DE102006037273A1 - Flattened, resin coated printed circuit board - Google Patents
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Abstract
Es ist eine Aufgabe der Erfindung, eine abgeflachte bzw. abgeglichene, mit Harz beschichtete gedruckte Leiterplatte herzustellen, die kein Polieren erfordert, wobei die beiden Oberflächen der gedruckten Leiterplatte extrem stark abgeflacht bzw. abgeglichen sind und die Dicke der gedruckten Leiterplatte in allen Bereich (d. h. allen Portionen und Teilen) der gedruckten Leiterplatte fixiert ist, wodurch eine ausgezeichnete Komponentenbefestigungsfähigkeit (Bondhügelbindungsfähigkeit und dergleichen) und ausgezeichnete Impedanz-Charakteristiken (Impedanzstabilität und dergleichen) erhalten werden. Es ist weiterhin eine weitere Aufgabe der Erfindung, eine gedruckte Leiterplatte zur Verfügung zu stellen, die aus einer solchen gedruckten Leiterplatte hergestellt worden ist und bei der beide Oberflächen sehr stark abgeflacht bzw. abgeglichen sind, z. B. eine mehrschichtige gedruckte Leiterplatte (insbesondere eine vierschichtige gedruckte Leiterplatte), die als eine innere Schicht verwendbar ist, und eine gedruckte Leiterplatte (insbesondere eine doppelseitig bedruckte Leiterplatte), die als eine äußere Schicht verwendbar ist. DOLLAR A Ein Verfahren zur Herstellung der gedruckten Leiterplatte umfasst die Stufen: Aufbringen einer photo/wärmehärtenden Harzzusammensetzung auf eine Oberfläche und das Durchgangsloch einer gedruckten Leiterplatte mit dem Durchgangsloch; nacheinander erfolgendes Durchführen der folgenden Stufen (1) und (2); Aufbringen der photo/wärmehärtenden ...It is an object of the invention to produce a flattened resin coated printed circuit board that does not require polishing, wherein the two surfaces of the printed circuit board are extremely flattened and the thickness of the printed circuit board in all areas (ie all portions and parts) of the printed circuit board, whereby an excellent component mounting capability (bump bonding capability and the like) and excellent impedance characteristics (impedance stability and the like) are obtained. It is still a further object of the invention to provide a printed circuit board which has been made from such a printed circuit board and in which both surfaces are very much flattened, e.g. A multi-layered printed circuit board (especially a four-layered printed circuit board) usable as an inner layer, and a printed circuit board (particularly a double-sided printed circuit board) usable as an outer layer. DOLLAR A A method of manufacturing the printed circuit board comprises the steps of: applying a photo / thermosetting resin composition to a surface and the through hole of a printed circuit board having the through hole; successively performing the following steps (1) and (2); Applying the photo / thermosetting ...
Description
HINTERGRUND DER ERFINDUNGBACKGROUND THE INVENTION
Die vorliegende Erfindung betrifft eine gedruckte Leiterplatte und ein Verfahren zu ihrer Herstellung. Die Erfindung betrifft insbesondere eine gedruckte Leiterplatte, bei der beide Oberflächen (Vorder- und Rückseiten) stark abgeflacht bzw. stark abgeglichen sind und (insbesondere die gesamte Fläche davon) mit einem Harz beschichtet ist und beispielsweise eine abgeflachte bzw. abgeglichene und mit Harz beschichtete gedruckte Leiterplatte, eine vierschichtige gedruckte Leiterplatte, die als innere Schicht verwendbar ist, und eine doppelseitig bedruckte Leiterplatte, die als äußere Schicht verwendbar ist, sowie ein Verfahren zur Herstellung derselben.The The present invention relates to a printed circuit board and a Process for their preparation. The invention particularly relates a printed circuit board with both surfaces (front and backsides) strongly flattened or strongly balanced and (in particular the the whole area of which) is coated with a resin and, for example, a flattened or matched and resin coated printed circuit board, a four-layer printed circuit board that serves as an inner layer is usable, and a double-sided printed circuit board, the as an outer layer is usable, as well as a method for producing the same.
2. Beschreibung des einschlägigen Standes der Technik2. Description of the relevant state of the technique
Als ein Verfahren zur Herstellung einer abgeflachten und mit gepluggten bzw. verschlossenen Löchern versehenen gedruckten Leiterplatte ist schon ein Verfahren bekannt, bei dem zuerst ein Durchgangsloch der gedruckten Leiterplatte mit einer wärmehärtenden Harzzusammensetzung gepluggt bzw. verschlossen wird und dann das eingegebene Harz wärmegehärtet wird und ein gehärteter Teil des Harzes von der Oberfläche der gedruckten Leiterplatte entfernt wird, indem ein Polieren durchgeführt wird, um die Oberfläche abzuflachen (Patentdokument 1).When a method of making a flattened and pleated with or closed holes provided Printed circuit board is already known a method in which First, a through hole of the printed circuit board with a thermosetting Resin composition is plugged or closed and then the entered resin is thermoset and a hardened one Part of the resin from the surface of the printed circuit board is removed by performing a polishing, around the surface to flatten (Patent Document 1).
Dieses Verfahren ist jedoch mit einem Problem dahingehend behaftet, dass die Anzahl der Herstellungsstufen durch das Polieren erhöht wird und dass die Polierkosten erhöht werden. Das Verfahren ist auch mit einem weiteren Problem dahingehend behaftet, dass durch das Polieren eine Deformation (oder eine Dimensionsveränderung) der gedruckten Leiterplatte erfolgt.This However, the method has a problem that the number of stages of manufacture is increased by the polishing and that the polishing costs increased become. The method is also with another problem Afflicted by polishing a deformation (or a dimensional change) the printed circuit board is done.
Dann
ist ein Verfahren zum Abflachen der Oberfläche der gedruckten Leiterplatte
ohne Polieren angestrebt worden. Als ein solches Verfahren ist das
Verfahren gemäß dem Patentdokument
2 vorgeschlagen worden. Das heißt,
bei diesem Verfahren wird zuerst das Durchgangsloch der gedruckten
Leiterplatte mit einem härtenden
Harz zugestöpselt
[
Bei
diesem Verfahren ist es jedoch schwierig, dass der Resist [
Demgegenüber tritt,
weil eine große
Menge des Resistharzes [
Daher wird, weil eine durch ein derartiges Verfahren hergestellte gedruckte Leiterplatte eine Oberfläche mit Blasen und Kerben hat und diese nicht vollständig abgeflacht ist, die Komponentenbefestigungsfähigkeit (Bondhügelbindungsfähigkeit und dergleichen) der gedruckten Leiterplatte verringert.Therefore is because a printed produced by such a method Circuit board a surface with bubbles and notches and this is not completely flattened, the component mounting capability (Bump bonding ability and the like) of the printed circuit board.
Weiterhin
hat die Oberfläche
der gedruckten Leiterplatte Blasen und Kerben, die Dicke einer isolierenden
Schicht, insbesondere die Dicke einer isolierenden Schicht, die
auf einer leitenden Schaltkreisschicht gebildet worden ist [
Das
heißt,
in einem peripheren Blasenteil [
Auch wird selbst in einer unter Verwendung einer derartigen gedruckten Leiterplatte als innere Schicht oder äußere Schicht hergestellte mehrschichtige gedruckte Lei terplatte, die nicht vollständig abgeflacht ist, eine Verringerung der Komponentenbefestigungfähigkeit (Bondhügelbindungsfähigkeit und dergleichen) und der Impedanzcharakteristik oder dergleichen hervorgerufen.Also itself is printed in one using such a Printed circuit board as an inner layer or outer layer produced multilayer printed circuit board, which is not completely flattened, a reduction component mounting capability (Bump bonding ability and the like) and the impedance characteristic or the like caused.
- Patentdokument 1] Offengelegte japanische Patentanmeldung (JP-A) Nr. 2001-15903Patent Document 1] Japanese Patent Application Laid-Open (JP-A) No. 2001-15903
- [Patentdokument 2] Offengelegte japanische Patentanmeldung (JP-A) Nr. 2001-111214[Patent Document 2] Japanese Patent Application Laid-Open (JP-A) No. 2001-111214
Im Hinblick auf die obige Situation ist es eine Aufgabe der vorliegenden Erfindung, eine abgeflachte, mit Harz beschichtete gedruckte Leiterplatte herzustellen, bei der beide Oberflächen der gedruckten Leiterplatte extrem stark abgeflacht sind und die Dicke der gedruckten Leiterplatte in allen Bereichen (das heißt allen Portionen und Teilen) der gedruckten Leiterplatte fixiert bzw. festgelegt ist, wodurch die Komponentenbefestigungfähigkeit (Bondhügelbindungsfähigkeit und dergleichen) und die Impedanzcharakteristiken (Impedanzstabilität und dergleichen) ausgezeichnet gemacht werden, ohne dass ein Polieren erforderlich ist. Es ist weiterhin eine Aufgabe der vorliegenden Erfindung, eine gedruckte Leiterplatte zur Verfügung zu stellen, die aus einer solchen gedruckten Leiterplatte hergestellt worden ist und bei der beide Oberflächen stark abgeflacht sind, z.B. eine mehrschichtige gedruckte Leiterplatte (insbesondere eine vierschichtige gedruckte Leiterplatte), die als eine innere Schicht geeignet ist, und eine gedruckte Leiterplatte (insbesondere eine doppelseitig bedruckte Leiterplatte), die als äußere Schicht geeignet ist.in the In view of the above situation, it is an object of the present Invention, a flattened, resin coated printed circuit board in which both surfaces of the printed circuit board extremely flattened and the thickness of the printed circuit board in all areas (ie all portions and parts) of the printed circuit board or is fixed, whereby the component mounting capability (Bump bonding ability and the like) and the impedance characteristics (impedance stability and the like) to be made excellent without requiring polishing is. It is further an object of the present invention to provide a printed circuit board available to make that made from such a printed circuit board and where both surfaces are heavily flattened, e.g. a multilayer printed circuit board (in particular a four-layer printed circuit board) serving as an inner layer is suitable, and a printed circuit board (in particular a double-sided printed circuit board), which is suitable as an outer layer.
ZUSAMMENFASSUNG DER ERFINDUNGSUMMARY THE INVENTION
Zur Lösung der obigen Aufgabe haben die benannten Erfinder Untersuchungen durchgeführt und als deren Ergebnis die folgende Erfindung gemacht.to solution In the above object, the named inventors have made investigations and as a result, the following invention is made.
Gemäß einer
ersten Ausführungsform
der vorliegenden Erfindung wird ein Verfahren zur Herstellung einer
gedruckten Leiterplatte zur Verfügung
gestellt, umfassend die Stufen:
Aufbringen einer photo/wärmehärtenden
Harzzusammensetzung auf eine Oberfläche und das Durchgangsloch
einer gedruckten Leiterplatte mit dem Durchgangsloch;
nacheinander
erfolgendes Durchführen
der folgenden Stufen (1) und (2);
Aufbringen der photo/wärmehärtenden
Harzzusammensetzung auf die andere Oberfläche der gedruckten Leiterplatte;
und
nacheinander erfolgendes Durchführen der folgenden Stufen (1)
bis (3):
- (1) Abflachen bzw. Abgleichen der Oberfläche des aufgebrachten Harzes;
- (2) Photohärten des aufgebrachten Harzes; und
- (3) Wärmehärten des photogehärteten Harzes.
