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Die
Erfindung betrifft eine Anode für die Bildung eines Plasmas
durch Ausbildung elektrischer Bogenentladungen, ausgehend von einem
als Kathode geschalteten Target, für die Beschichtung von Substraten
mit Targetwerkstoff im Vakuum. Die erfindungsgemäßen
Anoden können für die Beschichtung von Oberflächen
von Substraten mit unterschiedlichsten Beschichtungswerkstoffen
eingesetzt werden. Dabei ist auch die Ausbildung von Schichtsystemen
möglich, bei denen mindestens zwei solcher Schichten übereinander
ausgebildet werden können, die aus unterschiedlichen Werkstoffen
oder Stoffen gebildet sind. So ist insbesondere die Ausbildung von Schichten
aus diamantähnlichem Kohlenstoff auf Substratoberflächen
mit der erfindungsgemäßen Lösung möglich.
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Üblicherweise
kann dabei so vorgegangen werden, dass zwischen einem als Kathode
geschalteten Target und einer Anode elektrische Bogenentladungen
gezündet werden und mit deren Energie der Targetwerkstoff
in ein Plasma überführt wird. Das gebildete Plasma
kann dann auf die Oberfläche eines Substrates gelangen
und dort eine Schicht ausbilden.
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Zur
Vermeidung einer unkontrollierten Bewegung von Fußpunkten
gezündeter Bogenentladungen entlang der Oberfläche
eines solchen Targets, die wiederum zu einem unkontrollierten Werkstoffabtrag
der Targetoberfläche führt, wurden Laserlichtquellen
eingesetzt. Dabei kann mit von einer Laserlichtquelle emittierten
Lasersimpulsen eine lokal gezielte Zündung elektrischer
Bogenentladungen erreicht werden, indem der Laserstrahl gezielt über
die Oberfläche eines solchen Targets ausgelenkt wird. Dadurch
kann ein gleichmäßigerer Werkstoffabtrag auf der
Targetoberfläche erreicht werden.
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Eine
solche technische Lösung ist u. a. in
DE 198 50 217 C1 beschrieben.
Das entsprechende Verfahren wird auf diesem Gebiet der Technik auch
als „Laser-Arc-Verfahren" bezeichnet.
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Für
die Zündung und Ausbildung elektrischer Bogenentladungen
sind ein oder auch mehrere, dann bevorzugt in Reihe angeordnete
Targets, als Kathode geschaltet. Oberhalb der Oberfläche
solcher Targets ist dann eine Anode angeordnet, wobei der Abstand zwischen
Targetoberfläche und Anode nur einige wenige Millimeter
beträgt. Die Anode ist an ein entsprechendes elektrisches
Spannungspotential geschaltet.
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Bisher
ist es üblich, einfache Anoden, die aus etwa 10 mm dicken
und ca. 30 bis 50 mm tiefen Edelstahlschienen gebildet sind, einzusetzen.
Eine solche Anode ist in 1 schematisch dargestellt.
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Aus
verständlichen Gründen sollten die Anodenschienen
so dimensioniert sein, dass sie etwas länger, als ein Target
bzw. mehrere nebeneinander angeordnete Targets sind.
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Es
ist aber auch bekannt, rotierende, wassergekühlte Rundanoden
mit einem Durchmesser im Bereich von 20 mm bis 30 mm für
die Ausbildung elektrischer Bogenentladungen zur Plasmabildung, ausgehend
von einem als Kathode geschalteten Target, einzusetzen.
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Insbesondere
beim „Laser-Arc-Verfahren" wird im Vergleich zu anderen
Vorgehensweisen, bei denen Plasma durch elektrische Bogenentladungen generiert
wird, eine geringere Beschichtungsrate erzielt.
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Um
diesem Nachteil begegnen zu können, besteht die Möglichkeit
der Erhöhung der elektrischen Leistung. Dies erhöht
aber durch die hierfür erforderlichen elektronischen Anlagen
die Kosten erheblich, so dass eine beliebige Erhöhung der
elektrischen Leistung nicht ohne weiteres möglich ist.
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Ein
weiteres Problem bei Beschichtungsverfahren im Vakuum mit infolge
elektrischer Bogenentladungen generierten Plasmen besteht darin,
dass auch größere Teilchen (Droplets) in die sich
ausbildende Schicht eingelagert werden können, so dass die
Oberflächengüte einer so ausgebildeten Schicht verschlechtert
ist.
