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Die
vorliegende Erfindung betrifft ein Verfahren zum lagerichtigen Ablegen
eines Substrats in einer Koordinaten-Messmaschine. Die Koordinaten-Messmaschine
umfasst dabei einen in X-Koordinatenrichtung und in Y-Koordinatenrichtung
verfahrbaren Messtisch. Der Koordinaten-Messmaschine ist dabei mindestens
ein Substrat-Handlingsystem zugeordnet.
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Des
Weiteren betrifft die Erfindung eine Einrichtung zum lagerichtigen
Ablegen eines Substrats in einer Koordinaten-Messmaschine. Die Koordinaten-Messmaschine
besitzt einen in X-Koordinatenrichtung und in Y-Koordinatenrichtung
verfahrbaren Messtisch. Der Koordinaten-Messmaschine ist ein Substrat-Handlingsystem
zugeordnet, welches mit einer Steuer- und Kontrolleinheit versehen
ist. Die Steuer- und Kontrolleinheit steuert zumindest den Messtisch
und das Substrat-Handlingsystem und ist ferner dazu geeignet, die
Lage des Substrats und/oder Strukturen auf das Substrat in Bezug
auf ein Koordinatensystem der Koordinaten-Messmaschine zu bestimmen.
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Eine
Koordinaten-Messmaschine zum Vermessen von Strukturen auf Wafern
und der für die Herstellung von Strukturen eingesetzten
Masken ist aus dem Vortragsmanuskript „Pattern Placement
Metrology for Mask Making" von Frau Dr. Carola Bläsing bekannt.
Dieser Vortrag wurde anlässlich der Tagung Semicon Edjucation
Program in Genf am 31.03.1998 gehalten. Die dortige Beschreibung
bildet die Grundlage einer Koordinaten-Messmaschine, wie sie vielfach
im Markt erhältlich ist.
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Ferner
ist eine Koordinaten-Messmaschine aus einer Vielzahl von Patentanmeldungen
bekannt, wie z. B. aus der
DE
19949005 , aus der
DE 19858428 ,
aus der
DE 10106699 oder
aus der
DE 102004023739 .
In allen hier genannten Dokumenten des Standes der Technik wird
eine Koordinaten-Messmaschine offenbart, mit der Strukturen auf einem
Substrat vermessen werden können. Dabei ist das Substrat
auf einem in X-Koordinatenrichtung und in Y-Koordinatenrichtung
verfahrbaren Messtisch gelegt. Die Koordinaten-Messmaschine ist
dabei derart ausgestaltet, dass die Positionen der Strukturen, bzw.
der Kanten der Strukturen mittels eines Objektivs bestimmt werden.
Zur Bestimmung der Position der Strukturen, bzw. deren Kanten ist
es erforderlich, dass die Position des Messtisches mittels mindestens
eines Interferometers bestimmt wird. Schließlich wird die
Position der Kante in Bezug auf ein Koordinatensystem der Koordinaten-Messmaschine
ermittelt.
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Zur
Bestimmung von Positionen von Strukturen auf einem Substrat, bzw.
einer Maske oder zur Bestimmung von Kanten von Strukturen auf einem Substrat,
bzw. auf einer Maske ist es erforderlich, dass man die relative
Lage der Maske in Bezug auf das Koordinatensystem der Koordinaten-Messmaschine
kennt. Die zu vermessenden Substrate, bzw. Masken werden mittels
eines Handlingsystems auf dem Koordinaten-Messtisch der Koordinaten-Messmaschine
gelegt. Dabei ist es erforderlich, die genaue Lage der Maske, bzw.
die Fehllage der Maske in Bezug auf das Koordinatensystem der Koordinaten-Messmaschine
zu kennen. Das Handlingsystem, mit dem die Masken in den Messtisch
der Koordinaten-Messmaschine gelegt werden, ist nicht sehr genau,
so dass es oft zu einer Fehllage der Maske auf dem Koordinatenmesstisch
kommen kann. Eine Fehllage der Maske wird dadurch definiert, dass
die Maske außerhalb eines vordefinierten Toleranzbereichs
zu liegen kommt.
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Aufgabe
der gegenwärtigen Erfindung ist es, ein Verfahren zu schaffen,
mit dem es möglich ist, Substrate lagerichtig auf einem
verfahrbaren Messtisch einer Koordinaten-Messmaschine abzulegen.
