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Die
vorliegende Erfindung betrifft ein Verfahren zur Korrektur eines
Fehlers des Abbildungssystems einer Koordinaten-Messmaschine.
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Ein
Messgerät zur Vermessung von Strukturen auf Masken, bzw.
Substraten, die zur Herstellung von Halbleitern eingesetzt werden,
ist aus dem Vortragsmanuskript „Pattern Placement
Metrology for Mask Making" von Frau Dr. Carola Bläsing offenbart. Der
Vortrag wurde anlässlich der Tagung Semicon, Edjucation
Program in Genf am 31. März. 1998 gehalten. In diesem Vortragsmanuskript
sind die Grundlagen eines Koordinaten-Messgeräts ausführlich
beschrieben. Bzgl. der Einzelheiten zur Funktionsweise und zum Aufbau
des Koordinaten-Messgeräts sei ausdrücklich auf
die 1 dieser Patentanmeldung verwiesen.
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Ein
Messgerät zur Vermessung von Strukturen auf einem transparenten
Substrat kann ebenfalls der Offenlegungsschrift
DE 19819492 entnommen werden.
Das Messgerät umfasst eine Auflichtbeleuchtungseinrichtung,
eine Abbildungseinrichtung und eine Detektoreinrichtung um die Strukturen
auf dem Substrat abzubilden. Das Substrat ist dabei auf einem verschiebbaren
Messtisch aufgelegt, der senkrecht zur optischen Achse verschoben
werden kann. Die Position des Messtisches wird dabei interferometrisch
bestimmt. Durch die Detektoreinrichtung werden von den Strukturen
Kantenprofile registriert. Anhand der Profile kann man dann die
Lage der Kanten der jeweiligen Struktur bestimmen.
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Die
Patentschrift
DE 10047211 offenbart
ein Verfahren und eine Vorrichtung zur Positionsbestimmung einer
Kante eines Strukturelements auf einem Substrat. Bei dem hier vorgeschlagenen
Verfahren wird zunächst ein Bild der zu vermessenden Kante aufgenommen.
Aus den Pixeln des Kamerabildes wird ein eindimensionales Intensitätsprofil
erzeugt. Anschließend wird die Kantenposition X
K mit Subpixel-Genauigkeit in dem mindestens
einen Intensitätsprofil bestimmt. Dieses Verfahren findet
zwar die Kanten mit sehr guter Wiederholbarkeit, ist jedoch natürlich
nicht in der Lage systematische Fehler z. B. durch die Abbildungsoptik
zu korrigieren. Eine spezielle Kategorie dieser nicht detektierten
Fehler tritt als Positionsdifferenz in Erscheinung, der zwischen der Vermessung
einer Kante in 0°-Orientierung der Struktur und in 180°-Orientierung
der Struktur an derselben Stelle erhalten wird.
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Aufgabe
der gegenwärtigen Erfindung ist es, ein Verfahren zu schaffen,
mit dem dieser durch die Abbildungsoptik bedingte systematische
Fehler korrigiert werden kann.
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Die
obige Aufgabe wird gelöst durch ein Verfahren zur Korrektur
eines Fehlers eines Abbildungssystems einer Koordinaten-Messmaschine,
welches die folgenden Schritte umfasst:
- – dass
die Position von mindestens zwei unterschiedlichen Kanten mindestens
einer Struktur auf einem Substrat gemessen wird, wobei das Substrat
in einer ersten Orientierung in der Koordinaten-Messmaschine positioniert
ist;
- – dass eine zweite Orientierung des Substrats eingestellt
wird, die sich von der ersten Orientierung unterscheidet;
- – dass die Position der mindestens zwei unterschiedlichen
Kanten der mindestens einen Struktur auf dem in der zweiten Orientierung
befindlichen Substrat gemessen wird und
- – dass ein systematischer Fehler des Abbildungssystems
eliminiert wird.
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Die
Drehung des Substrats kann automatisch eingestellt werden. Mit der
Koordinaten-Messmaschine kann zur Überprüfung
die eingestellte Drehung ermittelt werden. Die durch Drehung des
Substrats eingestellte zweite Orientierung kann 120°, 180° oder
240° umfassen. Der systematische Fehler, der eliminiert
wird, ist der Fehler einer Messoptik. Mit dem Verfahren wird die
Position von mindestens einer Kante der Struktur innerhalb eines
Messfensters bestimmt, das im Koordinatensystem der Kamera definiert
ist, und wobei nach dem Drehen des Substrats die gleiche Stelle
der Kante im Messfenster zu liegen kommt, wie bei dem nicht gedrehten
Substrat.
