DE102007058927A1

DE102007058927A1 - Substrat mit einer Sol-Gel-Schicht und Verfahren zur Herstellung eines Verbundmaterials

Info

Publication number: DE102007058927A1
Application number: DE102007058927A
Authority: DE
Inventors: Gabriele RÖMER-SCHEUERMANN; Gerhard Weber; Inka Dr. Henze; Jörg Dr. Schuhmacher; Stefan Dr. Bauer; Harry Engelmann; Marta Dr. Krzyzak; Irmgard Westenberger; Peter Zachmann
Original assignee: Schott AG
Current assignee: Schott AG
Priority date: 2007-12-05
Filing date: 2007-12-05
Publication date: 2009-06-10
Anticipated expiration: 2027-12-06
Also published as: DE102007058927B4

Abstract

Die Erfindung betrifft ein Substrat mit einer Sol-Gel-Schicht sowie ein Verfahren zur Herstellung eines Verbundmaterials, wobei zwischen der Sol-Gel-Schicht und dem Substrat eine Barriereschicht angeordnet ist.

Description

Gebiet der Erfindung:
Die Erfindung betrifft ein Substrat mit einer Sol-Gel-Schicht, ein Verbundmaterial, sowie ein Verfahren zur Herstellung eines Verbundmaterials. Insbesondere betrifft die Erfindung ein Glassubstrat mit einer porösen Einschicht-Entspiegelungsschicht.
Hintergrund der Erfindung:
Insbesondere in der Solartechnik spielt Glas als transparentes Material eine große Rolle. Durch den Unterschied des Brechungsindexes zwischen Luft und Glas kommt es an der Grenzfläche Glas-Luft allerdings durch Reflexion zu Einbußen in der Lichtausbeute. Es ist bekannt, durch eine Oberflächenbehandlung des Glases die Lichtausbeute zu erhöhen. Zu einer solchen Oberflächenbehandlung gehören insbesondere das Ätzen sowie die Beschichtung des Glases zur Entspiegelung des Glases. Da das Ätzen meist mit der Verwendung von gefährlichen Substanzen wie beispielsweise HF verbunden ist, werden bevorzugt Beschichtungen als Entspiegelung verwendet.
Dabei ist es wichtig, eine möglichst breitbandige Entspiegelung über das Sonnenspektrum bereit zu stellen.
Weiterhin sollte die Entspiegelung auch für wechselnde Einfallswinkel, wie sie sich durch den wechselnden Sonnenstand ergeben, möglichst effizient sein. Es ist bekannt, dass dies insbesondere durch einschichtige Entspiegelungsschichten erreicht werden kann.
Vorzugsweise werden Entspiegelungsschichten mit Siliziumoxid als Basis verwendet. Solche Schichten, die beispielsweise durch Sputtern, PECVD oder ein Sol-Gel-Verfahren hergestellt werden, weisen aber einen Brechungsindex von etwa 1,46 auf, wenn sie als dichte Schichten aufgebracht werden, und sind damit so gestaltet als Entspiegelung insbesondere für eisenarmes Kalknatronglas, wie es beispielsweise als Deckglas für Photovoltaikanwendungen eingesetzt wird, nicht geeignet.
Eine optimale Einschichtentspiegelung sollte einen Brechungsindex von etwa 1,22 aufweisen. Einen solchen niedrigen Brechwert kann man mit herkömmlichen dichten Beschichtungsmaterialien nicht mehr erreichen, vielmehr muß man hierfür poröse Schichten aufbringen bzw. durch eine geeignete Nachbehandlung erzeugen, so beschrieben beispielsweise in der deutschen Offenlegungsschrift DE 102005007825 , bei denen es zu einer Mischung aus dem Beschichtungsmaterial und Luft kommt, wodurch der effektive Brechungsindex des Beschichtungsmaterials erniedrigt wird. Eine solche Beschichtung wird zweckmäßigerweise nach dem Sol-Gel-Verfahren hergestellt. Zudem bietet die Flüssigbeschichtung eine kostengünstige Möglichkeit zur Beschichtung auch großer Substrate.
Solche porösen Beschichtungen können auf verschiedene Weise hergestellt werden. So ist bekannt, eine poröse Beschichtung durch partikuläre, wäßrige oder alkoholische SiO₂-Sole herzustellen. Allerdings zeigt sich bei diesen Schichten oft eine schlechte mechanische Beständigkeit, insbesondere eine schlechte Abriebfestigkeit.
