeit bei einer regulierten Temperatur.
  • Als erstes stellt die Steuereinheit 32 eine vorbestimmte Durchflussrate ein und bringt die Abgabeventile 23, 24 und 25 in einen offenen Zustand und die Zufuhrventile 26 bis 31 in einen geschlossenen Zustand. Die Stammlösungen A, B und C, die von den Übergabeventilen 17, 18 und 19 übergeben werden, werden durch die Abgabeventile 23, 24 und 25 nach außen abgegeben.
  • Wenn die Abgabeventile 23, 24 und 25 offen sind, erhöhen sich die Durchflussraten der Stammlösungen A, B und C, welche durch die A-, B- und C-Lösungszufuhrströmungswege 14, 15 und 16 fließen, allmählich und erreichen die eingestellte Durchflussrate. Wenn die LFC 20, 21 und 22 detektieren, dass die Durchflussraten der Stammlösungen A, B und C die eingestellte Durchflussrate erreichen, schließt die Steuereinheit 32 die Abgabeventile 23, 24 und 25 und öffnet gleichzeitig die Zufuhrventile 27, 29, 31, um die Stammlösungen A, B und C dem zweiten Mischtank 3 zuzuführen. Danach fahren die LFC 20, 21 und 22 fort, die Durchflussraten der Stammlösungen A, B und C so zu steuern, dass die Durchflussraten der Stammlösungen A, B und C die eingestellte Durchflussrate beibehalten. Wenn ein vorbestimmter Betrag der Bearbeitungsflüssigkeit in dem zweiten Mischtank 3 angesammelt ist, beendet die Steuereinheit 32 die Zufuhr der Stammlösungen A, B und C an den zweiten Mischtank 3 durch Schließen der Zufuhrventile 27, 29 und 31. Der Ablauf des Öffnens/Schließens der Abgabeventile 23, 24 und 25 und der Zufuhrventile 27, 29 und 31 wird später beschrieben.
  • Wenn der vorbestimmte Betrag von Bearbeitungsflüssigkeit in dem zweiten Mischtank 3 angesammelt ist und die Zufuhr der Stammlösungen A, B und C an den zweiten Mischtank 3 beendet ist, treibt die Steuereinheit 32 den Heizer 38 und die Pumpe 40 an, bringt das Öffnungs-/Schließventil 44 des Ausflusswegs 7 und das Öffnungs-/Schließventil 46 des Einflusswegs 9 in einen geschlossenen Zustand und bringt das Öffnungs-/Schließventil 42 des hin- und hergehenden Strömungswegs 5 in einen offenen Zustand. Folglich wird die Bearbeitungsflüssigkeit in der Reihenfolge zirkuliert: zweiter Mischtank 3 → seitlich gehender Strömungsweg 34 → rückkehrender Strömungsweg 36 → zweiter Mischtank 3; und die Bearbeitungslösung wird bei einer regulierten Temperatur durchmischt.
  • [Umschaltschritt der Bearbeitungsflüssigkeitsquelle (S3)]
  • Wenn ein Betrag der Bearbeitungsflüssigkeit in dem ersten Mischtank 2 unzureichend wird, wird die Zufuhrquelle der Bearbeitungsflüssigkeit von dem ersten Mischtank 2 zum zweiten Mischtank 3 umgeschaltet.
  • Zu der Zeit bringt die Steuereinheit 32 das Öffnungs-/Schließventil 41 des seitlich gehenden Strömungswegs 33, der mit dem ersten Mischtank 2 verbunden ist und das Öffnungs-/Schließventil 43 des Ausflusswegs 6 in einen geschlossenen Zustand, bringt das Öffnungs-/Schließventil 42 des seitlich gehenden Strömungswegs 34, der mit dem zweiten Mischtank 3 verbunden ist in einen geschlossenen Zustand und bringt das Öffnungs-/Schließventil 46 des Einflusswegs 9 in einen geöffneten Zustand. Ferner bringt die Steuereinheit 32 das Öffnungs-/Schließventil 45 des Einflusswegs 8 in einen geschlossenen Zustand und bringt das Öffnungs-/Schließventil 44 des Ausflusswegs 7, der mit dem zweiten Mischtank 3 verbunden ist, in einen offenen Zustand. Folglich wird die Bearbeitungsflüssigkeit in der Reihenfolge zirkuliert: zweiter Mischtank 3 → seitlich gehender Strömungsweg 34 → Ausflussweg 7 → Umlaufstromweg 10 → Einflussweg 9 → zurückkehrender Strömungsweg 36 → zweiter Mischtank 3.
  • [Zufuhrschritt von dem zweiten Mischtank (S4)]
  • Anschließend wird die Bearbeitungsflüssigkeit von dem zweiten Mischtank 3 den ersten und zweiten Bearbeitungseinheiten der chemischen Lösung 12 und 13 zugeführt.