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In
einer weiteren Ausführungsform ist es von Vorteil, wenn
die Position von zwei unterschiedlichen Kanten der Struktur innerhalb
eines Messfensters bestimmt wird, das im Koordinatensystem der Kamera
definiert ist, und dass nach dem Drehen des Substrats die gleichen
Stellen der zwei Kanten im Messfenster zu liegen kommen, wie bei
dem nicht gedrehten Substrat.
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Bei
dem um 180° gedrehten Substrat ist die zu messende Struktur
relativ zum Messobjektiv gleich angeordnet. Das Messfenster wird
derart in einem Koordinatensystem des Detektors verschoben, dass
das Messfenster bei dem um 180° gedrehten Substrat an der
gleichen Stelle der zu messenden Struktur zu liegen kommt, wie bei
der Stelle des um 0° gedrehten Substrats. Die Messdaten
hinsichtlich der Position der Lage der Kante bei einem um 180° gedrehtem
Substrat werden mathematisch zurückgedreht, wobei eine
Fehlerkomponente mitgedreht wird, so dass nun die Fehlerkomponenten
in 0°- und 180° Orientierung weitestgehend entgegengesetzt gleich
sind und diese systematische Fehlerkomponente durch statistisches
Auswerten korrigiert wird.
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Das
Messfenster der Struktur wird an der gleichen Stelle angetastet,
wie an der Stelle bei der Messung des um 0° gedrehten Substrats.
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Der
systematische Fehler wird durch Mittelwertbildung aus jeweils zwei
unterschiedlichen Messwerten hinsichtlich der Position der Kante
der Struktur bestimmt. Die Korrekturwerte werden abgespeichert,
um bei identischen Datensätzen zur Eliminierung des Fehlers
verwendet zu werden. Einem Benutzer wird auf einem Display eine
Vielzahl von Anweisungen zur Verfügung gestellt. Der Benutzer kann
diese Anweisungen zur Abarbeitung in gewünschter Art und
Weise zusammenstellen. Die vom Benutzer zusammengestellten Anweisungen
werden automatisch ausgeführt. Dies hat den Vorteil, dass sich
die Größe des Fehlers durch eine Messung der Maske
bei einer 0° und einer 180° Lage bestimmen und
anschließend korrigieren lässt. Falls die Koordinaten-Messmaschine
mit einer Einrichtung zum Orientieren der Maske, bzw. des Substrats
ausgerüstet ist, dann kann diese Messung vollständig
automatisch ablaufen. Die Maske, bzw. das Substrat muss nicht mehr
von Hand gedreht werden.
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Im
Folgenden sollen Ausführungsbeispiele die Erfindung und
ihre Vorteile anhand der beigefügten Figuren näher
erläutern.
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1 zeigt
schematisch ein Koordinaten-Messgerät gemäß dem
Stand der Technik;
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2 zeigt
eine schematische Draufsicht auf eine Koordinaten-Messmaschine der
neben anderen Einrichtungen auch eine Einrichtung zum Drehen, bzw.
Orientieren des Substrats zugeordnet ist;
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3a zeigt
eine schematische Darstellung eines Substrats bei der 0°-Orientierung,
wobei das Substrat mit mehreren Kennzeichnungsmitteln und Strukturen
versehen ist;
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3b zeigt
eine schematische Darstellung des Substrats bei der 180°-Orientierung;
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4 zeigt
eine schematische Anordnung der Einrichtung zum Orientieren des
Substrats in Verbindung mit einer Recheneinheit und mit einer Kamera
zur Aufnahme der Oberfläche des orientierten Substrats;
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5a zeigt
eine Anordnung eines Messfensters bzgl. einer Struktur, in nomineller
Orientierung (keine Drehung);
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5b zeigt
eine schematische Anordnung des Messfensters, bemessen einer Position
einer Kante der Struktur aus 5a, wobei
die Struktur gegenüber 5a um
180° gedreht ist;
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6a zeigt
eine schematische Anordnung eines Messfensters in Bezug auf eine
Struktur, bei der die Position von zwei unterschiedlichen Kanten vermessen
werden soll;
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6b zeigt
eine Anordnung des Messfensters bzgl. der in 6a dargestellten
Struktur, wobei die Struktur, bzw. das Substrat um 180° gedreht
ist;
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7 zeigt
eine schematische Darstellung der Bestimmung eines Intensitätsprofils
von zwei unterschiedlichen Kanten einer Struktur, wobei die Struktur
einmal nicht gedreht ist und einmal um 180° gedreht ist.