Weiterentwicklungen dieses Ansatzes umfassen verschiedene Methoden zur Optimierung der Abriebfestigkeit wie beispielsweise die Verwendung eines partikulären anorganischen-organischen Hydridsols, beschrieben in der DE 19918811 , eine Optimierung der Einbrandbedingungen, beschrieben in der DE 19828231 , oder die Verwendung zweier unterschiedlicher Korngrößenfraktionen, beschrieben in der US 0258929 . Auf vorstehend genannte gattungsbildende Dokumente wird vollumfänglich Bezug genommen und der Offenbarungsgehalt dieser Dokumente vollumfänglich zum Gegenstand dieser Anmeldung gemacht.
In der US 0258929 und der DE 10051724 ist beschrieben, dass die poröse Sol-Gel-Schicht während des thermischen Vorspannens eingebrannt wird, was die Schichthärte noch besonders erhöhen soll. Auf den Offenbarungsgehalt dieser Dokumente wird ebenfalls vollumfänglich verwiesen.
Untersuchungen poröser Sol-Gel-Schichten auf Borosilikatglas haben gezeigt, daß die Abriebfestigkeit einer solchen Beschichtung noch schlechter sein kann als auf Kalknatronglas (siehe z. B. Proceedings of SPIE-The International Society for Optical Engineering (1989), 1038 (Meet. Isr. Opt. Eng., 6th, 1988), 326–36 oder Eur. J. Glass Sei. Technol. A, Oct. 2006 (47), 153–156).
Versuche, auch auf Borosilikatglas eine gute Abriebfestigkeit zu erhalten, liegen zum einen darin, durch einen nachträglichen Tauchschritt in eine Lösung von Natrium die Schicht zu härten oder durch Zusatz beispielsweise von Phosphor die Natriumdiffusion zu fördern. Neben der Erhöhung sowohl der Abriebfestigkeit als auch des Brechwertes spielt Natrium allerdings auch bei der Alterung der Schichten eine Rolle. Die Untersuchung der Alterung ist für diese Einschichtentspiegelungen besonders von Bedeutung, da in der Solarindustrie lange Garantiezeiten von 20 Jahren und mehr üblich sind. Wie sich in Untersuchungen derzeit auf dem Markt befindlicher Einschichtentspiegelungen auf Basis poröser SiO₂-Schichten zeigt, weisen diese Schichten in den für ein Solarmodul relevanten Belastungsfällen wie Damp Heat Test (85°C, 85% relativer Luftfeuchte) nach DIN 61215 nur eine sehr schlechte Beständigkeit auf. Hier kommt es bereits nach kurzer Zeit, oft schon nach wenigen Tagen, zum Auftreten von Trübungen und damit verbunden zu deutlichen Transmissionseinbußen.
Aufgabe der Erfindung:
Demgegenüber ist es Aufgabe der Erfindung, die genannten Nachteile des Standes der Technik zumindest zu reduzieren.
Insbesondere ist es Aufgabe der Erfindung, ein abriebfestes, umweltbeständiges Verbundmaterial und/oder eine abriebfeste und gleichzeitig umweltbeständige poröse SiO₂-Beschichtung mit einer guten Entspiegelungswirkung beziehungsweise einer guten Transmissionserhöhung in einem für eine Solarzelle relevanten Wellenlängenbereich bereit stellen zu können.
Zusammenfassung der Erfindung:
Die Aufgabe der Erfindung wird bereits durch ein Substrat, ein Verbundmaterial sowie durch ein Verfahren zum Herstellen eines Verbundmaterials nach einem der unabhängigen Ansprüche gelöst.
Bevorzugte Ausführungsformen und Weiterbildungen der Erfindung sind den jeweiligen Unteransprüchen zu entnehmen.
Die Erfindung betrifft ein Substrat mit zumindest einer Sol-Gel-Schicht, bei welchem zumindest eine Barriereschicht vorhanden ist. Vorzugsweise ist die Barriereschicht zwischen der zumindest einen Sol-Gel-Schicht und dem Substrat angeordnet.
