DE102006037273A1 - Flattened, resin coated printed circuit board - Google Patents

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Abstract

Es ist eine Aufgabe der Erfindung, eine abgeflachte bzw. abgeglichene, mit Harz beschichtete gedruckte Leiterplatte herzustellen, die kein Polieren erfordert, wobei die beiden Oberflächen der gedruckten Leiterplatte extrem stark abgeflacht bzw. abgeglichen sind und die Dicke der gedruckten Leiterplatte in allen Bereich (d. h. allen Portionen und Teilen) der gedruckten Leiterplatte fixiert ist, wodurch eine ausgezeichnete Komponentenbefestigungsfähigkeit (Bondhügelbindungsfähigkeit und dergleichen) und ausgezeichnete Impedanz-Charakteristiken (Impedanzstabilität und dergleichen) erhalten werden. Es ist weiterhin eine weitere Aufgabe der Erfindung, eine gedruckte Leiterplatte zur Verfügung zu stellen, die aus einer solchen gedruckten Leiterplatte hergestellt worden ist und bei der beide Oberflächen sehr stark abgeflacht bzw. abgeglichen sind, z. B. eine mehrschichtige gedruckte Leiterplatte (insbesondere eine vierschichtige gedruckte Leiterplatte), die als eine innere Schicht verwendbar ist, und eine gedruckte Leiterplatte (insbesondere eine doppelseitig bedruckte Leiterplatte), die als eine äußere Schicht verwendbar ist. DOLLAR A Ein Verfahren zur Herstellung der gedruckten Leiterplatte umfasst die Stufen: Aufbringen einer photo/wärmehärtenden Harzzusammensetzung auf eine Oberfläche und das Durchgangsloch einer gedruckten Leiterplatte mit dem Durchgangsloch; nacheinander erfolgendes Durchführen der folgenden Stufen (1) und (2); Aufbringen der photo/wärmehärtenden ...It is an object of the invention to produce a flattened resin coated printed circuit board that does not require polishing, wherein the two surfaces of the printed circuit board are extremely flattened and the thickness of the printed circuit board in all areas (ie all portions and parts) of the printed circuit board, whereby an excellent component mounting capability (bump bonding capability and the like) and excellent impedance characteristics (impedance stability and the like) are obtained. It is still a further object of the invention to provide a printed circuit board which has been made from such a printed circuit board and in which both surfaces are very much flattened, e.g. A multi-layered printed circuit board (especially a four-layered printed circuit board) usable as an inner layer, and a printed circuit board (particularly a double-sided printed circuit board) usable as an outer layer. DOLLAR A A method of manufacturing the printed circuit board comprises the steps of: applying a photo / thermosetting resin composition to a surface and the through hole of a printed circuit board having the through hole; successively performing the following steps (1) and (2); Applying the photo / thermosetting ...

Description

HINTERGRUND DER ERFINDUNGBACKGROUND THE INVENTION

1. Gebiet der Erfindung 1 , Field of the invention

Die vorliegende Erfindung betrifft eine gedruckte Leiterplatte und ein Verfahren zu ihrer Herstellung. Die Erfindung betrifft insbesondere eine gedruckte Leiterplatte, bei der beide Oberflächen (Vorder- und Rückseiten) stark abgeflacht bzw. stark abgeglichen sind und (insbesondere die gesamte Fläche davon) mit einem Harz beschichtet ist und beispielsweise eine abgeflachte bzw. abgeglichene und mit Harz beschichtete gedruckte Leiterplatte, eine vierschichtige gedruckte Leiterplatte, die als innere Schicht verwendbar ist, und eine doppelseitig bedruckte Leiterplatte, die als äußere Schicht verwendbar ist, sowie ein Verfahren zur Herstellung derselben.The The present invention relates to a printed circuit board and a Process for their preparation. The invention particularly relates a printed circuit board with both surfaces (front and backsides) strongly flattened or strongly balanced and (in particular the the whole area of which) is coated with a resin and, for example, a flattened or matched and resin coated printed circuit board, a four-layer printed circuit board that serves as an inner layer is usable, and a double-sided printed circuit board, the as an outer layer is usable, as well as a method for producing the same.

2. Beschreibung des einschlägigen Standes der Technik2. Description of the relevant state of the technique

Als ein Verfahren zur Herstellung einer abgeflachten und mit gepluggten bzw. verschlossenen Löchern versehenen gedruckten Leiterplatte ist schon ein Verfahren bekannt, bei dem zuerst ein Durchgangsloch der gedruckten Leiterplatte mit einer wärmehärtenden Harzzusammensetzung gepluggt bzw. verschlossen wird und dann das eingegebene Harz wärmegehärtet wird und ein gehärteter Teil des Harzes von der Oberfläche der gedruckten Leiterplatte entfernt wird, indem ein Polieren durchgeführt wird, um die Oberfläche abzuflachen (Patentdokument 1).When a method of making a flattened and pleated with or closed holes provided Printed circuit board is already known a method in which First, a through hole of the printed circuit board with a thermosetting Resin composition is plugged or closed and then the entered resin is thermoset and a hardened one Part of the resin from the surface of the printed circuit board is removed by performing a polishing, around the surface to flatten (Patent Document 1).

Dieses Verfahren ist jedoch mit einem Problem dahingehend behaftet, dass die Anzahl der Herstellungsstufen durch das Polieren erhöht wird und dass die Polierkosten erhöht werden. Das Verfahren ist auch mit einem weiteren Problem dahingehend behaftet, dass durch das Polieren eine Deformation (oder eine Dimensionsveränderung) der gedruckten Leiterplatte erfolgt.This However, the method has a problem that the number of stages of manufacture is increased by the polishing and that the polishing costs increased become. The method is also with another problem Afflicted by polishing a deformation (or a dimensional change) the printed circuit board is done.

Dann ist ein Verfahren zum Abflachen der Oberfläche der gedruckten Leiterplatte ohne Polieren angestrebt worden. Als ein solches Verfahren ist das Verfahren gemäß dem Patentdokument 2 vorgeschlagen worden. Das heißt, bei diesem Verfahren wird zuerst das Durchgangsloch der gedruckten Leiterplatte mit einem härtenden Harz zugestöpselt [7A, 705]. Dann wird die gedruckte Leiterplatte mit härtenden Resists, durch thermische Verpressung mit der gedruckten Leiterplatte sandwichartig bei den Härtungsresists angeordnet, press-verbunden [7B, 727]. Danach werden das aufgebrachte Harz und der härtende Resist durch ein Hochtemperaturerhitzen vollständig gehärtet [7C, 728].Then, a method for flattening the surface of the printed circuit board without polishing has been sought. As such a method, the method according to Patent Document 2 has been proposed. That is, in this method, first, the through hole of the printed circuit board is plugged with a hardening resin [ 7A . 705 ]. Then, the printed circuit board with curing resists is sandwiched in the curing resists by thermal compression with the printed circuit board. 7B . 727 ]. Thereafter, the applied resin and the hardening resist are fully cured by high-temperature heating [ 7C . 728 ].

Bei diesem Verfahren ist es jedoch schwierig, dass der Resist [7B, 727] an einer Aussparung [7B, 704a] zwischen den Schaltkreisen vollständig haftet und. zwar insbesondere in einem Teil mit vielen Schaltungen, selbst dann, wenn ein Vakuumpressen durchgeführt wird. Als Ergebnis wird leicht ein Spalt zwischen der Aussparung und dem Resistfilm gebildet und in manchen Fällen bleibt Luft in dem Spalt zurück. Daher tritt auf der Oberfläche des Resistfilms [7B, 725] das sogenannte „Popcorn-Phänomen" auf, bei dem die zurückgebliebene Luft bei der nachfolgenden Hochtemperaturerhitzung thermisch expandiert wird und manchmal auf der Oberfläche des Resistfilms Blasen auftreten.However, in this process it is difficult for the resist to 7B . 727 ] at a recess [ 7B . 704a ] completely adheres between the circuits and. in particular in a part with many circuits, even if a vacuum press is performed. As a result, a gap is easily formed between the recess and the resist film, and in some cases, air remains in the gap. Therefore, on the surface of the resist film [ 7B . 725 ], the so-called "popcorn phenomenon" in which the remaining air is thermally expanded in the subsequent high-temperature heating and sometimes bubbles occur on the surface of the resist film.

Demgegenüber tritt, weil eine große Menge des Resistharzes [7B, 727] verwendet wird, um eine Aussparung [7B, 704b] zwischen den Schaltkreisen in einem Teil mit wenigen Schaltkreisen verwendet wird, manchmal eine Kerbe auf der Oberfläche des Resists nach dem Wärmehärten auf. [7C, 726).On the other hand, because a large amount of the resist resin [ 7B . 727 ] is used to make a recess [ 7B . 704b ] is used between the circuits in a part with few circuits, sometimes a notch on the surface of the resist after heat curing. [ 7C . 726 ).

Daher wird, weil eine durch ein derartiges Verfahren hergestellte gedruckte Leiterplatte eine Oberfläche mit Blasen und Kerben hat und diese nicht vollständig abgeflacht ist, die Komponentenbefestigungsfähigkeit (Bondhügelbindungsfähigkeit und dergleichen) der gedruckten Leiterplatte verringert.Therefore is because a printed produced by such a method Circuit board a surface with bubbles and notches and this is not completely flattened, the component mounting capability (Bump bonding ability and the like) of the printed circuit board.

Weiterhin hat die Oberfläche der gedruckten Leiterplatte Blasen und Kerben, die Dicke einer isolierenden Schicht, insbesondere die Dicke einer isolierenden Schicht, die auf einer leitenden Schaltkreisschicht gebildet worden ist [7C, 702] wird nicht stabilisiert, wodurch eine Verringerung der Impedanzcharakteristiken, wie eine Erhöhung der Fluktuation der Impedanz, hervorgerufen wird.Furthermore, the surface of the printed circuit board has bubbles and notches, the thickness of an insulating layer, in particular, the thickness of an insulating layer formed on a conductive circuit layer. 7C . 702 ] is not stabilized, thereby causing a reduction in impedance characteristics such as an increase in impedance fluctuation.

Das heißt, in einem peripheren Blasenteil [7C, 729] ist die Dicke [8A, 831] der isolierenden Schicht, die auf der leitenden Schaltkreisschicht gebildet ist [8A, 802] allmählich in Richtung eines Mittelteils der Blase erhöht. Andererseits ist in einem Kerbenumfangsteil [7C, 730] die Dicke [8B, 831] der isolierenden Schicht, die auf der leitenden Schaltkreisschicht gebildet ist [8B, 802] allmählich in Richtung des Zentralteils der Kerbe verringert.That is, in a peripheral bladder part [ 7C . 729 ] is the thickness [ 8A . 831 ] of the insulating Layer formed on the conductive circuit layer 8A . 802 ] gradually increases towards a central part of the bladder. On the other hand, in a notch peripheral part [ 7C . 730 ] the fat [ 8B . 831 ] of the insulating layer formed on the conductive circuit layer [ 8B . 802 ] gradually decreases towards the central part of the notch.

Auch wird selbst in einer unter Verwendung einer derartigen gedruckten Leiterplatte als innere Schicht oder äußere Schicht hergestellte mehrschichtige gedruckte Lei terplatte, die nicht vollständig abgeflacht ist, eine Verringerung der Komponentenbefestigungfähigkeit (Bondhügelbindungsfähigkeit und dergleichen) und der Impedanzcharakteristik oder dergleichen hervorgerufen.Also itself is printed in one using such a Printed circuit board as an inner layer or outer layer produced multilayer printed circuit board, which is not completely flattened, a reduction component mounting capability (Bump bonding ability and the like) and the impedance characteristic or the like caused.

  • Patentdokument 1] Offengelegte japanische Patentanmeldung (JP-A) Nr. 2001-15903Patent Document 1] Japanese Patent Application Laid-Open (JP-A) No. 2001-15903
  • [Patentdokument 2] Offengelegte japanische Patentanmeldung (JP-A) Nr. 2001-111214[Patent Document 2] Japanese Patent Application Laid-Open (JP-A) No. 2001-111214

Im Hinblick auf die obige Situation ist es eine Aufgabe der vorliegenden Erfindung, eine abgeflachte, mit Harz beschichtete gedruckte Leiterplatte herzustellen, bei der beide Oberflächen der gedruckten Leiterplatte extrem stark abgeflacht sind und die Dicke der gedruckten Leiterplatte in allen Bereichen (das heißt allen Portionen und Teilen) der gedruckten Leiterplatte fixiert bzw. festgelegt ist, wodurch die Komponentenbefestigungfähigkeit (Bondhügelbindungsfähigkeit und dergleichen) und die Impedanzcharakteristiken (Impedanzstabilität und dergleichen) ausgezeichnet gemacht werden, ohne dass ein Polieren erforderlich ist. Es ist weiterhin eine Aufgabe der vorliegenden Erfindung, eine gedruckte Leiterplatte zur Verfügung zu stellen, die aus einer solchen gedruckten Leiterplatte hergestellt worden ist und bei der beide Oberflächen stark abgeflacht sind, z.B. eine mehrschichtige gedruckte Leiterplatte (insbesondere eine vierschichtige gedruckte Leiterplatte), die als eine innere Schicht geeignet ist, und eine gedruckte Leiterplatte (insbesondere eine doppelseitig bedruckte Leiterplatte), die als äußere Schicht geeignet ist.in the In view of the above situation, it is an object of the present Invention, a flattened, resin coated printed circuit board in which both surfaces of the printed circuit board extremely flattened and the thickness of the printed circuit board in all areas (ie all portions and parts) of the printed circuit board or is fixed, whereby the component mounting capability (Bump bonding ability and the like) and the impedance characteristics (impedance stability and the like) to be made excellent without requiring polishing is. It is further an object of the present invention to provide a printed circuit board available to make that made from such a printed circuit board and where both surfaces are heavily flattened, e.g. a multilayer printed circuit board (in particular a four-layer printed circuit board) serving as an inner layer is suitable, and a printed circuit board (in particular a double-sided printed circuit board), which is suitable as an outer layer.

ZUSAMMENFASSUNG DER ERFINDUNGSUMMARY THE INVENTION

Zur Lösung der obigen Aufgabe haben die benannten Erfinder Untersuchungen durchgeführt und als deren Ergebnis die folgende Erfindung gemacht.to solution In the above object, the named inventors have made investigations and as a result, the following invention is made.

Gemäß einer ersten Ausführungsform der vorliegenden Erfindung wird ein Verfahren zur Herstellung einer gedruckten Leiterplatte zur Verfügung gestellt, umfassend die Stufen:
Aufbringen einer photo/wärmehärtenden Harzzusammensetzung auf eine Oberfläche und das Durchgangsloch einer gedruckten Leiterplatte mit dem Durchgangsloch;
nacheinander erfolgendes Durchführen der folgenden Stufen (1) und (2);
Aufbringen der photo/wärmehärtenden Harzzusammensetzung auf die andere Oberfläche der gedruckten Leiterplatte; und
nacheinander erfolgendes Durchführen der folgenden Stufen (1) bis (3):

  • (1) Abflachen bzw. Abgleichen der Oberfläche des aufgebrachten Harzes;
  • (2) Photohärten des aufgebrachten Harzes; und
  • (3) Wärmehärten des photogehärteten Harzes.
According to a first embodiment of the present invention, there is provided a method of manufacturing a printed circuit board, comprising the steps of:
Applying a photo / thermosetting resin composition to a surface and the through hole of a printed circuit board having the through hole;
successively performing the following steps (1) and (2);
Applying the photo / thermosetting resin composition to the other surface of the printed circuit board; and
successively performing the following steps (1) to (3):
  • (1) flattening the surface of the applied resin;
  • (2) photocuring the applied resin; and
  • (3) Heat curing of the photocured resin.

Gemäß einer zweiten Ausführungsform der vorliegenden Erfindung wird ein Verfahren zur Herstellung einer mehrschichtigen gedruckten Leiterplatte zur Verfügung gestellt, umfassend die Stufen:
Aufbringen einer photo/wärmehärtenden Harzzusammensetzung auf eine Oberfläche und das Durchgangsloch einer gedruckten Leiterplatte mit dem Durchgangsloch;
nacheinander erfolgendes Durchführen der folgenden Stufen (1) bis (2);
Aufbringen der photo/wärmehärtenden Harzzusammensetzung auf die andere Oberfläche der gedruckten Leiterplatte;
nacheinander erfolgendes Durchführen der folgenden Stufen (1) und (2);

  • (A) zuerst erfolgende Durchführung der obigen Stufe (3), als Nächstes laminierendes Verpressen der gedruckten Leiterplatte und der Press-Bindungsmaterialien, wobei die gedruckte Leiterplatte sandwichartig zwischen den Press-Bindungsmaterialien angeordnet ist, um die Press-Bindungsmaterialien durch Pressen zu binden, oder
  • (B) laminierendes Verpressen der gedruckten Leiterplatte und der Press-Bindungsmaterialien bei der Wärmehärtungstemperatur oder höher des photogehärteten Harzes, wobei die gedruckte Leiterplatte sandwichartig zwischen den Press-Bindungsmaterialien angeordnet ist, um die Press-Bindungsmaterialien durch Pressen zu binden, und auf diese Weise gleichzeitig die genannte Stufe (3) durchzuführen;
Bilden eines Lochs von der Oberfläche des Press-Bindungsmaterials zu einer Leiterschicht, um einen Mikroweg zu bilden;
Aufbringen einer Gesamtflächenplattierung;
Bilden eines Strom- bzw. Schaltkreises von einer Plattierungsschicht; und
Aufschichten eines Resists.According to a second embodiment of the present invention, there is provided a method of manufacturing a multilayer printed circuit board, comprising the steps of:
Applying a photo / thermosetting resin composition to a surface and the through hole of a printed circuit board having the through hole;
successively performing the following steps (1) to (2);
Applying the photo / thermosetting resin composition to the other surface of the printed circuit board;
successively performing the following steps (1) and (2);
  • (A) first performing the above step (3) first, then laminating the printed circuit board and the press-bonding materials, the printed circuit board being sandwiched between the press-bonding materials to press-bond the press bonding materials, or
  • (B) laminating pressing of the printed circuit board and the press-bonding materials at the thermosetting temperature or higher of the photocured resin, wherein the printed circuit board is sandwiched between the press-bonding materials to press-bond the press bonding materials, and thus simultaneously to carry out the said step (3);
Forming a hole from the surface of the press-bonding material to a conductor layer to form a microweg;
Applying a total surface plating;
Forming a circuit of a plating layer; and
Layering of a resist.

Gemäß einer dritten Ausführungsform der vorliegenden Erfindung wird ein Verfahren zur Herstellung einer mehrschichtigen gedruckten Leiterplatte gemäß der zweiten Ausführungsform zur Verfügung gestellt, wobei der Resist eine Öffnung hat.According to one third embodiment The present invention provides a process for producing a multilayer printed circuit board according to the second embodiment to disposal put, with the resist an opening Has.

Gemäß einer vierten Ausführungsform der vorliegenden Erfindung wird ein Verfahren zur Herstellung einer gedruckten Leiterplatte zur Verfügung gestellt, umfassend die Stufen:
Aufbringen einer photo/wärmehärtenden Harzzusammensetzung auf eine Oberfläche und das Durchgangsloch einer gedruckten Leiterplatte mit dem Durchgangsloch;
nacheinander erfolgendes Durchführen der obigen Stufen (1) und (2);
Aufbringen der photo/wärmehärtenden Harzzusammensetzung auf die andere Oberfläche der gedruckten Leiterplatte; und
nacheinander erfolgendes Durchführen der obigen Stufen (1) bis (3) und:
Bilden einer Öffnung in der aufgeschichteten Harzschicht.
According to a fourth embodiment of the present invention, there is provided a method of manufacturing a printed circuit board, comprising the steps of:
Applying a photo / thermosetting resin composition to a surface and the through hole of a printed circuit board having the through hole;
successively performing the above steps (1) and (2);
Applying the photo / thermosetting resin composition to the other surface of the printed circuit board; and
successively performing the above steps (1) to (3) and:
Forming an opening in the coated resin layer.

Gemäß einer fünften Ausführungsform der vorliegenden Erfindung wird ein Verfahren zur Herstellung einer gedruckten Leiterplatte gemäß der dritten oder vierten Ausführungsform zur Verfügung gestellt, wobei eine durch die Öffnung freigelegte Oberfläche bzw. eine Oberfläche bei der Öffnung mit einer Plattierung bedeckt wird.According to one fifth embodiment The present invention provides a process for producing a printed circuit board according to the third or fourth embodiment to disposal put one through the opening exposed surface or a surface at the opening covered with a plating.

Gemäß einer sechsten Ausführungsform der vorliegenden Erfindung wird ein Verfahren zur Herstellung einer gedruckten Leiterplatte nach einer der ersten bis fünften Ausführungsform zur Verfügung gestellt, wobei die Oberfläche einer leitenden Schicht der gedruckten Leiterplatte mit dem Durchgangsloch aufgeraut wird.According to one sixth embodiment The present invention provides a process for producing a Printed circuit board according to one of the first to fifth embodiments to disposal put, the surface a conductive layer of the printed circuit board with the through hole is roughened.

Gemäß einer siebten Ausführungsform der vorliegenden Erfindung wird eine gedruckte Leiterplatte zur Verfügung gestellt, die durch das Herstellungsverfahren gemäß einer beliebigen der ersten bis sechsten Ausführungsform hergestellt worden ist.According to one seventh embodiment the present invention provides a printed circuit board by the manufacturing process according to any one of the first to the sixth embodiment has been produced.