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Ausgehend
hiervon ist es daher Aufgabe der Erfindung, eine Möglichkeit
vorzuschlagen, mit der zumindest die Beschichtungsrate erhöht
werden kann, ohne dass der hierfür erforderliche anlagentechnische
Aufwand erheblich vergrößert ist.
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Erfindungsgemäß wird
diese Aufgabe mit einer Anode, die die Merkmale des Anspruchs 1
aufweist, gelöst. Vorteilhafte Ausgestaltungsformen und Weiterbildungen
der Erfindung können mit in untergeordneten Ansprüchen
bezeichneten technischen Merkmalen erreicht werden.
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Die
erfindungsgemäße Anode für die Bildung eines
Plasmas durch Ausbildung elektrischer Bogenentladungen, ausgehend
von einem als Kathode geschalteten Target, ist dabei in bekannter
Art und Weise in einem Abstand zum Target angeordnet. Dabei sind
zunächst parallel zur Oberfläche des Targets ausgerichtete
Anodenschienen an der Anode vorhanden. Außerdem sind streifenförmige
Elemente an der Anode ausgebildet, die durch Spalte voneinander getrennt
sind. Die streifenförmigen Elemente gehen dabei von den
Anodenschienen aus und weisen in Richtung eines an der Oberfläche
zu beschichtenden Substrats. Das gebildete Plasma ist dabei von
zwei gegenüber liegenden Seiten mit den streifenförmigen Elementen
der Anode eingefasst. Zwischen den Anodenschienen ist ein Spalt
vorhanden, durch den gebildetes Plasma in Richtung auf ein zu beschichtendes
Substrat hindurch treten kann.
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Die
Anodenschienen sollten miteinander elektrisch leitend verbunden
sein.
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Wie
bereits im einleitenden Teil der Beschreibung angesprochen, kann
die erfindungsgemäße Anode auch beim „Laser-Arc-Verfahren"
eingesetzt werden, wobei dann die Zündung elektrischer
Bogenentladungen lokal dif ferenziert auf der Oberfläche von
Targets mit einem gepulst betriebenen Laserstrahl auf der Oberfläche
des Targets initiiert werden kann.
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Vorteilhaft
ist es, die streifenförmigen Elemente in einem schräg
geneigten Winkel auszurichten, so dass sich der Abstand gegenüber
liegend angeordneter streifenförmiger Elemente ausgehend von
der Anodenschiene vergrößert. Dadurch kann ein
sich in Richtung des Substrats konisch erweiternder Plasmaformungsbereich
ausgebildet werden.
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Von
der Anode aus dem gebildeten Plasma abgeführte Elektronen
können sich infolge der Spalte zwischen streifenförmigen
Elementen der Anode nur senkrecht zur Längsachse der Anode
bewegen und bilden dabei ein magnetisches Feld H aus, das im Wesentlichen
parallel zur Längsachse des/der Targets) bzw. parallel
zu den Anodenschienen ausgebildet ist. Dadurch kann erreicht werden,
dass im Plasma im Überschuss enthaltene positive Ionen
durch die Lorenzkraft des ausgebildeten magnetischen Feldes in Richtung
der Mitte zwischen streifenförmigen Elementen gebeugt werden.
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Da
die so beschleunigten Elektronen im Plasma selbst zu einem starken
elektrischen Strom entgegen der Plasma-Ausbreitungsrichtung führen, bildet
sich um das in Richtung auf das Substrat beschleunigte Plasma ebenfalls
ein konzentrisches magnetisches Feld H' aus, das wiederum zu einer
Fokussierung des gebildeten Plasmas zwischen den streifenförmigen
Elementen einer erfindungsgemäßen Anode führt.
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Massereichere
Partikel oder auch Elektronen können so durch die zwischen
streifenförmigen Elementen ausgebildete Spalte hindurch
treten. Solche Partikel oder andere unerwünschte Plasmabestandteile
können auch mittels Abschirmelementen abgefangen werden.
Solche Abschirmelemente können beispielsweise plattenförmige
Elemente sein, die im Bereich der oberen Stirnseiten von streifenförmigen
Elementen seitlich neben diesen angeordnet sind. Die Abschirmelemente
bilden eigentlich Blenden, mit denen vermieden werden kann, dass
diese aus dem Plasma separierten Partikel oder Plasmabestandteile
auf die zu beschichtende Oberfläche des Substrats gelangen
und insbesondere nachteilige Wirkungen bei der Schichtausbildung
hervorrufen.