  • Durch Öffnen/Schließen der Öffnungs-/Schließventile 50 und 51 des Zufuhrströmungswegs 48 und 49 wird die Bearbeitungsflüssigkeit von dem Umlaufstromweg 10 den ersten und zweiten Bearbeitungseinheiten der chemischen Lösung 12 und 13 durch die Zufuhrströmungswege 48 und 49 zugeführt.
  • [Herstellungsschritt der Bearbeitungsflüssigkeit in dem ersten Mischtank (S5)]
  • Während die Bearbeitungsflüssigkeit von dem zweiten Mischtank 3 zu den ersten und zweiten Bearbeitungseinheiten der chemischen Lösung 12 und 13 zugeführt wird, stellt der erste Mischtank 2 Bearbeitungsflüssigkeiten neu her, zirkuliert die hergestellte Bearbeitungsflüssigkeit durch den hin- und hergehenden Strömungsweg 4 und durchmischt die hergestellte Bearbeitungsflüssigkeit bei einer regulierten Temperatur.
  • Als erstes bringt die Steuereinheit 32 die Abgabeventile 23, 24 und 25 in einen offenen Zustand. Zu der Zeit, da sich die Zufuhrventile 26 bis 31 in einem geschlossenen Zustand befinden, werden die Stammlösungen A, B und C, die von den Übergabeventilen 17, 18 und 19 zugestellt werden, über die Abgabeventile 23, 24 und 25 nach außen abgegeben.
  • Wenn die Abgabeventile 23, 24 und 25 offen sind, erhöhen sich die Durchflussraten der Stammlösungen A, B und C, welche durch die A-, B- und C-Lösungszufuhrströmungswege 14, 15 und 16 fließen, allmählich und erreichen die eingestellte Durchflussrate. Wenn die LFC 20, 21 und 22 detektieren, dass die Durchflussraten der Stammlösungen A, B und C die eingestellte Durchflussrate erreichen, schließt die Steuereinheit 32 die Abgabeventile 23, 24 und 25 und öffnet gleichzeitig die Zufuhrventile 26, 28 und 30, um die Stammlösungen A, B und C zu dem Mischtank 2 zuzuführen. Danach fahren die LFC 20, 21 und 22 mit dem Steuern der Durchflussraten der Stammlösungen A, B und C so fort, dass die Durchflussraten der Stammlösungen A, B und C die eingestellte Durchflussrate beibehalten. Wenn eine vorbestimmte Bearbeitungsflüssigkeitsmenge in dem ersten Mischtank 2 angesammelt ist, beendet die Steuereinheit 32 die Zufuhr der Stammlösungen A, B und C zu dem ersten Mischtank 2 durch Schließen der Zufuhrventile 26, 28 und 30. Die detaillierten Folgen des Öffnens/Schließens der Abgabeventile 23, 24 und 25 und der Zufuhrventile 26, 28 und 30 sind gleich denen wie in dem Herstellungsschritt der Bearbeitungsflüssigkeit in dem zweiten Mischtank (S2).
  • Wenn die vorbestimmte Bearbeitungsflüssigkeitsmenge in dem ersten Mischtank 2 angesammelt ist und die Zufuhr der Stammlösungen A, B und C zu dem ersten Mischtank 2 beendet ist, treibt die Steuereinheit 32 den Heizer 37 und die Pumpe 39 an, bringt das Öffnungs-/Schließventil 43 des Ausflusswegs 6 und das Öffnungs-/Schließventil 45 des Einflusswegs 8 in einen geschlossenen Zustand und bringt das Öffnungs-/Schließventil 41 des hin- und hergehenden Strömungswegs 4 in einen offenen Zustand. Folglich wird die Bearbeitungsflüssigkeit in der Reihenfolge zirkuliert: erster Mischtank 2 → seitlich gehender Strömungsweg 33 → zurückkehrender Strömungsweg 35 → erster Mischtank 2; und die Bearbeitungsflüssigkeit wird bei einer regulierten Temperatur durchmischt.