Durch die Erfindung kann, ohne dass ein Polieren erforderlich ist, eine abgeflachte bzw. abgeglichene, mit Harz beschichtete gedruckte Leiterplatte hergestellt wer den, bei der beide Oberflächen extrem stark abgeflacht sind und die Dicke der gedruckten Leiterplatte in allen Bereichen (das heißt allen Portionen und Teilen) der gedruckten Leiterplatte fixiert bzw. festgelegt ist, wodurch eine ausgezeichnete Befestigungsfähigkeit der Komponenten (Bondhügelbindungsfähigkeit und dergleichen) und ausgezeichnete Impedanzcharakteristik (Impedanzstabilität und dergleichen) erhalten werden. Weiterhin kann die Erfindung eine gedruckte Leiterplatte zur Verfügung stellen, die aus einer derartigen gedruckten Leiterplatte hergestellt worden ist und bei der beide Oberflächen extrem stark abgeflacht sind, zum Beispiel eine mehrschichtige gedruckte Leiterplatte (insbesondere eine vierschichtige gedruckte Leiterplatte), die als eine innere Schicht geeignet ist, und eine gedruckte Leiterplatte (insbesondere eine doppelseitig bedruckte Leiterplatte), die als äußere Schicht geeignet ist.By The invention may, without a polishing is required, a flattened resin coated printed circuit board made the who, in which both surfaces extremely flattened are and the thickness of the printed circuit board in all areas (this means all portions and parts) of the printed circuit board or is fixed, thereby providing excellent fastening ability of components (Bondhügelbindungsfähigkeit and the like) and excellent impedance characteristic (impedance stability and the like) to be obtained. Furthermore, the invention may be a printed circuit board to disposal make that made from such a printed circuit board has been flattened and both surfaces extremely flattened are, for example, a multilayer printed circuit board (in particular a four-layered printed circuit board) acting as an inner Layer is suitable, and a printed circuit board (in particular a double-sided printed circuit board), as an outer layer suitable is.

KURZE BESCHREIBUNG DER ZEICHNUNGENSHORT DESCRIPTION THE DRAWINGS

Die 1 zeigt ein Herstellungsverfahren einer abgeflachten, mit Harz beschichteten gedruckten Leiterplatte gemäß der Erfindung (insbesondere Beispiel 1);The 1 Fig. 10 shows a manufacturing method of a flattened resin-coated printed circuit board according to the invention (especially Example 1);

die 2 zeigt ein Herstellungsverfahren einer vierschichtigen gedruckten Leiterplatte gemäß der Erfindung (insbesondere Beispiel 3);the 2 shows a manufacturing method of a four-layer printed circuit board according to the invention (in particular example 3);

die 3 zeigt ein Herstellungsverfahren einer doppelseitigen gedruckten Leiterplatte gemäß der Erfindung (insbesondere Beispiel 4);the 3 shows a manufacturing method of a double-sided printed circuit board according to the invention (in particular example 4);

die 4 zeigt ein Herstellungsverfahren einer vierschichtigen gedruckten Leiterplatte gemäß einer Ausführungsform, bei der eine erfindungsgemäße vierschichtige gedruckte Leiterplatte modifiziert und ausgedehnt ist; the 4 shows a manufacturing method of a four-layer printed circuit board according to an embodiment in which a four-layer printed circuit board according to the invention modified and out is stretched;

die 5 zeigt ein Herstellungsverfahren einer vierschichtigen gedruckten Leiterplatte gemäß einer weiteren Ausführungsform, bei der eine erfindungsgemäße vierschichtige gedruckte Leiterplatte modifiziert und ausgedehnt ist;the 5 shows a manufacturing method of a four-layered printed circuit board according to another embodiment, in which a four-layered printed circuit board according to the invention is modified and expanded;

die 6 zeigt ein Herstellungsverfahren einer gepluggten gedruckten Leiterplatte gemäß Vergleichsbeispiel 1, bei dem ein Polieren durchgeführt wird;the 6 Fig. 10 shows a production method of a printed circuit board according to Comparative Example 1, in which polishing is performed;

die 7 zeigt ein Herstellungsverfahren einer gepluggten gedruckten Leiterplatte, bei der eine Aussparung zwischen Schaltkreisen zuvor nicht mit einem Harz gemäß einem herkömmlichen Verfahren gefüllt worden ist;the 7 Fig. 10 shows a production method of a printed circuit board in which a gap between circuits has not previously been filled with a resin according to a conventional method;

die 8A zeigt eine partial vergrößerte Ansicht eines Blasenumfangsteils und die 8B zeigt eine teilweise vergrößerte Ansicht eines Kerbenumfangsteils einer herkömmlichen gedruckten Leiterplatte mit einer Kerbe und einer Blase; undthe 8A shows a partially enlarged view of a bubble peripheral part and the 8B Fig. 10 is a partially enlarged view of a notch peripheral portion of a conventional printed circuit board having a notch and a bladder; and

die 9A und 9B zeigen teilweise vergrößerte Querschnittsansichten der Nähe eines Bondhügelbindungsteils, um das Auftreten einer schlechten Bondhügelverbindung zu zeigen, wenn die Bondhügelverbindung der BGA-Komponente bei einer herkömmlichen vierschichtigen gedruckten Leiterplatte mit einer Kerbe und einer Blase durchgeführt ist, wobei die 9A eine partiale vergrößerte Querschnittsansicht ist, die ein schlechtes Bondhügelbinden in der Nachbarschaft der Blase auf der Oberfläche der vierschichtigen gedruckten Leiterplatte zeigt und wobei die 9B eine teilweise vergrößerte Querschnittsansicht ist, die eine schlechte Bondhügelbindung in der Nachbarschaft der Kerbe der Oberfläche der vierschichtigen gedruckten Leiterplatte zeigt.the 9A and 9B 12 show partially enlarged cross-sectional views of a bump bonding member to show the occurrence of a poor bump bond when the bump bond of the BGA component is performed in a conventional four-layer printed wiring board with a notch and a bubble; 9A FIG. 12 is a partial enlarged cross-sectional view showing poor bump bonding in the vicinity of the bubble on the surface of the four-layered printed wiring board, and FIGS 9B FIG. 12 is a partially enlarged cross-sectional view showing a poor bump bond in the vicinity of the notch of the surface of the four-layered printed wiring board.

BESCHREIBUNG DER BEVORZUGTEN AUSFÜHRUNGSFORMENDESCRIPTION THE PREFERRED EMBODIMENTS

Bei dem Verfahren zur Herstellung der abgeflachten, mit Harz beschichteten gedruckten Leiterplatte gemäß der Erfindung schließen Beispiele der photo/wärmehärtenden Harzzusammensetzungen (das heißt von in Zwei-Stufen härtenden Harzzusammensetzungen, bei denen ein primäres Härten durch Bestrahlung mit Licht durchgeführt wird und ein sekundäres Härten durch Erhitzen durchgeführt wird) solche ein, die die folgenden Bestandteile [I] bis [V] enthalten.

  • [I]: Partiale Addukte eines Epoxyharzes mit einer ungesättigten Fettsäure
  • [II]: (Meth)acrylate
  • [III]: Photo-Vernetzungsmittel
  • [IV]: Epoxyharze
  • [V]: latente Härtungsmittel
In the method for producing the flattened, resin-coated printed circuit board according to the invention, examples of the photo / thermosetting resin compositions (that is, two-stage curing resin compositions in which primary curing is performed by irradiation with light and secondary hardening) are excluded Heating) are those containing the following components [I] to [V].
  • [I]: Partial adducts of an epoxy resin with an unsaturated fatty acid
  • [II]: (meth) acrylates
  • [III]: Photo-crosslinking agent
  • [IV]: Epoxy resins
  • [V]: latent hardeners

Bevorzugte spezielle Beispiele für photo/wärmehärtende Harzzusammensetzungen werden in den offengelegten japanischen Patentanmeldungen (JP-A) Nr. 2003-105061 und 2004-75967 beschrieben.preferred special examples of photo / thermosetting resin compositions are disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open (JP-A) No. 2003-105061 and 2004-75967.

Die photo/wärmehärtende Harzzusammensetzung enthält ein partiales Addukt eines Epoxyharzes mit einer ungesättigten Fettsäure als Bestandteil [I]. Die Epoxyzahl des Epoxyharzes (nachstehend gelegentlich der Einfachheit halber als „Ausgangsmaterial-Epoxyharz" bezeichnet) als Ausgangsmaterial für die Herstellung des Bestandteils (I) beträgt beispielsweise 130 bis 400 und insbesondere 150 bis 250. Beispiele für die Ausgangsmaterial-Epoxyharze schließen Epoxyharze vom Phenol-Novolak-Typ, Epoxyharze, hergestellt aus einem polyfunktionellen Phenol, Epoxyharze mit einem Naphthalinskelett, Epoxyharze vom Glycidylamin-Typ, Epoxyharze mit einem Triacinskelett, Epoxyharze vom Glycidylester-Typ und Epoxyharze vom alicyclischen Typ ein.The photo / thermosetting resin composition contains a partial adduct of an epoxy resin with an unsaturated one fatty acid as component [I]. The epoxy value of the epoxy resin (hereinafter sometimes referred to as "raw material epoxy resin" for convenience) Starting material for the preparation of the component (I) is, for example, 130 to 400 and especially 150 to 250. Examples of the starting material epoxy resins shut down Phenolic novolac type epoxy resins, epoxy resins made from a polyfunctional phenol, epoxy resins with a naphthalene skeleton, Glycidylamine-type epoxy resins, epoxy resins with a triacine skeleton, glycidyl ester type epoxy resins and epoxy resins of the alicyclic type.

Bevorzugte Beispiele für das Ausgangsmaterial-Epoxyharz schließen die einzelnen Verbindungen ein, die durch die Formeln [Chemische Formeln I-E1] bis [Chemische Formel I-E7] in Tabelle 1 angegeben werden. Besonders bevorzugte Beispiele hierfür schließen Epoxyharze vom Phenol-Novolak-Typ, Epoxyharz vom Cresol-Novolak-Typ, Epoxyharze vom Trisphenylmethan-Typ, Epoxyharze vom Bisphenol A-Novolak-Typ und Epoxyharze vom Dicyclopentadienphenol-Typ ein, wobei mindestens eine Art davon verwendet werden kann.preferred examples for the starting material epoxy resin shut down the individual compounds represented by the formulas [Chemical Formulas I-E1] to [Chemical Formula I-E7] are given in Table 1 become. Particularly preferred examples thereof include phenolic novolac type epoxy resins, Cresol novolak type epoxy resin, trisphenylmethane type epoxy resins, Bisphenol A novolak type epoxy resins and dicyclopentadiene phenol type epoxy resins, wherein at least a kind of it can be used.

Tabelle 1

Figure 00110001
Table 1
Figure 00110001

Figure 00120001
Figure 00120001

In den Formeln bedeutet „G" eine Glycidylgruppe, ausgenommen in dem Fall, dass „G" für eine verschiedene Definition verwendet wird.In In the formulas, "G" represents a glycidyl group, except in the case that "G" for a different Definition is used.

[Chemische Formel 1]

Figure 00120002
[Chemical Formula 1]
Figure 00120002

Das Symbol n bedeutet eine ganze Zahl von 0 bis 30 in den Formeln [Chemische Formel I-E1] bis [Chemische Formel I-E3]. Das Symbol n bedeutet eine ganze Zahl von 1 bis 30 in den Formeln [Chemische Formel I-E4] bis [Chemische Formel I-E6]. Das Symbol n bedeutet eine ganze Zahl von 2 bis 50 in der Formel [Chemische Formel I-E7]. In der Formel [Chemische Formel I-E2] stehen jeweils R1 und R2 unabhängig voneinander für H oder CH3.The symbol n represents an integer of 0 to 30 in the formulas [Chemical Formula I-E1] to [Chemical Formula I-E3]. The symbol n denotes an integer from 1 to 30 in the formulas [Chemical Formula I-E4] to [Chemical Formula I-E6]. The symbol n represents an integer of 2 to 50 in the formula [Chemical Formula I-E7]. In the formula [Chemical Formula I-E2], each of R 1 and R 2 is independently H or CH 3 .

Beispiele für ungesättigte Fettsäuren als weiteres Ausgangsmaterial für die Herstellung des Bestandteils (I) schließen Materialien der folgenden Formel [Chemische Formel I-UFA] ein.Examples for unsaturated fatty acids as additional starting material for the preparation of the component (I) includes materials of the following Formula [Chemical Formula I-UFA].

[Chemische Formel 2]

Figure 00130001
[Chemische Formel I-UFA] wobei jeder Rest von R1 bis R3 unabhängig H oder CH3 ist. Spezielle Beispiele für die ungesättigte Fettsäure schließen Acrylsäure, Methacrylsäure und Crotonsäure ein.[Chemical formula 2]
Figure 00130001
[Chemical formula I-UFA] wherein each of R 1 to R 3 is independently H or CH 3 . Specific examples of the unsaturated fatty acid include acrylic acid, methacrylic acid and crotonic acid.

Der Bestandteil [I] kann mittels eines üblichen Herstellungsverfahrens hergestellt werden. So kann beispielsweise der Bestandteil [I] dadurch hergestellt werden, dass mindestens eine Art des Ausgangsmaterial-Epoxyharzes und mindestens eine Art der ungesättigten Fettsäure [zum Beispiel Acrylsäure und/oder Methacrylsäure (nachstehend gelegentlich der Einfachheit halber als „(Meth)acrylsäure" abgekürzt)] erforderlichenfalls unter Erhitzen miteinander gerührt und vermischt werden.Of the Component [I] can be prepared by a usual manufacturing method getting produced. For example, the component [I] can thereby be prepared that at least one kind of the starting material epoxy resin and at least a type of unsaturated fatty acid [for example, acrylic acid and / or methacrylic acid (hereinafter occasionally abbreviated as "(meth) acrylic acid") for convenience stirred with heating while heating and mixed.

Der Bestandteil [I] wird dadurch erhalten, dass die ungesättigte Fettsäure partial zu dem Epoxyharz gegeben wird. Das heißt, bei einem partialen Addukt des Epoxyharzes mit der ungesättigten Fettsäure bleibt mindestens eine Epoxygruppe in dem Epoxyharz nach der Zugabe der ungesättigten Fettsäure zurück. Speziell wird die ungesättigte Fettsäure vorzugsweise zu 20 bis 80%, vorzugsweise 40 bis 60% der Epoxygruppen in dem Ausgangsmaterial-Epoxyharz gegeben. Bei einem Addukt, bei dem die Zugabemenge der ungesättigten Fettsäure weniger als 20% beträgt [das gelegentlich der Einfachheit halber als „Addukt mit weniger als 20% ungesättigter Fettsäure" und dergleichen bezeichnet wird] bleibt gelegentlich in dem primär photogehärteten Produkt eine Adhäsion zurück. Als Ergebnis haf tet daher, wenn ein später beschriebener Deckfilm abgezogen wird, das primär photogehärtete Produkt gelegentlich an dem Deckfilm. Im Gegensatz hierzu wird bei einem Addukt mit mehr als 80% ungesättigter Fettsäure die Zähigkeit des gehärteten Produkts durch Verringerung der Epoxygruppen verschlechtert, so dass daher die Tendenz zu einer Rissbildung auftritt.Of the Ingredient [I] is obtained by the unsaturated fatty acid partial is added to the epoxy resin. That is, with a partial adduct of the epoxy resin with the unsaturated one fatty acid At least one epoxy group remains in the epoxy resin after the addition the unsaturated one fatty acid back. Specifically, the unsaturated fatty acid preferably from 20 to 80%, preferably from 40 to 60% of the epoxy groups in the starting material epoxy resin given. For an adduct, in which the addition amount of the unsaturated fatty acid less than 20% [which, for the sake of simplicity, is sometimes referred to as the "adduct with less than 20% of unsaturated Fatty acid "and the like is occasionally left in the primary photohardened product adhesion. When Result therefore holds if a cover film described later is deducted, the primary photocured Product occasionally on the cover film. In contrast, at an adduct with more than 80% unsaturated fatty acid the toughness of the hardened Product deteriorates by reducing the epoxy groups, so Therefore, the tendency for cracking occurs.

Beispiele für den Bestandteil [I] schließen Addukte eines Epoxyharzes vom Novolak-Typ mit (Meth)acrylsäure (speziell ein Addukt eines Epoxyharzes vom Cresol-Novolak-Typ mit Acrylsäure etc. ein) und die photo/wärmehärtende Harzzusammensetzung kann mindestens eine Art davon enthalten.Examples for the Close component [I] Adducts of a novolak-type epoxy resin with (meth) acrylic acid (especially an adduct of a cresol-novolac type epoxy resin with acrylic acid, etc. a) and the photo / thermosetting resin composition can contain at least one kind of it.

Bevorzugte Beispiele für den Bestandteil [I] schließen partiale Addukte eines Epoxyharzes vom Phenol-Novolak-Typ mit Acrylsäure, partiale Addukte eines Epoxyharzes vom Cresol-Novolak-Typ mit Acrylsäure, partiale Addukte eines Epoxyharzes vom Trisphenylmethan-Typ mit Acrylsäure, partiale Addukte eines Epoxyharzes vom Bisphenol-A-Novolak-Typ mit Methacrylsäure, partiale Addukte eines Epoxyharzes vom Dicyclopentadien-Phenol-Typ mit Methacrylsäure und partiale Addukte eines Epoxyharzes vom Phenol-Novolak-Typ mit Crotonsäure ein, wobei mindestens eine Art davon zum Einsatz kommen kann.preferred examples for close the constituent [I] partial adducts of a phenolic novolac type epoxy resin with acrylic acid, partial Adducts of a cresol novolak type epoxy resin with acrylic acid, partial Adducts of a tris-phenylmethane-type epoxy resin with acrylic acid, partial Adducts of bisphenol A novolac type epoxy resin with methacrylic acid, partial Adducts of an epoxy resin of the dicyclopentadiene-phenol type with methacrylic acid and partial adducts of a phenolic novolac type epoxy resin with crotonic acid, where at least one type of it can be used.

Die photo/wärmehärtende Harzzusammensetzung enthält (Meth)acrylate (d.h. Acrylate und/oder Methacrylate) als Bestandteil [II]. Bei dem Bestandteil [II] schließen Beispiele der Acrylate Ester von Acrylsäuren mit Hydroxyverbindungen ein. Beispiele für die Methacrylate schließen Ester von Methacrylsäuren mit Hydroxyverbindungen ein.The photo / thermosetting resin composition contains (Meth) acrylates (i.e., acrylates and / or methacrylates) as an ingredient [II]. In the component [II], examples of acrylates include Esters of acrylic acids with Hydroxy compounds. Examples of the methacrylates include esters of methacrylic acids with hydroxy compounds.

Beispiele für die oben genannten Acrylsäuren und Methacrylsäuren schließen ungesättigte Fettsäuren, angege ben durch die Formel [Chemische Formel I-UFA] ein. Spezielle Beispiele für Acrylsäuren und Methacrylsäuren sind Acrylsäure, Methacrylsäure und Crotonsäure.Examples for the above acrylic acids and methacrylic acids shut down unsaturated fatty acids, indicated by the formula [Chemical formula I-UFA]. Specific examples for acrylic acids and methacrylic acids are acrylic acid, methacrylic acid and crotonic acid.

Beispiele für die oben genannten Hydroxyverbindungen schließen Alkohole, (Hemi)acetale oder (Hemi)ketale und Hydroxyester ein. Beispiele für die Alkohole schließen niedrige Alkohole, cyclische Alkohole, mehrwertige Alkohole und aromatische Alkohole etc. ein. Bei den Hydroxyverbindungen schließen Beispiele der (Hemi)acetale oder (Hemi)ketale Kondensate der obigen Alkohole (z.B. cyclische Alkohole und mehrwertige Alkohole oder dergleichen) mit Formaldehyd oder Hydroxyaldehyd ein. Bei den Hydroxyverbindungen schließen spezielle Beispiele der Hydroxysäureester Ringöffnungsaddukte von Caprolacton mit Furfurylalkohol, Neopentylglykol, Hydroxypivalat oder dergleichen ein.Examples of the above-mentioned hydroxy compounds include alcohols, (hemi) acetals or (hemi) ketals and hydroxyesters. Examples of the alcohols include lower alcohols, cyclic alcohols, polyhydric alcohols and aromatic alcohols, etc. a. In the hydroxy compounds, examples of the (hemi) acetals or (hemi) ketals include condensates of the above alcohols (eg, cyclic alcohols and polyhydric alcohols or the like) with formaldehyde or hydroxyaldehyde. In the hydroxy compounds, specific examples of the hydroxy acid esters include ring opening adducts of caprolactone with furfuryl alcohol, neopentyl glycol, hydroxypivalate or the like.

Bevorzugte Beispiele des Bestandteils [II] schließen die einzelnen Verbindungen, angegeben durch die Formeln [Chemische Formel II-1] bis [Chemische Formel II-9] gemäß Tabelle 2 ein und insbesondere Isobornylacrylat, Dicyclopentanylmethacrylat, Hydroxypivalinsäureneopentylglykoldiacrylat, Tricyclodecandimethanolacrylat, Trimethylolpropantriglykolacrylat, Dipentaerythrithexaacrylat und Isobornylcrotonat ein, wobei mindestens eine Art davon zum Einsatz kommen kann.preferred Examples of the component [II] include the individual compounds represented by the formulas [Chemical formula II-1] to [Chemical formula Formula II-9] according to the table 2 and in particular isobornyl acrylate, dicyclopentanyl methacrylate, hydroxypivalic acid, Tricyclodecanedimethanol acrylate, trimethylolpropane triglycol acrylate, Dipentaerythritol hexaacrylate and isobornyl crotonate, wherein at least some kind of it can be used.