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Es
besteht die Möglichkeit die streifenförmigen Elemente
ausgehend von den Anodenschienen in einer parallelen Ausrichtung
an einer erfindungsgemäßen Anode einzusetzen.
Dadurch kann quasi ein paralleler Spalt, der dann einen Plasmaformungsbereich
bilden kann, ausgebildet werden.
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Günstiger
ist es jedoch, die streifenförmigen Elemente in einem schräg
geneigten Winkel auszurichten, wie dies bereits angesprochen worden
ist. Hierbei sollte ein Mindestwinkel von mindestens 10° in
Bezug zur Targetoberfläche senkrecht ausgerichteten Ebene
eingehalten werden.
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Es
besteht aber auch die Möglichkeit zusätzliche
streifenförmige Elemente an einer erfindungsgemäßen
Anode auszubilden, die im Bereich der Stirnenden der Anodenschienen
angeordnet sind. Dadurch ist das gebildete Plasma nicht nur von
zwei gegenüberliegenden Seiten mit streifenförmigen
Elementen eingefasst, sondern dies trifft auch auf die stirnseitigen
Endbereiche zu. So kann mit streifenförmigen Elementen
ein in Richtung auf die zu beschichtende Oberfläche eines
Substrates offener "Käfig" gebildet werden.
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Außerdem
besteht die Möglichkeit zumindest streifenförmige
Elemente, die an gegenüberliegenden Seiten der Anode angeordnet
sind so auszubilden, dass sie entlang ihrer Längsachse
konkav oder konvex gekrümmt ausgebildet sind. Durch eine solche
Krümmung von streifenförmigen Elementen kann ein
Plasmaformungsbereich mit entsprechender geometrischer Gestaltung
ausgebildet werden. Bei einer konvexen Krümmung streifenförmiger
Elemente weitet sich der Plasmaformungsbereich in Richtung auf das
Substrat entsprechend auf, was im Fall einer konkaven Krümmung
streifenförmiger Elemente entgegengesetzt der Fall ist,
also im Bereich der in Richtung Substrat weisenden Stirnenden streifenförmiger
Elemente ein wiederum reduzierte Spaltbreite zwischen gegenüberliegend
angeordneten streifenförmigen Elementen erreichbar ist.
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Gegenüberliegend
angeordnete streifenförmige Elemente können in
Bezug zur Längsachse der Anodenschienen symmetrisch zueinander
angeordnet sein, so dass sich jeweils zwei streifenförmige Elemente
gegenüberliegen. Es besteht aber auch die Möglichkeit
solche streifenförmigen Elemente versetzt zueinander anzuordnen,
so dass ein streifenförmiges Element an einer Seite der
Anode einem Spalt, der an der anderen Seite der Anode angeordnet
ist, gegenüberliegt.
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Die
Anode sollte bevorzugt im Bereich der Anodenschiene an eine elektrische
Spannungsquelle angeschlossen sein, wobei es besonders bevorzugt ist,
diesen Anschluss an einem stirnseitigen Ende der Anode vorzusehen.
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Insbesondere
bei in Richtung einer Längsachse sehr langen Targets oder
einer entsprechenden Anordnung mehrerer solcher Targets, besteht selbstverständlich
auch die Möglichkeit mehrere erfindungsgemäße
Anoden, dann bevorzugt ebenfalls in einer Reihenanordnung vorzusehen.
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Spalte
zwischen benachbart zueinander angeordneten streifenförmigen
Elementen sollten mindestens so breit wie die jeweiligen streifenförmigen Elemente
sein.
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Streifenförmige
Elemente können aber auch ausgehend von den Anodenschienen
sich konisch verjüngend ausgebildet werden, so dass sich
ihre jeweilige Breite sukzessive verkleinert und dementsprechend
die Spalte zwischen den nebeneinander angeordneten streifenförmigen
Elementen ausgehend von der Anodenschiene in Richtung der Stirnenden
von streifenförmigen Elementen, die in Richtung Substrat
weisen, verbreitert sind. Durch so verbreiterte Spalte können
größere Partikel oder andere unerwünschte
Bestandteile aus dem Plasma besser separiert und eine dementsprechende
unerwünschte Beeinflussung bei der Schichtausbildung auf
der Substratoberfläche vermieden werden.
