WO2008128536A3 - Anode für die bildung eines plasmas durch ausbildung elektrischer bogenentladungen - Google Patents

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Abstract

Die Erfindung betrifft eine Anode (1) für die Bildung eines Plasmas durch Ausbildung elektrischer Bogenentladungen, ausgehend von einem als Kathode geschalteten Target (4), für die Beschichtung von Substraten mit Targetwerkstoff im Vakuum. Aufgabe der Erfindung ist es, eine Möglichkeit vorzuschlagen, mit der zumindest die Beschichtungsrate erhöht werden kann, ohne dass der hierfür erforderliche anlagentechniεche Aufwand erheblich vergrößert ist. Die erfindungsgemäße Anode (1) für die Bildung eines Plasmas durch Ausbildung elektrischer Bogenentladungen, ausgehend von einem als Kathode geschalteten Target (4), ist dabei in bekannter Art und Weise in einem Abstand zum Target (4) angeordnet. Dabei sind zunächst parallel zur Oberfläche des Targets (4) ausgerichtete Anodenschienen (1) an der Anode vorhanden. Außerdem sind streifenförmige Elemente (6, 6-1), an der Anode ausgebildet, die durch Spalte voneinander getrennt sind. Die streifenförmigen Elemente (6, 6-1), gehen dabei von den Anodenschienen (1) aus und weisen in Richtung eines an der Oberfläche zu beschichtenden Substrats. Das gebildete Plasma (8) ist dabei von zwei gegenüber liegenden Seiten mit den streifenförmigen Elementen (6, 6-1) der Anode (1) eingefasst.
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