Tabelle 2

Figure 00150001
Table 2
Figure 00150001

Figure 00160001
Figure 00160001

Die photo/wärmehärtende Harzzusammensetzung enthält ein Photo-Vernetzungsmittel als Bestandteil [III]. Beispiele für den Bestandteil [III] schließen einen Be standteil ein, durch den eine primäre Härtungsreaktion durch Bestrahlung mit Licht, beispielsweise mit Ultraviolettlicht oder dergleichen mit einer Wellenlänge von 200 bis 400 nm gestattet wird.The photo / thermosetting resin composition contains a photo-crosslinking agent as component [III]. Examples of the component Close [III] a constituent by which a primary curing reaction by irradiation with light, for example with ultraviolet light or the like with a wavelength of 200 to 400 nm is allowed.

Spezielle Beispiele für den Bestandteil [III] schließen Hydroxyketone, Benzylmethylketale, Acylphosphinoxide, Aminoketone, Benzoinether, Benzoylverbindungen, Thioxanthone, Biimidazole, Dimethylaminobenzoat, Sulfoniumsalze, Anthrachinone, Acridone, Acridine, Carbazole und Titankomplexe ein, wobei mindestens eine Art davon zum Einsatz kommen kann.Specific examples for to conclude component [III] Hydroxyketones, benzylmethylketals, acylphosphine oxides, aminoketones, Benzoin ethers, benzoyl compounds, thioxanthones, biimidazoles, dimethylaminobenzoate, Sulfonium salts, anthraquinones, acridones, acridines, carbazoles and Titanium complexes, wherein at least one type of it are used can.

Bevorzugte Beispiele für den Bestandteil [III] schließen die einzelnen Verbindungen, die durch die Formeln [Chemische Formel III-1] und [Chemische Formel III-2] gemäß Tabelle 3 angegeben sind, ein, wobei mindestens eine Art davon verwendet werden kann.Preferred examples of the component [III] include the individual compounds represented by the For [Chemical formula III-1] and [Chemical formula III-2] shown in Table 3, at least one kind of which can be used.

Tabelle 3

Figure 00170001
Table 3
Figure 00170001

Die photo/wärmehärtende Harzzusammensetzung enthält ein Epoxyharz als Bestandteil [IV]. Beispiele für das Epoxyharz schließen kristalline Epoxyharze und/oder flüssige Epoxyharze ein. Bei dem Bestandteil [IV] werden kristalline Epoxyharze mit einem Schmelzpunkt von beispielsweise 80 bis 110°C, insbesondere 90 bis 105°C, bevorzugt. Weiterhin beträgt bei den kristallinen Epoxyharzen die Viskosität (mPa·s) vorzugsweise 50 oder weniger, insbeson dere 0,1 bis 20, beim Schmelzpunkt bis zum Schmelzpunkt plus 20°C. Weiterhin wird ein kristallines Epoxyharz bevorzugt, das in der photo/wärmehärtenden Harzzusammensetzung schwer löslich ist.The photo / thermosetting resin composition contains an epoxy resin as component [IV]. Examples of the epoxy resin include crystalline ones Epoxy resins and / or liquid Epoxy resins. The component [IV] becomes crystalline epoxy resins with a melting point of for example 80 to 110 ° C, in particular 90 to 105 ° C, prefers. Continue to amount in the crystalline epoxy resins, the viscosity (mPa · s) is preferably 50 or less, in particular 0.1 to 20, at the melting point to the melting point plus 20 ° C. Furthermore, a crystalline epoxy resin is preferred, which in the photo / thermosetting Resin composition poorly soluble is.

Beispiele für kristalline Epoxyharze schließen kristalline Epoxyharze vom Biphenyl-Typ, vom Diphenyl-Typ, vom Hydrochinon-Typ, vom Biphenyl-Novolak-Typ und vom Fluorein-Typ ein, wobei mindestens eine Art davon zum Einsatz kommen kann.Examples for crystalline Close epoxy resins biphenyl-type, biphenyl-type, hydroquinone-type crystalline epoxy resins, of the biphenyl novolak type and the fluorine type, wherein at least some kind of it can be used.

Beispiele für kristalline Epoxyharze vom Biphenyl-Typ schließen eine Verbindung, angegeben durch die folgende Formel [Chemische Formel IVc-1] ein. [Chemische Formel 3]

Figure 00180001
wobei R für H oder CH3 steht und wobei mindestens eine Art davon enthalten sein kann.Examples of biphenyl type crystalline epoxy resins include a compound represented by the following formula [Chemical Formula IVc-1]. [Chemical Formula 3]
Figure 00180001
wherein R is H or CH 3 and wherein at least one kind thereof may be contained.

Beispiele für kristalline Epoxyharze vom Biphenyl-Typ schließen ein Material mit der folgenden Formel [Chemische Formel IVc-2] ein. [Chemische Formel 4]

Figure 00180002
worin X für O oder S steht und R1 und R2 jeweils unabhängig voneinander für H, CH3 oder t-Butyl stehen und wobei mindestens eine Art davon enthalten sein kann.Examples of biphenyl type crystalline epoxy resins include a material represented by the following formula [Chemical Formula IVc-2]. [Chemical formula 4]
Figure 00180002
wherein X is O or S and R 1 and R 2 are each independently H, CH 3 or t-butyl, and wherein at least one kind thereof may be contained.

Beispiele für kristalline Epoxyharze vom Hydrochinon-Typ schließen ein solches ein, das durch die folgende Formel [Chemische Formel IVc-3] angegeben wird. [Chemische Formel 5]

Figure 00190001
worin n den Wert 0, 1 oder 2 hat und wobei mindestens eine Art davon enthalten sein kann.Examples of hydroquinone type crystalline epoxy resins include those indicated by the following formula [Chemical Formula IVc-3]. [Chemical formula 5]
Figure 00190001
wherein n is 0, 1 or 2 and at least one kind may be included.

Beispiele für kristalline Epoxyharze vom Biphenyl-Novolak-Typ schließen ein solches mit der folgenden Formel [Chemische Formel IVc-4] ein. [Chemische Formel 6]

Figure 00190002
worin n den Wert 1 oder 2 hat und wobei mindestens eine Art davon enthalten sein kann.Examples of biphenyl novolac type crystalline epoxy resins include those having the following formula [Chemical Formula IVc-4]. [Chemical formula 6]
Figure 00190002
wherein n is 1 or 2 and at least one kind may be included.

Beispiele für kristalline Epoxyharze vom Fluorein-Typ schließen ein solches mit der folgenden Formel [Chemische Formel IVc-5] ein. [Chemische Formel 7]

Figure 00200001
Examples of fluorine type crystalline epoxy resins include those having the following formula [Chemical Formula IVc-5]. [Chemical formula 7]
Figure 00200001

Bevorzugte Beispiele für kristalline Epoxyharze schließen Tetramethylbiphenyl-Epoxyharze, Hydrochinondiglycidylether und Di(p-glycidylphenyl)ether ein, wobei mindestens eine Art davon enthalten sein kann.preferred examples for close crystalline epoxy resins Tetramethylbiphenyl epoxy resins, hydroquinone diglycidyl ether and di (p-glycidylphenyl) ether at least one kind of which may be included.

Im Falle des Bestandteils [IV] stellt das flüssige Epoxyharz ein flüssiges oder halbfestes Epoxyharz bei Normaltemperatur dar. Beispiele hierfür schließen ein Epoxyharz mit einer Fließfähigkeit bei Normaltemperatur ein. Es ist zu bevorzugen, dass das flüssige Epoxyharz eine Viskosität (Raumtemperatur, mPa·s) von beispielsweise 20000 oder weniger und besonders bevorzugt von 1000 bis 10000 hat.in the In the case of ingredient [IV], the liquid epoxy resin makes a liquid or semisolid epoxy resin at normal temperature. Examples include Epoxy resin with a flowability at normal temperature. It is preferable that the liquid epoxy resin a viscosity (Room temperature, mPa · s) for example, 20,000 or less, and more preferably from 1000 to 10000 has.

Spezielle Beispiele für das flüssige Epoxyharz schließen ein Epoxyharz vom Bisphenol A-Typ, angegeben durch die folgende Formel [Chemische Formel IV1-1] ein. [Chemische Formel 8]

Figure 00200002
worin n den Wert 0 oder 1 hat und wobei mindestens eine Art davon enthalten sein kann.Specific examples of the liquid epoxy resin include a bisphenol A type epoxy resin represented by the following formula [Chemical Formula IV1-1]. [Chemical formula 8]
Figure 00200002
wherein n is 0 or 1 and at least one kind may be included.

Weiterhin schließen spezielle Beispiele des flüssigen Epoxyharzes ein Epoxyharz vom Bisphenol F-Typ, angegeben durch die folgende Formel [Chemische Formel IV1-2] ein. [Chemische Formel 9]

Figure 00210001
wobei n den Wert 0 oder 1 hat und wobei mindestens eine Art davon enthalten sein kann.Further, specific examples of the liquid epoxy resin include a bisphenol F type epoxy resin represented by the following formula [Chemical Formula IV1-2]. [Chemical formula 9]
Figure 00210001
where n is 0 or 1 and where at least one kind may be included.

Weiterhin schließen spezielle Beispiele für ein flüssiges Epoxyharz ein Harz vom Napthalin-Typ, ein Harz vom Diphenylthioether(sulfid)-Typ, ein Harz vom Trityl-Typ, ein Harz vom alicyclischen Typ, ein Harz, hergestellt aus den folgenden Alkoholen, ein Harz vom Diallyl-bis-A-Typ, ein Harz vom Methylresorcin-Typ, ein Harz vom Bisphenol AD-Typ und ein N,N,O-Tris(glycidyl)-p-aminophenol ein, wobei mindestens eine Art davon enthalten sein kann.Farther shut down special examples of a liquid Epoxy resin, a naphthalene type resin, a diphenyl thioether (sulfide) type resin, a trityl type resin, an alicyclic type resin, a resin prepared from the following Alcohols, a diallyl-bis-A-type resin, a methylresorcin-type resin, a bisphenol AD type resin and an N, N, O-tris (glycidyl) -p-aminophenol at least one kind of which may be included.

Bevorzugte Beispiele für das flüssige Epoxyharz schließen ein Epoxyharz vom Bisphenol A-Typ, ein Epoxyharz vom Bisphenol F-Typ, N,N,O-Tris(glycidyl)-p-aminophenol und ein Epoxyharz vom Bisphenol AD-Typ ein, wobei mindestens eine Art davon enthalten sein kann.preferred examples for the liquid Close epoxy resin a bisphenol A type epoxy resin, a bisphenol F type epoxy resin, N, N, O-tris (glycidyl) -p-aminophenol and a bisphenol AD type epoxy resin at least one kind of which may be included.

Die photo/wärmehärtende Harzzusammensetzung enthält ein latentes Härtungsmittel als Bestandteil [V]. Eine sekundäre Härtungsreaktion wird durch Erhitzen des Bestandteils [V] bewirkt. Bei dem Bestandteil [V] beträgt beispielsweise die Starttemperatur der sekundären Härtungsreaktion vorzugsweise 150 bis 300°C und besonders bevorzugt 150 bis 200°C.The photo / thermosetting resin composition contains a latent curing agent as component [V]. A secondary one curing is effected by heating the component [V]. In the component [V] is For example, the starting temperature of the secondary curing reaction is preferably 150 to 300 ° C and more preferably 150 to 200 ° C.

Spezielle Beispiele für den Bestandteil [V] schließen Dicyandiamide (DICY), Imidazole, einen BF3-Aminkomplex, Aminaddukt-Härtungsmittel, Aminosäureanhydrid(Polyamid)addukt-Härtungsmittel, Hydrazid-Härtungsmittel, Carboxylate (Salze) von Amin-Härtungsmitteln und Oniumsalze ein, wobei mindestens eine Art davon enthalten sein kann.Specific examples of the component [V] include dicyandiamide (DICY), imidazoles, BF 3 -amine complex one, amine adduct curing agent, amino acid anhydride (polyamide) adduct curing agents, hydrazide curing agents, carboxylates (salts) of amine curing agents and onium salts, at least one type of which may be included.

Bei dem Bestandteil [V] schließen spezielle Beispiele des Aminaddukt-Härtungsmittels ein Addukt eines Härtungsmittels vom Imidazol-Typ [2-Ethyl-4-methylimidazol, 2-Methylimidazol, 2,4-Diamino-6-(2'-methylimidazo-lyl-(1H)-ethyl-S-triazin oder dergleichen] oder ein Amin-Härtungsmittel (Diethylamin oder dergleichen) mit einer Epoxyverbindung mit Harnstoff oder einer Isocyanatverbindung ein. Beispiele für die Hydrazid-Härtungsmittel schließen Adipinsäuredihydrazid (ADH) und Sebacinsäuredihydrazid (SDH) ein. Beispiele für die Carboxylate (Salze) der Amin-Härtungsmittel schließen Nylonsalze und das ATU (3,9-Bis(3-aminopropyl)-2,4,8,10-tetraoxaspiro[5,5]undecan)adipinsäuresalz ein. Beispiele für die Oniumsalze schließen Sulfoniumsalze, Ammoniumsalze und Phosphoniumsalze ein.at close the component [V] specific examples of the amine adduct curing agent is an adduct of a curing agent of imidazole type [2-ethyl-4-methylimidazole, 2-methylimidazole, 2,4-diamino-6- (2'-methylimidazolyl (1H) -ethyl-S-triazine or the like] or an amine curing agent (Diethylamine or the like) with an epoxy compound with urea or an isocyanate compound. Examples of the hydrazide curing agents shut down adipic (ADH) and sebacic dihydrazide (SDH). examples for the carboxylates (salts) of the amine curing agents include nylon salts and the ATU (3,9-bis (3-aminopropyl) -2,4,8,10-tetraoxaspiro [5,5] undecane) adipic acid salt one. examples for close the onium salts Sulfonium salts, ammonium salts and phosphonium salts.

Bevorzugte Beispiele für den Bestandteil [V] schließen die Verbindungen der Formeln [Chemische Formel V-1] bis [Chemische Formel V-3] in Tabelle 4 ein, wobei mindestens eine Art davon enthalten sein kann. Tabelle 4

Figure 00230001
Preferred examples of the component [V] include the compounds of the formulas [Chemical Formula V-1] to [Chemical Formula V-3] in Table 4, wherein at least one kind thereof may be contained. Table 4
Figure 00230001

Zu der photo/wärmehärtenden Harzzusammensetzung können erforderlichenfalls verschiedene Additive gegeben werden. Beispiele für die Additive schließen Füllstoffe, organische/anorganische Farbmittel, flammverzögernde Mittel und Antischaummittel ein, wobei mindestens eine Art davon enthalten sein kann.To the photo / thermosetting Resin composition can if necessary, various additives are given. Examples for the Close additives fillers, organic / inorganic colorants, flame retardants and antifoams at least one kind of which may be included.

Hinsichtlich der Zusammensetzung des photo/wärmehärtenden Harzes werden zu 100 Gew.-Teilen des Bestandteils [I] 100 bis 300 Gew.-Teile (insbesondere 150 bis 250 Gew.-Teile) des Bestandteils [II], 1 bis 50 Gew.-Teile (insbesondere 5 bis 15 Gew.-Teile) des Bestandteils [III], 50 bis 200 Gew.-Teile (insbesondere 60 bis 120 Gew.-Teile) des Bestandteils [IV], 1 bis 50 Gew.-Teile (insbesondere 5 bis 20 Gew.-Teile) des Bestandteils [V] und 200 bis 500 Gew.-Teile (insbesondere 250 bis 350 Gew.-Teile) des Füllstoffs bevorzugt.As to the composition of the photo / thermosetting resin, to 100 parts by weight of the component [I], 100 to 300 parts by weight (especially 150 to 250 parts by weight) of the component [II], 1 to 50 parts by weight (especially 5 to 15 parts by weight) of the component [III], 50 to 200 parts by weight (especially 60 to 120 parts by weight) of the component [IV], 1 to 50 parts by weight Parts (especially 5 to 20 parts by weight) of the component [V] and 200 to 500 parts by weight (especially 250 to 350 parts by weight) of the filler are preferable.

Die photo/wärmehärtende Harzzusammensetzung kann beispielsweise dadurch hergestellt werden, dass die einzelnen Bestandteile [I] bis [V] und erforderlichenfalls das Additiv miteinander vermischt werden, dass das Gemisch gleichförmig dispergiert wird und dass das dispergierte Gemisch im Vakuum entschäumt wird. Die Reihenfolge der Zugabe oder dergleichen der Bestandteile ist keinen besonderen Beschränkungen unterworfen und jeder Bestandteil kann nacheinander zugesetzt werden oder alle Bestandteile können auf einmal zugesetzt werden.The photo / thermosetting resin composition can be made, for example, that the individual Ingredients [I] to [V] and, if necessary, the additive with each other are mixed so that the mixture is uniformly dispersed and that the dispersed mixture is defoamed in vacuo. The order of Addition or the like of the ingredients is not particularly limited and each ingredient may be added sequentially or all Ingredients can be added at once.

Es wird bevorzugt, dass die wie oben hergestellte photo/wärmehärtende Harzzusammensetzung eine Harz-Viskosität (Pa·s, Raumtemperatur) von 10 bis 50 im Hinblick auf die Aufbringungseigenschaften auf die gedruckte Leiterplatte oder dergleichen hat, wobei Viskositäten von 15 bis 30 besonders bevorzugt werden.It It is preferable that the photo / thermosetting resin composition as prepared above a resin viscosity (Pa · s, room temperature) from 10 to 50 in view of the application properties the printed circuit board or the like has viscosities of 15 to 30 are particularly preferred.

Nachstehend wird die Erfindung im Detail anhand der Zeichnungen beschrieben.below the invention will be described in detail with reference to the drawings.

Bei dem erfindungsgemäßen Herstellungsverfahren der abgeflachten, mit Harz beschichteten gedruckten Leiterplatte wird eine gedruckte Leiterplatte mit einem Durchgangsloch [1A, 103] als gedruckte Leiterplatte verwendet. Beispiele für die Durchgangslöcher schließen alle Arten von Löchern ein, die die gedruckte Leiterplatte penetrieren. Spezielle Beispiele der Durchgangslöcher schließen Durchgangsweglöcher, Komponentenlöcher und andere Durchgangslöcher ein. Beispiele für die Arten der gedruckten Leiterplatte schließen doppelseitig bedruckte Leiterplatten ein. Beispiele der doppelseitig bedruckten Leiterplatten schließen eine starre gedruckte Leiterplatte, eine flexible gedruckte Leiterplatte und eine starre, Flex-bedruckte Leiterplatte ein.In the flattened resin coated printed circuit board manufacturing method of the present invention, a printed circuit board having a through hole [ 1A . 103 ] used as a printed circuit board. Examples of the through holes include all types of holes that penetrate the printed circuit board. Specific examples of the through holes include through-holes, component holes, and other through-holes. Examples of the types of the printed circuit board include double-sided printed circuit boards. Examples of the double-sided printed circuit boards include a rigid printed circuit board, a flexible printed circuit board, and a rigid, flex-printed circuit board.

Im Hinblick auf die gedruckte Leiterplatte mit einem Durchgangsloch wird die Oberfläche der leitfähigen Schicht [1A, 102] vorzugsweise zur Verstärkung der Adhäsion einer leitfähigen Schicht und einer Harzschicht und dergleichen aufgeraut. Beispiele für die leitfähige Schicht schließen eine Leitermetallschicht, insbesondere eine Schaltkreisschicht, eine Plattierungsmetallschicht und eine Metallfolienschicht, gebildet auf der inneren Wand des Durchgangslochs, ein. Beispiele für die Aufrauungsbehandlungen schließen eine Behandlung mit einem schwarzen Oxid, die auch als eine „CZ-Behandlung" (Behand lung mit einem chemischen Aufrauungsmittel, hergestellt von der Firma MECetchBOND CO., LTD.), eine Schwarz-Reduktions-Behandlung, eine Plattierung mit einer nadelförmigen Legierung und eine physikalische Bearbeitung (Sandstrahlen, Abstrahlen, Polieren mit Leder oder dergleichen) ein.With respect to the printed circuit board having a through hole, the surface of the conductive layer becomes 1A . 102 ] is preferably roughened to enhance the adhesion of a conductive layer and a resin layer and the like. Examples of the conductive layer include a wiring metal layer, specifically, a circuit layer, a plating metal layer, and a metal foil layer formed on the inner wall of the through hole. Examples of the roughening treatments include treatment with a black oxide, also referred to as a "CZ treatment" (treatment with a chemical roughening agent manufactured by MECetchBOND CO., LTD.), A black reduction treatment, a plating with acicular alloy and physical working (sandblasting, blasting, polishing with leather or the like).

Bei der Herstellung der erfindungsgemäßen abgeflachten, mit Harz beschichteten gedruckten Leiterplatte wird zuerst die photo/wärmehärtende Harzzusammensetzung auf eine Oberfläche und das Durchgangsloch der gedruckten Leiterplatte aufgebracht.at the preparation of the invention flattened, with resin coated printed circuit board becomes first the photo / thermosetting resin composition on a surface and the through hole of the printed circuit board is applied.