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Ein
Koordinaten-Messgerät 1 der in 1 dargestellten
Art ist bereits seit längerem aus dem Stand der Technik
bekannt. Das Koordinaten-Messgerät 1 weist einen
Granitblock 25 auf, der auf Schwingungsdämpfern 26 gelagert
ist. Auf dem Granitblock 25 ist ein als Rahmen ausgebildeter
Messtisch 20 auf Luftlagern 21 in X-Koordinatenrichtung und
in Y-Koordinatenrichtung gleitend verschiebbar angeordnet. Der Rahmen
des Messtisches 20 besteht vorteilhafter Weise aus einer
Glaskeramik mit geringem thermischem Ausdehnungskoeffizienten. Die
Antriebselemente zum Verfahren des Messtisches 20 sind
nicht dargestellt. Die Position des Messtisches 20 wird
mit einem Laser-Interferometersystem 24, das einen Messlichtstrahl 23 aussendet, in X-Koordinatenrichtung
und in Y-Koordinatenrichtung gemessen. Im Rahmen des Messtisches 20 ist eine
Maske 2 oder ein Substrat eingelegt. Die Maske 2 besteht
z. B. aus Quarzglas. Auf der Maskenoberfläche ist mindestens
eine Struktur 3 mit einer zu messenden Kante 50 vorgesehen.
Die Position dieser Kante 50 gilt es zu bestimmen. Da der
Messtisch 20 als Rahmen ausgebildet ist, kann die Maske 2 auch
von unten her durchleuchtet werden.
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Oberhalb
der Maske 2 befindet sich als Abbildungssystem ein Messobjektiv 9 mit
kleinstmöglichen aber dennoch nicht vernachlässigbaren
optischen Fehlern, das zur Fokussierung längs einer optischen
Achse 5 in Z-Koordinatenrichtung verstellbar ist. Die optische
Achse 5 definiert den Bezugspunkt für die Messung
der relativen Position der Kante 50. Das Messobjektiv 9 ist über
eine Verstelleinrichtung 15 in Z-Koordinatenrichtung verstellbar.
Von einer Auflicht-Lichtquelle 14 gelangt das Licht durch
das Messobjektiv 9 auf die Oberfläche der Maske 2.
Das von dem Messobjektiv 9 gesammelte Licht, welches von
der Maske 2 ausgeht, gelangt über einen Teilerspiegel 12 auf
eine Kamera 10. Die Kamera 10 ist beispielsweise
als CCD-Kamera ausgebildet und ist mit einer Rechnereinheit 16 verbunden,
welche aus den aufgenommenen Signalen digitale Bilder erzeugt. Die
Auflicht-Lichtquelle 14 emittiert beispielsweise im nahen
UV-Spektralbereich. Mittels der Kamera 10 wird ein Bild
der Kante 50 der Struktur 3 aufgenommen, aus dem
die Position der Kante 50 als Koordinaten auf der Maske 2 bestimmt
werden. Die CCD-Kamera kann mit einem hochauflösenden Pixelarray
ausgestattet sein. Es sind jedoch auch andere Detektor-Einrichtungen
verwendbar, sofern aus deren Bildsignalen ein Intensitätsprofil
für ein Messfenster innerhalb des Kamerabildes bestimmt
werden kann.
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Im
Granitblock 25 ist ein höhenverstellbarer Kondensor 8 eingesetzt.
Dem Kondensor 8 ist eine weitere Beleuchtungsquelle 6 zugeordnet.
Diese Beleuchtungsquelle 6 fungiert als Durchlicht-Lichtquelle und
definiert einen Durchlicht-Beleuchtungsstrahlengang 4.