Applying a photo / thermosetting resin composition to a surface and the through hole of a printed circuit board having the through hole;
successively performing the following steps (1) and (2);
Applying the photo / thermosetting resin composition to the other surface of the printed circuit board; and
successively performing the following steps (1) to (3):
- (1) flattening the surface of the applied resin;
- (2) photocuring the applied resin; and
- (3) Heat curing of the photocured resin.
Gemäß einer
zweiten Ausführungsform
der vorliegenden Erfindung wird ein Verfahren zur Herstellung einer
mehrschichtigen gedruckten Leiterplatte zur Verfügung gestellt, umfassend die
Stufen:
Aufbringen einer photo/wärmehärtenden Harzzusammensetzung
auf eine Oberfläche
und das Durchgangsloch einer gedruckten Leiterplatte mit dem Durchgangsloch;
nacheinander
erfolgendes Durchführen
der folgenden Stufen (1) bis (2);
Aufbringen der photo/wärmehärtenden
Harzzusammensetzung auf die andere Oberfläche der gedruckten Leiterplatte;
nacheinander
erfolgendes Durchführen
der folgenden Stufen (1) und (2);
- (A) zuerst erfolgende Durchführung der obigen Stufe (3), als Nächstes laminierendes Verpressen der gedruckten Leiterplatte und der Press-Bindungsmaterialien, wobei die gedruckte Leiterplatte sandwichartig zwischen den Press-Bindungsmaterialien angeordnet ist, um die Press-Bindungsmaterialien durch Pressen zu binden, oder
- (B) laminierendes Verpressen der gedruckten Leiterplatte und der Press-Bindungsmaterialien bei der Wärmehärtungstemperatur oder höher des photogehärteten Harzes, wobei die gedruckte Leiterplatte sandwichartig zwischen den Press-Bindungsmaterialien angeordnet ist, um die Press-Bindungsmaterialien durch Pressen zu binden, und auf diese Weise gleichzeitig die genannte Stufe (3) durchzuführen;
Aufbringen einer Gesamtflächenplattierung;
Bilden eines Strom- bzw. Schaltkreises von einer Plattierungsschicht; und
Aufschichten eines Resists.According to a second embodiment of the present invention, there is provided a method of manufacturing a multilayer printed circuit board, comprising the steps of:
Applying a photo / thermosetting resin composition to a surface and the through hole of a printed circuit board having the through hole;
successively performing the following steps (1) to (2);
Applying the photo / thermosetting resin composition to the other surface of the printed circuit board;
successively performing the following steps (1) and (2);
- (A) first performing the above step (3) first, then laminating the printed circuit board and the press-bonding materials, the printed circuit board being sandwiched between the press-bonding materials to press-bond the press bonding materials, or
- (B) laminating pressing of the printed circuit board and the press-bonding materials at the thermosetting temperature or higher of the photocured resin, wherein the printed circuit board is sandwiched between the press-bonding materials to press-bond the press bonding materials, and thus simultaneously to carry out the said step (3);
Applying a total surface plating;
Forming a circuit of a plating layer; and
Layering of a resist.
Gemäß einer dritten Ausführungsform der vorliegenden Erfindung wird ein Verfahren zur Herstellung einer mehrschichtigen gedruckten Leiterplatte gemäß der zweiten Ausführungsform zur Verfügung gestellt, wobei der Resist eine Öffnung hat.According to one third embodiment The present invention provides a process for producing a multilayer printed circuit board according to the second embodiment to disposal put, with the resist an opening Has.
Gemäß einer
vierten Ausführungsform
der vorliegenden Erfindung wird ein Verfahren zur Herstellung einer
gedruckten Leiterplatte zur Verfügung
gestellt, umfassend die Stufen:
Aufbringen einer photo/wärmehärtenden
Harzzusammensetzung auf eine Oberfläche und das Durchgangsloch
einer gedruckten Leiterplatte mit dem Durchgangsloch;
nacheinander
erfolgendes Durchführen
der obigen Stufen (1) und (2);
Aufbringen der photo/wärmehärtenden
Harzzusammensetzung auf die andere Oberfläche der gedruckten Leiterplatte;
und
nacheinander erfolgendes Durchführen der obigen Stufen (1)
bis (3) und:
Bilden einer Öffnung
in der aufgeschichteten Harzschicht.According to a fourth embodiment of the present invention, there is provided a method of manufacturing a printed circuit board, comprising the steps of:
Applying a photo / thermosetting resin composition to a surface and the through hole of a printed circuit board having the through hole;
successively performing the above steps (1) and (2);
Applying the photo / thermosetting resin composition to the other surface of the printed circuit board; and
successively performing the above steps (1) to (3) and:
Forming an opening in the coated resin layer.
Gemäß einer fünften Ausführungsform der vorliegenden Erfindung wird ein Verfahren zur Herstellung einer gedruckten Leiterplatte gemäß der dritten oder vierten Ausführungsform zur Verfügung gestellt, wobei eine durch die Öffnung freigelegte Oberfläche bzw. eine Oberfläche bei der Öffnung mit einer Plattierung bedeckt wird.According to one fifth embodiment The present invention provides a process for producing a printed circuit board according to the third or fourth embodiment to disposal put one through the opening exposed surface or a surface at the opening covered with a plating.
Gemäß einer sechsten Ausführungsform der vorliegenden Erfindung wird ein Verfahren zur Herstellung einer gedruckten Leiterplatte nach einer der ersten bis fünften Ausführungsform zur Verfügung gestellt, wobei die Oberfläche einer leitenden Schicht der gedruckten Leiterplatte mit dem Durchgangsloch aufgeraut wird.According to one sixth embodiment The present invention provides a process for producing a Printed circuit board according to one of the first to fifth embodiments to disposal put, the surface a conductive layer of the printed circuit board with the through hole is roughened.
Gemäß einer siebten Ausführungsform der vorliegenden Erfindung wird eine gedruckte Leiterplatte zur Verfügung gestellt, die durch das Herstellungsverfahren gemäß einer beliebigen der ersten bis sechsten Ausführungsform hergestellt worden ist.According to one seventh embodiment the present invention provides a printed circuit board by the manufacturing process according to any one of the first to the sixth embodiment has been produced.
Durch die Erfindung kann, ohne dass ein Polieren erforderlich ist, eine abgeflachte bzw. abgeglichene, mit Harz beschichtete gedruckte Leiterplatte hergestellt wer den, bei der beide Oberflächen extrem stark abgeflacht sind und die Dicke der gedruckten Leiterplatte in allen Bereichen (das heißt allen Portionen und Teilen) der gedruckten Leiterplatte fixiert bzw. festgelegt ist, wodurch eine ausgezeichnete Befestigungsfähigkeit der Komponenten (Bondhügelbindungsfähigkeit und dergleichen) und ausgezeichnete Impedanzcharakteristik (Impedanzstabilität und dergleichen) erhalten werden. Weiterhin kann die Erfindung eine gedruckte Leiterplatte zur Verfügung stellen, die aus einer derartigen gedruckten Leiterplatte hergestellt worden ist und bei der beide Oberflächen extrem stark abgeflacht sind, zum Beispiel eine mehrschichtige gedruckte Leiterplatte (insbesondere eine vierschichtige gedruckte Leiterplatte), die als eine innere Schicht geeignet ist, und eine gedruckte Leiterplatte (insbesondere eine doppelseitig bedruckte Leiterplatte), die als äußere Schicht geeignet ist.By The invention may, without a polishing is required, a flattened resin coated printed circuit board made the who, in which both surfaces extremely flattened are and the thickness of the printed circuit board in all areas (this means all portions and parts) of the printed circuit board or is fixed, thereby providing excellent fastening ability of components (Bondhügelbindungsfähigkeit and the like) and excellent impedance characteristic (impedance stability and the like) to be obtained. Furthermore, the invention may be a printed circuit board to disposal make that made from such a printed circuit board has been flattened and both surfaces extremely flattened are, for example, a multilayer printed circuit board (in particular a four-layered printed circuit board) acting as an inner Layer is suitable, and a printed circuit board (in particular a double-sided printed circuit board), as an outer layer suitable is.
KURZE BESCHREIBUNG DER ZEICHNUNGENSHORT DESCRIPTION THE DRAWINGS
Die
die
die
die
die
die
die
die
die
BESCHREIBUNG DER BEVORZUGTEN AUSFÜHRUNGSFORMENDESCRIPTION THE PREFERRED EMBODIMENTS
Bei dem Verfahren zur Herstellung der abgeflachten, mit Harz beschichteten gedruckten Leiterplatte gemäß der Erfindung schließen Beispiele der photo/wärmehärtenden Harzzusammensetzungen (das heißt von in Zwei-Stufen härtenden Harzzusammensetzungen, bei denen ein primäres Härten durch Bestrahlung mit Licht durchgeführt wird und ein sekundäres Härten durch Erhitzen durchgeführt wird) solche ein, die die folgenden Bestandteile [I] bis [V] enthalten.
- [I]: Partiale Addukte eines Epoxyharzes mit einer ungesättigten Fettsäure
- [II]: (Meth)acrylate
- [III]: Photo-Vernetzungsmittel
- [IV]: Epoxyharze
- [V]: latente Härtungsmittel
- [I]: Partial adducts of an epoxy resin with an unsaturated fatty acid
- [II]: (meth) acrylates
- [III]: Photo-crosslinking agent
- [IV]: Epoxy resins
- [V]: latent hardeners
Bevorzugte spezielle Beispiele für photo/wärmehärtende Harzzusammensetzungen werden in den offengelegten japanischen Patentanmeldungen (JP-A) Nr. 2003-105061 und 2004-75967 beschrieben.preferred special examples of photo / thermosetting resin compositions are disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open (JP-A) No. 2003-105061 and 2004-75967.
Die photo/wärmehärtende Harzzusammensetzung enthält ein partiales Addukt eines Epoxyharzes mit einer ungesättigten Fettsäure als Bestandteil [I]. Die Epoxyzahl des Epoxyharzes (nachstehend gelegentlich der Einfachheit halber als „Ausgangsmaterial-Epoxyharz" bezeichnet) als Ausgangsmaterial für die Herstellung des Bestandteils (I) beträgt beispielsweise 130 bis 400 und insbesondere 150 bis 250. Beispiele für die Ausgangsmaterial-Epoxyharze schließen Epoxyharze vom Phenol-Novolak-Typ, Epoxyharze, hergestellt aus einem polyfunktionellen Phenol, Epoxyharze mit einem Naphthalinskelett, Epoxyharze vom Glycidylamin-Typ, Epoxyharze mit einem Triacinskelett, Epoxyharze vom Glycidylester-Typ und Epoxyharze vom alicyclischen Typ ein.The photo / thermosetting resin composition contains a partial adduct of an epoxy resin with an unsaturated one fatty acid as component [I]. The epoxy value of the epoxy resin (hereinafter sometimes referred to as "raw material epoxy resin" for convenience) Starting material for the preparation of the component (I) is, for example, 130 to 400 and especially 150 to 250. Examples of the starting material epoxy resins shut down Phenolic novolac type epoxy resins, epoxy resins made from a polyfunctional phenol, epoxy resins with a naphthalene skeleton, Glycidylamine-type epoxy resins, epoxy resins with a triacine skeleton, glycidyl ester type epoxy resins and epoxy resins of the alicyclic type.