Die photo/wärmehärtende Harzzusammensetzung kann beispielsweise durch ein Siebdrucken (Maskendrucken oder dergleichen unter Verwendung eines Polyestersiebs oder eines Edelstahlsiebs etc.), ein Metallmaskendrucken, ein Walzenbeschichtungsdrucken und dergleichen aufgebracht werden.The photo / thermosetting resin composition For example, by screen printing (mask printing or the like using a polyester sieve or a stainless steel sieve etc.), metal mask printing, roll coating printing and the like are applied.

Die Erzeugung von Blasen in dem aufgetragenen Harz kann durch Verwendung einer Vakuumdruckmaschine verhindert werden. Weiterhin kann das Harz dadurch entschäumt werden, dass das aufgebrachte Harz erhitzt wird (z.B. 10 bis 60 Minuten lang auf 80 bis 120°C), um die Viskosität des Harzes zu verringern.The Generation of bubbles in the applied resin can be achieved by use a vacuum press can be prevented. Furthermore, that can Resin thereby defoamed be that the applied resin is heated (e.g., 10 to 60 Minutes at 80 to 120 ° C), about the viscosity of the resin.

Obgleich die gesamte Fläche der gedruckten Leiterplatte mit der Harzschicht [1B, 105] durch die obge erfindungsgemäße Aufbringung bedeckt ist, wird auch insbesondere eine Aussparung (eine Aussparung oder dergleichen zwischen den Schaltkreisen) [1B, 104], gebildet auf der Oberfläche der gedruckten Leiterplatte, und ein Durchgangsloch ebenfalls mit dem aufgebrachten Harz [1B] gefüllt (das Loch wird gepluggt).. Herkömmlicherweise werden ein Resist, ein Prepreg, ein halb gehärtetes Harz, eine Adhäsionsfolie und das Beschichtungsmaterial beschichtet, ohne dass zuvor die Aussparung zwischen den Schaltkreisen der gedruckten Leiterplatte mit dem Harz gefüllt wird.Although the entire surface of the printed circuit board with the resin layer [ 1B . 105 ] is covered by the above application according to the invention, in particular a recess (a recess or the like between the circuits) will also be provided [ 1B . 104 ] formed on the surface of the printed circuit board, and a through hole also with the resin applied [ 1B Conventionally, a resist, a prepreg, a semi-cured resin, an adhesive film and the coating material are coated without first filling the recess between the circuits of the printed circuit board with the resin.

Jedoch, wenn die Aussparung zwischen den Schaltkreisen zuvor nicht gefüllt worden ist, dann ist es schwierig, die Aussparung mit dem Beschichtungsmaterial zu füllen, und die Füllung tendiert dahingehend, selbst dann unzulänglich zu sein, wenn die Aussparung zwischen den Schaltkreisen mit dem Material für die Schicht durch eine Vakuumpresse gefüllt wird. Insbesondere dann, wenn eine Linie und ein Raum in einem Schaltkreis mit hoher Dichte eng sind, dann ist es schwierig, die Aussparung zwischen den Schaltkreisen mit dem Beschichtungsmaterial zu füllen. Daher wird in geringem Umfang ein Spalt in der Aussparung zwischen den Schaltkreisen gebildet und in dem Spalt bleibt manchmal Luft zurück. Als Ergebnis ist es so, dass, wenn die gedruckte Leiterplatte bei hoher Temperatur behandelt wird (z.B. bei 200 bis 300°C) durch ein Schmelzen oder dergleichen im Falle der Befestigung der Komponenten bei einem Nachbehandlungsverfahren die zurückgebliebene Luft expandiert und dass manchmal eine Blasenbildung (was als „Popcorn-Phänomen" bezeichnet wird) der Überzugsoberfläche erfolgt [6E, 625 und 7C, 725].However, if the recess between the circuits has not previously been filled, then it is difficult to fill the recess with the coating material, and the filling tends to be inadequate even if the recess between the circuits with the material for the Layer is filled by a vacuum press. Especially if a line and a room in one With high density circuits, it is difficult to fill the gap between the circuits with the coating material. Therefore, a gap is formed in the gap between the circuits to a small extent, and sometimes air is left in the gap. As a result, when the printed wiring board is treated at a high temperature (eg, 200 to 300 ° C) by melting or the like in case of fixing the components in an aftertreatment process, the remaining air expands and sometimes bubbles ( what is termed the "popcorn phenomenon") of the coating surface occurs [ 6E . 625 and 7C . 725 ].

Andererseits, wenn der Raum zwischen den Schaltkreisen größer ist, dann kann der Raum vollständig mit dem Harz gefüllt werden. Wenn jedoch der Raum vollständig mit dem Harz gefüllt ist, dann wird ein Beschichtungsmaterial für ein großes Raumvolumen zwischen den Schaltkreisen zum Füllen verwendet und als Ergebnis erfolgt manchmal die Bildung einer Kerbe auf der Oberfläche der aufgeschichteten Harzschicht [6E, 626 und 7C, 726]. Sowohl die oben genannte Blase als auch die Kerbe der beschichte ten Oberfläche beeinträchtigen in erheblichem Umfang die Flachheit der gedruckten Leiterplatte.On the other hand, if the space between the circuits is larger, then the space can be completely filled with the resin. However, when the space is completely filled with the resin, a coating material for a large volume of space between the circuits is used for filling, and as a result, formation of a notch sometimes occurs on the surface of the coated resin layer. 6E . 626 and 7C . 726 ]. Both the above-mentioned bubble and the notch of the coated surface significantly impair the flatness of the printed circuit board.

Daher ist es zum Erhalt der hohen Flachheit der gedruckten Leiterplatte von Wichtigkeit, nicht nur das Durchgangsloch der gedruckten Leiterplatte, sondern auch die Aussparung auf der Oberfläche der gedruckten Leiterplatte (die Aussparung zwischen den Schaltkreisen oder dergleichen) mit der photo/wärmehärtenden Harzzusammensetzung zu füllen.Therefore it is to maintain the high flatness of the printed circuit board of importance, not just the through hole of the printed circuit board, but also the recess on the surface of the printed circuit board (the gap between the circuits or the like) with the photo / thermosetting resin composition to fill.

Bei dem erfindungsgemäßen Verfahren zur Herstellung der abgeflachten, mit Harz beschichteten gedruckten Leiterplatte wird die oben genannte photo/wärmehärtende Harzzusammensetzung aufgebracht und eingefüllt. Dann werden der Reihe nach die folgenden Stufen (1) und (2) durchgeführt:

  • (1) eine Stufe der Abflachung der Oberfläche des aufgebrachten Harzes; und
  • (2) eine Stufe der Photohärtung des aufgebrachten Harzes.
In the method for producing the flattened resin-coated printed wiring board of the present invention, the above-mentioned photo / thermosetting resin composition is applied and filled. Then, the following steps (1) and (2) are carried out in order:
  • (1) a step of flattening the surface of the applied resin; and
  • (2) a step of photocuring the applied resin.

Speziellerweise wird in Stufe (1) die oben genannte beschichtete und befüllte gedruckte Leiterplatte sandwichartig zwischen zwei Deckfilmen angeordnet [1C, 106]. Der Deckfilm kann von der gedruckten Leiterplatte nach einer später zu beschreibenden primären Photohärtung abgezogen werden und vorzugsweise durchdringt diesen das Bestrahlungslicht gut. Spezielle Beispiele für den Deckfilm schließen einen PET-Film, einen PEN-Film, einen PP-Film und einen PE-Film ein. Die Filmdicke der Deckfilme kann beispielsweise 10 bis 200 (typischerweise 25 bis 100) um betragen.Specifically, in step (1), the above-mentioned coated and filled printed circuit board is sandwiched between two cover films [ 1C . 106 ]. The cover film may be peeled off from the printed circuit board after a primary photocuring to be described later, and preferably penetrates the irradiation light well. Specific examples of the cover film include a PET film, a PEN film, a PP film, and a PE film. The film thickness of the cover films may be, for example, 10 to 200 (typically 25 to 100) μm.

Dann wird die mit dem obigen Deckfilm bedeckte gedruckte Leiterplatte einem Druckwalzen unterworfen. Das Druckwalzen kann beispielsweise unter Verwendung eines Laminators oder dergleichen durchgeführt werden. Das heißt, die gedruckte Leiterplatte, die mit dem obigen Deckfilm bedeckt ist, wird zuerst sandwichartig zwischen zwei Walzen angeordnet [1D, 107].Then, the printed circuit board covered with the above cover film is subjected to pressure-rolling. The pressure rolling may be performed by using, for example, a laminator or the like. That is, the printed circuit board covered with the above cover film is first sandwiched between two rollers [ 1D . 107 ].

In diesem Fall wird ein Intervall zwischen den Walzen vorzugsweise so eingestellt, dass die Schichtdicke des auf den Schaltkreis der gedruckten Leiterplatte aufgebrachten Harzes [1I, 111] 0,1 bis 10 (insbesondere 0,1 bis 5) μm nach der Härtung des Harzes beträgt. Weiterhin ist die Dicke der Harzschicht, die auf ein Grundmaterial der gedruckten Leiterplatte aufgebracht worden ist [1I, 112], vorzugsweise die Dicke einer Schaltkreiskupferfolie plus 0,1 bis plus 10 (insbesondere plus 0,1 bis plus 5) μm nach der Härtung des Harzes. Wenn die Schichtdicke des gehärteten Harzes zu klein ist, dann kann in manchen Fällen die aufgeraute Kupferfolie nicht in genügendem Umfang bedeckt sein. Andererseits führt, wenn die gehärtete Harzschicht dann poliert wird, um die Oberfläche der Kupferfolie freizulegen oder wenn eine nachstehend zu beschreibende Öffnung gebildet werden soll, eine zu hohe Schichtdicke des gehärteten Harzes in manchen Fällen dazu, dass Schwierigkeiten bei der Polierbehandlung oder bei der Behandlung zur Erzielung einer Öffnung auftreten. Als Ergebnis treten gelegentlich Probleme, wie das Auftreten von Variationen der Abmessungen der gedruckten Leiterplatte auf oder dass das Harz in der Öffnung zurückbleibt. Es kann auch eine große Toleranz zwischen dem vorgesehenen Wert und dem tatsächlichen Wert der Impedanz auftreten.In this case, an interval between the rollers is preferably set so that the layer thickness of the resin applied to the circuit of the printed circuit board [ 1I . 111 ] 0.1 to 10 (especially 0.1 to 5) microns after the curing of the resin. Further, the thickness of the resin layer applied to a base material of the printed circuit board is [ 1I . 112 ], preferably the thickness of a circuit copper foil plus 0.1 to plus 10 (especially plus 0.1 to plus 5) μm after curing of the resin. If the layer thickness of the cured resin is too small, then in some cases the roughened copper foil may not be sufficiently covered. On the other hand, when the cured resin layer is then polished to expose the surface of the copper foil, or when an opening to be described below is to be formed, too high a layer thickness of the cured resin tends to cause difficulty in polishing treatment or treatment Achieve an opening occur. As a result, problems such as the occurrence of variations in the dimensions of the printed wiring board or the residual of the resin in the opening occasionally occur. There may also be a large tolerance between the intended value and the actual value of the impedance.

Die zwei Walzen werden auf der gesamten Oberfläche der jeweiligen Deckfilme, die auf beide Oberflächen der gedruckten Leiterplatte aufgebracht worden sind, bewegt, während das oben genannte Walzenintervall aufrechterhalten wird [1D, 108].The two rollers are moved on the entire surface of the respective cover films which have been applied to both surfaces of the printed circuit board while maintaining the above-mentioned roller interval [ 1D . 108 ].

Als Laminierungsbedingungen können speziell ein Laminierungsdruck von 0,01 bis 10 (typischerweise 0,1 bis 1) MPa, eine Laminierungsgeschwindigkit von 0,1 bis 10 (typischerweise 0,3 bis 3) m/Minute, eine Laminierungstemperatur von Raumtemperatur bis 150°C (typischerweise 25 bis 100°C) angewendet werden.When Lamination conditions can specifically, a lamination pressure of 0.01 to 10 (typically 0.1 to 1) MPa, a lamination rate of 0.1 to 10 (typically 0.3 to 3) m / minute, a lamination temperature of room temperature up to 150 ° C (typically 25 to 100 ° C) be applied.

Bei dem erfindungsgemäßen Verfahren zur Herstellung der abgeflachten, mit Harz beschichteten gedruckten Leiterplatte wird der Prozess (2) nach Durchführung des Prozesses (1) durchgeführt. Beide Seiten der gedruckten Leiterplatte werden vorzugsweise bei dem Prozess (2) mit Licht bestrahlt. In diesem Falle können beide Seiten (Vorderseite und Rückseite) der gedruckten Leiterplatte gleichzeitig mit Licht bestrahlt werden und sie können auch nacheinander mit Licht bestrahlt werden. Das aufgebrachte Harz wird mit Licht auf dem Wege über den Deckfilm bestrahlt und als Ergebnis erfolgt ein primäres Photohärten des aufgebrachten Harzes [1E, 109].In the method for producing the flattened resin-coated printed wiring board according to the present invention, the process (2) is carried out after the process (1) is carried out. Both sides of the printed circuit board are preferably irradiated with light in the process (2). In this case, both sides (front and back) of the printed circuit board can be irradiated with light at the same time and they can also be successively irradiated with light. The applied resin is irradiated with light by way of the cover film, and as a result, primary photocuring of the applied resin is carried out. 1E . 109 ].

Was die Bestrahlung mit Licht betrifft, so kann das Harz mit Licht mit einem charakteristischen Bereich der Absorptionswellenlänge des Bestandteils [III] speziell mit Ultraviolettlicht mit einer Wellenlänge von 200 bis 400 nm bei –20 bis 80°C bestrahlt werden, wobei die Bestrahlungslichtmenge 0,5 bis 10 J/cm2 beträgt. Das Photohärten kann auch unter Verwendung einer untergetauchten Belichtungseinrichtung, beschrieben in den JP-A Nrn. 9-6010 und 10-29247, durchgeführt werden.As to the irradiation with light, the resin may be irradiated with light having a characteristic range of the absorption wavelength of the component [III] especially ultraviolet light having a wavelength of 200 to 400 nm at -20 to 80 ° C, the irradiation light amount being 0, 5 to 10 J / cm 2 . The photocuring can also be carried out using a submerged exposure apparatus described in JP-A Nos. 9-6010 and 10-29247.

Nach der Photohärtung des obigen Harzes wird jeder der Deckfilme auf beiden Oberflächen der gedruckten Leiterplatte abgezogen und entfernt.To photohardening of the above resin, each of the cover films on both surfaces of printed circuit board removed and removed.

Bei dem erfindungsgemäßen Verfahren zur Herstellung der abgeflachten, mit Harz beschichteten gedruckten Leiterplatte werden die Stufen (1) und (2) wie oben beschrieben vervollständigt und dann wird die photo/wärmehärtende Harzzusammensetzung [1F, 105] auch auf die andere Oberfläche der gedruckten Leiterplatte aufgebracht. Das Harz kann in der gleichen Art und Weise wie bei der zuvor beschriebenen Aufbringung auf eine Oberfläche der gedruckten Leiterplatte aufgebracht werden.In the method for producing the flattened resin-coated printed wiring board according to the present invention, steps (1) and (2) are completed as described above, and then the photo / thermosetting resin composition [ 1F . 105 ] also applied to the other surface of the printed circuit board. The resin may be applied to a surface of the printed circuit board in the same manner as in the previously described application.

Sodann wird die Stufe (1) [1G, 1H] und die Stufe (2) nacheinander wie oben beschrieben durchgeführt. Bei dem Verfahren zur Herstellung der abgeflachten, mit Harz beschichteten gedruckten Leiterplatte gemäß der Erfindung wird dann die folgende Stufe (3) durchgeführt:

  • 3) eine Stufe der Wärmehärtung des photogehärteten Harzes.
Then the stage (1) [ 1G . 1H ] and the stage ( 2 ) are performed sequentially as described above. In the method for producing the flattened resin-coated printed circuit board according to the invention, the following step (3) is then carried out:
  • 3) a step of thermosetting the photocured resin.

Bei der Stufe (3) wird das aufgebrachte Harz, das in Stufe (2) primär photogehärtet worden ist, dann sekundär wärmegehärtet, um das Harz vollständig auszuhärten [1I, 110]. Die ausgezeichneten Eigenschaften hinsichtlich der Hitzebeständigkeit, der Beständigkeit gegenüber einem Lötmittel und der Adhäsion des ausgehärteten Harzes und der gedruckten Leiterplatte oder dergleichen werden durch die vollständige Härtung erhalten.In the step (3), the applied resin primary-cured in step (2) is then secondarily heat-set to fully cure the resin [ 1I . 110 ]. The excellent properties in terms of heat resistance, solder resistance and adhesion of the cured resin and the printed wiring board or the like are obtained by the complete cure.

Die Erhitzungstemperatur in der Stufe (3) ist vorzugsweise nicht kleiner als die Starttemperatur der Reaktion (Starttemperatur des sekundären Wärmehärtens) des Bestandteils [V] der photo/wärmehärtenden Harzzusammensetzung. Speziellerweise wird das Harz vorzugsweise auf 120 bis 300°C (insbesondere 140 bis 200°C) 30 bis 200 Minuten lang erhitzt.The Heating temperature in the step (3) is preferably not smaller as the starting temperature of the reaction (starting temperature of the secondary heat-setting) of Component [V] photo / thermosetting Resin composition. Specifically, the resin is preferably at 120 to 300 ° C (especially 140 to 200 ° C) Heated for 30 to 200 minutes.

Wie es oben bereits beschrieben wurde, ist es so, dass, weil es nicht notwendig ist, das Hitzeverpressen bei der erfindungsgemäßen Herstellung der abgeflachten, mit Harz beschichteten gedruckten Leiterplatte durchzuführen (das heißt, dass es nicht notwendig ist, das Erhitzen und das Verpressen gleichzeitig durchzuführen), eine Deformation des Harzes verhindert werden kann und dass auch eine Verschlechterung der Flachheit der gedruckten Leiterplatte verhindert werden kann.As it has already been described above, it is that because it is not is necessary, the heat compression in the preparation of the invention the flattened resin coated printed circuit board (the is called, that it is not necessary, the heating and the pressing at the same time perform), a deformation of the resin can be prevented and that too a deterioration of the flatness of the printed circuit board can be prevented.

Bei der erfindungsgemäßen abgeflachten, mit Harz beschichteten gedruckten Leiterplatte, die auf die obige Weise erhalten worden ist, beträgt der maximale Wert der Differenz der Projektion bzw. der vorstehenden Teile und der Aussparung der Oberfläche im Allgemeinen 3 (typischerweise 1) μm oder weniger.at the flattened, with resin coated printed circuit board, based on the above Way has been obtained is the maximum value of the difference of the projection or the above Parts and the recess of the surface in general 3 (typically 1) μm or fewer.

Bei der erfindungsgemäßen abgeflachten, mit Harz beschichteten gedruckten Leiterplatte [1], die auf die obige Art und Weise hergestellt worden ist, werden die Aussparung (insbesondere die Aussparung zwischen den Schaltkreisen und dergleichen) und das Durchgangsloch der gedruckten Leiterplatte mit dem gehärteten Harz gefüllt und die abgeflachte, mit Harz beschichtete gedruckte Leiterplatte wird mit einer gehärteten Harzschicht (Film) mit extremer Flachheit und gleichförmiger Oberfläche bedeckt.In the Flattened Resin Coated Printed Circuit Board of the Invention [ 1 ] fabricated in the above manner, the recess (specifically, the recess between the circuits and the like) and the through hole of the printed circuit board are filled with the cured resin, and the flattened resin-coated printed circuit board is hardened Resin layer (film) covered with extreme flatness and uniform surface.

Daher ist die Dicke der erfindungsgemäßen abgeflachten, mit Harz beschichteten gedruckten Leiterplatte über die gesamte Fläche der gedruckten Leiterplatte gleichförmig, ungeachtet der Schaltkreisdichte, und die Dicke der aufgebrachten Harzschicht, die auf der leitfähigen Schaltkreisschicht (Schaltkreis-Kupferfolie) gebildet worden ist, ist fixiert.Therefore is the thickness of the flattened, resin coated printed circuit board over the entire surface of the uniform printed circuit board, regardless of the circuit density, and the thickness of the applied Resin layer on the conductive Circuit layer (circuit copper foil) has been formed, is fixed.

Eine mehrschichtige gedruckte Leiterplatte (insbesondere eine vierschichtige gedruckte Leiterplatte), die als inneres Schichtmaterial oder dergleichen der mehrschichtigen gedruckten Leiterplatte verwendbar ist, kann dadurch hergestellt werden, dass die oben genannte, abgeflachte, mit Harz beschichtete gedruckte Leiterplatte gemäß der Erfindung als Material eingesetzt wird.A multilayer printed circuit board (in particular a four-layered printed circuit board) used as an inner layer material or the like the multilayer printed circuit board can be used produced by the fact that the abovementioned, flattened, Resin-coated printed circuit board according to the invention as a material is used.

Das heißt, bei der erfindungsgemäßen mehrschichtigen gedruckten Leiterplatte wird zuerst die photo/wärmehärtende Harzzusammensetzung auf eine Oberfläche und das Durchgangsloch der gedruckten Leiterplatte aufgebracht. Die Stufen (1) und (2) werden nacheinander durchgeführt und die photo/wärmehärtende Harzzusammensetzung wird dann auf die andere Oberfläche der gedruckten Leiterplatte aufgebracht. Nach der sequentiellen Durchführung der Stufen (1) und (2) wird die folgende Stufe A durchgeführt.