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Die
obige Aufgabe wird gelöst durch ein Verfahren, das die
Merkmale des Anspruchs 1 umfasst.
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Ferner
ist es Aufgabe der gegenwärtigen Erfindung, eine Einrichtung
zu schaffen, mit der ein Substrat lagerichtig und zwar innerhalb
eines vordefinierten Toleranzbereichs auf einen Messtisch einer Koordinaten-Messmaschine
abgelegt werden kann.
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Die
obige Aufgabe wird gelöst durch eine Einrichtung, die die
Merkmale des Anspruchs 9 umfasst.
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Obwohl
in der nachstehenden Beschreibung nur noch der Begriff „Maske"
verwendet wird, ist es für einen Fachmann selbstverständlich,
dass der allgemeine Begriff „Substrat" die Begriffe: Wafer,
Maske (für die Produktion von Wafern) und Flat Panel Displays
mit umfasst. Bei dem Verfahren zum lagerichtigen Ablegen einer Maske
in einer Koordinaten-Messmaschine wird zunächst die Lage
der Maske und/oder Strukturen auf der Maske in Bezug auf ein Koordinatensystem
der Koordinaten-Messmaschine bestimmt. Aus der Bestimmung wird die
Ist-Lage der Maske und/oder die Ist-Lage der Strukturen auf der Maske
an eine Steuer- und Kontrolleinheit für das Masken-Handlingsystem übergeben.
Die Steuer- und Kontrolleinheit ist nicht nur für das Masken-Handlingsystem
zuständig, sondern auch für den verfahrbaren Messtisch,
so dass auch die Ist-Lage an den Messtisch übergeben wird.
Das Masken-Handlingsystem und der verfahrbare Messtisch werden derart
gesteuert, dass eine lagerichtige Ablage der Maske auf den Messtisch
der Koordinaten-Messmaschine erzielt wird. Eine lagerichtige Ablage
ist dann erreicht, wenn die Maske selbst und/oder die Strukturen
auf der Maske innerhalb eines Toleranzbereichs in Bezug auf das
Koordinatensystem der Koordinaten-Messmaschine lagerichtig abgelegt
sind.
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Die
Lage der Maske wird in Bezug auf das Koordinatensystem der Koordinaten-Messmaschine in
der Koordinaten-Messmaschine selbst bestimmt.
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Bei
der Feststellung einer Lageabweichung der Maske wird die Maske vom
Messtisch der Koordinaten-Messmaschine durch das Masken-Handlingsystem
erneut abgenommen. Für die erneute Ablage der Maske auf
dem Messtisch werden der Messtisch und das Masken-Handlingsystem
derart gesteuert, dass eine lagerichtige Ablage erzielt wird.
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Die
Lage der Maske wird in Bezug auf das Koordinatensystem der Koordinaten-Messmaschine in
einer der Koordinaten-Messmaschine zugeordneten Station zur Bestimmung
der Lage der Maske durchgeführt.
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Bei
der Feststellung einer Lageabweichung der Maske wird die Ist-Lage
der Maske und/oder die Ist-Lage der Strukturen auf der Maske von
der Station zur Bestimmung der Lage der Maske und/oder Strukturen
auf der Maske an die Steuer- und Kontrolleinheit des Messtisches
der Koordinaten-Messmaschine und/oder an das Masken-Handlingsystem übergeben.
Anhand dieser übergebenen Daten kann dann die Steuerung
entsprechend durchgeführt werden, dass damit eine lagerichtige
Ablage erzielt wird.
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Die
Ist-Lage der Maske und/oder die Ist-Lage der Strukturen auf der
Maske kann optisch ermittelt werden.
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Die
Maske kann in einer der Koordinaten-Messmaschine zugeordneten Station
zur Bestimmung der Lage der Maske dort gegen eine Ausrichtkante
geschoben werden.
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Die
Einrichtung zum lagerichtigen Ablegen einer Maske in einer Koordinaten-Messmaschine umfasst
dabei mindestens eine Koordinaten-Messmaschine, die einen in X-Koordinatenrichtung
und in Y-Koordinatenrichtung verfahrbaren Messtisch besitzt. Ebenso
ist der Koordinaten-Messmaschine ein Masken-Handlingsystem zugeordnet.
Ebenso ist eine Steuer- und Kontrolleinheit vorgesehen, die zumindest
den Messtisch und das Masken-Handlingsystem steuert und die Lage
der Maske und/oder der Strukturen auf der Maske in Bezug auf ein
Masken-Koordinatensystem der Koordinaten-Messmaschine bestimmt.