Bevorzugte Beispiele für das Ausgangsmaterial-Epoxyharz schließen die einzelnen Verbindungen ein, die durch die Formeln [Chemische Formeln I-E1] bis [Chemische Formel I-E7] in Tabelle 1 angegeben werden. Besonders bevorzugte Beispiele hierfür schließen Epoxyharze vom Phenol-Novolak-Typ, Epoxyharz vom Cresol-Novolak-Typ, Epoxyharze vom Trisphenylmethan-Typ, Epoxyharze vom Bisphenol A-Novolak-Typ und Epoxyharze vom Dicyclopentadienphenol-Typ ein, wobei mindestens eine Art davon verwendet werden kann.preferred examples for the starting material epoxy resin shut down the individual compounds represented by the formulas [Chemical Formulas I-E1] to [Chemical Formula I-E7] are given in Table 1 become. Particularly preferred examples thereof include phenolic novolac type epoxy resins, Cresol novolak type epoxy resin, trisphenylmethane type epoxy resins, Bisphenol A novolak type epoxy resins and dicyclopentadiene phenol type epoxy resins, wherein at least a kind of it can be used.
Tabelle 1 Table 1
In den Formeln bedeutet „G" eine Glycidylgruppe, ausgenommen in dem Fall, dass „G" für eine verschiedene Definition verwendet wird.In In the formulas, "G" represents a glycidyl group, except in the case that "G" for a different Definition is used.
[Chemische Formel 1] [Chemical Formula 1]
Das Symbol n bedeutet eine ganze Zahl von 0 bis 30 in den Formeln [Chemische Formel I-E1] bis [Chemische Formel I-E3]. Das Symbol n bedeutet eine ganze Zahl von 1 bis 30 in den Formeln [Chemische Formel I-E4] bis [Chemische Formel I-E6]. Das Symbol n bedeutet eine ganze Zahl von 2 bis 50 in der Formel [Chemische Formel I-E7]. In der Formel [Chemische Formel I-E2] stehen jeweils R1 und R2 unabhängig voneinander für H oder CH3.The symbol n represents an integer of 0 to 30 in the formulas [Chemical Formula I-E1] to [Chemical Formula I-E3]. The symbol n denotes an integer from 1 to 30 in the formulas [Chemical Formula I-E4] to [Chemical Formula I-E6]. The symbol n represents an integer of 2 to 50 in the formula [Chemical Formula I-E7]. In the formula [Chemical Formula I-E2], each of R 1 and R 2 is independently H or CH 3 .
Beispiele für ungesättigte Fettsäuren als weiteres Ausgangsmaterial für die Herstellung des Bestandteils (I) schließen Materialien der folgenden Formel [Chemische Formel I-UFA] ein.Examples for unsaturated fatty acids as additional starting material for the preparation of the component (I) includes materials of the following Formula [Chemical Formula I-UFA].
[Chemische Formel 2] [Chemische Formel I-UFA] wobei jeder Rest von R1 bis R3 unabhängig H oder CH3 ist. Spezielle Beispiele für die ungesättigte Fettsäure schließen Acrylsäure, Methacrylsäure und Crotonsäure ein.[Chemical formula 2] [Chemical formula I-UFA] wherein each of R 1 to R 3 is independently H or CH 3 . Specific examples of the unsaturated fatty acid include acrylic acid, methacrylic acid and crotonic acid.
Der Bestandteil [I] kann mittels eines üblichen Herstellungsverfahrens hergestellt werden. So kann beispielsweise der Bestandteil [I] dadurch hergestellt werden, dass mindestens eine Art des Ausgangsmaterial-Epoxyharzes und mindestens eine Art der ungesättigten Fettsäure [zum Beispiel Acrylsäure und/oder Methacrylsäure (nachstehend gelegentlich der Einfachheit halber als „(Meth)acrylsäure" abgekürzt)] erforderlichenfalls unter Erhitzen miteinander gerührt und vermischt werden.Of the Component [I] can be prepared by a usual manufacturing method getting produced. For example, the component [I] can thereby be prepared that at least one kind of the starting material epoxy resin and at least a type of unsaturated fatty acid [for example, acrylic acid and / or methacrylic acid (hereinafter occasionally abbreviated as "(meth) acrylic acid") for convenience stirred with heating while heating and mixed.
Der Bestandteil [I] wird dadurch erhalten, dass die ungesättigte Fettsäure partial zu dem Epoxyharz gegeben wird. Das heißt, bei einem partialen Addukt des Epoxyharzes mit der ungesättigten Fettsäure bleibt mindestens eine Epoxygruppe in dem Epoxyharz nach der Zugabe der ungesättigten Fettsäure zurück. Speziell wird die ungesättigte Fettsäure vorzugsweise zu 20 bis 80%, vorzugsweise 40 bis 60% der Epoxygruppen in dem Ausgangsmaterial-Epoxyharz gegeben. Bei einem Addukt, bei dem die Zugabemenge der ungesättigten Fettsäure weniger als 20% beträgt [das gelegentlich der Einfachheit halber als „Addukt mit weniger als 20% ungesättigter Fettsäure" und dergleichen bezeichnet wird] bleibt gelegentlich in dem primär photogehärteten Produkt eine Adhäsion zurück. Als Ergebnis haf tet daher, wenn ein später beschriebener Deckfilm abgezogen wird, das primär photogehärtete Produkt gelegentlich an dem Deckfilm. Im Gegensatz hierzu wird bei einem Addukt mit mehr als 80% ungesättigter Fettsäure die Zähigkeit des gehärteten Produkts durch Verringerung der Epoxygruppen verschlechtert, so dass daher die Tendenz zu einer Rissbildung auftritt.Of the Ingredient [I] is obtained by the unsaturated fatty acid partial is added to the epoxy resin. That is, with a partial adduct of the epoxy resin with the unsaturated one fatty acid At least one epoxy group remains in the epoxy resin after the addition the unsaturated one fatty acid back. Specifically, the unsaturated fatty acid preferably from 20 to 80%, preferably from 40 to 60% of the epoxy groups in the starting material epoxy resin given. For an adduct, in which the addition amount of the unsaturated fatty acid less than 20% [which, for the sake of simplicity, is sometimes referred to as the "adduct with less than 20% of unsaturated Fatty acid "and the like is occasionally left in the primary photohardened product adhesion. When Result therefore holds if a cover film described later is deducted, the primary photocured Product occasionally on the cover film. In contrast, at an adduct with more than 80% unsaturated fatty acid the toughness of the hardened Product deteriorates by reducing the epoxy groups, so Therefore, the tendency for cracking occurs.
Beispiele für den Bestandteil [I] schließen Addukte eines Epoxyharzes vom Novolak-Typ mit (Meth)acrylsäure (speziell ein Addukt eines Epoxyharzes vom Cresol-Novolak-Typ mit Acrylsäure etc. ein) und die photo/wärmehärtende Harzzusammensetzung kann mindestens eine Art davon enthalten.Examples for the Close component [I] Adducts of a novolak-type epoxy resin with (meth) acrylic acid (especially an adduct of a cresol-novolac type epoxy resin with acrylic acid, etc. a) and the photo / thermosetting resin composition can contain at least one kind of it.
Bevorzugte Beispiele für den Bestandteil [I] schließen partiale Addukte eines Epoxyharzes vom Phenol-Novolak-Typ mit Acrylsäure, partiale Addukte eines Epoxyharzes vom Cresol-Novolak-Typ mit Acrylsäure, partiale Addukte eines Epoxyharzes vom Trisphenylmethan-Typ mit Acrylsäure, partiale Addukte eines Epoxyharzes vom Bisphenol-A-Novolak-Typ mit Methacrylsäure, partiale Addukte eines Epoxyharzes vom Dicyclopentadien-Phenol-Typ mit Methacrylsäure und partiale Addukte eines Epoxyharzes vom Phenol-Novolak-Typ mit Crotonsäure ein, wobei mindestens eine Art davon zum Einsatz kommen kann.preferred examples for close the constituent [I] partial adducts of a phenolic novolac type epoxy resin with acrylic acid, partial Adducts of a cresol novolak type epoxy resin with acrylic acid, partial Adducts of a tris-phenylmethane-type epoxy resin with acrylic acid, partial Adducts of bisphenol A novolac type epoxy resin with methacrylic acid, partial Adducts of an epoxy resin of the dicyclopentadiene-phenol type with methacrylic acid and partial adducts of a phenolic novolac type epoxy resin with crotonic acid, where at least one type of it can be used.
Die photo/wärmehärtende Harzzusammensetzung enthält (Meth)acrylate (d.h. Acrylate und/oder Methacrylate) als Bestandteil [II]. Bei dem Bestandteil [II] schließen Beispiele der Acrylate Ester von Acrylsäuren mit Hydroxyverbindungen ein. Beispiele für die Methacrylate schließen Ester von Methacrylsäuren mit Hydroxyverbindungen ein.The photo / thermosetting resin composition contains (Meth) acrylates (i.e., acrylates and / or methacrylates) as an ingredient [II]. In the component [II], examples of acrylates include Esters of acrylic acids with Hydroxy compounds. Examples of the methacrylates include esters of methacrylic acids with hydroxy compounds.
Beispiele für die oben genannten Acrylsäuren und Methacrylsäuren schließen ungesättigte Fettsäuren, angege ben durch die Formel [Chemische Formel I-UFA] ein. Spezielle Beispiele für Acrylsäuren und Methacrylsäuren sind Acrylsäure, Methacrylsäure und Crotonsäure.Examples for the above acrylic acids and methacrylic acids shut down unsaturated fatty acids, indicated by the formula [Chemical formula I-UFA]. Specific examples for acrylic acids and methacrylic acids are acrylic acid, methacrylic acid and crotonic acid.
Beispiele für die oben genannten Hydroxyverbindungen schließen Alkohole, (Hemi)acetale oder (Hemi)ketale und Hydroxyester ein. Beispiele für die Alkohole schließen niedrige Alkohole, cyclische Alkohole, mehrwertige Alkohole und aromatische Alkohole etc. ein. Bei den Hydroxyverbindungen schließen Beispiele der (Hemi)acetale oder (Hemi)ketale Kondensate der obigen Alkohole (z.B. cyclische Alkohole und mehrwertige Alkohole oder dergleichen) mit Formaldehyd oder Hydroxyaldehyd ein. Bei den Hydroxyverbindungen schließen spezielle Beispiele der Hydroxysäureester Ringöffnungsaddukte von Caprolacton mit Furfurylalkohol, Neopentylglykol, Hydroxypivalat oder dergleichen ein.Examples of the above-mentioned hydroxy compounds include alcohols, (hemi) acetals or (hemi) ketals and hydroxyesters. Examples of the alcohols include lower alcohols, cyclic alcohols, polyhydric alcohols and aromatic alcohols, etc. a. In the hydroxy compounds, examples of the (hemi) acetals or (hemi) ketals include condensates of the above alcohols (eg, cyclic alcohols and polyhydric alcohols or the like) with formaldehyde or hydroxyaldehyde. In the hydroxy compounds, specific examples of the hydroxy acid esters include ring opening adducts of caprolactone with furfuryl alcohol, neopentyl glycol, hydroxypivalate or the like.