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Mit
der erfindungsgemäßen Anode kann die Partikeldichte
in der auf Substratoberflächen ausgebildeten Beschichtung
um zirka 40% reduziert und so die Schichtqualität und insbesondere
deren Oberflächen Schichtgüte deutlich verbessert
werden. Außerdem kann die Beschichtungsrate um mindestens 50%
erhöht werden. Bei der Ausbildung von diamantähnlichen
Kohlenstoffschichten konnte bei einer Schichtdicke von zirka einem
Mikrometer ein gegenüber herkömmlich ausgebildeten
Beschichtungen aus diamantähnlichem Kohlenstoff ein um
50% erhöhter Elastizitätsmodul erreicht werden.
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Bei
der Ansteuerung von Anoden für die Zündung elektrischer
Bogenentladungen in gepulster Form werden bisher Hochstrom-Impulsquellen
eingesetzt, deren Stromspitzen bei bis zu zirka 3000 A und einer
Impulslänge zwischen 2 Mikrosekunden und 200 Mikrosekunden
liegen. Dabei wird eine Schaltung verwendet, bei der eine elektrische
Stromquelle einen elektrischen Kondensator auflädt und zwischen
diesem Kondensator und einem Anschluss der Anode oder einem als
Kathode geschalteten Target ein induktives Element geschaltet ist.
Zusätzlich ist in dem Stromkreis parallel zur Anoden-Kathodenstrecke
eine Diode geschaltet. In Folge der hohen elektrischen Ströme
sollten und sind auch die entsprechenden elektrischen Bauelemente
Wasser- oder intensiv luftgekühlt, was sehr nachteilig
ist. Mit einer solchen bekannten Lösung ist ein schneller Wechsel
von Bauelementen oder ein einfaches Umschalten zwischen verschieden
großen Bauelementen und demzufolge eine schnelle Änderung
von nicht ohne Weiteres möglich. Dies bedeutet, die Impulslänge
und die elektrische Stromstärke können nicht auf
einfach Weise den jeweiligen momentanen Verfahrensbedingungen angepasst
werden.
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Bei
einer solchen bekannten Schaltung treten die an sich bekannten Bedingungen
von Parallelschwingkreisen auf. Die Spannungs- und Stromverläufe
führen dazu, dass nach einer doppelten Brennzeit einer
elektrischen Bogenentladung, der Kondensator nach erfolgtem Umschwingen
mit Hilfe der Diode in Praxis wieder auf 40 bis 60% seiner elektrischen
Ausgangsspannung nachgeladen werden kann. Eine elektrische Bogenentladung
verbraucht lediglich bis zu 40% der im elektrischen Kondensator gespeicherten
elektrischen Energie. Dadurch besteht die Gefahr, dass durch noch
vorhandene Ionen und Elektronen eine unerwünschte Zündung
einer elektrischen Bogenentladung, beispielsweise zwischen einer
Kammerwand oder dem Substrat, das an eine negative elektrische Spannung
angeschlossen ist und der Anode gezündet wird. Da aber
kurz nach einer elektrischen Bogenentladung eine Nachladung des
elektrischen Kondensators auf die erforderliche elektrische Sollspannung
erfolgen muss, kommt es gelegentlich zu einem Kurzschluss zwischen
elektrischer Stromquelle und den unerwünscht gezündeten elektrischen
Bogenentladungen, was zu erheblichen Störungen der elektrischen
Stromquelle führt. Elektrische Stromquellen müssen
dann zumindest kurzzeitig abgeschaltet werden.
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Diese
Nachteile treten auch bei Schaltungen auf, bei denen mehrere solcher
Parallelschwingkreise an eine elektrische Stromquelle angeschlossen sind.
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Die
vorab erwähnten Nachteile können aber dadurch
beseitigt werden, dass ein zusätzlicher Schalter, bevorzugt
Halbleiterschalter, in Reihe mit dem induktiven Element zwischem
elektrischem Kondensator und einem Anschluss an eine Anode oder
einem als Kathode geschalteten Target geschaltet wird.
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Mit
solchen Schaltern kann eine gezielte Trennung der Entladungsstrecke
von Kondensatoren erreicht werden. Nach einer Abschaltung mit einem solchen
Schalter kurz im Anschluss an eine Bogenentladung kann eine problemlose
und vollständige Nachladung eines Kondensators erfolgen,
ohne dass eine Störung auftreten kann. Innerhalb einer
Vakuumkammer noch vorhandene Ionen oder auch Elektronen einer vorhergehenden
Bogenentladung können keine unerwünschten Nachzündungen
von elektrischen Bogenentladungen hervorrufen.