  • A) Durchführung der Stufe (3) und laminierende Verpressung der gedruckten Leiterplatte, wobei die gedruckte Leiterplatte sandwichartig zwischen Pressbindungsmaterialien angeordnet wird, um die Pressbindungsmaterialien mit der gedruckten Leiterplatte durch Verpressung zu verbinden.
That is, in the multilayer printed wiring board of the present invention, first, the photo / thermosetting resin composition is applied to a surface and the through hole of the printed wiring board. Steps (1) and (2) are successively performed, and the photo / thermosetting resin composition is then applied to the other surface of the printed circuit board. After the sequential execution of the steps (1) and (2), the following step A is performed.
  • A) performing step (3) and laminating pressing the printed circuit board, wherein the printed circuit board is sandwiched between press bonding materials to press-bond the press bonding materials to the printed circuit board.

Bei der obigen Stufe (A) wird zuerst die oben genannte abgeflachte, mit Harz beschichtete gedruckte Leiterplatte gemäß der Erfindung wie oben beschrieben in einer Stufe, wo die Stufe (3) vervollständigt worden ist, erhalten. at In the above step (A), first, the above is flattened, Resin-coated printed circuit board according to the invention as described above in a stage where the step (3) has been completed.

Dann wird die erfindungsgemäße abgeflachte, mit Harz beschichtete gedruckte Leiterplatte mit der abgeflachten, mit Harz beschichteten gedruckten Leiterplatte sandwichartig zwischen den Pressbindungsmaterialien [2A, 213] angeordnet, laminiert und verpresst, wodurch die Pressbindungsmaterialien mit der erfindungsgemäßen abgeflachten, mit Harz beschichteten gedruckten Leiterplatte durch Verpressen verbunden werden bzw. die erfindungsgemäße abgeflachte, mit Harz beschichtete gedruckte Leiterplatte wird sandwichartig zwischen Pressbindungsmaterialien angeordnet [2A, 213], einer Laminierung und Verpressung unterworfen, wodurch die Pressbindungsmaterialien mit der erfindungsgemäßen abgeflachten, mit Harz beschichteten gedruckten Leiterplatte durch Verpressen verbunden werden. Beispiele für die Pressbindungsmaterialien schließen ein Prepreg, eine Kupferfolie mit einem Harz, einen halb-gehärteten Harzfilm, eine Adhäsionsfolie, einen trockenen Film und einen Resist ein und typische Beispiele hierfür schließen den Prepreg ein. Die Dicke des Pressbindungsmaterials kann z.B. 50 bis 100 μm betragen. Erforderlichenfalls kann eine Vielzahl von Pressbindungsmaterialien zum Einsatz kommen.Then, the flattened resin coated printed circuit board of the invention with the flattened resin coated printed circuit board is sandwiched between the press bonding materials. 2A . 213 , the press-bonding materials are press-bonded to the flattened resin-coated printed circuit board of the present invention, and the flattened resin-coated printed circuit board of the present invention is sandwiched between press-bonding materials. 2A . 213 ], lamination and compression, whereby the press-bonding materials are bonded to the flattened resin-coated printed circuit board of the present invention by pressing. Examples of the press bonding materials include a prepreg, a copper foil with a resin, a semi-cured resin film, an adhesive sheet, a dry film and a resist, and typical examples thereof include the prepreg. The thickness of the press-bonding material may be, for example 50 to 100 microns. If necessary, a variety of press bonding materials can be used.

Wenn das Pressbindungsmaterial ein halbthermisch gehärtetes Harz ist, dann wird die Laminierungsverpressung vorzugsweise unter Erhitzen durchgeführt. Wenn die photo/wärmehärtende Harzzusammensetzung auf die sekundäre Wärmehärtungstemperatur oder höher (insbesondere auf die Reaktionsstarttemperatur der Bestandteils [V] oder mehr) der photo/wärmehärtenden Harzzusammensetzung erhitzt wird, dann kann die Stufe (3) bei dem obigen Herstellungsverfahren für die abgeflachte, mit Harz beschichtete gedruckte Leiterplatte weggelassen werden.If the press bonding material is a semi-thermosetting resin, then becomes the lamination compression is preferably carried out under heating. If the photo / thermosetting resin composition to the secondary heat set or higher (In particular, the reaction start temperature of the constituent [V] or more) of the photo / thermosetting Resin composition is heated, then the stage (3) in the above manufacturing method for omitted the flattened resin coated printed circuit board become.

Das heißt, in diesem Fall wird zuerst die photo/wärmehärtende Harzzusammensetzung auf eine Oberfläche und in das Durchgangsloch der gedruckten Leiterplatte aufgebracht bzw. eingefüllt. Die Stufen (1) und (2) werden nacheinander durchgeführt. Dann wird die photo/wärmehärtende Harzzusammensetzung auf die andere Oberfläche der gedruckten Leiterplatte aufgebracht, die Stufen (1) und (2) werden der Reihe nach durchgeführt und dann wird die folgende Stufe (B) durchgeführt.

  • B) Laminierende Verpressung der gedruckten Leiterplatte bei der Wärmehärtungstemperatur des photogehärteten Harzes oder höher, wobei die gedruckte Leiterplatte sandwichartig zwischen den Pressbindungsmaterialien angeordnet wird, wodurch gleichzeitig die Pressbindungsmaterialien pressverbunden werden und die Stufe (3) durchgeführt wird.
That is, in this case, the photo / thermosetting resin composition is first applied to a surface and into the through hole of the printed circuit board. Steps (1) and (2) are performed one after the other. Then, the photo / thermosetting resin composition is applied to the other surface of the printed wiring board, steps (1) and (2) are carried out in order, and then the following step (B) is carried out.
  • B) laminating the printed circuit board at the thermosetting temperature of the photocured resin or higher, the printed circuit board being sandwiched between the press bonding materials, thereby press-bonding the press bonding materials simultaneously and performing step (3).

Bei der obigen Stufe (B) werden die Pressbindung (und eine perfekte Wärmehärtung) des Pressbindungsmaterials und das sekundäre Wärmehärten [d.h. die Stufe (3)] des photogehärteten Harzes gleichzeitig durchgeführt, indem bei der Wärmehärtungstemperatur oder darüber eine laminierende Verpressung durchgeführt wird.at the above step (B), the press bond (and a perfect Heat curing) of Press bonding material and secondary heat curing [i.e. the stage (3)] of photocured Resin carried out simultaneously, by at the heat curing temperature or above a laminating pressing is performed.

Bei den Stufen (A) und (B) sind die Laminierungspressbedingungen vorzugsweise beispielsweise 120 bis 200°C (insbesondere 135 bis 180°C), 30 bis 180 (insbesondere 60 bis 150) Minuten, wobei der Druck 10 bis 100 (insbesondere 15 bis 40) kp/cm2 beträgt.In the steps (A) and (B), the lamination pressing conditions are preferably, for example, 120 to 200 ° C (especially 135 to 180 ° C), 30 to 180 (especially 60 to 150) minutes, the pressure being 10 to 100 (especially 15 to 40) kp / cm 2 .

Beispielsweise kann das Laminierungsverpressen mittels eines Laminators vom offenen Typ, eines Vakuumlaminators oder dergleichen durchgeführt werden. Weiterhin können solche Laminatoren z.B. eine hydraulische Presse und eine Autoklavenpresse sein. Weiterhin kann die hydraulische Presse vom Vakuum-Typ, vom Rahmen-Typ, vom Kasten-Typ und dergleichen sein.For example, lamination molding may be performed by an open type laminator, a vacuum laminator, or the like. Furthermore, such laminators may be, for example, a hydraulic press and an autoclave press. Furthermore, the hydraulic press of the vacuum type, frame type, box type and the like.

Bei der Herstellung der erfindungsgemäßen mehrschichtigen gedruckten Leiterplatte wird nach der Durchführung der obigen Stufe (A) oder (B) ein Loch in die Lei terschicht (z.B. Schaltkreis- bzw. Stromkreisschicht) von der Oberfläche des Pressbindungsmaterials eingebohrt, um einen Mikroweg [FIG. B, 214] eines Blindlochs zu bilden. Der Mikroweg wird als konformaler Weg für die Zwischenschichtverbindung mit der Schaltkreisschicht, gebildet bei einem Nachverfahren, verwendet. Beispielsweise kann das Loch mittels eines Verfahrens unter Verwendung eines Lasers (UV-Laser, CO2-Laser, Excimer-Laser, Nd:YAG-Laser oder dergleichen) oder einer Plasmabehandlung eingebohrt werden. Es wird bevorzugt, dass der Durchmesser des Mikrowegs beispielsweise 10 bis 200 (insbesondere 20 bis 70) μm beträgt.In the manufacture of the multilayer printed wiring board of the present invention, after performing the above step (A) or (B), a hole is drilled in the wiring layer (eg, circuit layer) from the surface of the press bonding material to form a microwave [FIG. B 214 ] of a blind hole. The microwave is used as a conformal path for the interlayer connection with the circuit layer formed in a post process. For example, the hole means of a process may be performed using a laser (UV-laser, CO 2 laser, excimer laser, Nd: YAG laser or the like) are drilled or a plasma treatment. It is preferred that the diameter of the microweg is, for example, 10 to 200 (in particular 20 to 70) μm.

Dann wird bei dem erfindungsgemäßen Verfahren zur Herstellung der mehrschichtigen gedruckten Leiterplatte der gesamte Bereich plattiert [2C, 215]. Es ist zu bevorzugen, dass auf beiden Oberflächen die gesamte Fläche plattiert wird. Die freigelegte Oberfläche (die Oberfläche des Pressbindungsmaterials, die Oberfläche der Innenwand des Mikrowegs, die freigelegte Oberfläche der Leiterschicht, die durch den Mikroweg geöffnet worden ist oder dergleichen) wird mit der Plattierungsschicht durch das auf die gesamte Fläche erfolgende Plattieren bedeckt. Die Plattierungsschicht wird für die Zwischenschichtverbindung oder die Schaltkreis- bzw. Stromkreisbildung des Nach-Prozesses und dergleichen verwendet.Then, in the method of manufacturing the multilayer printed wiring board of the present invention, the entire area is plated [ 2C . 215 ]. It is preferable that the entire surface is plated on both surfaces. The exposed surface (the surface of the press-bonding material, the surface of the inner wall of the microgouse, the exposed surface of the conductor layer opened by the microg or the like) is covered with the plating layer by the plating on the entire surface. The plating layer is used for the interlayer connection or the post-process circuit and the like.

Hinsichtlich der Plattierung der gesamten Fläche ist es zuerst zu bevorzugen, ein stromloses Plattieren durchzuführen, um eine Schicht, die als Unterschicht bezeichnet wird, herzustellen, und weiterhin ein elektrolytisches Plattieren durchzuführen. Beispiele für die Bezeichnung „Plattieren" beim stromlosen Plattieren und beim elektrolytischen Plattieren schließen ein Plattieren mit Kupfer, ein Plattieren mit Nickel, ein Plattieren mit Gold, ein Plattieren mit Nickel-Gold und ein Plattieren mit Lötmittel ein. Das Plattiermittel kann auch das gleiche sein oder es können zwei Arten davon miteinander kombiniert werden. Es ist zu bevorzugen, dass die Schichtdicke der stromlosen Plattierung 0,1 bis 10 (insbesondere 0,5 bis 5) μm beträgt und dass die Schichtdicke der elektrolytischen Plattierung 10 bis 50 (insbesondere 15 bis 30) μm beträgt.Regarding the plating of the entire surface it is first preferable to perform electroless plating to to produce a layer, called a sub-layer, and continue to perform electrolytic plating. Examples for the Designation "plating" when de-energized Plating and electrolytic plating include Plating with copper, plating with nickel, plating with gold, a plating with nickel-gold and a plating with solder one. The plating agent may also be the same or it may be two Types of it are combined. It is to be preferred in that the layer thickness of the electroless plating is 0.1 to 10 (in particular 0.5 to 5) μm is and that the layer thickness of the electrolytic plating is 10 to 50 (especially 15 to 30) microns is.

Dann wird bei dem erfindungsgemäßen Verfahren zur Herstellung der mehrschichtigen gedruckten Leiterplatte ein Schaltkreis bzw. Stromkreis [2D, 216] der oben genannten Gesamtflächen-Plattierungsschicht gebildet. Beispielsweise kann die Bildung des Schaltkreises bzw. des Stromkreises durch ein subtraktives Verfahren, ein additives Verfahren oder dergleichen erfolgen.Then, in the method of manufacturing the multilayer printed circuit board of the present invention, a circuit 2D . 216 ] of the above-mentioned total surface plating layer. For example, the formation of the circuit or of the circuit can be effected by a subtractive method, an additive method or the like.

Danach wird bei dem erfindungsgemäßen Verfahren zur Herstellung der mehrschichtigen gedruckten Leiterplatte die Oberfläche mit einem Resist bedeckt [2E, 217]. Beispiele für den Resist schließen einen Lötmittelresist, einen Polyimidresist und einen Polyimidfilm ein. Ein typisches Beispiel ist ein Lötmittelresist.Thereafter, in the method of manufacturing the multilayer printed circuit board of the present invention, the surface is covered with a resist [ 2E . 217 ]. Examples of the resist include a solder resist, a polyimide resist, and a polyimide film. A typical example is a solder resist.

Der Resist kann beispielsweise durch ein photographisches Verfahren aufgebracht werden, bei dem das Belichten und Entwickeln unter Verwendung einer lichtempfindlichen Resistdruckfarbe oder eines trockenen Films und eines Druckverfahrens unter Verwendung einer Resistdruckfarbe oder dergleichen durchgeführt wird.Of the Resist can be obtained, for example, by a photographic process to be applied in which the exposing and developing using a photosensitive resist ink or a dry film and a printing method using a resist ink or the like is performed.

Ein Öffnungsteil kann erforderlichenfalls auf dem Resist gebildet werden. In diesem Fall wird das Belichten/Entwickeln der Druckfarbe so durchgeführt, dass ein Resistmuster erhalten wird, das einen Öffnungsteil hat. Speziell kann die Öffnung des Resists zur Erzielung eines Auflagenteils [2E, 218] und/oder eines Kontakt teils [2E, 219] in der mehrschichtigen gedruckten Leiterplatte gebildet werden. In diesem Fall wird die mehrschichtige gedruckte Leiterplatte mit einer Resistmasse, ausgenommen dem Aufflagen- und oder Kontaktteil, bedeckt.An opening part may be formed on the resist if necessary. In this case, the exposure / developing of the ink is performed so as to obtain a resist pattern having an opening part. Specifically, the opening of the resist to achieve a support part [ 2E . 218 ] and / or a contact partly [ 2E . 219 ] are formed in the multilayer printed circuit board. In this case, the multilayer printed wiring board is covered with a resist except for the support and contact parts.

Eine Auflagenplattierung [2F, 220] und/oder eine Kontaktplattierung [2F, 221] kann weiterhin auf die Oberfläche der Auflage und/oder die Oberfläche des Kontaktteils, exponiert von der Öffnung des Resists, aufgebracht werden, um die Abriebbeständigkeit zu verbessern. Hinsichtlich der Auflagenplattierung und/oder der Kontaktplattierung kann beispielsweise Nickel aufplattiert werden und dann kann weiterhin Gold aufplattiert werden. Die Schichtdicke der Plattierung beträgt vorzugsweise 0,1 bis 20 (insbesondere 0,5 bis 10) μm.An overlay plating [ 2F . 220 ] and / or contact plating [ 2F . 221 ] can be further applied to the surface of the overlay and / or the surface of the contact member exposed from the opening of the resist to improve the abrasion resistance. For example, with respect to overlay plating and / or contact plating, nickel may be plated and then gold may still be plated. The layer thickness of the plating is preferably 0.1 to 20 (especially 0.5 to 10) μm.

Bezüglich der mehrschichtigen gedruckten Leiterplatte [2F] gemäß der Erfindung, die auf die oben beschriebene Art und Weise hergestellt worden ist, ist es so, dass ungeachtet der Stromkreisdichte eines Kernteils (das heißt eines Teils, der der als Material verwendeten abgeflachten, mit Harz beschichteten gedruckten Leiterplatte entspricht) keine Blasen und Kerben auf der gesamten Oberfläche existieren und dass eine extrem ausgezeichnete Flachheit erhalten wird. Die Dicke der isolierenden Schicht (der gehärteten Harzschicht und der Schicht aus dem Pressbindungsmaterial), die auf der leitenden Stromkreisschicht (Stromkreiskupferfolie) des Kernteils gebildet worden ist, ist ebenfalls in extremer Art und Weise fixiert.Regarding the multilayer printed circuit board [ 2F According to the invention manufactured in the manner described above, regardless of the circuit density of a core part (that is, a part corresponding to the flattened resin-coated printed circuit board used as the material), there are no bubbles and Notches exist on the entire surface and that an extremely excellent flatness is obtained. The thickness of the insulating layer (the hardened resin layer and the layer of the press bonding material) formed on the conductive circuit layer (circuit copper foil) of the core member is also fixed in an extreme manner.

Die gedruckte Leiterplatte (insbesondere die doppelseitig bedruckte Leiterplatte), die als Grundmaterial für eine äußere Schicht oder dergleichen der mehrschichtigen gedruckten Leiterplatte verwendbar ist, kann dadurch hergestellt werden, dass die erfindungsgemäße abgeflachte, mit Harz beschichtete gedruckte Leiterplatte als Material verwendet wird. Das heißt, bei dem erfindungsgemäßen Verfahren zur Herstellung der gedruckten Leiterplatte wird die photo/wärmehärtende Harzzusammensetzung auf eine Oberfläche und in das Durchgangsloch der gedruckten Leiterplatte aufgebracht bzw. eingefüllt, und nacheinander werden die Stufen (1) und (2) durchgeführt. Die photo/wärmehärtende Harzzusammensetzung wird dann auf die andere Oberfläche der gedruckten Leiterplatte aufgebracht und der Reihe nach werden die Stufen (1) bis (3) durchgeführt, um zuerst eine erfindungsgemäße abgeflachte, mit Harz beschichtete gedruckte Leiterplatte zu erhalten [3A].The printed circuit board (particularly the double-sided printed circuit board) usable as a base material for an outer layer or the like of the multilayer printed wiring board can be manufactured by using the flattened resin-coated printed circuit board of the present invention as a material. That is, in the method of manufacturing the printed wiring board according to the present invention, the photo / thermosetting resin composition is applied to a surface and into the through hole of the printed wiring board, and steps (1) and (2) are successively performed. The photo / thermosetting resin composition is then applied to the other surface of the printed circuit board and, in turn, steps (1) to (3) are carried out to first obtain a flattened resin coated printed circuit board according to the invention [ 3A ].

Die Öffnung wird dann in der Schicht des aufgeschichteten Harzes (gehärteten Harzes) der abgeflachten, mit Harz beschichteten gedruckten Leiterplatte gebildet. Bei diesem Gesichtspunkt wirkt die aufgeschichtete Harzschicht als Resist [3B].The opening is then formed in the layer of the coated resin (cured resin) of the flattened resin coated printed circuit board. In this aspect, the coated resin layer acts as a resist [ 3B ].

Die Öffnung der aufgeschichteten Harzschicht kann durch ein Verfahren gebildet werden, bei dem ein Laser (ein UV-Laser, ein CO2-Laser, ein Excimer-Laser, ein Nd:YAG-Laser oder dergleichen) oder eine Plasmabehandlung wie oben beschrieben angewendet werden. Speziell kann die Öffnung der aufgeschichteten Harzschicht dadurch gebildet werden, dass ein Auflagen- [3B, 318] und/oder Kontaktteil [3B, 319] in der gedruckten Leiterplatte angeordnet wird. Weiterhin werden eine Auflagenplattierung [3C, 320] und/oder eine Kontaktplattierung [3C, 321] auf die Oberfläche der Auflage und/oder die Oberfläche des Kontaktteils aufgebracht.The opening of the coated resin layer may be formed by a method using a laser (a UV laser, a CO 2 laser, an excimer laser, a Nd: YAG laser or the like) or a plasma treatment as described above , Specifically, the opening of the coated resin layer can be formed by forming a support [ 3B . 318 ] and / or contact part [ 3B . 319 ] is placed in the printed circuit board. Furthermore, a pad plating [ 3C . 320 ] and / or contact plating [ 3C . 321 ] applied to the surface of the support and / or the surface of the contact part.

Bezug nehmend auf die erfindungsgemäße gedruckte Leiterplatte [3C], die auf die oben beschriebene Art und Weise hergestellt worden ist, liegen auf der Oberfläche keinerlei Blasen und Kerben vor und es wird eine extrem ausgezeichnete Flachheit erhalten. Daher hat die gedruckte Leiterplatte eine ausgezeichnete Ortsgenauigkeit, wenn Mikrokomponenten mit hoher Dichte aufmontiert werden, und die gesamte gedruckte Leiterplatte hat eine gleichförmige Dicke, ungeachtet der Stromkreisdichte, und die Gesamtheit (alle Flächen) der gedruckten Leiterplatte ist mit einer flachen Harzschicht (insbesondere einem Lötmittel-Resistfilm) bedeckt. Als Ergebnis hat die gedruckte Leiterplatte auch ausgezeichnete Eintrittseigenschaften der Unterfüllung, wenn BGA (Ballgitteranordnung) mit einem engen Abstand, beispielsweise BGA, deren Abstand der Bondhügel 100 μm oder weniger ist, montiert wird.With reference to the printed circuit board according to the invention 3C ] produced in the above-described manner, there are no bubbles and nicks on the surface, and extremely excellent flatness is obtained. Therefore, the printed circuit board has excellent positional accuracy when mounting high density microcomponents, and the entire printed circuit board has a uniform thickness regardless of the circuit density, and the entirety (all areas) of the printed circuit board is coated with a flat resin layer (especially a solder -Resistfilm). As a result, the printed circuit board also has excellent underfill entry characteristics when BGA (ball grid array) is mounted with a close pitch, for example, BGA whose pitch of the bump is 100 μm or less.