Bevorzugte Beispiele des Bestandteils [II] schließen die einzelnen Verbindungen, angegeben durch die Formeln [Chemische Formel II-1] bis [Chemische Formel II-9] gemäß Tabelle 2 ein und insbesondere Isobornylacrylat, Dicyclopentanylmethacrylat, Hydroxypivalinsäureneopentylglykoldiacrylat, Tricyclodecandimethanolacrylat, Trimethylolpropantriglykolacrylat, Dipentaerythrithexaacrylat und Isobornylcrotonat ein, wobei mindestens eine Art davon zum Einsatz kommen kann.preferred Examples of the component [II] include the individual compounds represented by the formulas [Chemical formula II-1] to [Chemical formula Formula II-9] according to the table 2 and in particular isobornyl acrylate, dicyclopentanyl methacrylate, hydroxypivalic acid, Tricyclodecanedimethanol acrylate, trimethylolpropane triglycol acrylate, Dipentaerythritol hexaacrylate and isobornyl crotonate, wherein at least some kind of it can be used.
Tabelle 2 Table 2
Die photo/wärmehärtende Harzzusammensetzung enthält ein Photo-Vernetzungsmittel als Bestandteil [III]. Beispiele für den Bestandteil [III] schließen einen Be standteil ein, durch den eine primäre Härtungsreaktion durch Bestrahlung mit Licht, beispielsweise mit Ultraviolettlicht oder dergleichen mit einer Wellenlänge von 200 bis 400 nm gestattet wird.The photo / thermosetting resin composition contains a photo-crosslinking agent as component [III]. Examples of the component Close [III] a constituent by which a primary curing reaction by irradiation with light, for example with ultraviolet light or the like with a wavelength of 200 to 400 nm is allowed.
Spezielle Beispiele für den Bestandteil [III] schließen Hydroxyketone, Benzylmethylketale, Acylphosphinoxide, Aminoketone, Benzoinether, Benzoylverbindungen, Thioxanthone, Biimidazole, Dimethylaminobenzoat, Sulfoniumsalze, Anthrachinone, Acridone, Acridine, Carbazole und Titankomplexe ein, wobei mindestens eine Art davon zum Einsatz kommen kann.Specific examples for to conclude component [III] Hydroxyketones, benzylmethylketals, acylphosphine oxides, aminoketones, Benzoin ethers, benzoyl compounds, thioxanthones, biimidazoles, dimethylaminobenzoate, Sulfonium salts, anthraquinones, acridones, acridines, carbazoles and Titanium complexes, wherein at least one type of it are used can.
Bevorzugte Beispiele für den Bestandteil [III] schließen die einzelnen Verbindungen, die durch die Formeln [Chemische Formel III-1] und [Chemische Formel III-2] gemäß Tabelle 3 angegeben sind, ein, wobei mindestens eine Art davon verwendet werden kann.Preferred examples of the component [III] include the individual compounds represented by the For [Chemical formula III-1] and [Chemical formula III-2] shown in Table 3, at least one kind of which can be used.
Tabelle 3 Table 3
Die photo/wärmehärtende Harzzusammensetzung enthält ein Epoxyharz als Bestandteil [IV]. Beispiele für das Epoxyharz schließen kristalline Epoxyharze und/oder flüssige Epoxyharze ein. Bei dem Bestandteil [IV] werden kristalline Epoxyharze mit einem Schmelzpunkt von beispielsweise 80 bis 110°C, insbesondere 90 bis 105°C, bevorzugt. Weiterhin beträgt bei den kristallinen Epoxyharzen die Viskosität (mPa·s) vorzugsweise 50 oder weniger, insbeson dere 0,1 bis 20, beim Schmelzpunkt bis zum Schmelzpunkt plus 20°C. Weiterhin wird ein kristallines Epoxyharz bevorzugt, das in der photo/wärmehärtenden Harzzusammensetzung schwer löslich ist.The photo / thermosetting resin composition contains an epoxy resin as component [IV]. Examples of the epoxy resin include crystalline ones Epoxy resins and / or liquid Epoxy resins. The component [IV] becomes crystalline epoxy resins with a melting point of for example 80 to 110 ° C, in particular 90 to 105 ° C, prefers. Continue to amount in the crystalline epoxy resins, the viscosity (mPa · s) is preferably 50 or less, in particular 0.1 to 20, at the melting point to the melting point plus 20 ° C. Furthermore, a crystalline epoxy resin is preferred, which in the photo / thermosetting Resin composition poorly soluble is.
Beispiele für kristalline Epoxyharze schließen kristalline Epoxyharze vom Biphenyl-Typ, vom Diphenyl-Typ, vom Hydrochinon-Typ, vom Biphenyl-Novolak-Typ und vom Fluorein-Typ ein, wobei mindestens eine Art davon zum Einsatz kommen kann.Examples for crystalline Close epoxy resins biphenyl-type, biphenyl-type, hydroquinone-type crystalline epoxy resins, of the biphenyl novolak type and the fluorine type, wherein at least some kind of it can be used.
Beispiele für kristalline Epoxyharze vom Biphenyl-Typ schließen eine Verbindung, angegeben durch die folgende Formel [Chemische Formel IVc-1] ein. [Chemische Formel 3] wobei R für H oder CH3 steht und wobei mindestens eine Art davon enthalten sein kann.Examples of biphenyl type crystalline epoxy resins include a compound represented by the following formula [Chemical Formula IVc-1]. [Chemical Formula 3] wherein R is H or CH 3 and wherein at least one kind thereof may be contained.
Beispiele für kristalline Epoxyharze vom Biphenyl-Typ schließen ein Material mit der folgenden Formel [Chemische Formel IVc-2] ein. [Chemische Formel 4] worin X für O oder S steht und R1 und R2 jeweils unabhängig voneinander für H, CH3 oder t-Butyl stehen und wobei mindestens eine Art davon enthalten sein kann.Examples of biphenyl type crystalline epoxy resins include a material represented by the following formula [Chemical Formula IVc-2]. [Chemical formula 4] wherein X is O or S and R 1 and R 2 are each independently H, CH 3 or t-butyl, and wherein at least one kind thereof may be contained.
Beispiele für kristalline Epoxyharze vom Hydrochinon-Typ schließen ein solches ein, das durch die folgende Formel [Chemische Formel IVc-3] angegeben wird. [Chemische Formel 5] worin n den Wert 0, 1 oder 2 hat und wobei mindestens eine Art davon enthalten sein kann.Examples of hydroquinone type crystalline epoxy resins include those indicated by the following formula [Chemical Formula IVc-3]. [Chemical formula 5] wherein n is 0, 1 or 2 and at least one kind may be included.
Beispiele für kristalline Epoxyharze vom Biphenyl-Novolak-Typ schließen ein solches mit der folgenden Formel [Chemische Formel IVc-4] ein. [Chemische Formel 6] worin n den Wert 1 oder 2 hat und wobei mindestens eine Art davon enthalten sein kann.Examples of biphenyl novolac type crystalline epoxy resins include those having the following formula [Chemical Formula IVc-4]. [Chemical formula 6] wherein n is 1 or 2 and at least one kind may be included.
Beispiele für kristalline Epoxyharze vom Fluorein-Typ schließen ein solches mit der folgenden Formel [Chemische Formel IVc-5] ein. [Chemische Formel 7] Examples of fluorine type crystalline epoxy resins include those having the following formula [Chemical Formula IVc-5]. [Chemical formula 7]
Bevorzugte Beispiele für kristalline Epoxyharze schließen Tetramethylbiphenyl-Epoxyharze, Hydrochinondiglycidylether und Di(p-glycidylphenyl)ether ein, wobei mindestens eine Art davon enthalten sein kann.preferred examples for close crystalline epoxy resins Tetramethylbiphenyl epoxy resins, hydroquinone diglycidyl ether and di (p-glycidylphenyl) ether at least one kind of which may be included.
Im Falle des Bestandteils [IV] stellt das flüssige Epoxyharz ein flüssiges oder halbfestes Epoxyharz bei Normaltemperatur dar. Beispiele hierfür schließen ein Epoxyharz mit einer Fließfähigkeit bei Normaltemperatur ein. Es ist zu bevorzugen, dass das flüssige Epoxyharz eine Viskosität (Raumtemperatur, mPa·s) von beispielsweise 20000 oder weniger und besonders bevorzugt von 1000 bis 10000 hat.in the In the case of ingredient [IV], the liquid epoxy resin makes a liquid or semisolid epoxy resin at normal temperature. Examples include Epoxy resin with a flowability at normal temperature. It is preferable that the liquid epoxy resin a viscosity (Room temperature, mPa · s) for example, 20,000 or less, and more preferably from 1000 to 10000 has.
Spezielle Beispiele für das flüssige Epoxyharz schließen ein Epoxyharz vom Bisphenol A-Typ, angegeben durch die folgende Formel [Chemische Formel IV1-1] ein. [Chemische Formel 8] worin n den Wert 0 oder 1 hat und wobei mindestens eine Art davon enthalten sein kann.Specific examples of the liquid epoxy resin include a bisphenol A type epoxy resin represented by the following formula [Chemical Formula IV1-1]. [Chemical formula 8] wherein n is 0 or 1 and at least one kind may be included.
Weiterhin schließen spezielle Beispiele des flüssigen Epoxyharzes ein Epoxyharz vom Bisphenol F-Typ, angegeben durch die folgende Formel [Chemische Formel IV1-2] ein. [Chemische Formel 9] wobei n den Wert 0 oder 1 hat und wobei mindestens eine Art davon enthalten sein kann.Further, specific examples of the liquid epoxy resin include a bisphenol F type epoxy resin represented by the following formula [Chemical Formula IV1-2]. [Chemical formula 9] where n is 0 or 1 and where at least one kind may be included.
Weiterhin schließen spezielle Beispiele für ein flüssiges Epoxyharz ein Harz vom Napthalin-Typ, ein Harz vom Diphenylthioether(sulfid)-Typ, ein Harz vom Trityl-Typ, ein Harz vom alicyclischen Typ, ein Harz, hergestellt aus den folgenden Alkoholen, ein Harz vom Diallyl-bis-A-Typ, ein Harz vom Methylresorcin-Typ, ein Harz vom Bisphenol AD-Typ und ein N,N,O-Tris(glycidyl)-p-aminophenol ein, wobei mindestens eine Art davon enthalten sein kann.Farther shut down special examples of a liquid Epoxy resin, a naphthalene type resin, a diphenyl thioether (sulfide) type resin, a trityl type resin, an alicyclic type resin, a resin prepared from the following Alcohols, a diallyl-bis-A-type resin, a methylresorcin-type resin, a bisphenol AD type resin and an N, N, O-tris (glycidyl) -p-aminophenol at least one kind of which may be included.
Bevorzugte Beispiele für das flüssige Epoxyharz schließen ein Epoxyharz vom Bisphenol A-Typ, ein Epoxyharz vom Bisphenol F-Typ, N,N,O-Tris(glycidyl)-p-aminophenol und ein Epoxyharz vom Bisphenol AD-Typ ein, wobei mindestens eine Art davon enthalten sein kann.preferred examples for the liquid Close epoxy resin a bisphenol A type epoxy resin, a bisphenol F type epoxy resin, N, N, O-tris (glycidyl) -p-aminophenol and a bisphenol AD type epoxy resin at least one kind of which may be included.
Die photo/wärmehärtende Harzzusammensetzung enthält ein latentes Härtungsmittel als Bestandteil [V]. Eine sekundäre Härtungsreaktion wird durch Erhitzen des Bestandteils [V] bewirkt. Bei dem Bestandteil [V] beträgt beispielsweise die Starttemperatur der sekundären Härtungsreaktion vorzugsweise 150 bis 300°C und besonders bevorzugt 150 bis 200°C.The photo / thermosetting resin composition contains a latent curing agent as component [V]. A secondary one curing is effected by heating the component [V]. In the component [V] is For example, the starting temperature of the secondary curing reaction is preferably 150 to 300 ° C and more preferably 150 to 200 ° C.