Es hat sich in überraschender Weise herausgestellt, dass eine Barriereschicht, welche unter der Sol-Gel-Schicht angeordnet ist, die Umweltbeständigkeit des so hergestellten Verbundmaterials erheblich erhöht. Es können insbesondere Ausblühungen und Eintrübungen des Glases über einen langen Zeitraum fast vollständig verhindert werden.
Unter einer Barriereschicht im Sinne der Erfindung wird eine Schicht verstanden, welche die Diffusion, insbesondere von Natrium und/oder Wasser reduziert. Vorzugsweise wird die Diffusion von Natrium und/oder Wasser um zumindest 30%, besonders bevorzugt 80% reduziert.
Neben einer Barriereschicht im klassischen Sinne zählen im Sinne dieser Erfindung als Barriereschichten auch an zum Beispiel durch Auslaugung an Natrium verarmte Schichten oder Schichten mit einer Getterwirkung für Natrium.
Es ist nunmehr zu vermuten, dass die Ausblühungen in bekannten Verbundmaterialien mit einer Einschicht-Entspiegelungsschicht in erster Linie nicht auf eine Zerstörung der Entspiegelungsschicht zurückzuführen sind, sondern dass Glaskorrosion des unter der Entspiegelungsschicht befindlichen Substratglases die Trübungen und Ausblühungen im Glas verursacht.
Als Substrat wird vorzugsweise ein Glassubstrat, insbesondere ein vorzugsweise eisenarmes Kalknatronglas verwendet.
Die Barriereschicht umfasst vorzugsweise ein Metalloxid oder Halbmetalloxid. Insbesondere ist eine Barriereschicht vorgesehen, welche im Wesentlichen aus Siliziumoxid besteht. Alternativ kommen aber auch Titanoxid oder Zinnoxid in Betracht.
Die Barriereschicht ist vorzugsweise derart dünn ausgebildet, dass sie nicht optisch aktiv ist. Als vorteilhaft haben sich Dicken zwischen 3 und 100 nm, vorzugsweise zwischen 5 und 50 nm und besonders bevorzugt zwischen 10 und 35 nm erwiesen.
Vorzugsweise wird die Barriereschicht mittels Flammpyrolyse aufgebracht. Es hat sich gezeigt, dass sich auf diese Weise eine dichte Schicht mit hoher Barrierewirkung einfach erzeugen lässt. Alternativ eignen sich aber auch andere Verfahren zum Aufbringen der Barriereschicht, insbesondere PVD- oder CVD-Verfahren.
Die Sol-Gel-Schicht ist vorzugsweise als poröse Einschicht-Entspiegelungsschicht ausgebildet und weist einen Brechungsindex von weniger als 1,35, bevorzugt von weniger als 1,32 und besonders bevorzugt von weniger als 1,30 auf.
Die Erfindung betrifft des Weiteren ein Verbundmaterial, welches ein Substrat, insbesondere ein Glassubstrat umfasst. Weiter weist das Verbundmaterial eine Entspiegelungsschicht, insbesondere eine poröse Einschicht-Entspiegelungsschicht auf. Gemäß der Erfindung umfasst das Verbundmaterial zumindest eine Barriereschicht, welche zwischen dem Substrat und der Entspiegelungsschicht angeordnet ist.
Ein derartiges Verbundmaterial, welches aus den bereits oben dargestellten Gründen überraschender Weise eine hohe Umweltbeständigkeit hat, eignet sich insbesondere in Verbindung mit Kalknatronglas für Photovoltaikanwendungen.
Die Barriereschicht ist vorzugsweise im Wesentlichen als Siliziumoxidschicht ausgebildet. Die Entspiegelungsschicht wird vorzugsweise mit einem Sol-Gel-Verfahren aufgebracht.
Des Weiteren betrifft die Erfindung ein Verfahren zur Herstellung eines Verbundmaterials, wobei ein Substrat, insbesondere ein Glassubstrat, mit zumindest einer Entspiegelungsschicht beschichtet wird. Gemäß der Erfindung wird zwischen der zumindest einen Entspiegelungsschicht und dem Substrat zumindest eine Barriereschicht aufgebracht. Im Sinne der Erfindung können aber auch noch weitere Zwischenschichten Teil des so hergestellten Verbundmaterials sein.