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Als
Schalter können beispielsweise schnelle IGBT oder andere
Leistungstransistoren eingesetzt werden. Die Szeuerung solcher Schalter
kann mit Hilfe einer Zeitsteuerung erfolgen, wobei die Impulslänge
durch ein verzögertes Zuschalten von Entladungsstrecken
in mehreren Schritten verändert werden kann.
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Nachfolgend
soll die Erfindung beispielhaft näher erläutert
werden.
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Dabei
zeigen:
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1 in
schematischer Darstellung eine Anode, nach dem Stand der Technik;
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2 in
schematischer Darstellung ein Beispiel einer erfindungsgemäßen
Anode und
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3 ein
weiteres Bespiel einer erfindungsgemäßen Anode
mit zusätzlichen Abschirmelementen.
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In 1 ist
eine Anordnung mit einer Anode 1 nach dem Stand der Technik
dargestellt. Dabei ist die Anode 1 aus zwei Elementen,
in Form von Anodenschienen 1' mit einer Dicke von zirka
10 Millimetern und einer Breite von 30 bis 50 Millimetern aus Edelstahl
bestehend, oberhalb eines walzenförmigen Targets 4,
das als Kathode geschaltet ist in einem Abstand von wenigen Millimetern
angeordnet. Zwischen den beiden Anodenschienen 1' der Anode 1,
die hier in einem schräg geneigten Winkel zueinander ausgerichtet
sind, ist ein Spalt ausgebildet, durch den ein vom Target 4 gebildetes
Plasma 8 in Richtung auf ein hier nicht dargestelltes Substrat
hindurch treten und zu dessen Oberflächenbeschichtung genutzt
werden kann.
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Aus 1 ist
ebenfalls ersichtlich, dass ein von einer Laserlichtquelle emittierter
Laserstrahl 2 auf die Oberfläche des Targets 4 gerichtet
werden kann. Durch einen gepulsten Betrieb des Laserstrahls 2 und
dabei gleichzeitiger Auslenkung, können elektrische Bogenentladungen
zwischen Target 4 und den Anodenschienen 1' lokal
definiert gezündet und dann zur Plasmabildung genutzt werden.
Der Fußpunkt der gezündeten elektrischen Bogenentladungen
kann so gezielt verändert und ein gleichmäßiger
Werkstoffabtrag über die gesamte Oberfläche des
Targets 4 erreicht werden. Ein Anschlusskontakt 3 ist
hier an einem stirnseitigen Ende der Anode 1 vorhanden,
mit dem die Anode 1 mit einer hier ebenfalls nicht dargestellten
elektrischen Spannungsquelle verbunden werden kann.
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Mit 2 soll
ein erfindungsgemäßes Beispiel näher
verdeutlicht werden.
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Dabei
ist eine erfindungsgemäße Anode 1 so ausgebildet,
dass ausgehend von Anodenschienen 1' die Anode 1 mit
streifenförmigen Elementen 6 und 6' in
Richtung auf ein hier ebenfalls nicht dargestelltes Substrat verlängert
ist. Zwischen dem streifenförmigen Elementen 6 und 6' sind
Spalte 5 ausgebildet.
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Die übrigen
Elemente entsprechen denen, wie sie im Beispiel nach dem Stand der
Technik gemäß 1 bereits
dargestellt und erläutert worden sind.
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Die
mit der Anode 1 aus dem gebildeten Plasma 8 abgeführten
Elektronen können mittels der streifenförmigen
Elemente 6 und 6' sowie den zwischen diesen ausgebildeten
Spalten 5 nur senkrecht zur Längsachse abfließen
und erzeugen so das magnetische Feld H, das weitgehend parallel
zur Längsachse der Anodenschienen 1' und des Targets
ausgebildet ist. Dadurch kann die Bahn der im gebildeten Plasma 8 im Überschuss
vorhandenen positiven Ionen durch die Lorenzkraft zur Mitte des
Plasmas 8 gebeugt werden.
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Da
die beschleunigten Elektronen in Plasma 8, stärker
als die überschüssigen, aber massereicheren Ionen,
im sich ausbreitenden Plasma selbst zu einem starken elektrischen
Strom in Richtung der Ausbreitung des Plasmas 8 führen,
bildet sich um das in Richtung auf das Substrat beschleunigte Plasma 8 ebenfalls
ein konzentrisches magnetisches Feld H'. Das magnetische Feld H'
führt zu einer weiteren Fokussierung des Plasmas 8.