Der Durchlichtstrahlengang 4 wird mittels eines Umlenkspiegels 7 auf
den Kondensor 8 gerichtet. Es ist ebenso denkbar, dass
das Licht der Beleuchtungsquelle 6 mittels einer Einkoppeloptik
in einen Lichtwellenleiter eingekoppelt wird. Das aus dem Lichtwellenleiter
austretende Licht wird mittels einer Auskoppeloptik von dem Lichtwellenleiter
abgenommen und dann in den Kondensor eingestrahlt.
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Der
Koordinaten-Messmaschine 1 ist ein Computer 16 zugeordnet,
der mit der Kamera 10 und dem Laser-Interferometersystem 24 verbunden
ist. Weiterhin ist ein Monitor mit dem Computer 16 verbunden.
Der Monitor 16 dient zur Darstellung des mit der Kamera
aufgenommenen Bildes. Auf dem Computer 16 ist ein Computerprogramm
installiert, mit welchem ein Benutzer einzelne Verfahrensschritte
zu einem Rezept zusammenstellen kann, anhand dessen die Koordinaten-Messmaschine
eine bestimmte Messprozedur oder eine Kalibration durchführen kann.
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2 zeigt
eine schematische Anordnung der Koordinaten-Messmaschine 1 in
Verbindung mit anderen Einrichtungen zum Handhaben der Masken 2.
Die Koordinaten-Messmaschine ist in 2 vereinfacht
dargestellt und lediglich durch den Messtisch 20 und das
Substrat 2 repräsentiert. In der hier dargestellten
Ausführungsform ist das Koordinaten-Messgerät 1 in
einer Klimakammer 30 angeordnet. Innerhalb der Klimakammer 30 kann
z. B. auch ein Magazin 32 vorgesehen sein, in dem die Masken 2 zum
Temperieren zwischengelagert werden können. In einer Außenwand 30a der
Klimakammer 30 ist eine Übergabestation 35 vorgesehen,
mit der Masken in die Klimakammer 30 überführt
werden können. Der Übergabestation 35 ist
eine Übergabestation 38 nachgeordnet, in der die
Masken vor der Übernahme in eine andere Einrichtung kurz
zwischengelagert werden können. Ebenso ist in der Klimakammer 30 eine
Einrichtung 34 zum Orientieren der Substrate angeordnet.
So werden z. B. die Masken 2 von der Übergabestation 38 in
die Einrichtung 34 zum Orientieren übergeben.
Je nach Anweisung des Benutzers wird dann in der Einrichtung 34 zum Orientieren
eine bestimmte Orientierung der Maske 2 eingestellt. Mit
dieser Orientierung wird dann die Maske 2 wieder in die Übergabestation 38 verbracht. Von
dort kann die Maske 2 in der gewünschten Orientierung
mit dem Roboter 36 aufgenommen werden. Der Roboter 36 kann
in der in 2 dargestellten Richtung 40 bewegt
werden. Der Roboter 36 kann die entsprechend orientierte
Maske 2 in die Koordinaten-Messmaschine 1 oder
in eine andere Einrichtung innerhalb der Klimakammer 30 ablegen.
Mit der in 2 dargestellten Anordnung kann
das erfindungsgemäße Verfahren durchgeführt
werden. So wird zunächst eine Maske 2 in die Koordinaten-Messmaschine 1 eingelegt.
Dann wird mindestens eine Kante einer Struktur auf der Maske vermessen.
Nach dem Vermessen wird die Maske mittels des Roboters 36 zu
der Einrichtung 34 zum Orientieren der Maske 2 transportiert.
Dort wird die Maske definiert um 180° gedreht und anschließend
wieder in die Koordinaten-Messmaschine verbracht, um dort die Position der
Kante des um 180° gedrehten Substrats einer Struktur an
der gleichen Stelle zu messen, wie bei dem um 0° gedrehten
Substrat.
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3a zeigt
eine schematische Darstellung einer Maske 2, bei einer
Orientierung um 0°. Die Maske 2 ist mit mehreren
Kennzeichnungen versehen. Eine Kennzeichnung 54 kann z.
B. ein Barcode sein. Eine weitere Kennzeichnung 56 ist
als alphanumerische Kennzeichnung ausgebildet. Ebenso sind in 3a schematisch
Strukturen 3 eingezeichnet, die, für einen Fachmann
selbstverständlich, beliebige Formen annehmen können.