  • Wie es oben beschrieben ist, wird zum Zweck der Erläuterung die Bearbeitungsflüssigkeitszufuhr durch Herstellen der Bearbeitungsflüssigkeit in dem zweiten Mischtank 3, während die Bearbeitungsflüssigkeit im ersten Mischtank 2 an die ersten und zweiten Bearbeitungseinheiten der chemischen Lösung 12 und 13 zugeführt wird, Umschalten der Zufuhrquelle der Bearbeitungsflüssigkeit von dem ersten Mischtank 2 zum Mischtank 3 und Herstellen der Bearbeitungsflüssigkeit in dem ersten Mischtank 2 durchgeführt, während die Bearbeitungsflüssigkeit in dem zweiten Mischtank 3 abermals zu den Bearbeitungseinheiten der chemischen Lösung 12 und 13 zugeführt wird. In dem Fall eines kontinuierlichen Betriebs der Substratbearbeitungsvorrichtung 1 wird die Zufuhrquelle der Bearbeitungsflüssigkeit von dem ersten Mischtank 2 zum zweiten Mischtank 3 umgeschaltet und anschließend wird die Bearbeitungsflüssigkeit in dem zweiten Mischtank 3 mehrmals hergestellt, während die Bearbeitungsflüssigkeit in dem ersten Mischtank den Bearbeitungseinheiten der chemischen Lösung 12 und 13 zugeführt wird. D. h. durch abwechselndes Verwenden des ersten Mischtanks 2 und des zweiten Mischtanks 3 wird die Bearbeitungsflüssigkeit in einem Mischtank hergestellt, während die Bearbeitungsflüssigkeit in dem anderen Mischtank den Bearbeitungseinheiten der chemischen Lösung 12 und 13 zugeführt wird.
  • Bevor Beispiele der detaillierten Bedienfolge von jedem Ventil beim Herstellungsschritt der Bearbeitungsflüssigkeit in dem zweiten Mischtank (S2) beschrieben werden, sei angenommen, dass eine Vorbedingung zum Bestimmen der Bedienfolge wie folgt ist.
    • <1> Die Bearbeitungsflüssigkeit, die in der Substratbearbeitungsvorrichtung 1 verwendet wird, wird durch Mischen der Stammlösungen A, B und C in dem Volumenverhältnis von 3:6:8 hergestellt.
    • <2> Um die Stammlösungen A, B und C in dem oben beschriebenen Verhältnis zu mischen, werden die Stammlösungen A, B und C im Verhältnis von 12:24:32 Liter/Minute dem ersten und zweiten Mischtank 2 und 3 zugeführt.
    • <3> Es dauert ungefähr 5 Sekunden, um das Übergabeverhältnis von 12 Liter/Minute nach dem Start der Übergabe der Stammlösung A zu erreichen. Es dauert ungefähr 20 Sekunden, um das Übergabeverhältnis von 24 Liter/Minute nach dem Start der Übergabe der Stammlösung B zu erreichen. Es dauert ungefähr 20 Sekunden, um das Übergabeverhältnis von 32 Liter/Minute zu erreichen und nach dem Start der Übergabe der Stammlösung C stabilisiert ist.
  • 3 ist ein Ablaufschema, welches eine detaillierte Bedienfolge jedes Ventils beim Herstellungsschritt der Verarbeitungsflüssigkeit in einem zweiten Mischtank (S2) gemäß einer Ausführungsform der vorliegenden Erfindung darstellt. 4 ist ein Zeitablaufdiagramm, welches Beziehungen zwischen den Durchflussratenänderungen der Stammlösungen A, B und C mit Zeiten und das Bedienungstiming aller Ventile in dem Herstellungsschritt der Bearbeitungsflüssigkeit in einem zweiten Mischtank (S2) gemäß einer Ausführungsform der vorliegenden Erfindung zeigt. Im Folgenden wird mit Bezug auf die 3 und 4 die detaillierte Bedienfolge der entsprechenden Ventile beschrieben.
  • [Durchflussrateneinstellschritt (S21)]
  • Die Steuereinheit 32 stellt die LFC 20, 21 und 22 so ein, dass die LFC 20, 21 und 22 die Stammlösungen A, B und C in dem Verhältnis von 12:24:32 Liter/Minute entsprechend übergeben. Dieser Durchflussrateneinstellschritt muss nicht jedes Mal ausgeführt werden, wenn die Substratbearbeitungsvorrichtung 1 mit derselben eingestellten Durchflussrate kontinuierlich betrieben wird.
  • [Übergabestartschritt (S22)]
  • Anschließend öffnet die Steuereinheit 32 die Abgabeventile 23, 24 und 25. Zu der Zeit, da sich die Zufuhrventile 27 bis 31 in einem geschlossenen Zustand befinden, werden die Stammlösungen A, B und C, die von den Übergabeventilen 17, 18 und 19 übergeben werden, über die Abgabeventile 23, 24 und 25 nach außen abgegeben.
  • Ferner, wenn die Abgabeventile 23, 24 und 25 offen sind, erhöhen sich die Durchflussraten der Stammlösungen A, B und C, welche durch die A-, B- und C-Lösungszufuhrströmungswege 14, 15 und 16 via der LFC 20, 21 und 22 fließen allmählich und erreichen die eingestellte Durchflussrate.
  • [Zufuhrstartschritt (S23)]
  • Wenn alle Durchflussraten der Stammlösungen in den A-, B- und C-Lösungszufuhrströmungswegen 14, 15 und 16, die von den LFC 20, 21 und 22 detektiert werden, die eingestellte Durchflussrate erreichen, schließt die Steuereinheit 32 die Abgabeventile 23, 24 und 25 und öffnet gleichzeitig die Zufuhrventile 27, 29 und 31, um die Stammlösungen A, B und C dem zweiten Mischtank 3 zuzuführen.