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Bei
diesem Beispiel ist eine erfindungsgemäße Anode 1 durch
ein Laserschneidverfahren aus Edelstahl hergestellt worden. Die
streifenförmigen Elemente 6 und 6' haben
dabei, ausgehend von der in Richtung Target 4 weisenden
Stirnseite, also der Stirnseite der Anodenschienen 1' eine
Länge von 200 Millimetern. Sie weisen außerdem
eine Dicke von 4 Millimetern auf. Das Spaltmaß zwischen
den einzelnen streifenförmigen Elementen 6 und 6' betrug
26 Millimeter. Zwischen den Anodenschienen 1' ist ein Spalt
ausgebildet, durch den gebildetes Plasma 8 ausgehend vom
Target 4 in Richtung auf ein hier ebenfalls nicht dargestelltes
Substrat hindurch treten und zu dessen Oberflächenbeschichtung
genutzt werden kann.
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Wie
aus 2 ersichtlich, können die zwei Reihen
streifenförmiger Elemente 6 und 6' in
einem schräg geneigten Winkel zueinander ausgerichtet sein.
Der Winkel bei dieser Anode 1 betrug 15° in Bezug
zur senkrechten Ebene zwischen den beiden Reihen strei fenförmiger
Elemente 6 und 6'.
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Über
den Anschluss 3 ist die Anode 1 an eine elektrische
Spannungsquelle angeschlossen. Von dort wird eine elektrische Spannung
in Höhe von 140 V angelegt. Die Anode ist mit einer maximalen
Stromstärke von 2000 A betrieben worden.
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Bei
dem in 2 und auch in 3 gezeigten
Beispielen wurde ein Target 4 aus reinem Kohlenstoff eingesetzt,
mit dem ein Substrat an einer Oberfläche mit diamantähnlichem
Kohlenstoff beschichtet werden kann.
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In
nicht dargestellter Form können aber auch mehrere solcher
walzenförmigen Targets 4 entlang der Längsachse,
um die diese dann rotieren, angeordnet und aus unterschiedlichen
Werkstoffen gebildet sein, so dass wie im einleitenden Teil der
Beschreibung angesprochen auch Mehrschichtsysteme an Oberflächen
von Substraten ausgebildet werden können, ohne dass zusätzlicher
anlagentechnischer Aufwand für den Austausch einzelner
Elemente oder ein Transport eines jeweils zu beschichtenden Substrates
erforderlich ist.
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Entgegen
der Darstellung in den 2 und 3 sollte
eine erfindungsgemäße Anode 1 zumindest
in etwa der Länge eines Targets 4 oder der Gesamtlänge
einer Reihenanordnung mehrerer Targets 4 entsprechen, bevorzugt
jedoch etwas länger sein.
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Das
in 3 gezeigte Beispiel einer erfindungsgemäßen
Anode 1 unterscheidet sich in zwei Punkten vom Beispiel
gemäß 2. Dabei wurden die Spalte 5 zwischen
streifenförmigen Elementen 6 und 6' vergrößert,
so dass der Abstand zwischen nebeneinander an geordneten streifenförmigen
Elementen 6 oder 6' ebenfalls vergrößert
ist, als bei dem in 1 gezeigten Beispiel einer Anode 1.
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Außerdem
sind seitlich neben der Anode im Bereich der oberen Stirnenden von
streifenförmigen Elementen 6 und 6' hier
plattenförmige Abschirmelemente 7 und 7' angeordnet
worden. So kann die hier in Richtung Target 4 weisende
Fläche der Abschirmelemente 7 und 7' genutzt
werden, um Partikel oder andere unerwünschte Bestandteile
aus dem gebildeten Plasma 8, die durch die Spalten 5 hindurch
getreten sind, abzufangen und so die Oberfläche eines zu beschichtenden
Substrates mittels der Abschirmelemente 7 und 7' vor
diesen Partikeln oder Plasmabestandteilen zu schützen.
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Es
liegt auf der Hand, dass Abschirmelemente 7 und 7' auch
in einem leicht schräg geneigten Winkel ausgerichtet werden
können, wobei jedoch die Oberfläche so ausgerichtet
sein sollte, dass Partikel oder unerwünschte Bestandteile
aus dem Plasma 8 sicher abgefangen werden können.
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Die
Abschirmelemente 7 und 7' können zur Verbesserung
ihrer Schutzwirkung ebenfalls auf ein elektrisch positives Spannungspotential
gelegt werden.
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ZITATE ENTHALTEN IN DER BESCHREIBUNG
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Zitierte Patentliteratur
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