Die Erfindung wurde oben beschrieben. Der Fachmann kann jedoch die Erfindung leicht modifizieren und ausdehnen. Beispielsweise kann bei dem Herstellungsverfahren der erfindungsgemäßen mehrschichtigen gedruckten Leiterplatte „ein Plattierungsresist [4A, 422] gebildet werden und die Plattierung [4B, 415] kann auf einen Teil aufgebracht werden, der nicht mit dem Plattierungsresist bedeckt ist, um den Stromkreis zu bilden [4C, 416]", anstelle dass „eine Aufbringung einer Gesamtflächenplattierung und eine Bildung des Stromkreises von der Plattierungsschicht erfolgt."The invention has been described above. However, those skilled in the art can easily modify and extend the invention. For example, in the manufacturing method of the multilayer printed wiring board of the present invention, "a plating resist [ 4A . 422 ] and the plating [ 4B . 415 ] can be applied to a part that is not covered with the plating resist to form the circuit [ 4C . 416 instead of "applying total surface plating and forming the circuit from the plating layer."

Weiterhin kann die mehrschichtige gedruckte Leiterplatte mit der gewünschten Anzahl der Schichten dadurch hergestellt werden, dass die einzelnen Herstellungsstufen beim Verfahren zur Herstellung der erfindungsgemäßen mehrschichtigen gedruckten Leiterplatte wiederholt werden.Farther Can the multilayer printed circuit board with the desired Number of layers produced by that individual Production steps in the process for producing the multilayer inventive be repeated printed circuit board.

Weiterhin kann bei dem erfindungsgemäßen Verfahren zur Herstellung der mehrschichtigen gedruckten Leiterplatte die Bezeichnung „Kupferfolie mit Harz" [5A, 523 und 524] als Bezeichnung für das „Pressbindungsmaterial" verwendet werden. In diesem Fall kann die „Gesamtflächenplattierung" des Nach-Behandlungsprozesses ebenfalls weggelassen werden (5).Furthermore, in the method for producing the multilayer printed circuit board according to the present invention, the term "copper foil with resin" [ 5A . 523 and 524 In this case, the "total surface plating" of the after-treatment process may also be omitted ( 5 ).

Die angestrebte mehrschichtige gedruckte Leiterplatte mit zugestöpselten Löchern, bei der die Anzahl der Schichten größer ist und die Schichtstruktur komplizierter ist, kann dadurch hergestellt werden, dass in geeigneter Weise eine Mehrzahl von abgeflachten, mit Harz beschichteten gedruckten Leiterplatten, von mehrschichtigen gedruckten Leiterplatten und von gedruckten Leiterplatten der Erfindung als Grundmaterial für die innere Schicht oder als Grundmaterial für die äußere Schicht kombiniert werden und dass die Zusammenstellung anschließend laminiert wird.The desired multilayer printed circuit board with plugged holes where the number of layers is greater and the layer structure is more complicated, can be made by that in appropriate Way a plurality of flattened, resin-coated printed Printed circuit boards, of multilayer printed circuit boards and of printed circuit boards of the invention as base material for the inner Layer or as a base material for the outer layer be combined and that the compilation then laminated becomes.

Weiterhin kann bei einem beliebigen erfindungsgemäßen Herstellungsverfahren eine andere Adhäsionsfolie und ein anderes Beschichtungsmaterial oder eine Kupferfolie mit dem Harz anstelle des Prepregs verwendet werden und als Ergebnis kann eine mehrschichtige gedruckte Leiterplatte mit zugestöpselten Löchern mit der gewünschten Struktur hergestellt werden.Farther can in any manufacturing method according to the invention a other adhesive film and another coating material or a copper foil with the resin can be used instead of the prepreg and as a result can be a multi-layer printed circuit board with plugged Holes with the desired Structure are produced.

Weiterhin können, obgleich die Stufe (1) mit einer Druckwalze unter Verwendung des Deckfilms bei dem erfindungsgemäßen Herstellungsverfahren beschrieben wurde, andere Objekte (eine Form, eine Platte, eine Folie und andere), die anders als ein Film sind, verwendet werden. Weiterhin können andere Verfahren, die dazu imstande sind, die Oberfläche des aufgebrachten Harzes abzuflachen, anstelle einer Druckwalzenbehandlung angewendet werden.Farther can, although the step (1) with a pressure roller using the Cover film in the production process according to the invention described other objects (a shape, a plate, a Foil and others), which are different than a film. Furthermore you can other methods that are capable of the surface of the flattened resin, instead of a pressure roller treatment be applied.

[Beispiele][Examples]

Nachstehend wird die Erfindung speziell in den Beispielen unter Bezugnahme auf die Zeichnungen weiter beschrieben.below the invention will be specifically described in the examples with reference to the drawings further described.

<Herstellung der photo/wärmehärtenden Harzzusammensetzung><Preparation of the photo / thermosetting Resin composition>

– Herstellungsbeispiel 1- Production Example 1

Die unten angegebenen Bestandteile wurden verrührt und gemischt. Dann wurde das resultierende Gemisch gleichförmig in einer Dreiwalzenmühle dispergiert. Die erhaltene gleichförmige Dispersion wurde im Vakuum entschäumt, um eine photo/wärmehärtende Harzzusammensetzung herzustellen (Herstellungsbeispiel 1)
Photo/wärmehärtende Harzzusammensetzung (Gew.-Teile):
40% (Meth)acrylsäureaddukt eines Epoxyharzes vom Dicyclopentadienphenol-Typ (100), Dicyclopentanylmethacrylat (30), Trimethylolpropantriacrylat (70), Dipentaerythrithexaacrylat (80), 2-Methyl-1-[4-(methylthio)phenyl]-2-morpholinopropan-1-on (10), Diethylthioxanthon (1), Epoxyharz vom Bisphenol A-Typ (80), Epoxyharz vom Bisphenol AD-Typ (20), Dicyandiamid (10), Siliciumdioxid (250), Oberflächenbehandeltes kolloidales Siliciumdioxid (6) und Polydimethylsiloxan (3).
The ingredients listed below were stirred and mixed. Then, the resulting mixture was uniformly dispersed in a three-roll mill. The obtained uniform dispersion was defoamed in vacuo to prepare a photo / thermosetting resin composition (Preparation Example 1)
Photo / thermosetting resin composition (parts by weight):
40% (meth) acrylic adduct of a dicyclopentadiene phenol type epoxy resin (100), dicyclopentanyl methacrylate (30), trimethylolpropane triacrylate (70), dipentaerythritol hexaacrylate (80), 2-methyl-1- [4- (methylthio) phenyl] -2-morpholinopropane 1-one (10), diethylthioxanthone (1), bisphenol A type epoxy resin (80), bisphenol AD type epoxy resin (20), dicyandiamide (10), silica (250), surface-treated colloidal silica (6) and polydimethylsiloxane (3).

<Herstellung der thermo/wärmehärtenden Harzzusammensetzung><Preparation of thermo / thermosetting Resin composition>

– Herstellungsbeispiel 2 - Production example 2

Die unten angegebenen Bestandteile wurden verrührt und gemischt. Dann wurde das resultierende Gemisch gleichförmig in einer Dreiwalzenmühle dispergiert. Die erhaltene gleichförmige Dispersion wurde im Vakuum entschäumt, um eine photo/wärmehärtende Harzzusammensetzung herzustellen (Herstellungsbeispiel 2).
Thermo/wärmehärtende Harzzusammensetzung (Gew.-Teile):
Epoxyharz vom Triphenylmethan-Typ (19), N,N,O-Tris(glycidyl)-p-aminophenol (28), Dicyandiamid (2), Epoxyharz-Aminaddukt (1), Aluminiumhydroxid (49), Bentonit (0,5), Polydimethylsiloxan (0,5).
The ingredients listed below were stirred and mixed. Then, the resulting mixture was uniformly dispersed in a three-roll mill. The obtained uniform dispersion was defoamed in vacuo to prepare a photo / thermosetting resin composition (Production Example 2).
Thermo / thermosetting resin composition (parts by weight):
Triphenylmethane type epoxy resin (19), N, N, O-tris (glycidyl) -p-aminophenol (28), dicyandiamide (2), epoxy resin-amine adduct (1), aluminum hydroxide (49), bentonite (0.5) , Polydimethylsiloxane (0.5).

<Herstellung der gedruckten Leiterplatte> <Production of the printed circuit board>

– Beispiel 1- Example 1

Es wurde eine doppelseitig bedruckte Leiterplatte [Dicke eines Kupferstromkreises: 40 μm, Linie/Abstand (L/S) 20 μm/40 μm, Durchmesser des Durchgangslochs nach der Plattierung 100 μm], wobei die Stromkreisschichten [1A, 102] auf beiden Oberflächen eines Grundmaterials [Dicke. 0,930 mm, [1A, 101] gebildet worden waren, und eine Kupferplattierung auf der inneren Wand des Durchgangslochs gebildet war [1A, 103] verwendet. Es wurde eine doppelseitig bedruckte Leiterplatte verwendet, wobei die Oberfläche einer leitfähigen Schicht (Stromkreis und Kupferplattierung der inneren Wand des Durchgangslochs) zuvor einer Aufrauungsbehandlung mit der Bezeichnung „MECetch- BOND CZ-8101" (hergestellt von MECetchBOND CO. LTD., Aufrauungschemikalien) unterworfen worden war.It was a double-sided printed circuit board [thickness of a copper circuit: 40 μm, line / distance (L / S) 20 μm / 40 μm, diameter of the through hole after plating 100 μm], and the circuit layers [ 1A . 102 ] on both surfaces of a base material [thickness. 0.930 mm, 1A . 101 ], and copper plating was formed on the inner wall of the through hole [ 1A . 103 ] used. A double-sided printed circuit board was used with the surface of a conductive layer (circuit and copper plating of the inner wall of the through hole) previously subjected to a roughening treatment called "MECetch-BOND CZ-8101" (manufactured by MECetchBOND CO. LTD., Roughening chemicals) had been.

Ein Siebdruck wurde auf die photo/wärmehärtende Harzzusammensetzung (Herstellungsbeispiel 1) [1B, 105] gemäß den in der folgenden Tabelle 5 gezeigten Druckbedingungen aufgebracht und die photo/wärmehärtende Harzzusammensetzung wurde auf die gesamte Fläche einer Oberfläche (vorhergegangene Seite) der oben genannten gedruckten Leiterplatte aufgebracht. Das Durchgangsloch und die Aussparung zwischen den Stromkreisen [1B, 104] wurde gefüllt und das Loch wurde mit der photo/wärmehärtenden Harzzusammensetzung verschlossen. Tabelle 5

Figure 00430001
A screen printing was applied to the photo / thermosetting resin composition (Production Example 1) [ 1B . 105 ] according to the pressure conditions shown in the following Table 5 and the pho thermosetting resin composition was applied to the entire area of a surface (previous side) of the above-mentioned printed circuit board. The through hole and the gap between the circuits [ 1B . 104 ] was filled and the hole was sealed with the photo / thermosetting resin composition. Table 5
Figure 00430001

Dann wurde die gedruckte Leiterplatte 30 Minuten in einem Kasten-Trockner auf 80°C erhitzt, wobei die gedruckte Leiterplatte auf ein horizontales Gestell gebracht wurde, um die Viskosität zu verringern und Blasen in dem aufgetragenen Harz zu entfernen. Die aufgetragene photo/wärmehärtende Harzzusammensetzung (Herstellungsbeispiel 1) wurde mittels eines Mikroskops bei 50facher Vergrößerung inspiziert und die mikroskopische Inspektion bestätigte die Abwesenheit von Blasen zwischen Stromkreisen bzw. zwischen den Schaltkreisen.Then The printed circuit board was left in a box dryer for 30 minutes at 80 ° C heated, with the printed circuit board on a horizontal frame was brought to the viscosity to reduce and to remove bubbles in the applied resin. The applied photo / thermosetting resin composition (Production Example 1) was inspected by means of a microscope at 50X magnification and the microscopic inspection confirmed the absence of bubbles between circuits or between the circuits.

Dann wurde die gedruckte Leiterplatte einer Laminierungsvorrichtung unterworfen, wobei die gedruckte Leiterplatte sandwichartig zwischen PET-Filmen angeordnet war [1C, 106], welche eine Filmdicke von 100 μm hatten. In der mit dem Film bedeckten gedruckten Leiterplatte, die sandwichartig zwischen zwei Walzen [1D, 107], hergestellt aus Edelstahl, angeordnet waren (Laminierungsdruck: 0,1 MPa, Laminierungsgeschwindigkeit: 0,5 m/min, Laminierungstemperatur: 100°C) wurden die Walzen auf dem Film bewegt [1D, 108]. Auf diese Weise wurde die auf der Oberfläche der gedruckten Leiterplatte gebildete aufgetragene Harzschicht abgeflacht und verdünnt [1D].Then, the printed circuit board was subjected to a laminating apparatus with the printed circuit board sandwiched between PET films. 1C . 106 ], which had a film thickness of 100 μm. In the film-covered printed circuit board sandwiched between two rollers [ 1D . 107 ] made of stainless steel (lamination pressure: 0.1 MPa, lamination speed: 0.5 m / min, lamination temperature: 100 ° C), the rolls were moved on the film [ 1D . 108 ]. In this way, the coated resin layer formed on the surface of the printed circuit board was flattened and thinned [ 1D ].

Dann wurde die oben genannte gedruckte Leiterplatte einer Lichtbestrahlung bei einer Belichtung von 1200 mJ/cm2 unter Verwendung einer Hochdruckquecksilberbogenlampe unterworfen, um ein primär photogehärtetes Material herzustellen [1E, 109]. Die oben genannten PET-Filme, die auf beide Oberflächen aufgeschichtet worden waren, wurden abgezogen und entfernt [1E].Then, the above-mentioned printed circuit board was subjected to light irradiation at an exposure of 1200 mJ / cm 2 using a high pressure mercury arc lamp to produce a primary photocured material [ 1E . 109 ]. The above-mentioned PET films stacked on both surfaces were peeled off and removed [ 1E ].

Dann wurde die rückseitige Oberfläche (folgende Oberfläche) der obigen gedruckten Leiterplatte gleichfalls in der gleichen Art und Weise wie bei der vorhergegangenen Seite behandelt. Das heißt, ein Siebdruck wurde auf die photo/wärmehärtende Harzzusammensetzung (Herstellungsbeispiel 1) [1F, 105] gemäß den in Tabelle 5 gezeigten Druckbedingungen aufgebracht und die photo/wärmehärtende Harzzusammensetzung wurde auf die gesamte Fläche der anderen Seiten (folgende Oberfläche) der obigen gedruckten Leiterplatte aufgebracht. Die Aussparung zwischen den Stromkreisen [1F, 104] wurde mit der photo/wärmehärtenden Harzzusammensetzung gefüllt.Then, the back surface (following surface) of the above printed wiring board was also treated in the same manner as in the previous page. That is, a screen printing was applied to the photo / thermosetting resin composition (Production Example 1) [ 1F . 105 ] was applied in accordance with the printing conditions shown in Table 5, and the photo / thermosetting resin composition was applied to the entire surface of the other sides (following surface) of the above printed circuit board. The gap between the circuits [ 1F . 104 ] was filled with the photo / thermosetting resin composition.

Dann wurde die gedruckte Leiterplatte 30 Minuten in einem Kasten-Trockner auf 80°C erhitzt, wobei die gedruckte Leiterplatte auf ein horizontales Gestell gebracht wurde, um die Viskosität zu verringern und Blasen in dem aufgetragenen Harz zu entfernen. Die aufgetragene photo/wärmehärtende Harzzusammensetzung (Herstellungsbeispiel 1) wurde mittels eines Mikroskops bei 50facher Vergrößerung inspiziert und die mikroskopische Inspektion bestätigte die Abwesenheit von Blasen zwischen Stromkreisen bzw. zwischen den Schaltkreisen.Then The printed circuit board was left in a box dryer for 30 minutes at 80 ° C heated, with the printed circuit board on a horizontal frame was brought to the viscosity to reduce and to remove bubbles in the applied resin. The applied photo / thermosetting resin composition (Production Example 1) was inspected by means of a microscope at 50X magnification and the microscopic inspection confirmed the absence of bubbles between circuits or between the circuits.

Hierauf wurde die gedruckte Leiterplatte sandwichartig zwischen PET-Filmen [1G, 106] mit einer Filmdicke von 100 μm angeordnet. Mit der mit dem Film bedeckten gedruckten Leiterplatte, die sandwichartig zwischen zwei Walzen [1G, 107], hergestellt aus Edelstahl, angeordnet war (Laminierungsdruck: 0,1 MPa, Laminierungsgeschwindigkeit: 0,5 m/min, Laminierungstemperatur: 100°C), wurden die Walzen auf dem Film bewegt [ 1G, 108]. Auf diese Weise wurde die auf der Oberfläche der gedruckten Leiterplatte aufgetragene gebildete Harzschicht abgeflacht und verdünnt. [1H].Then the printed circuit board was sandwiched between PET films [ 1G . 106 ] with a film thickness of 100 microns. With the film-covered printed circuit board sandwiched between two rollers [ 1G . 107 ] made of stainless steel (lamination pressure: 0.1 MPa, lamination speed: 0.5 m / min, lamination temperature: 100 ° C), the rolls were moved on the film [ 1G . 108 ]. In this way, the resin layer formed on the surface of the printed wiring board was flattened and thinned. [ 1H ].

Dann wurde die oben genannte gedruckte Leiterplatte einer Lichtbestrahlung bei einer Belichtung von 1200 mJ/cm2 unter Verwendung einer Hochdruckquecksilberbogenlampe unterworfen, um ein primär photogehärtetes Material herzustellen. Die oben genannten PET-Filme, die auf beide Oberflächen aufgeschichtet worden waren, wurden abgezogen und entfernt [1E].Then, the above-mentioned printed circuit board was subjected to light irradiation at an exposure of 1200 mJ / cm 2 using a high-pressure mercury arc lamp to prepare a primary photocured material. The above-mentioned PET films stacked on both surfaces were peeled off and removed [ 1E ].

Hierauf wurde die gedruckte Leiterplatte 30 Minuten auf 150°C erhitzt, um die sekundäre Wärmehärtung des photogehärteten Harzes durchzuführen [1I, 110], wodurch eine abgeflachte, mit Harz beschichtete gedruckte Leiterplatte (Beispiel 1) gemäß der Erfindung erhalten wurde, deren gesamte Dicke 1,018 mm [1I] betrug.Thereafter, the printed wiring board was heated at 150 ° C for 30 minutes to carry out the secondary heat curing of the photocured resin [ 1I . 110 ], whereby a flattened, resin-coated printed circuit board (Example 1) according to the invention was obtained, the total thickness of which was 1.018 mm 1I ] amounted to.

– Beispiel 2- Example 2

Es wurde eine doppelseitig bedruckte Leiterplatte [Dicke eines Kupfer-Stromkreises: 40 μm, (L/S) 20 μm/40 μm, Durchmesser des Durchgangslochs nach der Plattierung: 100 μm] verwendet, bei der Stromkreisschichten auf beiden Oberflächen eines Grundmaterials mit einer Dicke von 0,930 mm gebildet worden waren, und eine Kupferplattierung auf der inneren Wand des Durchgangslochs gebildet worden war. Es wurde eine doppelseitig bedruckte Leiterplatte verwendet, wobei die Oberfläche einer leitfähigen Schicht (Stromkreis und Kupferplattierung der inneren Wand des Durchgangslochs) zuvor einer Aufrauungsbehandlung mit der Bezeichnung „MECetchBOND CZ-8101" unterworfen worden war.It became a double-sided printed circuit board [thickness of a copper circuit: 40 μm, (L / S) 20 μm / 40 μm, diameter of the through hole after plating: 100 μm] used in the circuit layers on both surfaces of a base material having a thickness of 0.930 mm were, and a copper plating on the inner wall of the through hole had been formed. It was a double-sided printed circuit board used, with the surface a conductive Layer (circuit and copper plating of the inner wall of the through-hole) previously a roughening treatment called "MECetchBOND CZ-8101 "subjected had been.

Ein Siebdruck wurde auf die photo/wärmehärtende Harzzusammensetzung (Herstellungsbeispiel 1) bei den in der folgenden Tabelle 5 angegebenen Druckbedingungen unter Verwendung einer Vakuumdruckmaschine aufgebracht und die photo/wärmehärtende Harzzusammensetzung wurde auf die gesamte Fläche einer Oberfläche (vorhergegangene Oberfläche) der obigen Leiterplatte aufgebracht. Das Durchgangsloch und die Aussparung zwischen den Stromkreisen wurden gefüllt und das Loch wurde mit der photo/wärmehärtenden Harzzusammensetzung gepluggt.One Screen printing was applied to the photo / thermosetting resin composition (Production Example 1) in the following Table 5 Applied pressure conditions using a vacuum printing machine and the photo / thermosetting resin composition was on the entire surface of a surface (previous surface) applied to the above printed circuit board. The through hole and the Gap between the circuits were filled and the hole was filled with the photo / thermosetting Resin composition plagued.