Spezielle Beispiele für den Bestandteil [V] schließen Dicyandiamide (DICY), Imidazole, einen BF3-Aminkomplex, Aminaddukt-Härtungsmittel, Aminosäureanhydrid(Polyamid)addukt-Härtungsmittel, Hydrazid-Härtungsmittel, Carboxylate (Salze) von Amin-Härtungsmitteln und Oniumsalze ein, wobei mindestens eine Art davon enthalten sein kann.Specific examples of the component [V] include dicyandiamide (DICY), imidazoles, BF 3 -amine complex one, amine adduct curing agent, amino acid anhydride (polyamide) adduct curing agents, hydrazide curing agents, carboxylates (salts) of amine curing agents and onium salts, at least one type of which may be included.
Bei dem Bestandteil [V] schließen spezielle Beispiele des Aminaddukt-Härtungsmittels ein Addukt eines Härtungsmittels vom Imidazol-Typ [2-Ethyl-4-methylimidazol, 2-Methylimidazol, 2,4-Diamino-6-(2'-methylimidazo-lyl-(1H)-ethyl-S-triazin oder dergleichen] oder ein Amin-Härtungsmittel (Diethylamin oder dergleichen) mit einer Epoxyverbindung mit Harnstoff oder einer Isocyanatverbindung ein. Beispiele für die Hydrazid-Härtungsmittel schließen Adipinsäuredihydrazid (ADH) und Sebacinsäuredihydrazid (SDH) ein. Beispiele für die Carboxylate (Salze) der Amin-Härtungsmittel schließen Nylonsalze und das ATU (3,9-Bis(3-aminopropyl)-2,4,8,10-tetraoxaspiro[5,5]undecan)adipinsäuresalz ein. Beispiele für die Oniumsalze schließen Sulfoniumsalze, Ammoniumsalze und Phosphoniumsalze ein.at close the component [V] specific examples of the amine adduct curing agent is an adduct of a curing agent of imidazole type [2-ethyl-4-methylimidazole, 2-methylimidazole, 2,4-diamino-6- (2'-methylimidazolyl (1H) -ethyl-S-triazine or the like] or an amine curing agent (Diethylamine or the like) with an epoxy compound with urea or an isocyanate compound. Examples of the hydrazide curing agents shut down adipic (ADH) and sebacic dihydrazide (SDH). examples for the carboxylates (salts) of the amine curing agents include nylon salts and the ATU (3,9-bis (3-aminopropyl) -2,4,8,10-tetraoxaspiro [5,5] undecane) adipic acid salt one. examples for close the onium salts Sulfonium salts, ammonium salts and phosphonium salts.
Bevorzugte Beispiele für den Bestandteil [V] schließen die Verbindungen der Formeln [Chemische Formel V-1] bis [Chemische Formel V-3] in Tabelle 4 ein, wobei mindestens eine Art davon enthalten sein kann. Tabelle 4 Preferred examples of the component [V] include the compounds of the formulas [Chemical Formula V-1] to [Chemical Formula V-3] in Table 4, wherein at least one kind thereof may be contained. Table 4
Zu der photo/wärmehärtenden Harzzusammensetzung können erforderlichenfalls verschiedene Additive gegeben werden. Beispiele für die Additive schließen Füllstoffe, organische/anorganische Farbmittel, flammverzögernde Mittel und Antischaummittel ein, wobei mindestens eine Art davon enthalten sein kann.To the photo / thermosetting Resin composition can if necessary, various additives are given. Examples for the Close additives fillers, organic / inorganic colorants, flame retardants and antifoams at least one kind of which may be included.
Hinsichtlich der Zusammensetzung des photo/wärmehärtenden Harzes werden zu 100 Gew.-Teilen des Bestandteils [I] 100 bis 300 Gew.-Teile (insbesondere 150 bis 250 Gew.-Teile) des Bestandteils [II], 1 bis 50 Gew.-Teile (insbesondere 5 bis 15 Gew.-Teile) des Bestandteils [III], 50 bis 200 Gew.-Teile (insbesondere 60 bis 120 Gew.-Teile) des Bestandteils [IV], 1 bis 50 Gew.-Teile (insbesondere 5 bis 20 Gew.-Teile) des Bestandteils [V] und 200 bis 500 Gew.-Teile (insbesondere 250 bis 350 Gew.-Teile) des Füllstoffs bevorzugt.As to the composition of the photo / thermosetting resin, to 100 parts by weight of the component [I], 100 to 300 parts by weight (especially 150 to 250 parts by weight) of the component [II], 1 to 50 parts by weight (especially 5 to 15 parts by weight) of the component [III], 50 to 200 parts by weight (especially 60 to 120 parts by weight) of the component [IV], 1 to 50 parts by weight Parts (especially 5 to 20 parts by weight) of the component [V] and 200 to 500 parts by weight (especially 250 to 350 parts by weight) of the filler are preferable.
Die photo/wärmehärtende Harzzusammensetzung kann beispielsweise dadurch hergestellt werden, dass die einzelnen Bestandteile [I] bis [V] und erforderlichenfalls das Additiv miteinander vermischt werden, dass das Gemisch gleichförmig dispergiert wird und dass das dispergierte Gemisch im Vakuum entschäumt wird. Die Reihenfolge der Zugabe oder dergleichen der Bestandteile ist keinen besonderen Beschränkungen unterworfen und jeder Bestandteil kann nacheinander zugesetzt werden oder alle Bestandteile können auf einmal zugesetzt werden.The photo / thermosetting resin composition can be made, for example, that the individual Ingredients [I] to [V] and, if necessary, the additive with each other are mixed so that the mixture is uniformly dispersed and that the dispersed mixture is defoamed in vacuo. The order of Addition or the like of the ingredients is not particularly limited and each ingredient may be added sequentially or all Ingredients can be added at once.
Es wird bevorzugt, dass die wie oben hergestellte photo/wärmehärtende Harzzusammensetzung eine Harz-Viskosität (Pa·s, Raumtemperatur) von 10 bis 50 im Hinblick auf die Aufbringungseigenschaften auf die gedruckte Leiterplatte oder dergleichen hat, wobei Viskositäten von 15 bis 30 besonders bevorzugt werden.It It is preferable that the photo / thermosetting resin composition as prepared above a resin viscosity (Pa · s, room temperature) from 10 to 50 in view of the application properties the printed circuit board or the like has viscosities of 15 to 30 are particularly preferred.
Nachstehend wird die Erfindung im Detail anhand der Zeichnungen beschrieben.below the invention will be described in detail with reference to the drawings.
Bei
dem erfindungsgemäßen Herstellungsverfahren
der abgeflachten, mit Harz beschichteten gedruckten Leiterplatte
wird eine gedruckte Leiterplatte mit einem Durchgangsloch [
Im
Hinblick auf die gedruckte Leiterplatte mit einem Durchgangsloch
wird die Oberfläche
der leitfähigen
Schicht [
Bei der Herstellung der erfindungsgemäßen abgeflachten, mit Harz beschichteten gedruckten Leiterplatte wird zuerst die photo/wärmehärtende Harzzusammensetzung auf eine Oberfläche und das Durchgangsloch der gedruckten Leiterplatte aufgebracht.at the preparation of the invention flattened, with resin coated printed circuit board becomes first the photo / thermosetting resin composition on a surface and the through hole of the printed circuit board is applied.
Die photo/wärmehärtende Harzzusammensetzung kann beispielsweise durch ein Siebdrucken (Maskendrucken oder dergleichen unter Verwendung eines Polyestersiebs oder eines Edelstahlsiebs etc.), ein Metallmaskendrucken, ein Walzenbeschichtungsdrucken und dergleichen aufgebracht werden.The photo / thermosetting resin composition For example, by screen printing (mask printing or the like using a polyester sieve or a stainless steel sieve etc.), metal mask printing, roll coating printing and the like are applied.
Die Erzeugung von Blasen in dem aufgetragenen Harz kann durch Verwendung einer Vakuumdruckmaschine verhindert werden. Weiterhin kann das Harz dadurch entschäumt werden, dass das aufgebrachte Harz erhitzt wird (z.B. 10 bis 60 Minuten lang auf 80 bis 120°C), um die Viskosität des Harzes zu verringern.The Generation of bubbles in the applied resin can be achieved by use a vacuum press can be prevented. Furthermore, that can Resin thereby defoamed be that the applied resin is heated (e.g., 10 to 60 Minutes at 80 to 120 ° C), about the viscosity of the resin.
Obgleich
die gesamte Fläche
der gedruckten Leiterplatte mit der Harzschicht [
Jedoch,
wenn die Aussparung zwischen den Schaltkreisen zuvor nicht gefüllt worden
ist, dann ist es schwierig, die Aussparung mit dem Beschichtungsmaterial
zu füllen,
und die Füllung
tendiert dahingehend, selbst dann unzulänglich zu sein, wenn die Aussparung
zwischen den Schaltkreisen mit dem Material für die Schicht durch eine Vakuumpresse
gefüllt
wird. Insbesondere dann, wenn eine Linie und ein Raum in einem Schaltkreis
mit hoher Dichte eng sind, dann ist es schwierig, die Aussparung
zwischen den Schaltkreisen mit dem Beschichtungsmaterial zu füllen. Daher
wird in geringem Umfang ein Spalt in der Aussparung zwischen den
Schaltkreisen gebildet und in dem Spalt bleibt manchmal Luft zurück. Als
Ergebnis ist es so, dass, wenn die gedruckte Leiterplatte bei hoher
Temperatur behandelt wird (z.B. bei 200 bis 300°C) durch ein Schmelzen oder
dergleichen im Falle der Befestigung der Komponenten bei einem Nachbehandlungsverfahren
die zurückgebliebene
Luft expandiert und dass manchmal eine Blasenbildung (was als „Popcorn-Phänomen" bezeichnet wird)
der Überzugsoberfläche erfolgt
[
Andererseits,
wenn der Raum zwischen den Schaltkreisen größer ist, dann kann der Raum
vollständig mit
dem Harz gefüllt
werden. Wenn jedoch der Raum vollständig mit dem Harz gefüllt ist,
dann wird ein Beschichtungsmaterial für ein großes Raumvolumen zwischen den
Schaltkreisen zum Füllen
verwendet und als Ergebnis erfolgt manchmal die Bildung einer Kerbe
auf der Oberfläche
der aufgeschichteten Harzschicht [
Daher ist es zum Erhalt der hohen Flachheit der gedruckten Leiterplatte von Wichtigkeit, nicht nur das Durchgangsloch der gedruckten Leiterplatte, sondern auch die Aussparung auf der Oberfläche der gedruckten Leiterplatte (die Aussparung zwischen den Schaltkreisen oder dergleichen) mit der photo/wärmehärtenden Harzzusammensetzung zu füllen.Therefore it is to maintain the high flatness of the printed circuit board of importance, not just the through hole of the printed circuit board, but also the recess on the surface of the printed circuit board (the gap between the circuits or the like) with the photo / thermosetting resin composition to fill.
Bei dem erfindungsgemäßen Verfahren zur Herstellung der abgeflachten, mit Harz beschichteten gedruckten Leiterplatte wird die oben genannte photo/wärmehärtende Harzzusammensetzung aufgebracht und eingefüllt. Dann werden der Reihe nach die folgenden Stufen (1) und (2) durchgeführt:
- (1) eine Stufe der Abflachung der Oberfläche des aufgebrachten Harzes; und
- (2) eine Stufe der Photohärtung des aufgebrachten Harzes.