Die Steuer- und Kontrolleinheit übermittelt die Ist-Lage
der Maske und/oder die Ist-Lage der Strukturen auf der Maske an
das Masken-Handlingsystem. Die Steuer- und Kontrolleinheit steuert
das Masken-Handlingsystem und den verfahrbaren Messtisch derart
an, dass eine lagerichtige Ablage der Maske auf dem Messtisch der
Koordinaten-Messmaschine erzielbar ist. Die Maske selbst und/oder
die Strukturen auf der Maske müssen dabei innerhalb eines
Toleranzbereichs in Bezug auf das Koordinatensystem der Koordinaten-Messmaschine lagerichtig
abgelegt sein.
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Es
kann ein optisches Mittel vorgesehen sein, das die Ist-Lage der
Maske und/oder die Ist-Lage der Strukturen auf der Maske ermittelt.
Das optische Mittel kann dabei mindestens eine Kamera mit einem
Detektor umfassen, der anhand mindestens einer Maske und/oder Struktur
auf der Maske die Ist-Lage der Maske und/oder die Ist-Lage der Strukturen
ermittelt.
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Im
Folgenden sollen Ausführungsbeispiele die Erfindung und
ihre Vorteile anhand der beigefügten Figuren näher
erläutern.
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1 zeigt
schematisch ein Koordinaten-Messgerät, bei dem das erfindungsgemäße
Verfahren Anwendung findet.
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2 zeigt
schematisch die Anordnung der Einrichtung, bei der das erfindungsgemäße
Verfahren Anwendung findet. Dabei ist die Koordinaten-Messmaschine
lediglich stilisiert dargestellt.
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3 zeigt
schematisch die Darstellung einer Maske, bzw. eines Substrats, wobei
auf der Maske mehrere Strukturen aufgebracht sind und ebenfalls
einige Kennzeichnungen, anhand derer der Typ der Maske, bzw. die
Orientierung der Maske ebenfalls ermittelt werden kann.
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4 zeigt
eine Station, bei der die Orientierung der Maske, bzw. des Substrats
optisch ermittelt werden kann.
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5 zeigt
die nicht lagerichtige Ablage einer Maske.
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6 zeigt
schematisch die lagerichtige Ablage einer Maske in Bezug auf das
Koordinatensystem der Koordinaten-Messmaschine.
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Der
nachstehenden Beschreibung der Figuren sei vorausgeschickt, dass
bei unterschiedlichen Figuren dann gleiche Bezugszeichen verwendet
werden, wenn sich diese auf gleiche Merkmale beziehen.
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1 zeigt
eine schematische Ansicht einer Koordinaten-Messmaschine 1,
bei der das erfindungsgemäße Verfahren Anwendung
findet. Ebenso wird diese Koordinaten-Messmaschine mit mehreren anderen
Elementen zusammen verwendet, um schließlich die erfindungsgemäße
Einrichtung zu bilden. Die Maske 2, welche auf ihrer Oberfläche
die zu vermessenden Strukturen 3 trägt, ist in
einem Messtisch 20 eingelegt, der in X-Koordinatenrichtung
und in Y-Koordinatenrichtung in einer Ebene 25a beweglich
angeordnet ist. Die Ebene 25a wird durch einen Block gebildet.
Der Block 25 ist in einer bevorzugten Ausführungsform
aus einem Granit gebildet. Es soll jedoch nicht als Beschränkung
der Erfindung aufgefasst werden, wenn der Block 25 aus
Granit besteht. Es ist für einen Fachmann selbstverständlich,
dass die Ebene 25a innerhalb der der Messtisch bewegt wird,
mittels eines jeden dafür geeigneten Materials erfolgen
kann. Die Beweglichkeit des Messtisches 20 wird mittels
geeigneter Lager 21 erreicht. In einer bevorzugten Ausführungsform
sind die Lager 21 als Luftlager ausgebildet. Die Position
des Messtisches 20 innerhalb der Ebene 25a wird
mittels mindestens einem Laser-Interferometer 24 gemessen.