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3b zeigt
die um 180° gedrehte Maske 2. Die neu eingestellte
Orientierung der Maske 2 kann dabei anhand der mehreren
Kennzeichnungen 54 und 56, die auf der Maske 2 aufgebracht
sind, ermittelt werden.
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4 zeigt
eine schematische Darstellung einer möglichen Einrichtung 34 zum
Orientieren der Maske 2. Die Maske 2 ist dabei
auf einem Drehteller 34a angeordnet, mit dem die gewünschten
Orientierungen eingestellt werden können. In der hier vorgeschlagenen
Erfindung werden die Orientierungen 0° und 180° der
Maske eingestellt. Zum Überprüfen, ob die gewünschte
Orientierung durch die Einrichtung 34 zum Orientieren eingestellt
worden ist, ist gegenüber der Maske 2 eine Kamera 60 vorgesehen.
Mit der Kamera 60 kann z. B. ein Teilbild der Maske 2 oder
die gesamte Oberfläche der Maske 2 aufgenommen
werden. Die Kamera 60 ist mit einem Rechner 16 verbunden,
der mittels Bildverarbeitung die eingestellte Orientierung der Maske 2 ermittelt.
Ebenso ist der Rechner 16 mit der Einrichtung 34 zum
Orientieren der Maske 2 verbunden. Der Rechner 16 steuert somit
die Einrichtung 34 zum Orientieren und stellt somit die
gewünschte Orientierung der Maske ein. Mit dem Rechner
kann ferner ein Display 62 verbunden sein, über
das der Benutzer z. B. über den Zustand der Koordinaten-Messmaschine 1 und
der ermittelten Daten informiert wird. Ebenfalls kann der Benutzer über
das Display 62 Eingaben machen und bestimmte Rezepte zusammenstellen,
mit denen eine Maske inspiziert werden soll.
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5a zeigt
die Zuordnung eines Messfensters 45 zu einer Struktur 3,
wobei mit dem Messfenster 45 eine Kante 3a der
Struktur 3 gemessen werden soll. Das Messfenster 45 ist
auf dem CCD-Chip der Kamera definiert. Das Messfenster 45 ist
in der 0°-Orientierung angeordnet und die Struktur 3 ist ebenfalls
in der 0°-Orientierung angeordnet. Die 0°-Orientierung
ist in beiden Fällen durch das Bezugszeichen X-0°,
bzw. Y-0° gekennzeichnet.
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5b zeigt
die Zuordnung des Messfensters 45 zu der zu vermessenden
Struktur 3. Hier ist die zu vermessende Struktur 3 um
180° gedreht. Wie bereits vorste hend erwähnt,
kommt die Drehung der Struktur 3 durch eine Drehung der
Maske 2 um 180° zustande. Die Drehung der Maske
um 180° wird durch die Einrichtung 34 zum Orientieren
des Substrats bewerkstelligt. Dem Messfenster 45 wird hier ebenfalls
die Kante 3a der Struktur 3 vermessen. Dabei ist
zu beachten, dass das Messfenster 45 an der gleichen Stelle
zu liegen kommt, wie bei der Messung der Kante 3a bei der
Orientierung um 0°.
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6a zeigt
eine weitere Zuordnung des Messfensters 45 zu einer Struktur 3.
Bei der hier dargestellten Zuordnung des Messfensters 45 werden zwei
gegenüberliegende Kanten 3a und 3b der
Struktur 3 vermessen. Die Vermessung der Kanten 3a und 3b erfolgt
bei einer 0°-Orientierung der Maske 2.
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6b zeigt
die Zuordnung des Messfensters 45 zu der Struktur 3.
Dabei ist die Maske 2 um 180° gedreht und folglich
sind auch alle Strukturen auf der Maske um 180° gedreht.
Das Messfenster 45 ist nun derart der Struktur 3 zugeordnet,
dass die Kanten 3b und 3a an der gleichen Stelle
vermessen werden, wie bei der 0°-Orientierung.
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7 zeigt
die Darstellung zweier aufgenommener Intensitätsprofile
einer Struktur, bei der die beiden gegenüberliegenden Kanten
mit einem Messfenster bestimmt werden (siehe 6a und 6b).
Dabei ist auf der Abszisse 70 die Pixelnummer einer Zeile
im Messfenster 45 aufgetragen. Auf der Ordinate 71 ist
die Intensität des jeweils gemessenen Messprofils aufgetragen.