Weiter ist es im Sinne der Erfindung nicht zwingend, dass die Schichten an definierten Grenzflächen ineinander übergehen. Es ist vielmehr, je nach Herstellungsverfahren, auch denkbar, ein Gradientenschichtsystem zu erzeugen.
So ist insbesondere auch denkbar, durch Variation der Prozessparameter, beispielsweise bei einem PVD- oder CVD-Verfahren eine im Wesentlichen Siliziumoxid enthaltende dichte Barriereschicht aufzubringen, welche in eine poröse Entspiegelungsschicht übergeht.
Ein Verfahren zum Aufbringen poröser Glasschichten mittels eines PVD-Verfahrens ist beispielsweise aus der deutschen Offenlegungsschrift DE 10 2005 044 522 "Verfahren zum Aufbringen einer porösen Glasschicht" bekannt. Auf den Offenbarungsgehalt dieses Dokumentes wird vollumfänglich Bezug genommen.
Alternativ und bevorzugt wird die Entspiegelungsschicht aber mittels eines Sol-Gel-Verfahrens aufgebracht.
Bei einer Weiterbildung der Erfindung wird dem partikulären SiO₂-Sol eine organische Siliziumverbindung, insbesondere Triethoxymethylsilan oder Tetraethoxysilan zugesetzt.
Auf überraschende Weise hat sich herausgestellt, dass der Zusatz einer derartigen organischen Siliziumverbindung zu einer wesentlich höheren mechanischen Beständigkeit der Entspiegelungsschicht führt.
Die organische Siliziumverbindung wird dabei vorzugsweise so dosiert, dass zwischen 2 und 50%, bevorzugt zwischen 5 und 25% und besonders bevorzugt zwischen 7 und 15% des Siliziums der entstandenen Entspiegelungsschicht auf die zugesetzte organische Siliziumverbindung zurückgehen.
Die Temperatur zum Einbrennen der Schichten beträgt zwischen 400 und 750°C, bevorzugt zwischen 500 und 670°C.
Die Erfindung betrifft des Weiteren ein Verfahren zum Aufbringen einer vorzugsweise porösen Sol-Gel-Schicht, wobei vorzugsweise auf einem Glassubstrat zumindest eine Sol-Gel-Schicht aufgebracht wird, die einen siliziumorganischen Precursor enthält.
Gemäß der Erfindung erfolgt die Hydrolyse und Kondensation im sauren Milieu.
Es hat sich gezeigt, dass durch eine Hydrolyse und Kondensation, insbesondere im stark sauren Milieu, sich Strukturen bilden, die wesentlich haft- und abriebfester sind als bei bekannten Verfahren zum Ausbilden von Entspiegelungsschichten basierend auf einem partikulären Sol und/oder einem siliziumorganischen Precursor.
Bei einer Weiterentwicklung der Erfindung wird einem partikulären Sol eine Aluminium-Verbindung zugegeben, so daß eine Aluminiummatrix oder eine teilweise mit Aluminium dotierte Matrix entsteht, die zu einer wesentlich höheren mechanischen und chemischen Beständigkeit der Entspiegelungsschicht führt.
Gemäß einer bevorzugten Ausführungsform der Erfindung wird als erste Schicht eine Natrium-Barriereschicht auf das Glas aufgebracht. Um die optischen Eigenschaften möglichst wenig zu beeinflußen, wird als Barriereschicht optimalerweise SiO₂ verwendet und möglichst dünn aufgetragen, generell eignen sich aber auch andere Materialien mit einer guten Na-Barriere als Barriereschicht, zum Beispiel TiO₂ oder SnO₂. Als Beschichtungsverfahren eignen sich im Prinzip alle Verfahren, mit denen über eine große Fläche homogene Schichten aufgetragen werden können, beispielsweise CVD-Verfahren wie thermische oder Plasma-CVD oder PVD-Verfahren wie Sputtern. Besonders bevorzugt ist eine Auftragung der Barriereschicht mittels Flammpyrolyse.
Durch die Barriereschicht wird möglicherweise die Diffusion von Natrium in die Schicht verhindert oder signifikant reduziert. Dadurch wird aber zumeist die Abriebfestigkeit beziehungsweise generell die mechanischen Festigkeit der partikelbasierten porösen SiO₂-Beschichtungen reduziert.