- (1) a step of flattening the surface of the applied resin; and
- (2) a step of photocuring the applied resin.
Speziellerweise
wird in Stufe (1) die oben genannte beschichtete und befüllte gedruckte
Leiterplatte sandwichartig zwischen zwei Deckfilmen angeordnet [
Dann
wird die mit dem obigen Deckfilm bedeckte gedruckte Leiterplatte
einem Druckwalzen unterworfen. Das Druckwalzen kann beispielsweise
unter Verwendung eines Laminators oder dergleichen durchgeführt werden.
Das heißt,
die gedruckte Leiterplatte, die mit dem obigen Deckfilm bedeckt
ist, wird zuerst sandwichartig zwischen zwei Walzen angeordnet [
In
diesem Fall wird ein Intervall zwischen den Walzen vorzugsweise
so eingestellt, dass die Schichtdicke des auf den Schaltkreis der
gedruckten Leiterplatte aufgebrachten Harzes [
Die
zwei Walzen werden auf der gesamten Oberfläche der jeweiligen Deckfilme,
die auf beide Oberflächen
der gedruckten Leiterplatte aufgebracht worden sind, bewegt, während das
oben genannte Walzenintervall aufrechterhalten wird [
Als Laminierungsbedingungen können speziell ein Laminierungsdruck von 0,01 bis 10 (typischerweise 0,1 bis 1) MPa, eine Laminierungsgeschwindigkit von 0,1 bis 10 (typischerweise 0,3 bis 3) m/Minute, eine Laminierungstemperatur von Raumtemperatur bis 150°C (typischerweise 25 bis 100°C) angewendet werden.When Lamination conditions can specifically, a lamination pressure of 0.01 to 10 (typically 0.1 to 1) MPa, a lamination rate of 0.1 to 10 (typically 0.3 to 3) m / minute, a lamination temperature of room temperature up to 150 ° C (typically 25 to 100 ° C) be applied.
Bei
dem erfindungsgemäßen Verfahren
zur Herstellung der abgeflachten, mit Harz beschichteten gedruckten
Leiterplatte wird der Prozess (2) nach Durchführung des Prozesses (1) durchgeführt. Beide
Seiten der gedruckten Leiterplatte werden vorzugsweise bei dem Prozess
(2) mit Licht bestrahlt. In diesem Falle können beide Seiten (Vorderseite
und Rückseite)
der gedruckten Leiterplatte gleichzeitig mit Licht bestrahlt werden
und sie können
auch nacheinander mit Licht bestrahlt werden. Das aufgebrachte Harz
wird mit Licht auf dem Wege über
den Deckfilm bestrahlt und als Ergebnis erfolgt ein primäres Photohärten des
aufgebrachten Harzes [
Was die Bestrahlung mit Licht betrifft, so kann das Harz mit Licht mit einem charakteristischen Bereich der Absorptionswellenlänge des Bestandteils [III] speziell mit Ultraviolettlicht mit einer Wellenlänge von 200 bis 400 nm bei –20 bis 80°C bestrahlt werden, wobei die Bestrahlungslichtmenge 0,5 bis 10 J/cm2 beträgt. Das Photohärten kann auch unter Verwendung einer untergetauchten Belichtungseinrichtung, beschrieben in den JP-A Nrn. 9-6010 und 10-29247, durchgeführt werden.As to the irradiation with light, the resin may be irradiated with light having a characteristic range of the absorption wavelength of the component [III] especially ultraviolet light having a wavelength of 200 to 400 nm at -20 to 80 ° C, the irradiation light amount being 0, 5 to 10 J / cm 2 . The photocuring can also be carried out using a submerged exposure apparatus described in JP-A Nos. 9-6010 and 10-29247.
Nach der Photohärtung des obigen Harzes wird jeder der Deckfilme auf beiden Oberflächen der gedruckten Leiterplatte abgezogen und entfernt.To photohardening of the above resin, each of the cover films on both surfaces of printed circuit board removed and removed.
Bei
dem erfindungsgemäßen Verfahren
zur Herstellung der abgeflachten, mit Harz beschichteten gedruckten
Leiterplatte werden die Stufen (1) und (2) wie oben beschrieben
vervollständigt
und dann wird die photo/wärmehärtende Harzzusammensetzung
[
Sodann
wird die Stufe (1) [
- 3) eine Stufe der Wärmehärtung des photogehärteten Harzes.
- 3) a step of thermosetting the photocured resin.
Bei
der Stufe (3) wird das aufgebrachte Harz, das in Stufe (2) primär photogehärtet worden
ist, dann sekundär
wärmegehärtet, um
das Harz vollständig
auszuhärten
[
Die Erhitzungstemperatur in der Stufe (3) ist vorzugsweise nicht kleiner als die Starttemperatur der Reaktion (Starttemperatur des sekundären Wärmehärtens) des Bestandteils [V] der photo/wärmehärtenden Harzzusammensetzung. Speziellerweise wird das Harz vorzugsweise auf 120 bis 300°C (insbesondere 140 bis 200°C) 30 bis 200 Minuten lang erhitzt.The Heating temperature in the step (3) is preferably not smaller as the starting temperature of the reaction (starting temperature of the secondary heat-setting) of Component [V] photo / thermosetting Resin composition. Specifically, the resin is preferably at 120 to 300 ° C (especially 140 to 200 ° C) Heated for 30 to 200 minutes.
Wie es oben bereits beschrieben wurde, ist es so, dass, weil es nicht notwendig ist, das Hitzeverpressen bei der erfindungsgemäßen Herstellung der abgeflachten, mit Harz beschichteten gedruckten Leiterplatte durchzuführen (das heißt, dass es nicht notwendig ist, das Erhitzen und das Verpressen gleichzeitig durchzuführen), eine Deformation des Harzes verhindert werden kann und dass auch eine Verschlechterung der Flachheit der gedruckten Leiterplatte verhindert werden kann.As it has already been described above, it is that because it is not is necessary, the heat compression in the preparation of the invention the flattened resin coated printed circuit board (the is called, that it is not necessary, the heating and the pressing at the same time perform), a deformation of the resin can be prevented and that too a deterioration of the flatness of the printed circuit board can be prevented.
Bei der erfindungsgemäßen abgeflachten, mit Harz beschichteten gedruckten Leiterplatte, die auf die obige Weise erhalten worden ist, beträgt der maximale Wert der Differenz der Projektion bzw. der vorstehenden Teile und der Aussparung der Oberfläche im Allgemeinen 3 (typischerweise 1) μm oder weniger.at the flattened, with resin coated printed circuit board, based on the above Way has been obtained is the maximum value of the difference of the projection or the above Parts and the recess of the surface in general 3 (typically 1) μm or fewer.
Bei
der erfindungsgemäßen abgeflachten,
mit Harz beschichteten gedruckten Leiterplatte [
Daher ist die Dicke der erfindungsgemäßen abgeflachten, mit Harz beschichteten gedruckten Leiterplatte über die gesamte Fläche der gedruckten Leiterplatte gleichförmig, ungeachtet der Schaltkreisdichte, und die Dicke der aufgebrachten Harzschicht, die auf der leitfähigen Schaltkreisschicht (Schaltkreis-Kupferfolie) gebildet worden ist, ist fixiert.Therefore is the thickness of the flattened, resin coated printed circuit board over the entire surface of the uniform printed circuit board, regardless of the circuit density, and the thickness of the applied Resin layer on the conductive Circuit layer (circuit copper foil) has been formed, is fixed.
Eine mehrschichtige gedruckte Leiterplatte (insbesondere eine vierschichtige gedruckte Leiterplatte), die als inneres Schichtmaterial oder dergleichen der mehrschichtigen gedruckten Leiterplatte verwendbar ist, kann dadurch hergestellt werden, dass die oben genannte, abgeflachte, mit Harz beschichtete gedruckte Leiterplatte gemäß der Erfindung als Material eingesetzt wird.A multilayer printed circuit board (in particular a four-layered printed circuit board) used as an inner layer material or the like the multilayer printed circuit board can be used produced by the fact that the abovementioned, flattened, Resin-coated printed circuit board according to the invention as a material is used.
Das heißt, bei der erfindungsgemäßen mehrschichtigen gedruckten Leiterplatte wird zuerst die photo/wärmehärtende Harzzusammensetzung auf eine Oberfläche und das Durchgangsloch der gedruckten Leiterplatte aufgebracht. Die Stufen (1) und (2) werden nacheinander durchgeführt und die photo/wärmehärtende Harzzusammensetzung wird dann auf die andere Oberfläche der gedruckten Leiterplatte aufgebracht. Nach der sequentiellen Durchführung der Stufen (1) und (2) wird die folgende Stufe A durchgeführt.
- A) Durchführung der Stufe (3) und laminierende Verpressung der gedruckten Leiterplatte, wobei die gedruckte Leiterplatte sandwichartig zwischen Pressbindungsmaterialien angeordnet wird, um die Pressbindungsmaterialien mit der gedruckten Leiterplatte durch Verpressung zu verbinden.
- A) performing step (3) and laminating pressing the printed circuit board, wherein the printed circuit board is sandwiched between press bonding materials to press-bond the press bonding materials to the printed circuit board.
Bei der obigen Stufe (A) wird zuerst die oben genannte abgeflachte, mit Harz beschichtete gedruckte Leiterplatte gemäß der Erfindung wie oben beschrieben in einer Stufe, wo die Stufe (3) vervollständigt worden ist, erhalten. at In the above step (A), first, the above is flattened, Resin-coated printed circuit board according to the invention as described above in a stage where the step (3) has been completed.
Dann
wird die erfindungsgemäße abgeflachte,
mit Harz beschichtete gedruckte Leiterplatte mit der abgeflachten,
mit Harz beschichteten gedruckten Leiterplatte sandwichartig zwischen
den Pressbindungsmaterialien [
Wenn das Pressbindungsmaterial ein halbthermisch gehärtetes Harz ist, dann wird die Laminierungsverpressung vorzugsweise unter Erhitzen durchgeführt. Wenn die photo/wärmehärtende Harzzusammensetzung auf die sekundäre Wärmehärtungstemperatur oder höher (insbesondere auf die Reaktionsstarttemperatur der Bestandteils [V] oder mehr) der photo/wärmehärtenden Harzzusammensetzung erhitzt wird, dann kann die Stufe (3) bei dem obigen Herstellungsverfahren für die abgeflachte, mit Harz beschichtete gedruckte Leiterplatte weggelassen werden.If the press bonding material is a semi-thermosetting resin, then becomes the lamination compression is preferably carried out under heating. If the photo / thermosetting resin composition to the secondary heat set or higher (In particular, the reaction start temperature of the constituent [V] or more) of the photo / thermosetting Resin composition is heated, then the stage (3) in the above manufacturing method for omitted the flattened resin coated printed circuit board become.
Das heißt, in diesem Fall wird zuerst die photo/wärmehärtende Harzzusammensetzung auf eine Oberfläche und in das Durchgangsloch der gedruckten Leiterplatte aufgebracht bzw. eingefüllt. Die Stufen (1) und (2) werden nacheinander durchgeführt. Dann wird die photo/wärmehärtende Harzzusammensetzung auf die andere Oberfläche der gedruckten Leiterplatte aufgebracht, die Stufen (1) und (2) werden der Reihe nach durchgeführt und dann wird die folgende Stufe (B) durchgeführt.