  • Wie es oben beschrieben ist, da die Substratbearbeitungsvorrichtung 1 die Stammlösungen A, B und C von den A-, B- und C-Lösungszufuhrströmungswegen 14, 15 und 16 dem zweiten Mischtank 3 zuführt, nachdem die Durchflussrate von jeder der Stammlösungen A, B und C in den A-, B- und C-Lösungszufuhrströmungswegen 14, 15 und 16 die eingestellte Durchflussrate erreicht, kann der zweite Mischtank 3 die Bearbeitungsflüssigkeit eines vorbestimmten Mischverhältnisses (d. h. Dichte) direkt nachdem die Zufuhr beginnt herstellen. Folglich wird das Mischverhältnis (d. h. Dichte) der Bearbeitungsflüssigkeit in dem zweiten Mischtank in einer kurzen Zeit einheitlich bzw. gleichförmig und folglich kann die Zufuhr der Bearbeitungsflüssigkeit zu den Bearbeitungseinheiten der chemischen Lösung 12 und 13 unmittelbar beginnen.
  • Allerdings öffnen sich in dem oben beschriebenen Übergabestartschritt (S22) die Abgabeventile 23, 24 und 25 gleichzeitig. Auf der anderen Seite ist die Zeit, die für die Durchflussraten benötigt wird, um die vorbestimmte Durchflussrate von dem Start der Übergabe der LFC 20, 21 und 22 zu erreichen, verlängert, wenn sich die eingestellte Durchflussrate erhöht. Beispielsweise beträgt die Zeit, wie es oben beschrieben ist, die für die Durchflussrate der Stammlösung A benötigt wird, die durch die LFC 20 übergeben wird, um 20 Liter/Minute zu erreichen und stabilisiert zu werden, 5 Sekunden, nachdem das Übergabeventil 17 geöffnet ist. Demgegenüber betragen die Zeit, die für die Durchflussrate der Stammlösung B benötigt wird, die durch die LFC 21 übergeben wird, um 24 Liter/Minute zu erreichen und stabilisiert zu werden, und die Zeit, die für die Durchflussrate der Stammlösung C benötigt wird, die durch die LFC 22 übergeben wird, um 32 Liter/Minute zu erreichen und stabilisiert zu werden, alle ungefähr 20 Sekunden. Folglich sollte die Stammlösung A durch öffnen des Abgabeventils 23 in dem A-Lösungszufuhrströmungsweg 14 kontinuierlich nach außen abgegeben werden, bis die Durchflussraten der Stammlösungen B und C die vorbestimmte Durchflussrate erreichen, selbst nachdem die Durchflussrate der Stammlösung A die vorbestimmte Durchflussrate (beispielsweise 12 Liter/Minute) erreicht hat.
  • Folglich kann, wenn die Übergabeventile 17, 18 und 19 offen sind mit Zeitdifferenzen gemäß den eingestellten bzw. festgelegten Durchflussraten der LFC 20, 21 und 22 und den Zeitablaufratencharakteristiken, sodass die Durchflussraten der Stammlösungen A, B und C gleichzeitig die vorbestimmte Durchflussrate erreichen, die Menge der Stammlösung A, die nach außen abgegeben wird, verringert werden.
  • Beispielsweise, wie es in 5 dargestellt ist, wenn die Übergabe der Stammlösungen B und C durch Öffnen der Abgabeventile 24 und 25 beginnt und anschließend die Übergabe der Stammlösung A durch Öffnen des Abgabeventils 23 nach 15 Sekunden beginnt, erreichen die Durchflussraten der Stammlösungen A, B und C die eingestellte Durchflussrate beinahe gleichzeitig nach ungefähr 20 Sekunden von dem Öffnen der Abgabeventile 24 und 25. Folglich kann die Zufuhr der Stammlösungen A, B und C zu dem Mischtank 3 beginnen. Folglich ist die Abgabezeit der Stammlösung A verglichen mit der Bedienfolge, wie es in 4 dargestellt ist, verkürzt und folglich kann ein Verlust der Stammlösung A verringert werden.
  • Obwohl beispielhaft ausgeführt ist, dass die Zufuhr der Stammlösungen A, B und C zu den Mischtanks beginnt, wenn alle Durchflussraten der Stammlösungen A, B und C die eingestellte Durchflussrate erreichen, kann die Zufuhr der Stammlösungen zu den Mischtanks beginnen, wenn eine vorbestimmte Zeit abläuft, nachdem alle Durchflussraten der Stammlösungen A, B und C die eingestellte Durchflussrate erreichen. In diesem Fall werden die Durchflussraten der Stammlösungen A, B und C beide stabilisiert und folglich wird die Einheitlichkeit bzw. Gleichförmigkeit des Mischverhältnisses (d. h. Dichte) der Bearbeitungsflüssigkeit weiter verbessert.