Das Messergebnis bei der 0°-Orientierung der Maske ist
durch die Dreiecke dargestellt, die mit der gepunkteten Linie verbunden
sind. Das mathematisch auf 0°-Orientierung zurückgedrehte
Messergebnis bei der 180°-Orientierung der Maske ist durch
die Quadrate dargestellt, die mit der gestrichelten Linie verbunden
sind. Die Intensitäten wurden dabei mit der Koordinaten-Messmaschine 1 im
Durchlicht aufgenommen. Die Struktur 3 ist in der hier
dargestellten Ausführungsform eine aus Chrom bestehende
Struktur, so dass das Licht, das auf diese Struktur trifft, bei
Durchlicht die Maske 2 nicht durchdringen kann, so dass
folglich an dieser Stelle der Struktur ein Intensitätsabfall
registriert werden kann. Sobald im Messfenster die Position der
Kante erreicht ist, registriert man einen scharfen Intensitätsabfall,
bzw. bei der gegenüberliegenden Kante dann wieder einen
scharten Intensitätsanstieg. Aus dem Abfall, bzw. aus dem
Anstieg wird dann jeweils die Position der Kante ermittelt. Wie
aus 7 deutlich hervortritt, sind die Verläufe
des Intensitätsprofils bei der 0°-Orientierung,
bzw. der 180°-Orientierung nicht identisch. Somit wird
klar, dass man bei der Auswertung der Intensitätsprofile hinsichtlich
der Lage der Kan ten in Abhängigkeit von der Orientierung
zu einem anderen Ergebnis gelangt. Die unterschiedlichen Messergebnisse
rühren von Abbildungsfehlern der Messoptik her. Dieser
systematische Messfehler hängt von den aktuellen Strukturbreiten
ab und ist praktisch nicht genau vorhersehbar. Die Größe
des Fehlers lässt sich aber durch eine Messung der Maske
in der 0°-Orientierung und der 180°-Orientierung
bestimmen. Die optischen Fehlerquellen liefern einen Positionsfehler,
der geometrisch relativ zur Maschine immer die gleiche Richtung,
und bei gleichen Strukturen weitgehend den gleichen Betrag hat.
Um die 180°-Resultate mit den Messungen in nomineller Orientierung
zu vergleichen, dreht man die Positionsmessdaten mathematisch zurück.
Dabei wird auch die Fehlerkomponente mitgedreht, so dass nun die
Fehlerkomponenten in 0°- und 180° Orientierung
weitestgehend entgegengesetzt gleich sind. Man kann also diese systematische
Fehlerkomponente durch statistisches Auswerten korrigieren. Als einfachste
Möglichkeit tritt hier der Mittelwert der 0°-Messung
und der zurückgedrehten 180°-Messung in Erscheinung,
hier heben sich die entgegengesetzt gleichen Komponenten gegenseitig
weg. Wie bereits vorstehend erwähnt, ist es besonders vorteilhaft, wenn
die Koordinaten-Messmaschine ebenfalls mit einer Einrichtung 34 zum
Orientieren der Maske ausgerüstet ist, dann kann die Messung
vollständig automatisch ablaufen. Die Maske 2 muss
nicht mehr von Hand gedreht werden, so dass ein erheblicher erhöhter
Durchsatz bei der Bestimmung des systematischen Messfehlers erzielt
werden kann. Dies ist natürlich von besonderem Vorteil,
wenn die Einrichtung 34 zum Einstellen der Orientierung
der Maske ebenfalls innerhalb der Klimakammer 30 für
die Koordinaten-Messeinrichtung 1 vorgesehen ist.
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ZITATE ENTHALTEN IN DER BESCHREIBUNG
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Diese Liste
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des Lesers aufgenommen. Die Liste ist nicht Bestandteil der deutschen
Patent- bzw. Gebrauchsmusteranmeldung. Das DPMA übernimmt
keinerlei Haftung für etwaige Fehler oder Auslassungen.
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Zitierte Patentliteratur
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- - DE 19819492
A [0003]
- - DE 10047211 [0004]
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Zitierte Nicht-Patentliteratur
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- - „Pattern
Placement Metrology for Mask Making" von Frau Dr. Carola Bläsing [0002]