Zur Messung der Position des Messtisches 20 richtet das
Laser-Interferometer 24 einen Laserstrahl 23 auf
den Messtisch 20. Obwohl hier nur ein Laser-Interferometer 24 dargestellt
ist, soll dies nicht als eine Beschränkung der Erfindung
aufgefasst werden. Es ist für einen Fachmann selbstverständlich,
dass jedes bewegliche Element einer Koordinaten-Messmaschine 1 hinsichtlich
ihrer Position und Lage im Raum mittels eines Laser-Interferometers überwacht
werden kann.
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Zur
Beleuchtung der Maske 2 sind in der Koordinaten-Messmaschine
eine Durchlichtbeleuchtungseinrichtung 6 und eine Auflichtbeleuchtungseinrichtung 14 vorgesehen.
Von der Durchlichtbeleuchtungseinrichtung 6 wird das Beleuchtungslicht über einen
Umlenkspiegel und einen Kondensor 8 auf die Maske 2 gerichtet.
Ausge hend von der Auflichtbeleuchtungseinrichtung 14 wird
das Licht der Auflichtbeleuchtungseinrichtung 14 entlang
eines Auflichtbeleuchtungsstrahlengangs 5 über
das Objektiv 9 auf die Maske 2 gerichtet. Mittels
einer Verstelleinheit 15 kann das Objektiv 9 in
Richtung der Z-Koordinatenrichtung verstellt werden. Das Objektiv 9 sammelt das
von der Maske ausgehende Licht und richtet es über einen
Teilerspiegel auf einen Detektor 10, der mit einem Detektorchip 11 versehen
ist. Der Ausgang des Detektorchips ist mit einem Rechner 16 verbunden,
der einen Speicher 18 aufweist. Der Rechner 16 digitalisiert
die mit dem Detektor aufgenommenen Bildsignale und führt
sie zur weiteren Verarbeitung dem Rechner und/oder einer Steuer-
und Kontrolleinheit zu. Im Speicher 18 des Rechners 16 können
entsprechende Korrekturdaten abgelegt werden. In der Regel sind
die Korrekturdaten in Form einer Datenbankstruktur im Rechner organisiert.
Die gesamte Koordinaten-Messmaschine 1 ruht auf Schwingungsdämpfern 26,
um dadurch Gebäudeschwingungen oder Schwingungen der Umgebung
zu dämpfen, damit die Messwerte durch diese Schwingungen
nicht verfälscht werden.
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2 zeigt
eine schematische Anordnung der erfindungsgemäßen
Einrichtung 100, wobei dem Koordinaten-Messgerät 1 weitere
Systeme zugeordnet sind. Mit den weiteren Systemen kann eine effiziente
Untersuchung, bzw. Vermessung der Substrate, bzw. Masken gewährleistet
werden. In der in 2 dargestellten Ausführungsform
ist das Koordinaten-Messgerät 1 vereinfacht dargestellt.
Das Koordinaten-Messgerät 1 ist in der in 2 dargestellten Form
lediglich mit dem Messtisch 20 und dem auf dem Messtisch 20 befindlichen
Substrat 2 dargestellt. Die Koordinaten-Messmaschine 1 befindet
sich zusammen mit den anderen Systemen innerhalb eines Gehäuses 30.
Besonders vorteilhaft ist es, wenn das Gehäuse 30 als
Klimakammer ausgebildet ist. Innerhalb des Gehäuses 30 ist
ebenso ein System zum Orientieren 34 der Substrate 2 angeordnet.
In einer Wand 30a des Gehäuses 30 ist
eine Übergabestation 35 vorgesehen, über
die Substrate in das Innere des Gehäuses verbracht werden
können. Innerhalb des Gehäuses 30 ist
ferner ein Handlingsystem 36 vorgesehen, mit dem die Substrate 2,
bzw. die Masken von einer Transporteinrichtung 38 zu einem
möglichen im Gehäuse 30 befindlichen
Magazin 32 transportiert werden können. Die Bewegungsrichtung
des Handlingsystems 36 ist dabei im Wesentlichen durch
den Doppelpfeil 40 dargestellt. Ebenso kann mittels des Handlingsystems
die Maske auf den Messtisch 20 abgelegt werden. Alle Elemente
innerhalb des Gehäuses 30 sind mit einer Steuer-
und Kontrolleinheit 105 verbunden. Mittels dieser Steuer-
und Kontrolleinheit kann somit u. a. eine lagerichtige Ablage des Substrats 2,
bzw. der Maske auf den Messtisch 20 erzielt werden. Zur
Erzielung der lagerichtigen Ablage der Maske auf dem Messtisch 20 wird
dabei im Wesentlichen das Handlingsystem 36 und der Messtisch 20 in
geeigneter Weise von der Steuer- und Kontrolleinheit 105 gesteuert,
dass damit eine lagerichtige Ablage des Substrats 2 auf
dem Messtisch erzielt wird. Ferner sind, wie bereits erwähnt,
im Gehäuse 30 Systeme vorgesehen, mit denen ebenfalls
eine lagerichtige Position des Substrats 2 in Bezug auf
das Koordinatensystem der Koordinaten-Messmaschine 1 eingestellt
werden kann. Die so eingestellte Ausrichtung, bzw. Lage der Maske 2 kann
mit dem Handlingsystem 36 aufgenommen werden und unter
Steuerung der Steuer- und Kontrolleinheit 105 auf den Messtisch
gelegt werden.