  • In den Ausführungsformen der vorliegenden Erfindung ist beispielhaft ausgeführt, dass zwei Mischtanks vorgesehen sind und abwechselnd verwendet werden, um Bearbeitungsflüssigkeit herzustellen. Allerdings kann die vorliegende Erfindung für die Substratbearbeitungsvorrichtung angewendet werden, welche mit lediglich einem Mischtank vorgesehen ist.
  • Ferner, gemäß der Bearbeitungsflüssigkeitsmischvorrichtung der vorliegenden Erfindung, da die gemischte Bearbeitungsflüssigkeit in einer kurzen Zeit einheitlich bzw. gleichförmig gemacht wird, kann die Bearbeitungsflüssigkeit in einer kurzen Zeit den Bearbeitungseinheiten der chemischen Lösung zugeführt werden, nachdem die Zufuhr der Stammlösungen abgeschlossen ist. Ferner kann die Bearbeitungsflüssigkeit von dem Mischtank den Bearbeitungseinheiten der chemischen Lösung gleichzeitig mit der Zufuhr der Stammlösungen zu dem Mischtank zugeführt werden. Folglich, selbst wenn lediglich ein Mischtank vorgesehen ist oder einer der beiden Mischtanks außer Betrieb ist, kann die Unterbrechungszeit der Bearbeitung der chemischen Lösung minimiert werden oder die Bearbeitungsvorrichtung der chemischen Lösung kann ohne Unterbrechung betrieben werden.
  • Aus dem Vorangegangenen ist ersichtlich, dass verschiedene Ausführungsformen der vorliegenden Offenbarung hierin zum Zwecke der Darstellung beschrieben wurden und dass verschiedene Modifikationen durchgeführt werden können, ohne sich vom Gegenstand der vorliegenden Erfindung zu entfernen. Folglich sind die verschiedenen Ausführungsformen, die hierin offenbart sind, nicht beabsichtigt, beschränkend zu sein, wobei der tatsächliche Gegenstand durch die folgenden Ansprüche gekennzeichnet ist.
  • ZITATE ENTHALTEN IN DER BESCHREIBUNG
  • Diese Liste der vom Anmelder aufgeführten Dokumente wurde automatisiert erzeugt und ist ausschließlich zur besseren Information des Lesers aufgenommen. Die Liste ist nicht Bestandteil der deutschen Patent- bzw. Gebrauchsmusteranmeldung. Das DPMA übernimmt keinerlei Haftung für etwaige Fehler oder Auslassungen.
  • Zitierte Patentliteratur
    • - JP 2003-275569 [0004, 0005, 0007]

Claims (16)

  1. Bearbeitungsflüssigkeitsmischvorrichtung, dadurch gekennzeichnet, dass die Vorrichtung einen Mischtank, um eine Vielzahl von Stammlösungen zu mischen; eine Durchflusssteuereinheit, die in Zufuhrströmungswegen vorgesehen ist, um Durchflussraten der Stammlösungen, welche durch die Zufuhrströmungswege mit vorbestimmten Strömungsraten fließen, zu steuern, wobei jeder Zufuhrströmungsweg die Stammlösungen von Stammlösungszufuhrquellen dem Mischtank zuführt; einen Durchflussdetektor, um die Durchflussraten der Stammlösungen, welche durch die Zufuhrströmungswege fließen, zu detektieren; Abgabeventile, die zwischen der Durchflusssteuereinheit der Zufuhrströmungswege und dem Mischtank vorgesehen sind, um die Stammlösungen, welche durch die Zufuhrströmungswege fließen, nach außen abzugeben; Zufuhrventile, die zwischen den Abgabeventilen der Zufuhrströmungswege und dem Mischtank vorgesehen sind, um die Zufuhrströmungswege zu öffnen/zu schließen; und eine Steuereinheit umfasst, um die Zufuhrventile der Zufuhrströmungswege zu schließen und die Abgabeventile der Zufuhrströmungswege zu öffnen, wenn die Zufuhr der Stammlösungen zu dem Mischtank beginnt, und um die Abgabeventile der Zufuhrströmungswege zu schließen und die Zufuhrventile der Zufuhrströmungswege zu öffnen, nachdem alle Durchflussraten der Stammlösungen, die von dem Durchflussdetektor detektiert zu werden, die vorbestimmten Durchflussraten erreichen.
  2. Vorrichtung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass die Steuereinheit die Abgabeventile schließt und die Zufuhrventile öffnet, wenn alle Durchflussraten, die von dem Durchflussdetektor detektiert werden, die vorbestimmten Durchflussraten erreichen.