Um eine gute mechanische Festigkeit zu gewährleisten, kann dem Sol ein weiteres Material, insbesondere ein Metalloxid bildendes Material, zugegeben werden, das als Härter wirkt. Beispielsweise kann Aluminium als Härter zugesetzt werden. Damit steigt allerdings wiederum der Brechungsindex, und die Effizienz der so hergestellten Schichten sinkt.
In überraschend einfacher Weise kann die mechanische Festigkeit der resultierenden Schicht auch deutlich erhöht werden, indem eine organische Siliziumverbindung dem partikulären SiO₂-Sol zugesetzt wird. Als organische Siliziumverbindung eignen sich insbesondere Tetraethoxysilan oder Triethoxymethylsilan, aber auch andere Siloxane wie Tetramethoxysilan können verwendet werden. Besonders bevorzugt kommen etwa 10% des insgesamt in der Schicht vorhandenen SiO₂ durch die siliziumorganische Verbindung, 90% kommen aus dem partikulären SiO₂-Sol.
Hydrolyse und Kondensation des siliziumorganischen Precursors erfolgen bevorzugt nicht im neutralen bzw. schwach basischen pH-Bereich, sondern im stark sauren Milieu. Im stark sauren Milieu führt Hydrolyse und Kondensation zur Ausbildung von polymerischen SiO₂-Strukturen. Es liegen also nicht zwei Partikelfraktionen vor, vielmehr wird eine Beschichtung erzeugt, bei der die SiO₂-Partikeln in eine polymerisch verknüpfte SiO₂-Matrix eingebettet sind. Diese polymerische SiO₂-Matrix scheint zu einer besonders haft- und abriebfesten Beschichtung zu führen, obwohl die Na-Diffusion durch eine unterliegende Barriereschicht eingeschränkt ist.
Obwohl die Poren zwischen den einzelnen SiO₂-Partikeln auf diese Weise teilweise mit polymerischem SiO₂ verfüllt sind, werden immer noch ausreichende Brechwerte um etwa 1,31 erreicht, womit eine signifikante Leistungssteigerung von Photovoltaik-Modulen oder weiteren Produkten für Solaranwendungen wie beispielsweise Solarreceivern oder -kollektoren möglich ist. Der Einbrand der so erhaltenen Schichten kann in einem separaten Temperschritt z. B. bei 550°C 1 h erfolgen. Es ist aber auch möglich und in den meisten Fällen auch zweckmäßiger, wenn der Einbrand während des thermischen Vorspannprozesses erfolgt. Werden solche Schichten den für ein Solarmodul relevanten Belastungstests unterzogen, so zeigt sich im Vergleich mit herkömmlichen Schichten eine deutlich verbesserte Langzeitbeständigkeit. Insbesondere tritt im Wesentlichen keine Glaskorrosion auf.
Bezug nehmend auf 1 soll anhand eines schematisch dargestellten Ausführungsbeispiels ein Verbundmaterial 1 näher erläutert werden. Das Verbundmaterial 1 umfasst ein Substrat. In diesem Ausführungsbeispiel handelt es sich um ein eisenarmes Kalknatronglas.
Auf dem Substrat 1 wurde mittels eines Flammpyrolyse-Verfahrens eine im Wesentlichen aus Siliziumoxid bestehende Barriereschicht 3 aufgebracht.
Auf die Barriereschicht schließlich ist mittels eines Sol-Gel-Verfahrens eine poröse Entspiegelungsschicht 4 aufgebracht.
Überraschender Weise konnte durch die unter der Entspiegelungsschicht 4 angeordnete Barriereschicht 3 die Wetterbeständigkeit des Verbundmaterials 1 wesentlich erhöht werden.
Es versteht sich, dass die Erfindung nicht auf eine Kombination vorstehend beschriebener Merkmale beschränkt ist, sondern dass der Fachmann sämtliche dargestellten Merkmale, soweit sinnvoll, kombinieren wird.
ZITATE ENTHALTEN IN DER BESCHREIBUNG
Diese Liste der vom Anmelder aufgeführten Dokumente wurde automatisiert erzeugt und ist ausschließlich zur besseren Information des Lesers aufgenommen. Die Liste ist nicht Bestandteil der deutschen Patent- bzw. Gebrauchsmusteranmeldung. Das DPMA übernimmt keinerlei Haftung für etwaige Fehler oder Auslassungen.