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3 zeigt
eine schematische Darstellung eines Substrats 2, bzw. einer
Maske. Das Substrat 2 ist mit mindestens einer Kennzeichnung 54, 56 versehen,
die zur Feststellung der Orientierung des Substrats 2 dient.
Ohne Beschränkung der Allgemeinheit ist eine erste Kennzeichnung 54 ein
Barcode. Eine zweite Kennzeichnung 56 kann eine alphanumerische
Kennzeichnung des Substrats sein. Anhand der Kennzeichnung 54 und/oder 56 ist
es möglich, die Orientierung des Substrats 2 in
Bezug auf das Koordinatensystem der Koordinaten-Messmaschine zu bestimmen.
Ebenso trägt das Substrat eine Vielzahl von Strukturen 110.
Anhand dieser Strukturen 110 kann ebenfalls die Orientierung
des Substrats 2, bzw. der Maske ermittelt werden. Ebenso
ist es möglich, die Orientierung des Substrats 2,
bzw. der Maske anhand der Ränder 2a, 2b, 2c, 2d,
zu ermitteln.
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4 zeigt
eine Station, mit der die Lageabweichung der Maske von der Ist-Lage
festgestellt werden kann. Diese Station kann z. B. in der Einrichtung 34 zum
Orientieren des Substrats 2 innerhalb des Gehäuses 30 der
erfindungsgemäßen Einrichtung realisiert sein.
Das Substrat 2 ist dabei auf die Station 34 zum
Orientieren des Substrats 2 aufgelegt. Im Wesentlichen
umfasst die Station 34 zum Orientieren des Substrats 2 einen
Drehteller 34, der das Substrat 2 trägt.
Die Station 34 zum Orientieren des Substrats 2 ist
ebenfalls mit einer Recheneinheit verbunden, mit der die Orientierung
des Substrats automatisch eingestellt werden kann. Ebenso kann diese
Rechnereinheit 61 zusätzlich mit der Steuer- und
Kontrolleinheit 105 verbunden werden, mit der eine lagerichtige
Ablage der Maske auf den Messtisch 20 der Koordinaten-Messmaschine 1 erzielt werden
kann. Gegenüber dem Substrat 2 ist eine Kamera
vorgesehen, mit der Bilder von einem Teil des Substrats aufgenommen
werden können. Ein Teil des Substrats 2 kann dabei
die Kennzeichnung 54 und/oder 56 sein. Ebenso
ist es denkbar, dass mit der Kamera 60 eine Struktur 3 auf
der Oberfläche des Substrats 2 aufgenommen wird.
Anhand der Aufnahme kann die Position der Kante der Struktur 3 auf dem
Substrat 2 in Bezug auf das Koordinatensystem der Koordinaten- Messmaschine
ermittelt werden. Anhand der Ermittlung kann somit die Ist-Lage
des Substrats 2 bestimmt werden. Ebenso ist es vorstellbar,
dass die Ist-Lage der Maske, bzw. des Substrats 2 anhand
der Ränder 2a, 2b, 2c und 2d des
Substrats 2, bzw. der Maske ermittelt werden. Um eine schnellere
lagerichtige Ablage des Substrats 2, bzw. der Maske zu
erzielen, kann dieses gegen eine Kante 200 an einer Station
innerhalb des Gehäuses geschoben werden. Mit Hilfe dieser
Kante 200 kann somit eine schnelle Ausrichtung, bzw. lagerichtige
Ausrichtung der Maske, bzw. des Substrats 2 erzielt werden.