  3. Vorrichtung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass die Steuereinheit die Abgabeventile schließt und die Zufuhrventile öffnet, wenn alle Durchflussraten, die von dem Durchflussdetektor detektiert werden, die vorbestimmten Durchflussraten erreichen und eine vorbestimmte Zeit abläuft.
  4. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 1 bis 3, dadurch gekennzeichnet, dass die Steuereinheit die Abgabeventile für jede Stammlösung mit einer Zeitdifferenz gemäß der eingestellten Durchflussraten der Durchflusssteuereinheit und einer Zeitablaufratencharakteristik steuert.
  5. Vorrichtung nach Anspruch 4, dadurch gekennzeichnet, dass die Steuereinheit die Abgabeventile in einer absteigenden Reihenfolge der eingestellten Durchflussraten der Durchflusssteuereinheit öffnet.
  6. Substratbearbeitungsvorrichtung, dadurch gekennzeichnet, dass die Vorrichtung eine Bearbeitungsflüssigkeitsvorrichtung umfasst und dass die Bearbeitungsflüssigkeitsvorrichtung einen Mischtank, um eine Vielzahl von Stammlösungen zu mischen; eine Durchflusssteuereinheit, die in Zufuhrströmungswegen vorgesehen ist, um Durchflussraten der Stammlösungen, welche durch die Zufuhrströmungswege mit vorbestimmten Durchflussraten fließen, zu steuern, wobei jeder Zufuhrströmungsweg die Stammlösungen von Stammlösungszufuhrquellen dem Mischtank zuführt; einen Durchflussdetektor, um die Durchflussraten der Stammlösungen, welche durch die Zufuhrströmungswege fließen zu detektieren; Abgabeventile, welche zwischen der Durchflusssteuereinheit der Zufuhrströmungswege und dem Mischtank vorgesehen sind, um die Stammlösungen, welche durch die Zufuhrströmungswege fließen, nach außen abzugeben; Zufuhrventile, welche zwischen den Abgabeventilen der Zufuhrströmungswege und dem Mischtank vorgesehen sind, um die Zufuhrströmungswege zu öffnen/zu schließen; und eine Steuereinheit umfasst, um die Zufuhrventile der Zufuhrströmungswege zu schließen und die Abgabeventile der Zufuhrströmungswege zu öffnen, wenn die Zufuhr der Stammlösungen an den Mischtank beginnt, und die Abgabeventile der Zufuhrströmungswege zu schließen und die Zufuhrventile der Zufuhrströmungswege zu öffnen, nachdem alle Durchflussraten der Stammlösungen, die von dem Durchflussdetektor detektiert werden, die vorbestimmten Durchflussraten erreichen.
  7. Vorrichtung nach Anspruch 6, dadurch gekennzeichnet, dass die Steuereinheit die Abgabeventile schließt und die Zufuhrventile öffnet, wenn alle Durchflussraten, die von dem Durchflussdetektor detektiert werden, die vorbestimmten Durchflussraten erreichen.
  8. Vorrichtung nach Anspruch 6, dadurch gekennzeichnet, dass die Steuereinheit die Abgabeventile schließt und die Zufuhrventile öffnet, wenn alle Durchflussraten, die von dem Durchflussdetektor detektiert werden, die vorbestimmten Durchflussraten erreichen und eine vorbestimmte Zeit abläuft.
  9. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 6 bis 8, dadurch gekennzeichnet, dass die Steuereinheit die Abgabeventile für jede Stammlösung mit Zeitdifferenzen gemäß der eingestellten Durchflussraten der Durchflusssteuereinheit und einer Zeitablaufratencharakteristik öffnet.
  10. Vorrichtung nach Anspruch 9, dadurch gekennzeichnet, dass die Steuereinheit die Abgabeventile in einer absteigenden Reihenfolge der eingestellten Durchflussraten der Durchflusssteuereinheit öffnet.
  11. Verfahren zum Mischen einer Bearbeitungsflüssigkeitsmischvorrichtung, wobei die Bearbeitungsflüssigkeitsmischvorrichtung einen Mischtank, um eine Vielzahl von Stammlösungen zu mischen; eine Durchflusssteuereinheit, die in Zufuhrströmungswegen vorgesehen ist, um Durchflussraten der Stammlösungen, welche durch die Zufuhrströmungswege mit vorbestimmten Durchflussraten fließen, zu steuern, wobei jeder Zufuhrströmungsweg die Stammlösungen von Stammlösungszufuhrquellen dem Mischtank zuführt; einen Durchflussdetektor, der die Durchflussrate der Stammlösungen, welche durch die Zufuhrströmungswege fließen, zu detektieren; Abgabeventile, die zwischen der Durchflusssteuereinheit der Zufuhrströmungswege und dem Mischtank vorgesehen sind, um die Stammlösungen, welche durch die Zufuhrströmungswege fließen, nach außen abzugeben; und Zufuhrventile umfasst, welche zwischen den Abgabeventilen der Zufuhrströmungswege und dem Mischtank vorgesehen sind, um die Zufuhrströmungswege zu öffnen/zu schließen, dadurch gekennzeichnet, dass das Verfahren ein Schließen der Zufuhrventile der Zufuhrströmungswege und ein Öffnen der Abgabeventile der Zufuhrströmungswege, wenn die Zufuhr der Stammlösungen zu dem Mischtank beginnt; und ein Schließen der Abgabeventile der Zufuhrströmungswege und ein Öffnen der Zufuhrventile der Zufuhrströmungswege umfasst, nachdem alle Durchflussraten der Stammlösungen, welche von dem Durchflussdetektor detektiert werden, die vorbestimmten Durchflussraten erreichen.