Zitierte Patentliteratur

- DE 102005007825 [0006]
- DE 19918811 [0008]
- DE 19828231 [0008]
- US 0258929 [0008, 0009]
- DE 10051724 [0009]
- DE 102005044522 A [0032]

Zitierte Nicht-Patentliteratur

- Proceedings of SPIE-The International Society for Optical Engineering (1989), 1038 (Meet. Isr. Opt. Eng., 6th, 1988), 326–36 oder Eur. J. Glass Sei. Technol. A, Oct. 2006 (47), 153–156 [0010]
- DIN 61215 [0011]

Claims

Substrat mit zumindest einer Sol-Gel-Schicht, bei welchem zumindest eine Barriereschicht vorhanden ist.
Substrat mit zumindest einer Sol-Gel-Schicht nach dem vorstehenden Anspruch, dadurch gekennzeichnet, dass die Barriereschicht zwischen der zumindest einen Sol-Gel-Schicht und dem Substrat angeordnet ist.
Substrat mit zumindest einer Sol-Gel-Schicht nach einem der vorstehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass die Barriereschicht eine Dicke zwischen 3 und 100 nm, vorzugsweise zwischen 5 und 50 nm und besonders bevorzugt zwischen 10 und 35 nm aufweist.
Substrat mit zumindest einer Sol-Gel-Schicht nach einem der vorstehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass die Barriereschicht als Natrium-Barriereschicht ausgebildet ist.
Substrat mit zumindest einer Sol-Gel-Schicht nach einem der vorstehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass die Barriereschicht ein Metall- und/oder Halbmetalloxid umfasst, insbesondere im Wesentlichen aus einem Metall- und/oder Halbmetalloxid besteht.
Substrat mit zumindest einer Sol-Gel-Schicht nach einem der vorstehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass die Barriereschicht SiO₂, TiO₂ und/oder SnO₂ umfasst, insbesondere im Wesentlichen aus SiO₂, TiO₂ und/oder SnO₂ besteht.
Substrat mit zumindest einer Sol-Gel-Schicht nach einem der vorstehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass die Sol-Gel-Schicht ein Metalloxid, insbesondere Aluminiumoxid, als Härter enthält.
Substrat mit zumindest einer Sol-Gel-Schicht nach einem der vorstehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass die Sol-Gel-Schicht als Entspiegelungsschicht ausgebildet ist.
Substrat mit zumindest einer Sol-Gel-Schicht nach dem vorstehenden Anspruch, dadurch gekennzeichnet, dass die Entspielungsschicht als poröse Einschicht-Entspiegelungschicht ausgebildet ist.
Substrat mit zumindest einer Sol-Gel-Schicht nach einem der vorstehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass die Sol-Gel-Schicht einen Brechungsindex von weniger als 1,35, bevorzugt von weniger als 1,32, und besonders bevorzugt von weniger als 1,30 aufweist.
Substrat mit zumindest einer Sol-Gel-Schicht nach einem der vorstehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass das Substrat ein Kalk-Natron-Glas umfasst.
Substrat mit zumindest einer Sol-Gel-Schicht nach einem der vorstehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass das Substrat eine strukturierte Glasscheibe umfasst.
Substrat mit zumindest einer Sol-Gel-Schicht nach einem der vorstehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass das Substrat ein eisenarmes Glas umfasst.
Verbundmaterial, umfassend ein Substrat, insbesondere ein Glassubstrat, mit zumindest einer Entspiegelungsschicht, dadurch gekennzeichnet, dass das Verbundmaterial zumindest eine Barriereschicht umfasst, wobei die Barriereschicht zwischen der zumindest einen Entspiegelungsschicht und dem Substrat angeordnet ist.
Verbundmaterial nach dem vorstehenden Anspruch, dadurch gekennzeichnet, dass die zumindest eine Entspiegelungsschicht als Sol-Gel-Schicht ausgebildet ist.
Verbundmaterial nach einem der vorstehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass die Barriereschicht als Natrium-Barriereschicht ausgebildet ist.
Verbundmaterial nach einem der vorstehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass die Barriereschicht ein Metall- und/oder Halbmetalloxid umfasst, insbesondere im Wesentlichen aus einem Metall- und/oder Halbmetalloxid besteht.