Dann wurde die gedruckte Leiterplatte einem Laminator unterworfen, wobei die gedruckte Leiterplatte sandwichartig zwischen PET-Filmen mit einer Filmdicke von 100 μm angeordnet war.. Mit der mit dem Film bedeckten Leiterplatte, die sandwichartig zwischen zwei Walzen, herge stellt aus Edelstahl, angeordnet war (Laminierungsdruck: 0,1 MPa, Laminierungsgeschwindigkeit: 0,5 m/min, Laminierungstemperatur: Raumtemperatur), wurden die Walzen auf dem Film bewegt. Auf diese Weise wurde die aufgebrachte Harzschicht, die auf der Oberfläche der gedruckten Leiterplatte gebildet worden war, abgeflacht und verdünnt.Then The printed circuit board was subjected to a laminator, wherein sandwiched the printed circuit board between PET films a film thickness of 100 microns With the film-covered circuit board, the sandwiched between two rollers, Herge made of stainless steel, arranged was (lamination pressure: 0.1 MPa, lamination speed: 0.5 m / min, lamination temperature: room temperature), the rolls became moved on the movie. In this way, the applied resin layer, the on the surface the printed circuit board had been formed, flattened and diluted.

Dann wurde die oben genannte gedruckte Leiterplatte einer Lichtbestrahlung bei einer Belichtung von 1200 mJ/cm2 unter Verwendung einer Hochdruckquecksilberbogenlampe unterworfen, um ein primär photogehärtetes Material herzustellen. Die oben genannten PET-Filme, die auf beide Oberflächen aufgeschichtet worden waren, wurden abgezogen und entfernt.Then, the above-mentioned printed circuit board was subjected to light irradiation at an exposure of 1200 mJ / cm 2 using a high-pressure mercury arc lamp to prepare a primary photocured material. The above PET films stacked on both surfaces were peeled off and removed.

Anschließend wurde die rückseitige Oberfläche (folgende Oberfläche) der obigen gedruckten Leiterplatte ebenfalls in der gleichen Art und Weise wie die vorhergegangene Oberfläche behandelt. Das heißt, ein Siebdruck wurde auf die photo/wärmehärtende Harzzusammensetzung (Herstellungsbeispiel 1) bei den in der folgenden Tabelle 5 gezeigten Druckbedingungen unter Verwendung einer Vakuumdruckmaschine aufgebracht und die photo/wärmehärtende Harzzusammensetzung wurde auf die gesamte Fläche der anderen Oberfläche (folgende Oberfläche) der obigen Leiterplatte aufgebracht. Die Aussparung zwischen den Stromkreisen wurde mit der photo/wärmehärtenden Harzzusammensetzung gefüllt.Subsequently was the back surface (following surface) the above printed circuit board also in the same way and how the previous surface is treated. That is, a screen printing was applied to the photo / thermosetting resin composition (Production Example 1) in the case shown in Table 5 below Applied pressure conditions using a vacuum printing machine and the photo / thermosetting resin composition was on the entire surface the other surface (following surface) applied to the above printed circuit board. The recess between the Circuits were made with the photo / thermosetting resin composition filled.

Dann wurde die gedruckte Leiterplatte sandwichartig zwischen PET-Filmen mit einer Filmdicke von 100 μm angeordnet. Mit der mit dem Film bedeckten gedruckten Leiterplatte, die sandwichartig zwischen zwei Walzen aus Edelstahl angeordnet war (Laminierungsdruck: 0,1 MPa, Laminierungsgeschwindigkeit: 0,5 m/min, Laminierungstemperatur: Raumtemperatur), wurden die Walzen auf dem Film be wegt. Auf diese Weise wurde die aufgebrachte Harzschicht, die auf der Oberfläche der gedruckten Leiterplatte gebildet worden war, abgeflacht und verdünnt.Then The printed circuit board was sandwiched between PET films with a film thickness of 100 μm arranged. With the printed circuit board covered with the film, sandwiched between two stainless steel rollers was (lamination pressure: 0.1 MPa, lamination speed: 0.5 m / min, Lamination temperature: room temperature), the rolls were placed on the Moved film. In this way, the applied resin layer, the on the surface the printed circuit board had been formed, flattened and diluted.

Dann wurde die oben genannte gedruckte Leiterplatte einer Lichtbestrahlung bei einer Belichtung von 1200 mJ/cm2 unter Verwendung einer Hochdruckquecksilberbogenlampe unterworfen, um ein primär photogehärtetes Material herzustellen. Die oben genannten PET-Filme, die auf beide Oberflächen aufgeschichtet worden waren, wurden abgezogen und entfernt.Then, the above-mentioned printed circuit board was subjected to light irradiation at an exposure of 1200 mJ / cm 2 using a high-pressure mercury arc lamp to prepare a primary photocured material. The above PET films stacked on both surfaces were peeled off and removed.

Hierauf wurde die gedruckte Leiterplatte 30 Minuten lang auf 150°C erhitzt, um eine sekundäre Wärmehärtung des photogehärteten Harzes durchzuführen, wodurch eine abgeflachte, mit Harz beschichtete gedruckte Leiterplatte (Beispiel 2) gemäß der Erfindung mit einer Gesamtdicke von 1030 mm hergestellt wurde.hereupon the printed circuit board was heated to 150 ° C for 30 minutes, to a secondary Heat curing of photocured Perform resin, whereby a flattened, resin coated printed circuit board (Example 2) according to the invention made with a total thickness of 1030 mm.

– Beispiel 3- Example 3

Die obige gedruckte Leiterplatte (Beispiel 1) wurde als Grundmaterial zur Herstellung einer vierschichtigen gedruckten Leiterplatte verwendet. Das heißt, zuerst wurden beide Oberflächen der obigen gedruckten Leiterplatte (Beispiel 1) mit Prepregs [2A, 213] mit einer Dicke von 0,1 mm bedeckt, so dass die gedruckte Leiterplatte sandwichartig zwischen den Prepregs angeordnet war.The above printed circuit board (Example 1) was used as a base material for producing a four-layered printed circuit board. That is, first, both surfaces of the above printed circuit board (Example 1) were treated with prepregs [ 2A . 213 ] was covered with a thickness of 0.1 mm so that the printed circuit board was sandwiched between the prepregs.

Hierauf wurde gemäß den Pressbedingungen der Tabelle 6 die oben genannte gedruckte Leiterplatte erhitzt und im Vakuum verpresst, um die Prepregs durch Verpressung zu binden.hereupon was according to the press conditions Table 6 heated the above printed circuit board and Pressed in a vacuum to bind the prepregs by compression.

Tabelle 6

Figure 00490001
Table 6
Figure 00490001

Dann wurde ein Laser von der Oberfläche des Prepregs der obigen gedruckten Leiterplatte aufgestrahlt, um eine Stromkreisschicht freizulegen [2B und 202], wodurch ein Mikroweg (Wegdurchmesser: 70 μm) gebildet wurde [2B, 214] [2B].Then, a laser was irradiated from the surface of the prepreg of the above printed circuit board to expose a circuit layer [ 2 B and 202 ], whereby a microgrow (path diameter: 70 μm) was formed [ 2 B . 214 ] [ 2 B ].

Dann wurde eine Kupferplattierung (zuerst eine stromlose Kupferplattierung und danach eine elektrolytische Kupferplattierung) auf beiden Oberflächen der oben genannten gedruckten Leiterplatte und der Oberfläche der inneren Wand des Mikrowegs durchgeführt [2C, 215] und die Oberfläche des Wegs und des Prepregs wurden mit der Kupferfolie bedeckt, um ein doppelseitiges Kupferplattierungslaminat zu bilden. Die Plattierungsdicke der stromlosen Kupferplattierung und der elektrolytischen Plattierung betrugen 1 μm bzw. 14 μm.Then, copper plating (first electroless copper plating followed by electrolytic copper plating) was performed on both surfaces of the above-mentioned printed circuit board and the surface of the inner wall of the microwave [ 2C . 215 ] and the surface of the path and the prepreg were covered with the copper foil to form a double-sided copper clad laminate. The plating thickness of the electroless copper plating and the electrolytic plating were 1 μm and 14 μm, respectively.

Dann wurde ein Stromkreis [2D, 216] wie folgt auf beiden Oberflächen des obigen doppelseitigen Kupferplattierungslaminats gebildet. Zuerst wurde ein Ätzresist durch ein Trockenfilm(laminat)-Verfahren gebildet. Das heißt, der trockene Film wurde auf beiden Oberflächen des obigen doppelseitigen Kupferplattierungslaminats auf laminiert und es wurde ein Film vom Negativ-Typ (Mustermaske) darüber gelegt. Der trockene Film wurde dann mittels einer Ultrahochdruckquecksilberlampe belichtet und gehärtet.Then a circuit [ 2D . 216 ] is formed on both surfaces of the above double-sided copper clad laminate as follows. First, an etch resist was formed by a dry film (laminate) method. That is, the dry film was laminated on both surfaces of the above double-sided copper clad laminate, and a negative-type film (pattern mask) was superimposed thereon. The dry film was then exposed by means of an ultra-high pressure mercury lamp and cured.

Dann wurde ein Trägerfilm des trockenen Films abgezogen und eine Entwicklungslösung (1% Natriumcarbonatlösung) wurde von einer Sprühdüse auf die freigelegte Oberfläche des Resists aufgesprüht und es wurde eine Entwicklung durchgeführt. Hierauf wurde die Oberfläche des Resists gewaschen, um ein Resistmuster zu bilden.Then became a carrier film of the dry film and a developing solution (1% sodium carbonate) was from a spray nozzle on the exposed surface of the resist sprayed on and a development has been done. This was the surface of the Resists washed to form a resist pattern.

Dann wurde ein Ätzen durchgeführt. Das heißt, es wurde eine Eisen(III)-chloridlösung (36 Gew.-%) auf beide Oberflächen des obigen Resists, der mit dem doppelseitigen Kupferplattierungslaminat bedeckt war, von der Sprühdüse aufgesprüht und unnötige Kupferfolie wurde ausgelöst und entfernt. Eine 3%ige Natriumhydroxidlösung wurde von der Sprühdüse nach Beendigung des obigen Ätzens aufgespritzt und der Ätzresist wurde weggewaschen, wobei der Ätzresist aufquoll.Then, an etching was performed. That is, an iron (III) chloride solution (36 wt%) was coated on both surfaces of the above resist covered with the double-sided copper clad laminate The spray nozzle was sprayed on and unnecessary copper foil was released and removed. A 3% sodium hydroxide solution was sprayed from the spray nozzle after completion of the above etching and the etch resist was washed away, causing the etch resist to swell.

Nach der Bildung des Stromkreises, wie oben beschrieben, wurde eine Lötmittelresist-Druckfarbe aufgebracht, um einen Lötmittelresist zu bilden [2E, 217]. Das heißt, ein Ultraviolettstrahlen/wärmehärtendes Acrylat/Epoxymischharz wurde zuerst durch Siebdruck auf beide Oberflächen mit einem Stromkreis, gebildet darauf durch eine Druckrakel (Härte der Druckrakel: 75) auf dem Wege über ein Tetron-Screen mit 150 mesh aufgebracht.After the formation of the circuit as described above, a solder resist ink was applied to form a solder resist [ 2E . 217 ]. That is, an ultraviolet ray / thermosetting acrylate / epoxy resin was first screen-printed on both surfaces with a circuit formed thereon by a squeegee (hardness of the squeegee: 75) by way of a Tetron screen of 150 mesh.

Dann wurde nach dem Vorbrennen des Harzes in einem Heißluft-Trockenofen ein Negativfilm auf das Harz aufgeklebt und das Harz wurde belichtet (300 mJ/cm2) und gehärtet. Das Harz wurde mittels einer 1%igen Natriumcarbonatlösung (30°C, 2,5 kg/cm2) entwickelt, um einen Öffnungs (Auflagenteil [2E, 218]) und einen Kontaktteil [2E, 219] zu bilden. Dann wurde das Harz 30 Minuten lang auf 150°C erhitzt und wärmegehärtet.Then, after pre-baking the resin in a hot air drying oven, a negative film was stuck on the resin and the resin was exposed (300 mJ / cm 2 ) and cured. The resin was developed by means of a 1% sodium carbonate solution (30 ° C, 2.5 kg / cm 2 ) to form an opening (pad part). 2E . 218 ]) and a contact part [ 2E . 219 ] to build. Then the resin became 30 Heated to 150 ° C for minutes and thermoset.

Hierauf wurden der Auflagenteil [2E, 218] und der Kontakteil [2E, 219] zuerst auf Elektrolytnickel aufgebracht und danach wurde eine Goldplattierung durchgeführt [2F, 220 und 221].Then the edition part [ 2E . 218 ] and the contact part [ 2E . 219 ] was first applied to electrolytic nickel and then gold plating was performed [ 2F . 220 and 221 ].

Wie oben beschrieben, wurde eine vierschichtige gedruckte Leiterplatte (Beispiel 3) [2F] gemäß der Erfindung hergestellt, bei der die Dicke der isolierenden Schicht, gebildet auf einem Stromkreis-reichen Teil im Kernteil, festgelegt war (gleichförmig war) und wobei die Dicke der isolierenden Schicht, gebildet auf einem Stromkreis-armen Teil, festgelegt war (gleichförmig war). Keinerlei Blasen und Kerbungen existierten auf der gesamten Oberfläche. Das gesamte Material war flach.As described above, a four-layer printed circuit board (Example 3) was 2F ] according to the invention, in which the thickness of the insulating layer formed on a circuit-rich part in the core part was fixed (uniform) and the thickness of the insulating layer formed on a circuit-poor part was fixed (uniformly was). No blisters and notches existed on the entire surface. The entire material was flat.

– Beispiel 4- Example 4

Die obige gedruckte Leiterplatte (Beispiel 2) wurde als Grundmaterial eingesetzt, um eine doppelseitig bedruckte Leiterplatte herzustellen. Das heißt, die bedeckende gehärtete Harzschicht [3A, 310] der obigen gedruckten Leiterplatte (Beispiel 2) wurde zuerst mit einem Laser bestrahlt, um eine Kupferfolie einer Stromkreisschicht in einem Auflagenteil [3B, 318] und einem Kontaktteil [38, 319] [3B] freizulegen.The above printed circuit board (Example 2) was used as a base material to make a double-sided printed circuit board. That is, the covering cured resin layer [ 3A . 310 ] of the above printed circuit board (Example 2) was first irradiated with a laser to form a copper foil of a circuit layer in a pad part [ 3B . 318 ] and a contact part [ 38 . 319 ] [ 3B ] uncover.

Dann wurden der Auflagenteil [3C, 318] und der Kontaktteil [3C, 319] zuerst auf elektrolytisches Nickel aufgebracht und nachfolgend einer elektrolytischen Goldplattierung unterworfen [3C, 321].Then the edition part [ 3C . 318 ] and the contact part [ 3C . 319 ] is first applied to electrolytic nickel and subsequently subjected to electrolytic gold plating [ 3C . 321 ].

Wie oben beschrieben wurde, wurde eine erfindungsgemäße doppelseitig bedruckte Leiterplatte (Beispiel 4) hergestellt, bei der die Dicke der isolierenden Schicht, die auf einem Stromkreis-reichen Teil gebildet worden war, festgelegt war (gleichförmig war), die Dicke der isolierenden Schicht, die auf dem Stromkreis-armen Teil gebildet worden war, festgelegt war (gleichförmig war), und bei der keinerlei Blasen und Kerben auf der gesamten Oberfläche vorhanden waren. Die gesamte Zusammenstellung war flach und die Gesamtdicke betrug 1,030 mm [3C].As described above, a double-sided printed wiring board according to the present invention (Example 4) in which the thickness of the insulating layer formed on a circuit rich part was fixed (uniform) was the thickness of the insulating layer was formed on the circuit-poor part, was fixed (uniform), and in which there were no bubbles and notches on the entire surface. The entire assembly was flat and the total thickness was 1.030 mm [ 3C ].

– Vergleichsbeispiel 1Comparative Example 1

Es wurde eine doppelseitig bedruckte Leiterplatte [Dicke des Kupferstromkreises: 40 μm, (L/S) 20 μm/40 μm, Durchmesser des Durchgangslochs nach der Plattierung: 100 μm] verwendet, bei der Stromkreisschichten [6A, 602] auf beiden Oberflächen eines Grundmaterials [6A, 601] mit einer Dicke von 0,930 mm gebildet worden waren. Eine Kupferplattierung wurde auf der inneren Wand des Durchgangslochs gebildet. Es wurde eine doppelseitig bedruckte Leiterplatte verwendet, bei der die Oberfläche einer leitfähigen Schicht (Stromkreis und Kupferplattierung der inneren Wand des Durchgangslochs) zuvor einer Aufrauungsbehandlung mit MECetchBOND CZ-8101 unterworfen worden waren.A double-sided printed circuit board [thickness of the copper circuit: 40 μm, (L / S) 20 μm / 40 μm, diameter of the through hole after plating: 100 μm] was used, in the circuit layers [ 6A . 602 ] on both surfaces of a base material [ 6A . 601 ] were formed with a thickness of 0.930 mm. Copper plating was formed on the inner wall of the through hole. A double-sided printed circuit board was used in which the surface of a conductive layer (circuit and copper plating of the inner wall of the through-hole) had previously been subjected to a roughening treatment with MECetchBOND CZ-8101.

Ein Siebdruck wurde auf eine thermo/wärmehärtende Harzzusammensetzung (Herstellungsbeispiel 2) [6A, 605] auf der obigen gedruckten Leiterplatte gemäß den in Tabelle 5 gezeigten Druckbedingungen aufgebracht. Es wurde nur das Durchgangsloch gefüllt und das Loch wurde mit dem Harz gepluggt, ohne dass die Aussparung zwischen den Stromkreisen mit dem Harz gefüllt wurde.A screen printing was applied to a thermo / thermosetting resin composition (Production Example 2) [ 6A . 605 ] was applied to the above printed circuit board according to the printing conditions shown in Table 5. Only the through hole was filled and the hole was purged with the resin without filling the gap between the circuits with the resin.

Dann wurden, nachdem die obige gedruckte Leiterplatte 60 Minuten auf 130°C erhitzt worden war, um ein primär wärmegehärtetes Harz zu bilden [6B, 609] [6B], beide Oberflächen der obigen gedruckten Leiterplatte zuerst einmal mit einem Keramikschleifmaterial Nr. 400 poliert und dann weiterhin 4-mal mit dem Schleifmaterial Nr. 600 [6C] poliert.Then, after the above printed wiring board was heated at 130 ° C for 60 minutes to form a primary thermoset resin [ 6B . 609 ] [ 6B ], both surfaces of the above printed First polish the circuit board once with a ceramic abrasive material No. 400 and then continue with the abrasive material No. 600 4 times [ 6C ] polished.

Dann wurden beide Oberflächen der obigen gedruckten Leiterplatte mit Prepregs bedeckt [FIG. 613], wobei die gedruckte Leiterplatte sandwichartig zwischen den Prepregs angeordnet war. Die Dicke des Prepregs betrug 0,1 mm.Then, both surfaces of the above printed wiring board were covered with prepregs [FIG. 613 ], with the printed circuit board sandwiched between the prepregs. The thickness of the prepreg was 0.1 mm.

Dann wurde die obige gedruckte Leiterplatte bei den Pressbedingungen gemäß Tabelle 6 einem Vakuumerhitzungs-Pressverfahren unterworfen und die Pressbindung des Prepregs und ein sekundäres Wärmehärten des primär wärmegehärteten Harzes wurden gleichzeitig durchgeführt, um eine gedruckte Leiterplatte herzustellen [6E] (Vergleichsbeispiel 1)Then, the above printed wiring board was subjected to a vacuum-heating pressing process under the press conditions shown in Table 6, and the press-bonding of the prepreg and secondary heat-curing of the primary heat-cured resin were simultaneously carried out to prepare a printed wiring board. 6E ] (Comparative Example 1)

Die folgenden Defekte wurden bei der erhaltenen gedruckten Leiterplatte (Vergleichsbeispiel 1) beobachtet. Das heißt die Füllung aufgrund des Prepregs war in dem Stromkreis-reichen Teil von L/S = 20 μm/40 μm unzulänglich. Dadurch blieb Luft zwischen den Stromkreisen zurück und die Oberfläche quoll auf [6E, 625].The following defects were observed in the obtained printed circuit board (Comparative Example 1). That is, the filling due to the prepreg was insufficient in the circuit rich part of L / S = 20 μm / 40 μm. This left air between the circuits and the surface swelled to [ 6E . 625 ].

Weiterhin, obgleich die Füllung aufgrund des Prepregs in dem Stromkreis-armen Teil von L/S = 20 μm/200 μm perfekt war, erfolgte eine Einkerbung aufgrund der Füllung und des Verbrauchs des Prepregs zwischen den Stromkreisen [6E, 626].Further, although the filling was perfect due to the prepreg in the low-current part of L / S = 20 μm / 200 μm, a notch occurred due to the filling and consumption of the prepreg between the circuits. 6E . 626 ].