  12. Verfahren nach Anspruch 11, dadurch gekennzeichnet, dass das Verfahren ferner ein Schließen der Abgabeventile und ein Öffnen der Zufuhrventile umfasst, wenn alle Durchflussraten, die von dem Durchflussdetektor detektiert werden, die vorbestimmten Durchflussraten erreichen.
  13. Verfahren nach Anspruch 11, dadurch gekennzeichnet, dass das Verfahren ferner ein Schließen der Abgabeventile und ein Öffnen der Zufuhrventile umfasst, wenn alle Durchflussraten, die von dem Durchflussdetektor detektiert werden, die vorbestimmten Durchflussraten erreichen und eine vorbestimmte Zeit abläuft.
  14. Verfahren nach einem der Ansprüche 11 bis 13, dadurch gekennzeichnet, dass das Verfahren ferner ein öffnen der Abgabeventile für jede Stammlösung mit Zeitdifferenzen gemäß der eingestellten Durchflussraten der Durchflusssteuereinheit und einer Zeitablaufratencharakteristik umfasst.
  15. Verfahren nach Anspruch 14, dadurch gekennzeichnet, dass das Verfahren ferner ein öffnen der Abgabeventile in der absteigenden Reihenfolge der eingestellten Durchflussraten der Durchflusssteuereinheit umfasst.
  16. Speichermedium, welches ein Programm speichert, welches von einem Computer ausgeführt wird, der eine Bearbeitungsflüssigkeitsmischvorrichtung steuert, wobei die Bearbeitungsflüssigkeitsmischvorrichtung einen Mischtank, um eine Vielzahl von Stammlösungen zu mischen; eine Durchflusssteuereinheit, die in Zufuhrströmungswegen vorgesehen ist, um Durchflussraten der Stammlösungen, welche durch die Zufuhrströmungswege mit vorbestimmten Durchflussraten fließen, zu steuern, wobei jeder Zufuhrströmungsweg die Stammlösungen von Stammlösungszufuhrquellen dem Mischtank zuführt; einen Durchflussdetektor, um die Durchflussraten der Stammlösungen, welche durch die Zufuhrströmungswege fließen, zu detektieren; Abgabeventile, die zwischen der Durchflusssteuereinheit der Zufuhrströmungswege und den Mischtanks vorgesehen sind, um die Stammlösungen, welche durch die Zufuhrströmungswege fließen, nach außen abzugeben; und Zufuhrventile umfasst, welche zwischen den Abgabeventilen der Zufuhrströmungswege und dem Mischtank vorgesehen sind, um die Zufuhrströmungswege zu öffnen/zu schließen, dadurch gekennzeichnet, dass das Programm ein Schließen der Zufuhrventile der Zufuhrströmungswege und ein öffnen der Abgabeventile der Zufuhrströmungswege umfasst, wenn die Zufuhr der Stammlösungen zu dem Mischtank beginnt; und ein Schließen der Abgabeventile der Zufuhrströmungswege und ein öffnen der Zufuhrventile der Zufuhrströmungswege enthält, nachdem alle Durchflussraten der Stammlösungen, die von dem Durchflussdetektor detektiert werden, die vorbestimmten Durchflussraten erreichen.