Verbundmaterial nach einem der vorstehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass die Barriereschicht ein SiO₂, TiO₂ und/oder SnO₂ umfasst, insbesondere im Wesentlichen aus SiO₂, TiO₂ und/oder SnO₂ besteht.
Verbundmaterial nach einem der vorstehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass die Barriereschicht mittels Flammpyrolyse, eines PVD- oder CVD-Verfahrens aufgebracht ist.
Verbundmaterial nach einem der vorstehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass die Entspiegelungschicht ein Metalloxid, insbesondere Aluminiumoxid, als Härter enthält.
Verfahren zur Herstellung eines Verbundmaterials, insbesondere eines Verbundmaterials nach einem der vorstehenden Ansprüche, wobei ein Substrat, insbesondere ein Glassubstrat, mit zumindest einer Entspiegelungsschicht beschichtet wird, dadurch gekennzeichnet, dass vorzugsweise zwischen der zumindest einen Entspiegelungsschicht und dem Substrat zumindest eine Barriereschicht aufgebracht wird.
Verfahren zur Herstellung eines Verbundmaterials nach dem vorstehenden Anspruch, dadurch gekennzeichnet, dass die Entspiegelungsschicht als poröse Einschicht-Entspiegelungsschicht ausgebildet ist.
Verfahren zur Herstellung eines Verbundmaterials, insbesondere nach einem der vorstehenden Ansprüche, wobei auf ein Substrat mittels eines Sol-Gel-Verfahrens eine Schicht, insbesondere eine Entspiegelungsschicht aufgebracht wird, dadurch gekennzeichnet, dem Sol eine organische Siliziumverbindung, insbesondere ein Siloxan, bevorzugt ein Tetraethoxysilan oder Triethoxymethylsilan zugesetzt wird.
Verfahren zur Herstellung eines Verbundmaterials nach dem vorstehenden Anspruch, dadurch gekennzeichnet, dass die organische Siliziumverbindung derart dosiert wird, dass der Anteil an Silizium aus der organischen Siliziumverbindung zwischen 2 und 50 bevorzugt zwischen 5 und 20% und besonders bevorzugt zwischen 7 und 15% des Gesamtanteil an Silizium in der Entspiegelungsschicht beträgt.
Verfahren zur Herstellung eines Verbundmaterials nach einem der vorstehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass Sol-Gel-Schicht und/oder Barriereschicht bei einer Temperatur zwischen 400 und 750°C, bevorzugt zwischen 600 und 670°C eingebrannt werden.
Verfahren zum Aufbringen einer vorzugsweise porösen Sol-Gel-Schicht, insbesondere nach einem der vorstehenden Ansprüche, wobei auf einem Substrat, vorzugsweise einem Glassubstrat zumindest eine Sol-Gel-Schicht aufgebracht wird, die einen siliziumorganischen Precursor enthält, dadurch gekennzeichnet, dass Hydrolyse und/oder Kondensation im stark sauren Milieu erfolgen.
Verfahren zum Aufbringen einer Sol-Gel-Schicht. nach dem vorstehenden Anspruch, dadurch gekennzeichnet, dass der pH-Wert während der Hydrolyse und/oder Kondensation unter 3, bevorzugt unter 2,5, besonders bevorzugt unter 1,5 liegt.
Verfahren zum Aufbringen einer Sol-Gel-Schicht nach einem der vorstehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass die organische Siliziumverbindung Tetraethoxysilan und/oder Triethoxymethylsilan umfasst.
Verfahren zum Aufbringen einer porösen Sol-Gel-Schicht nach einem der vorstehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass der porösen Sol-Gel-Schicht als Härter ein Metalloxid, insbesondere Aluminiumoxid, zugesetzt wird.
Gehäuse für ein Solarmodul, dadurch gekennzeichnet, dass das Gehäuse ein Substrat oder ein Verbundmaterial nach einem der vorstehenden Ansprüche umfasst.
Solarreceiver, dadurch gekennzeichnet, dass der Solarreceiver ein Substrat oder ein Verbundmaterial nach einem der vorstehenden Ansprüche umfasst.
Vorsatzscheibe, dadurch gekennzeichnet, dass die Vorsatzscheibe ein Substrat oder ein Verbundmaterial nach einem der vorstehenden Ansprüche umfasst.