– Vergleichsbeispiel 2Comparative Example 2

Die obige gedruckte Leiterplatte (Vergleichsbeispiel 1) wurde als Grundmaterial für die Herstellung einer vierschichtigen gedruckten Leiterplatte verwendet. Das heißt, die vierschichtige gedruckte Leiterplatte (Vergleichsbeispiel 2) wurde in der gleichen Art und Weise wie im Falle des Beispiels 3 mit der Ausnahme hergestellt, dass das Material des Vergleichsbeispiels 1 als gedruckte Leiterplatte anstelle des Materials des Beispiels 1 verwendet wurde.The The above printed circuit board (Comparative Example 1) was used as a base material for the Production of a four-layer printed circuit board used. This means, the four-layered printed circuit board (Comparative Example 2) was in the same manner as in the case of Example 3 with the exception that the material of the comparative example 1 as a printed circuit board instead of the material of the example 1 was used.

Jedoch lagen Blasen [6E, 625] und Kerben [6E, 626] auf der Oberfläche der gedruckten Leiterplatte (Vergleichsbeispiel 1) des Grundmaterials (Kerngrundmaterial) vor. Hierdurch erfolgte eine Bildung von Blasen [9A, 925] und Kerben [9B, 926] auch auf der Oberfläche der so hergestellten vierschichtigen gedruckten Leiterplatte (Vergleichsbeispiel 2).However, bubbles [ 6E . 625 ] and notches [ 6E . 626 ] on the surface of the printed wiring board (Comparative Example 1) of the base material (core base material). This resulted in the formation of bubbles [ 9A . 925 ] and notches [ 9B . 926 ] also on the surface of the thus prepared four-layer printed circuit board (Comparative Example 2).

<Herstellung einer gedruckten Leiterplatte mit darauf angebrachter als Bondhügel gebildeter BGA-Komponente><Production of a Printed Circuit Board with BGA component formed as a bump thereon>

– Herstellungsbeispiel 1 und Vergleichs-Herstellungsbeispiel 1 - Production example 1 and comparative preparation example 1

Die Bondhügelbindung des Bondhügels [Mittelwert der Höhe des Bondhügels: 33,4 μm und Standardabweichung der Höhe des Bondhügels: 1,5] in einer BGA-Komponente und dem Auflagenteil der vierschichtigen gedruckten Leiterplatte (jeweils von Beispiel 3 und von Vergleichsbeispiel 2) wurde durchgeführt, um eine BGA-Komponente, mit darauf angebrachter gedruckter Leiterplatte herzustellen (jeweils des Herstellungsbeispiels 1 und des Vergleichs-Herstellungsbeispiels 1) The Bump bonding the bump hill [Mean of height of the bump hill: 33.4 μm and standard deviation of height of the bump hill: 1.5] in a BGA component and the support part of the four-layered printed circuit board (each of Example 3 and Comparative Example 2) was carried out a BGA component, with a printed circuit board attached (respectively of Preparation Example 1 and Comparative Preparation Example) 1)

<Bestimmung der charakteristischen Eigenschaften der gedruckten Leiterplatte><Determination of the characteristic properties the printed circuit board>

Die einzelnen gedruckten Leiterplatten wurden einer Messung unterworfen und auf die Dicke des gehärteten Films der jeweiligen aufgebrachten Harze auf den Stromkreis und des Grundmaterials (jeweils der Beispiele 1 und 2) getestet. Weiterhin wurden die maximalen Blasen und die maximalen Kerben auf der Oberfläche der (vierschichtigen) gedruckten Leiterplatte (jeweils der Beispiele 1 und 2, des Vergleichsbeispiels 1, des Herstellungsbeispiels 1 und des Vergleichs-Herstellungsbeispiels 1), die Standardabweichung (Größe der Schwankung der Dicke in jedem Teil der gedruckten Leiterplatte) der Flachheit der (vierschichtigen) gedruckten Leiterplatte (jeweils der Beispiele 1 und 2, des Vergleichsbeispiels 1, des Herstellungsbeispiels 1 und des Vergleichs-Herstellungsbeispiels 1), der Mittelwert der Höhe des Bondhügels (Herstellungsbeispiel 1 und Vergleichs-Herstellungsbeispiel 1) nach der Montage der BGA-Komponente und die Bondhügel-Bindungsfähigkeit (Herstellungsbeispiel 1 und Vergleichs-Herstellungsbeispiel 1) bestimmt.The individual printed circuit boards were subjected to a measurement and on the thickness of the hardened Films of the respective applied resins on the circuit and of the base material (Examples 1 and 2, respectively). Farther were the maximum bubbles and the maximum notches on the surface of the (four-layer) printed circuit board (each of the examples 1 and 2, of Comparative Example 1, Production Example 1 and Comparative Preparation Example 1), the standard deviation (Size of the fluctuation the thickness in each part of the printed circuit board) of the flatness the (four-layer) printed circuit board (each of the examples 1 and 2, of Comparative Example 1, Production Example 1 and Comparative Production Example 1), the average value of Height of bump (Production Example 1 and Comparative Production Example 1) the mounting of the BGA component and the bump bond capability (Production Example 1 and Comparative Production Example 1).

Die für die Bestimmung verwendete BGA-Einrichtung hatte eine Größe von 16,0 mm × 16,0 mm, eine Dicke der Platte von 0,4 mm, einen Bondhügel-Abstand von 75 μm und eine Anzahl der Bondhügel von 148.The for the Determination used BGA device had a size of 16.0 mm × 16.0 mm, a thickness of the plate of 0.4 mm, a bump distance of 75 μm and a number of bumps from 148.

Tabelle 7

Figure 00560001
Table 7
Figure 00560001

Tabelle 8

Figure 00570001
Table 8
Figure 00570001

In den Tabellen 7 und 8 bedeuten „Blasenwert" bzw. „Kerbenwert" die Höhe der Blase bzw. die Tiefe der Kerbe bei Verwendung eines Oberflächenteils (das heißt eines abgeflachten Oberflächenteils) als Referenzoberfläche, bei der keine Blasenbildung und Kerbenbildung auf der Oberfläche der (vierschichtigen) gedruckten Leiterplatte erfolgt war.In In Tables 7 and 8, "bubble value" and "notch value" respectively mean the height of the bubble or the depth of the notch when using a surface part (this means a flattened surface part) as reference surface, at the no blistering and notching on the surface of the (four-layer) printed circuit board was done.

Die Dicke des gehärteten Films des aufgebrachten Harzes, der Blasen und der Kerben auf der Oberfläche sowie die Höhe des Bondhügels nach der Montage der BGA-Komponente wurden nach der Querschnittsmethode gemessen. Die Standardabweichung der Flachheit der Oberfläche der gedruckten Leiterplatte (jeweils der Beispiele 1 und 2 und des Vergleichsbeispiels 1) wurden dadurch errechnet, dass ein Gitter mit einem Intervall von 2 mm auf die Oberfläche der gedruckten Leiterplatte aufgebracht wurde und dass die gesamte Dicke der gedruckten Leiterplatten in den Kreuzungen von 25 Stücken gemessen wurden, die in vertikaler Richtung und in horizontaler Richtung aufgelegt worden waren. Die Standardabweichungen der Flachheit der Oberfläche der vierschichtigen gedruckten Leiterplatte (jeweils von Beispiel 3 und von Vergleichsbeispiel 2) wurden dadurch errechnet, dass die Gesamtdicke in jedem Auflagenplattierungsteil auf der Oberfläche gemessen wurde.The Thickness of the cured Film of the applied resin, bubbles and notches on the surface as well as the height the bump hill after mounting the BGA component were measured according to the cross-sectional method. The standard deviation the flatness of the surface the printed circuit board (each of Examples 1 and 2 and the Comparative Example 1) were calculated by using a grid with an interval of 2 mm on the surface of the printed circuit board was applied and that the entire thickness of the printed circuit boards in the intersections of 25 pieces were measured in the vertical direction and in horizontal Direction had been laid. The standard deviations of the flatness of the surface the four-layer printed circuit board (each of Example 3 and of Comparative Example 2) were calculated that the Total thickness measured in each overlay plating part on the surface has been.

Die Bondhügel-Bindungsfähigkeit wurde wie folgt bestimmt. Wenn der Mittelwert „h" (= 33,4 μm) der Höhe des Bondhügels vor der Bondhügelbindung, der Mittelwert „h' " der Höhe des Bondhügels nach der Bondhügelbindung (nach der Montage der BGA-Komponente), die Standardabweichung „s" der Flachheit der Oberfläche der vierschichtigen gedruckten Leiterplatte und die Standardabweichung „ρ" (= 1,5) der Höhe des Bondhügels vor der Bondhügelbindung der Bedingung der Gleichung (1) in Tabelle 9 genügten, dann wurde die Bondhügel-Bindungsfähigkeit als „(gute Bondhügel-Bindungsfähigkeit)" bezeichnet. Wenn die Parameter der Beziehung der Gleichung (2) genügten, dann wurde die Bondhügel-Bindungsfähigkeit als „x (schlechte Bondhügel-Bindungsfähigkeit)" bezeichnet. In der Gleichung (1) oder (2) repräsentiert die linke Seite die Menge des zer trümmerten Bondhügels (nachstehend gelegentlich auch der Einfachheit halber als „Bondhügel-Zertrümmerung" bezeichnet) und die rechte Seite repräsentiert die gesamte Summenschwankungsmenge (nachstehend gelegentlich der Einfachheit halber als „Schwankung" bezeichnet) der Schwankung der Flachheit der Oberfläche der vierschichtigen gedruckten Leiterplatte und die Schwankung der Höhe des Bondhügels. Tabelle 9

Figure 00590001
The bump bondability was determined as follows. If the average "h" (= 33.4 μm) of the height of the bump before the bump bond, the average "h" of the height of the bump after the bump bond (after mounting the BGA component), the standard deviation "s" of Flatness of the surface of the four-layered printed wiring board and the standard deviation "ρ" (= 1.5) of the height of the bump before the bump bonding satisfies the condition of the equation (1) in Table 9, then the bump bonding ability has been judged as "(good bump bonding)." If the parameters satisfied the relationship of equation (2), then the bump bondability was referred to as "x (poor bump bondability)". In the equation (1) or (2), the left side represents the amount of the shattered bump (hereinafter also sometimes referred to as "bump shattering" for convenience), and the right side represents the total sum fluctuation amount (hereinafter, occasionally for simplicity) "Fluctuation") of the fluctuation of the flatness of the surface of the four-layered printed circuit board and the fluctuation of the height of the bump. Table 9
Figure 00590001

Die Tabellen 7 und 8 zeigen eindeutig Folgendes. Das heißt, die abgeflachten, mit Harz beschichteten gedruckten Leiterplatten (Beispiel 1 und 2) und die vierschichtige gedruckte Leiterplatte (Beispiel 3) gemäß der vorliegenden Erfindung haben eine kleinere Konkavität und Konvexizität auf der Oberfläche der gedruckten Leiterplatte (da die Summe des maximalen Blasenwerts und des maximalen Kerbenwerts klein ist) als die herkömmliche (vierschichtig) gedruckte Leiterplatte (Vergleichsbeispiel 1 und Vergleichs-Herstellungsbeispiel 1) sowie eine extrem abgeflachte Oberfläche (da die Standardabweichung der Flachheit kleiner ist).The Tables 7 and 8 clearly show the following. That is, the flattened, resin coated printed circuit boards (example 1 and 2) and the four-layer printed circuit board (Example 3) according to the present Invention have a smaller concavity and convexity on the surface the printed circuit board (since the sum of the maximum bubble value and the maximum notch value is small) than the conventional ones (four-layer) printed circuit board (Comparative Example 1 and Comparative Preparation Example 1) and an extremely flattened surface (because the standard deviation of flatness is smaller).

Weiterhin ist es so, dass, wenn die BGA-Komponente montiert wird (Bondhügel-gebunden wird) auf der vierschichtigen gedruckten Leiterplatte (Beispiel 3) gemäß der vorliegenden Erfindung (Herstellungsbeispiel 1), die „Schwankung" durch die „Zertrümmerung des Bondhügels" absorbiert werden kann (da die Gesamtmenge der Zertrümmerung des Bondhügels bzw. das Gesamtausmaß der Zertrümmerung des Bondhügels größer ist als die Gesamt-Summenmenge bzw. das Gesamt-Summenausmaß der Schwankungen), so dass hierdurch alle Bondhügel mit Sicherheit gebunden werden.Farther it is such that when the BGA component is mounted (Bond Hill-bound is) on the four-layer printed circuit board (example 3) according to the present Invention (Production Example 1), the "fluctuation" by the "fragmentation of the bump " can (as the total amount of destruction of the bump or the total extent of destruction the bump hill is larger as the total sum or the total sum of the fluctuations), so that by this all bumps be bound with security.

Andererseits kann, wenn die BGA-Komponente montiert wird (Bondhügel-gebunden wird) auf der herkömmlichen vierschichtigen gedruckten Leiterplatte (Vergleichsbeispiel 2) (Vergleichs-Herstellungsbeispiel 1), die „Schwankung" nicht durch die „Zertrümmerung des Bondhügels" absorbiert werden (da die Menge bzw. das Ausmaß der Zertrümmerung des Bondhügels kleiner ist als die Gesamt-Summenmenge bzw. das Gesamt-Summenausmaß der Schwankungen), so dass einige Bondhügel nicht gebunden werden können.on the other hand can when the BGA component is mounted (bump-bound will) on the conventional Four-layer printed circuit board (Comparative Example 2) (Comparative Production Example 1), the "fluctuation" not by the "smashing of the bump " (as the amount or extent of the destruction the bump hill is less than the total sum or the total sum of the fluctuations), leaving some bumps can not be tied.

Das heißt, es kann, wie in 9A gezeigt wird, wenn die Blase zu groß ist, ein Bondhügel 932a, der in der Blase 925 existiert, nicht bis zu dem Ausmaß zerkleinert werden, dass eine Auflagenplattierung 920 auf einen Bondhügel 932b gebunden werden kann (und zwar deswegen, weil die Menge bzw. das Ausmaß der „Zertrümmerung des Bondhügels" des Bondhügels 932a bereits eine Grenze erreicht hat). Als Ergebnis kann eine Bondhügelbindung des Bondhügels 932b und der Auflagenplattierung 920 nicht durchgeführt werden.That is, it can, as in 9A is shown, if the bubble is too big, a bump 932a in the bubble 925 does not exist, is crushed to the extent that a pad plating 920 on a bump 932b can be bound (and that is because of the amount or extent of the "breakup of the bump" of the bump 932a already reached a limit). As a result, a bump bond of the bump 932b and pad plating 920 not be carried out.

Gleichermaßen ist es so, dass, wie in 9B gezeigt, wenn die Kerbe zu groß ist, der Bondhügel 932a nicht bis zu einem Ausmaß zertrümmert werden kann, dass die Auflagenplattierung 920, die in der Kerbe 926 existiert, mit dem Bondhügel 932b verbunden werden kann (dies deswegen, weil die Menge bzw. das Ausmaß der „Zertrümmerung des Bondhügels" des Bondhügels 932a bereits die Grenze erreicht hat). Als Ergebnis kann eine Bondhügelbindung des Bondhügels 932b mit der Auflagenplattierung 920 nicht durchgeführt werden.Likewise, as in 9B shown, if the notch is too big, the bump 932a can not be smashed to the extent that the pad plating 920 that in the notch 926 exists, with the bump hill 932b (This is because the amount or extent of the "breakup of the bump" of the bump 932a already reached the limit). As a result, a bump bond of the bump 932b with the pad plating 920 not be carried out.

Claims (7)

Verfahren zur Herstellung einer gedruckten Leiterplatte, umfassend die Stufen: Aufbringen einer photo/wärmehärtenden Harzzusammensetzung auf eine Oberfläche und das Durchgangsloch einer gedruckten Leiterplatte mit dem Durchgangsloch; nacheinander erfolgendes Durchführen der folgenden Stufen (1) und (2); Aufbringen der photo/wärmehärtenden Harzzusammensetzung auf die andere Oberfläche der gedruckten Leiterplatte; und nacheinander erfolgendes Durchführen der folgenden Stufen (1) bis (3) (1) Abflachen bzw. Abgleichen der Oberfläche des aufgebrachten Harzes; (2) Photohärten des aufgebrachten Harzes; und (3) Wärmehärten des photogehärteten Harzes.A method of manufacturing a printed circuit board, comprising the steps of: applying a photo / thermosetting resin composition to a surface and the through hole of a printed circuit board having the through hole; successively performing the following steps (1) and (2); Applying the photo / thermosetting resin composition to the other surface of the printed circuit board; and successively performing the following steps (1) to (3) (1) flattening the surface of the applied resin; (2) photocuring the applied resin; and (3) thermosetting the photocured resin. Verfahren zur Herstellung einer mehrschichtigen gedruckten Leiterplatte, umfassend die Stufen: Aufbringen einer photo/wärmehärtenden Harzzusammensetzung auf eine Oberfläche und das Durchgangsloch einer gedruckten Leiterplatte mit dem Durchgangsloch; nacheinander erfolgendes Durchführen der folgenden Stufen (1) und (2); Aufbringen der photo/wärmehärtenden Harzzusammensetzung auf die andere Oberfläche der gedruckten Leiterplatte; nacheinander erfolgendes Durchführen der folgenden Stufen (1) und (2); (A) zuerst erfolgende Durchführung der folgenden Stufe (3), als Nächstes laminierendes Verpressen der gedruckten Leiterplatte mit Press-Bindungsmaterialien, wobei die gedruckte Leiterplatte Sandwich-artig zwischen den Press-Bindungsmaterialien angeordnet ist, oder (B) laminierendes Verpressen der gedruckten Leiterplatte mit den Press-Bindungsmaterialien bei der Wärmehärtungstemperatur oder höher des photogehärteten Harzes, wobei die gedruckte Leiterplatte Sandwich-artig zwischen den Press-Bindungsmaterialien angeordnet ist, um auf diese Weise die genannte Stufe (3) durchzuführen; Bilden eines Lochs von der Oberfläche des Press-Bindungsmaterials zu einer Leiterschicht, um einen Mikroweg zu bilden; Aufbringen einer Gesamtflächenplattierung; Bilden eines Strom- bzw. Schaltkreises aus einer Plattierungsschicht; und Aufschichten eines Resists; (1) Abflachen bzw. Abgleichen der Oberfläche des aufgebrachten Harzes; (2) Photohärten des aufgebrachten Harzes; und (3) Wärmehärten des photogehärteten Harzes.Method for producing a multilayer printed Printed circuit board comprising the steps: Applying a photo / thermosetting Resin composition on a surface and the through hole a printed circuit board having the through hole; successively performing the following stages (1) and (2); Apply the photo / thermosetting Resin composition on the other surface of the printed circuit board; successively performing the following stages (1) and (2); (A) first performance of the next step (3), next laminating pressing of the printed circuit board with press-bonding materials, the printed circuit board being sandwiched between the press-bonding materials is arranged, or (B) laminating pressing of the printed Printed circuit board with the press-bonding materials at the heat-curing temperature or higher of the photohardened Resin, the printed circuit board sandwich-like between the press-bonding materials is arranged to be in this way to carry out the said step (3); Form a hole from the surface of the press-bonding material to a conductor layer to form a microgrow; apply a total surface plating; Form a circuit of a plating layer; and stack a resist; (1) flattening or leveling the surface of the applied resin; (2) photocuring the applied resin; and (3) thermosetting the photocured Resin. Verfahren zur Herstellung einer mehrschichtigen gedruckten Leiterplatte nach Anspruch 2, wobei der Resist eine Öffnung hat.Method for producing a multilayer printed A circuit board according to claim 2, wherein the resist has an opening. Verfahren zur Herstellung einer gedruckten Leiterplatte, umfassend die Stufen: Aufbringen einer photo/wärmehärtenden Harzzusammensetzung auf eine Oberfläche und das Durchgangsloch einer gedruckten Leiterplatte mit dem Durchgangsloch; nacheinander erfolgendes Durchführen der folgenden Stufen (1) und (2); Aufbringen der photo/wärmehärtenden Harzzusammensetzung auf die andere Oberfläche der gedruckten Leiterplatte; und nacheinander erfolgendes Durchführen der folgenden Stufen (1) bis (3) und: Bilden einer Öffnung in der aufgeschichteten Harzschicht: (1) Abflachen bzw. Abgleichen der Oberfläche des aufgebrachten Harzes; (2) Photohärten des aufgebrachten Harzes; und (3) Wärmehärten des photogehärteten Harzes.Method for producing a printed circuit board, comprising the stages: Applying a photo / thermosetting Resin composition on a surface and the through hole a printed circuit board having the through hole; successively performing the following stages (1) and (2); Apply the photo / thermosetting Resin composition on the other surface of the printed circuit board; and successively performing the following steps (1) to (3) and: Forming an opening in the coated resin layer: (1) flatten or match the surface the applied resin; (2) photocuring the applied resin; and (3) thermosetting the photocured Resin. Verfahren zur Herstellung einer gedruckten Leiterplatte nach Anspruch 3 oder 4, wobei eine durch die Öffnung freigelegte Oberfläche mit einer Plattierung bedeckt wird.Method for producing a printed circuit board according to claim 3 or 4, wherein a surface exposed by the opening with a plating is covered. Verfahren zur Herstellung einer gedruckten Leiterplatte nach einem der Ansprüche 1 bis 5, wobei die Oberfläche einer leitenden Schicht der gedruckten Leiterplatte mit dem Durchgangsloch aufgeraut wird.Method for producing a printed circuit board according to one of the claims 1 to 5, the surface a conductive layer of the printed circuit board with the through hole is roughened. Gedruckte Leiterplatte, hergestellt nach dem Herstellungsverfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 6.Printed circuit board manufactured according to the manufacturing process according to one of the claims 1 to 6.
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