- B) Laminierende Verpressung der gedruckten Leiterplatte bei der Wärmehärtungstemperatur des photogehärteten Harzes oder höher, wobei die gedruckte Leiterplatte sandwichartig zwischen den Pressbindungsmaterialien angeordnet wird, wodurch gleichzeitig die Pressbindungsmaterialien pressverbunden werden und die Stufe (3) durchgeführt wird.
- B) laminating the printed circuit board at the thermosetting temperature of the photocured resin or higher, the printed circuit board being sandwiched between the press bonding materials, thereby press-bonding the press bonding materials simultaneously and performing step (3).
Bei der obigen Stufe (B) werden die Pressbindung (und eine perfekte Wärmehärtung) des Pressbindungsmaterials und das sekundäre Wärmehärten [d.h. die Stufe (3)] des photogehärteten Harzes gleichzeitig durchgeführt, indem bei der Wärmehärtungstemperatur oder darüber eine laminierende Verpressung durchgeführt wird.at the above step (B), the press bond (and a perfect Heat curing) of Press bonding material and secondary heat curing [i.e. the stage (3)] of photocured Resin carried out simultaneously, by at the heat curing temperature or above a laminating pressing is performed.
Bei den Stufen (A) und (B) sind die Laminierungspressbedingungen vorzugsweise beispielsweise 120 bis 200°C (insbesondere 135 bis 180°C), 30 bis 180 (insbesondere 60 bis 150) Minuten, wobei der Druck 10 bis 100 (insbesondere 15 bis 40) kp/cm2 beträgt.In the steps (A) and (B), the lamination pressing conditions are preferably, for example, 120 to 200 ° C (especially 135 to 180 ° C), 30 to 180 (especially 60 to 150) minutes, the pressure being 10 to 100 (especially 15 to 40) kp / cm 2 .
Beispielsweise kann das Laminierungsverpressen mittels eines Laminators vom offenen Typ, eines Vakuumlaminators oder dergleichen durchgeführt werden. Weiterhin können solche Laminatoren z.B. eine hydraulische Presse und eine Autoklavenpresse sein. Weiterhin kann die hydraulische Presse vom Vakuum-Typ, vom Rahmen-Typ, vom Kasten-Typ und dergleichen sein.For example, lamination molding may be performed by an open type laminator, a vacuum laminator, or the like. Furthermore, such laminators may be, for example, a hydraulic press and an autoclave press. Furthermore, the hydraulic press of the vacuum type, frame type, box type and the like.
Bei
der Herstellung der erfindungsgemäßen mehrschichtigen gedruckten
Leiterplatte wird nach der Durchführung der obigen Stufe (A)
oder (B) ein Loch in die Lei terschicht (z.B. Schaltkreis- bzw. Stromkreisschicht)
von der Oberfläche
des Pressbindungsmaterials eingebohrt, um einen Mikroweg [FIG. B,
Dann
wird bei dem erfindungsgemäßen Verfahren
zur Herstellung der mehrschichtigen gedruckten Leiterplatte der
gesamte Bereich plattiert [
Hinsichtlich der Plattierung der gesamten Fläche ist es zuerst zu bevorzugen, ein stromloses Plattieren durchzuführen, um eine Schicht, die als Unterschicht bezeichnet wird, herzustellen, und weiterhin ein elektrolytisches Plattieren durchzuführen. Beispiele für die Bezeichnung „Plattieren" beim stromlosen Plattieren und beim elektrolytischen Plattieren schließen ein Plattieren mit Kupfer, ein Plattieren mit Nickel, ein Plattieren mit Gold, ein Plattieren mit Nickel-Gold und ein Plattieren mit Lötmittel ein. Das Plattiermittel kann auch das gleiche sein oder es können zwei Arten davon miteinander kombiniert werden. Es ist zu bevorzugen, dass die Schichtdicke der stromlosen Plattierung 0,1 bis 10 (insbesondere 0,5 bis 5) μm beträgt und dass die Schichtdicke der elektrolytischen Plattierung 10 bis 50 (insbesondere 15 bis 30) μm beträgt.Regarding the plating of the entire surface it is first preferable to perform electroless plating to to produce a layer, called a sub-layer, and continue to perform electrolytic plating. Examples for the Designation "plating" when de-energized Plating and electrolytic plating include Plating with copper, plating with nickel, plating with gold, a plating with nickel-gold and a plating with solder one. The plating agent may also be the same or it may be two Types of it are combined. It is to be preferred in that the layer thickness of the electroless plating is 0.1 to 10 (in particular 0.5 to 5) μm is and that the layer thickness of the electrolytic plating is 10 to 50 (especially 15 to 30) microns is.
Dann
wird bei dem erfindungsgemäßen Verfahren
zur Herstellung der mehrschichtigen gedruckten Leiterplatte ein
Schaltkreis bzw. Stromkreis [
Danach
wird bei dem erfindungsgemäßen Verfahren
zur Herstellung der mehrschichtigen gedruckten Leiterplatte die
Oberfläche
mit einem Resist bedeckt [
Der Resist kann beispielsweise durch ein photographisches Verfahren aufgebracht werden, bei dem das Belichten und Entwickeln unter Verwendung einer lichtempfindlichen Resistdruckfarbe oder eines trockenen Films und eines Druckverfahrens unter Verwendung einer Resistdruckfarbe oder dergleichen durchgeführt wird.Of the Resist can be obtained, for example, by a photographic process to be applied in which the exposing and developing using a photosensitive resist ink or a dry film and a printing method using a resist ink or the like is performed.
Ein Öffnungsteil
kann erforderlichenfalls auf dem Resist gebildet werden. In diesem
Fall wird das Belichten/Entwickeln der Druckfarbe so durchgeführt, dass
ein Resistmuster erhalten wird, das einen Öffnungsteil hat. Speziell kann
die Öffnung
des Resists zur Erzielung eines Auflagenteils [
Eine
Auflagenplattierung [
Bezüglich der
mehrschichtigen gedruckten Leiterplatte [
Die
gedruckte Leiterplatte (insbesondere die doppelseitig bedruckte
Leiterplatte), die als Grundmaterial für eine äußere Schicht oder dergleichen
der mehrschichtigen gedruckten Leiterplatte verwendbar ist, kann dadurch
hergestellt werden, dass die erfindungsgemäße abgeflachte, mit Harz beschichtete
gedruckte Leiterplatte als Material verwendet wird. Das heißt, bei
dem erfindungsgemäßen Verfahren
zur Herstellung der gedruckten Leiterplatte wird die photo/wärmehärtende Harzzusammensetzung
auf eine Oberfläche
und in das Durchgangsloch der gedruckten Leiterplatte aufgebracht
bzw. eingefüllt,
und nacheinander werden die Stufen (1) und (2) durchgeführt. Die
photo/wärmehärtende Harzzusammensetzung
wird dann auf die andere Oberfläche
der gedruckten Leiterplatte aufgebracht und der Reihe nach werden
die Stufen (1) bis (3) durchgeführt, um
zuerst eine erfindungsgemäße abgeflachte,
mit Harz beschichtete gedruckte Leiterplatte zu erhalten [
Die Öffnung wird
dann in der Schicht des aufgeschichteten Harzes (gehärteten Harzes)
der abgeflachten, mit Harz beschichteten gedruckten Leiterplatte
gebildet. Bei diesem Gesichtspunkt wirkt die aufgeschichtete Harzschicht
als Resist [
Die Öffnung der
aufgeschichteten Harzschicht kann durch ein Verfahren gebildet werden,
bei dem ein Laser (ein UV-Laser, ein CO2-Laser,
ein Excimer-Laser, ein Nd:YAG-Laser oder dergleichen) oder eine
Plasmabehandlung wie oben beschrieben angewendet werden. Speziell
kann die Öffnung
der aufgeschichteten Harzschicht dadurch gebildet werden, dass ein
Auflagen- [
Bezug
nehmend auf die erfindungsgemäße gedruckte
Leiterplatte [
Die
Erfindung wurde oben beschrieben. Der Fachmann kann jedoch die Erfindung
leicht modifizieren und ausdehnen. Beispielsweise kann bei dem Herstellungsverfahren
der erfindungsgemäßen mehrschichtigen gedruckten
Leiterplatte „ein
Plattierungsresist [
Weiterhin kann die mehrschichtige gedruckte Leiterplatte mit der gewünschten Anzahl der Schichten dadurch hergestellt werden, dass die einzelnen Herstellungsstufen beim Verfahren zur Herstellung der erfindungsgemäßen mehrschichtigen gedruckten Leiterplatte wiederholt werden.Farther Can the multilayer printed circuit board with the desired Number of layers produced by that individual Production steps in the process for producing the multilayer inventive be repeated printed circuit board.
Weiterhin
kann bei dem erfindungsgemäßen Verfahren
zur Herstellung der mehrschichtigen gedruckten Leiterplatte die
Bezeichnung „Kupferfolie
mit Harz" [
Die angestrebte mehrschichtige gedruckte Leiterplatte mit zugestöpselten Löchern, bei der die Anzahl der Schichten größer ist und die Schichtstruktur komplizierter ist, kann dadurch hergestellt werden, dass in geeigneter Weise eine Mehrzahl von abgeflachten, mit Harz beschichteten gedruckten Leiterplatten, von mehrschichtigen gedruckten Leiterplatten und von gedruckten Leiterplatten der Erfindung als Grundmaterial für die innere Schicht oder als Grundmaterial für die äußere Schicht kombiniert werden und dass die Zusammenstellung anschließend laminiert wird.The desired multilayer printed circuit board with plugged holes where the number of layers is greater and the layer structure is more complicated, can be made by that in appropriate Way a plurality of flattened, resin-coated printed Printed circuit boards, of multilayer printed circuit boards and of printed circuit boards of the invention as base material for the inner Layer or as a base material for the outer layer be combined and that the compilation then laminated becomes.
Weiterhin kann bei einem beliebigen erfindungsgemäßen Herstellungsverfahren eine andere Adhäsionsfolie und ein anderes Beschichtungsmaterial oder eine Kupferfolie mit dem Harz anstelle des Prepregs verwendet werden und als Ergebnis kann eine mehrschichtige gedruckte Leiterplatte mit zugestöpselten Löchern mit der gewünschten Struktur hergestellt werden.Farther can in any manufacturing method according to the invention a other adhesive film and another coating material or a copper foil with the resin can be used instead of the prepreg and as a result can be a multi-layer printed circuit board with plugged Holes with the desired Structure are produced.
Weiterhin können, obgleich die Stufe (1) mit einer Druckwalze unter Verwendung des Deckfilms bei dem erfindungsgemäßen Herstellungsverfahren beschrieben wurde, andere Objekte (eine Form, eine Platte, eine Folie und andere), die anders als ein Film sind, verwendet werden. Weiterhin können andere Verfahren, die dazu imstande sind, die Oberfläche des aufgebrachten Harzes abzuflachen, anstelle einer Druckwalzenbehandlung angewendet werden.Farther can, although the step (1) with a pressure roller using the Cover film in the production process according to the invention described other objects (a shape, a plate, a Foil and others), which are different than a film. Furthermore you can other methods that are capable of the surface of the flattened resin, instead of a pressure roller treatment be applied.
[Beispiele][Examples]
Nachstehend wird die Erfindung speziell in den Beispielen unter Bezugnahme auf die Zeichnungen weiter beschrieben.below the invention will be specifically described in the examples with reference to the drawings further described.