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Families Citing this family (22)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN102151678A (zh) * 2010-12-06 2011-08-17 深圳市华星光电技术有限公司 供液系统及供液方法
US9896980B2 (en) * 2011-07-26 2018-02-20 Paccar Inc Exhaust aftertreatment supplying a reducing agent
JP6352143B2 (ja) 2013-11-13 2018-07-04 東京エレクトロン株式会社 基板液処理装置及び基板液処理方法
JP6367069B2 (ja) * 2013-11-25 2018-08-01 東京エレクトロン株式会社 混合装置、基板処理装置および混合方法
JP6371716B2 (ja) 2014-04-01 2018-08-08 東京エレクトロン株式会社 基板液処理装置及び基板液処理方法並びに基板液処理プログラムを記録したコンピュータ読み取り可能な記録媒体
KR102357784B1 (ko) * 2014-06-09 2022-02-04 가부시키가이샤 에바라 세이사꾸쇼 세정 약액 공급장치 및 세정 약액 공급 방법
US10340159B2 (en) 2014-06-09 2019-07-02 Ebara Corporation Cleaning chemical supplying device, cleaning chemical supplying method, and cleaning unit
JP6339954B2 (ja) * 2014-06-09 2018-06-06 株式会社荏原製作所 洗浄薬液供給装置、洗浄薬液供給方法、及び洗浄ユニット
JP6505416B2 (ja) * 2014-11-04 2019-04-24 芝浦メカトロニクス株式会社 計量装置、計量システム、処理装置、および計量方法
JP6486986B2 (ja) 2017-04-03 2019-03-20 株式会社荏原製作所 液体供給装置及び液体供給方法
JP6776208B2 (ja) * 2017-09-28 2020-10-28 東京エレクトロン株式会社 基板処理装置および基板処理方法
US11559774B2 (en) 2019-12-30 2023-01-24 Marathon Petroleum Company Lp Methods and systems for operating a pump at an efficiency point
CA3104319C (en) 2019-12-30 2023-01-24 Marathon Petroleum Company Lp Methods and systems for spillback control of in-line mixing of hydrocarbon liquids
US10990114B1 (en) 2019-12-30 2021-04-27 Marathon Petroleum Company Lp Methods and systems for inline mixing of hydrocarbon liquids
US11607654B2 (en) 2019-12-30 2023-03-21 Marathon Petroleum Company Lp Methods and systems for in-line mixing of hydrocarbon liquids
US11655940B2 (en) 2021-03-16 2023-05-23 Marathon Petroleum Company Lp Systems and methods for transporting fuel and carbon dioxide in a dual fluid vessel
US11578836B2 (en) 2021-03-16 2023-02-14 Marathon Petroleum Company Lp Scalable greenhouse gas capture systems and methods
US12012883B2 (en) 2021-03-16 2024-06-18 Marathon Petroleum Company Lp Systems and methods for backhaul transportation of liquefied gas and CO2 using liquefied gas carriers
US11447877B1 (en) 2021-08-26 2022-09-20 Marathon Petroleum Company Lp Assemblies and methods for monitoring cathodic protection of structures
US11686070B1 (en) 2022-05-04 2023-06-27 Marathon Petroleum Company Lp Systems, methods, and controllers to enhance heavy equipment warning
US12012082B1 (en) 2022-12-30 2024-06-18 Marathon Petroleum Company Lp Systems and methods for a hydraulic vent interlock
US12006014B1 (en) 2023-02-18 2024-06-11 Marathon Petroleum Company Lp Exhaust vent hoods for marine vessels and related methods

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2003275569A (ja) 2002-03-19 2003-09-30 Shibaura Mechatronics Corp 処理液の混合装置、混合方法及び基板処理装置

Family Cites Families (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US2979066A (en) * 1956-09-17 1961-04-11 Proctor Silex Corp Color control of liquids
US4403866A (en) * 1982-05-07 1983-09-13 E. I. Du Pont De Nemours And Company Process for making paints
US4823987A (en) * 1986-04-28 1989-04-25 Ryco Graphic Manufacturing, Inc. Liquid mixing system and method
CH674319A5 (de) * 1988-03-22 1990-05-31 Miteco Ag
US5409310A (en) * 1993-09-30 1995-04-25 Semitool, Inc. Semiconductor processor liquid spray system with additive blending
BR9800361A (pt) * 1998-02-13 2000-09-26 Renner Du Pont Tintas Automoti Processo continuo e automatico para a produção de tintas automotivas e outros
US6554162B2 (en) * 2001-05-24 2003-04-29 Chemand Corporation System and method for accurately blending fluids
JP4417642B2 (ja) * 2003-03-17 2010-02-17 芝浦メカトロニクス株式会社 処理液の製造装置、製造方法及び基板の処理装置
KR100500475B1 (ko) * 2003-11-10 2005-07-12 삼성전자주식회사 케미컬 혼합장치
JP2005183791A (ja) * 2003-12-22 2005-07-07 Dainippon Screen Mfg Co Ltd 基板処理方法及びその装置
KR100598913B1 (ko) * 2004-09-02 2006-07-10 세메스 주식회사 약액 혼합 공급 장치 및 그 방법
JP2007168862A (ja) * 2005-12-22 2007-07-05 Cosmo Oil Co Ltd 燃料給油装置及び燃料給油プログラム

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2003275569A (ja) 2002-03-19 2003-09-30 Shibaura Mechatronics Corp 処理液の混合装置、混合方法及び基板処理装置

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Publication number Publication date
KR20090080476A (ko) 2009-07-24
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JP2009172459A (ja) 2009-08-06
US8104948B2 (en) 2012-01-31
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TWI385026B (zh) 2013-02-11
KR101213375B1 (ko) 2012-12-17

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