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5 zeigt
eine Darstellung, bei der das Substrat 2 nicht lagerichtig
in Bezug auf das Koordinatensystem der Koordinaten-Messmaschine
abgelegt ist. Eine lagerichtige Ablage eines Substrats ist z. B.
in der 6 dargestellt. Dabei ist durch den gestrichelt
dargestellten Rahmen 130 ein Toleranzbereich angegeben.
Eine lagerichtige Ablage der Maske 2 ist dann erreicht,
wenn sich die Ränder 2a, 2b, 2c und 2d des
Substrats 2, bzw. der Maske innerhalb dieses durch den
Rahmen 130 festgelegten Toleranzbereichs befinden. Eine
nicht lagerichtige Ablage des Substrats 2, bzw. der Maske
liegt dann vor, wenn die Ränder 2a, 2b, 2c und 2d der
Maske über den Toleranzbereich 130 hinausgehen.
Eine nicht lagerichtige Ablage der Maske, bzw. des Substrats 2 kann
z. B. durch eine Verschiebung, eine Verdrehung und eine Verschiebung
und Verdrehung bzgl. des Koordinatensystems der Koordinaten-Messmaschine
verursacht werden.
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Nachdem
eine Maske auf den Messtisch 20 der Koordinaten-Messmaschine
aufgelegt worden ist, wird die Lage der Maske 2 in Bezug
auf das Koordinatensystem der Koordinaten-Messmaschine bestimmt.
Falls die Lage der Maske 2 außerhalb eines vordefinierten
Toleranzbereichs 130 liegt, werden die mit der Koordinaten-Messmaschine 1 ermittelten
Daten an eine Steuer- und Kontrolleinheit 105 übergeben.
Mittels der übergebenen Daten steuert die Steuer- und Kontrolleinheit 105 das
Handlingsystem 36 und den in X-Koordinatenrichtung und
in Y-Koordinatenrichtung verfahrbaren Messtisch 20 derart,
dass eine lagerichtige Ablage der Maske erzielt wird. Wird z. B.
eine nicht lagerichtige Ablage der Maske festgestellt, wird die
Maske vom Messtisch 20 der Koordinaten-Messmaschine 1 abgenommen.
Für die Abnahme der Maske 2 vom Messtisch 20 der
Koordinaten-Messmaschine 1 wird das Handlingsystem 36 verwendet.
Ebenso wird für die erneute Ablage der Maske 2 auf
dem Messtisch 20 der Koordinaten-Messmaschine das Handlingsystem
benutzt. Dabei wird, wie bereits erwähnt, der Messtisch 20 und das
Handlingsystem 36 derart gesteuert, dass eine lagerichtige
Ablage erzielt werden kann.
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Ebenso
ist es möglich, dass die Lage der Maske 2 in Bezug
auf das Koordinatensystem der Koordinaten-Messmaschine 1 in
einer der Koordinaten-Messmaschine zugeordneten Station 34 bestimmt
wird. Die dort bestimmten Daten hinsichtlich der Lage der Maske 2 werden
ebenfalls an die Steuer- und Kontrolleinheit 105 übergeben.
Bei der Feststellung einer Lageabweichung der Maske in der Station 34 steuert
die Steuer- und Kontrolleinheit 105 den Messtisch der Koordinaten-Messmaschine 1 und/oder
das Handlingsystem 105 derart, dass eine lagerichtige Ablage
der Maske auf dem Messtisch erzielt wird. Die Ist-Lage der Maske,
bzw. die Ist-Lage der Strukturen 3 auf der Maske 2 wird
optisch ermittelt. Wie bereits erwähnt, kann eine Station
(hier Station 34) mit einer Ausrichtkante 200 versehen
sein. Um eine schnelle Ausrichtung der Maske in Bezug auf das Koordinatensystem
der Koordinaten-Messmaschine 1 zu erzielen, wird die Maske,
bzw. das Substrat 2 gegen diese Ausrichtkante 200 geschoben.
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Die
Erfindung wurde in Bezug auf eine Ausführungsform beschrieben.
Es ist jedoch denkbar, dass Abwandlungen und Anderungen durchgeführt werden
können, ohne dabei den Schutzbereich der nachstehenden
Ansprüche zu verlassen.
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ZITATE ENTHALTEN IN DER BESCHREIBUNG
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Zitierte Patentliteratur
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- - DE 19949005 [0004]
- - DE 19858428 [0004]
- - DE 10106699 [0004]
- - DE 102004023739 [0004]