<Herstellung der photo/wärmehärtenden Harzzusammensetzung><Preparation of the photo / thermosetting Resin composition>
– Herstellungsbeispiel 1- Production Example 1
Die
unten angegebenen Bestandteile wurden verrührt und gemischt. Dann wurde
das resultierende Gemisch gleichförmig in einer Dreiwalzenmühle dispergiert.
Die erhaltene gleichförmige
Dispersion wurde im Vakuum entschäumt, um eine photo/wärmehärtende Harzzusammensetzung
herzustellen (Herstellungsbeispiel 1)
Photo/wärmehärtende Harzzusammensetzung
(Gew.-Teile):
40%
(Meth)acrylsäureaddukt
eines Epoxyharzes vom Dicyclopentadienphenol-Typ (100), Dicyclopentanylmethacrylat
(30), Trimethylolpropantriacrylat (70), Dipentaerythrithexaacrylat
(80), 2-Methyl-1-[4-(methylthio)phenyl]-2-morpholinopropan-1-on
(10), Diethylthioxanthon (1), Epoxyharz vom Bisphenol A-Typ (80), Epoxyharz vom Bisphenol AD-Typ (20), Dicyandiamid
(10), Siliciumdioxid (250), Oberflächenbehandeltes kolloidales
Siliciumdioxid (6) und Polydimethylsiloxan (3).The ingredients listed below were stirred and mixed. Then, the resulting mixture was uniformly dispersed in a three-roll mill. The obtained uniform dispersion was defoamed in vacuo to prepare a photo / thermosetting resin composition (Preparation Example 1)
Photo / thermosetting resin composition (parts by weight):
40% (meth) acrylic adduct of a dicyclopentadiene phenol type epoxy resin (100), dicyclopentanyl methacrylate (30), trimethylolpropane triacrylate (70), dipentaerythritol hexaacrylate (80), 2-methyl-1- [4- (methylthio) phenyl] -2-morpholinopropane 1-one (10), diethylthioxanthone (1), bisphenol A type epoxy resin (80), bisphenol AD type epoxy resin (20), dicyandiamide (10), silica (250), surface-treated colloidal silica (6) and polydimethylsiloxane (3).
<Herstellung der thermo/wärmehärtenden Harzzusammensetzung><Preparation of thermo / thermosetting Resin composition>
– Herstellungsbeispiel
Die
unten angegebenen Bestandteile wurden verrührt und gemischt. Dann wurde
das resultierende Gemisch gleichförmig in einer Dreiwalzenmühle dispergiert.
Die erhaltene gleichförmige
Dispersion wurde im Vakuum entschäumt, um eine photo/wärmehärtende Harzzusammensetzung
herzustellen (Herstellungsbeispiel 2).
Thermo/wärmehärtende Harzzusammensetzung
(Gew.-Teile):
Epoxyharz
vom Triphenylmethan-Typ (19), N,N,O-Tris(glycidyl)-p-aminophenol
(28), Dicyandiamid (2), Epoxyharz-Aminaddukt (1), Aluminiumhydroxid
(49), Bentonit (0,5), Polydimethylsiloxan (0,5).The ingredients listed below were stirred and mixed. Then, the resulting mixture was uniformly dispersed in a three-roll mill. The obtained uniform dispersion was defoamed in vacuo to prepare a photo / thermosetting resin composition (Production Example 2).
Thermo / thermosetting resin composition (parts by weight):
Triphenylmethane type epoxy resin (19), N, N, O-tris (glycidyl) -p-aminophenol (28), dicyandiamide (2), epoxy resin-amine adduct (1), aluminum hydroxide (49), bentonite (0.5) , Polydimethylsiloxane (0.5).
<Herstellung der gedruckten Leiterplatte> <Production of the printed circuit board>
– Beispiel 1- Example 1
Es
wurde eine doppelseitig bedruckte Leiterplatte [Dicke eines Kupferstromkreises:
40 μm, Linie/Abstand
(L/S) 20 μm/40 μm, Durchmesser
des Durchgangslochs nach der Plattierung 100 μm], wobei die Stromkreisschichten
[
Ein
Siebdruck wurde auf die photo/wärmehärtende Harzzusammensetzung
(Herstellungsbeispiel 1) [
Dann wurde die gedruckte Leiterplatte 30 Minuten in einem Kasten-Trockner auf 80°C erhitzt, wobei die gedruckte Leiterplatte auf ein horizontales Gestell gebracht wurde, um die Viskosität zu verringern und Blasen in dem aufgetragenen Harz zu entfernen. Die aufgetragene photo/wärmehärtende Harzzusammensetzung (Herstellungsbeispiel 1) wurde mittels eines Mikroskops bei 50facher Vergrößerung inspiziert und die mikroskopische Inspektion bestätigte die Abwesenheit von Blasen zwischen Stromkreisen bzw. zwischen den Schaltkreisen.Then The printed circuit board was left in a box dryer for 30 minutes at 80 ° C heated, with the printed circuit board on a horizontal frame was brought to the viscosity to reduce and to remove bubbles in the applied resin. The applied photo / thermosetting resin composition (Production Example 1) was inspected by means of a microscope at 50X magnification and the microscopic inspection confirmed the absence of bubbles between circuits or between the circuits.
Dann
wurde die gedruckte Leiterplatte einer Laminierungsvorrichtung unterworfen,
wobei die gedruckte Leiterplatte sandwichartig zwischen PET-Filmen
angeordnet war [
Dann
wurde die oben genannte gedruckte Leiterplatte einer Lichtbestrahlung
bei einer Belichtung von 1200 mJ/cm2 unter
Verwendung einer Hochdruckquecksilberbogenlampe unterworfen, um
ein primär
photogehärtetes
Material herzustellen [
Dann
wurde die rückseitige
Oberfläche
(folgende Oberfläche)
der obigen gedruckten Leiterplatte gleichfalls in der gleichen Art
und Weise wie bei der vorhergegangenen Seite behandelt. Das heißt, ein
Siebdruck wurde auf die photo/wärmehärtende Harzzusammensetzung
(Herstellungsbeispiel 1) [
Dann wurde die gedruckte Leiterplatte 30 Minuten in einem Kasten-Trockner auf 80°C erhitzt, wobei die gedruckte Leiterplatte auf ein horizontales Gestell gebracht wurde, um die Viskosität zu verringern und Blasen in dem aufgetragenen Harz zu entfernen. Die aufgetragene photo/wärmehärtende Harzzusammensetzung (Herstellungsbeispiel 1) wurde mittels eines Mikroskops bei 50facher Vergrößerung inspiziert und die mikroskopische Inspektion bestätigte die Abwesenheit von Blasen zwischen Stromkreisen bzw. zwischen den Schaltkreisen.Then The printed circuit board was left in a box dryer for 30 minutes at 80 ° C heated, with the printed circuit board on a horizontal frame was brought to the viscosity to reduce and to remove bubbles in the applied resin. The applied photo / thermosetting resin composition (Production Example 1) was inspected by means of a microscope at 50X magnification and the microscopic inspection confirmed the absence of bubbles between circuits or between the circuits.
Hierauf
wurde die gedruckte Leiterplatte sandwichartig zwischen PET-Filmen
[
Dann
wurde die oben genannte gedruckte Leiterplatte einer Lichtbestrahlung
bei einer Belichtung von 1200 mJ/cm2 unter
Verwendung einer Hochdruckquecksilberbogenlampe unterworfen, um
ein primär
photogehärtetes
Material herzustellen. Die oben genannten PET-Filme, die auf beide
Oberflächen
aufgeschichtet worden waren, wurden abgezogen und entfernt [
Hierauf
wurde die gedruckte Leiterplatte 30 Minuten auf 150°C erhitzt,
um die sekundäre
Wärmehärtung des photogehärteten Harzes
durchzuführen
[
– Beispiel 2- Example 2
Es wurde eine doppelseitig bedruckte Leiterplatte [Dicke eines Kupfer-Stromkreises: 40 μm, (L/S) 20 μm/40 μm, Durchmesser des Durchgangslochs nach der Plattierung: 100 μm] verwendet, bei der Stromkreisschichten auf beiden Oberflächen eines Grundmaterials mit einer Dicke von 0,930 mm gebildet worden waren, und eine Kupferplattierung auf der inneren Wand des Durchgangslochs gebildet worden war. Es wurde eine doppelseitig bedruckte Leiterplatte verwendet, wobei die Oberfläche einer leitfähigen Schicht (Stromkreis und Kupferplattierung der inneren Wand des Durchgangslochs) zuvor einer Aufrauungsbehandlung mit der Bezeichnung „MECetchBOND CZ-8101" unterworfen worden war.It became a double-sided printed circuit board [thickness of a copper circuit: 40 μm, (L / S) 20 μm / 40 μm, diameter of the through hole after plating: 100 μm] used in the circuit layers on both surfaces of a base material having a thickness of 0.930 mm were, and a copper plating on the inner wall of the through hole had been formed. It was a double-sided printed circuit board used, with the surface a conductive Layer (circuit and copper plating of the inner wall of the through-hole) previously a roughening treatment called "MECetchBOND CZ-8101 "subjected had been.
Ein Siebdruck wurde auf die photo/wärmehärtende Harzzusammensetzung (Herstellungsbeispiel 1) bei den in der folgenden Tabelle 5 angegebenen Druckbedingungen unter Verwendung einer Vakuumdruckmaschine aufgebracht und die photo/wärmehärtende Harzzusammensetzung wurde auf die gesamte Fläche einer Oberfläche (vorhergegangene Oberfläche) der obigen Leiterplatte aufgebracht. Das Durchgangsloch und die Aussparung zwischen den Stromkreisen wurden gefüllt und das Loch wurde mit der photo/wärmehärtenden Harzzusammensetzung gepluggt.One Screen printing was applied to the photo / thermosetting resin composition (Production Example 1) in the following Table 5 Applied pressure conditions using a vacuum printing machine and the photo / thermosetting resin composition was on the entire surface of a surface (previous surface) applied to the above printed circuit board. The through hole and the Gap between the circuits were filled and the hole was filled with the photo / thermosetting Resin composition plagued.
Dann wurde die gedruckte Leiterplatte einem Laminator unterworfen, wobei die gedruckte Leiterplatte sandwichartig zwischen PET-Filmen mit einer Filmdicke von 100 μm angeordnet war.. Mit der mit dem Film bedeckten Leiterplatte, die sandwichartig zwischen zwei Walzen, herge stellt aus Edelstahl, angeordnet war (Laminierungsdruck: 0,1 MPa, Laminierungsgeschwindigkeit: 0,5 m/min, Laminierungstemperatur: Raumtemperatur), wurden die Walzen auf dem Film bewegt. Auf diese Weise wurde die aufgebrachte Harzschicht, die auf der Oberfläche der gedruckten Leiterplatte gebildet worden war, abgeflacht und verdünnt.Then The printed circuit board was subjected to a laminator, wherein sandwiched the printed circuit board between PET films a film thickness of 100 microns With the film-covered circuit board, the sandwiched between two rollers, Herge made of stainless steel, arranged was (lamination pressure: 0.1 MPa, lamination speed: 0.5 m / min, lamination temperature: room temperature), the rolls became moved on the movie. In this way, the applied resin layer, the on the surface the printed circuit board had been formed, flattened and diluted.
Dann wurde die oben genannte gedruckte Leiterplatte einer Lichtbestrahlung bei einer Belichtung von 1200 mJ/cm2 unter Verwendung einer Hochdruckquecksilberbogenlampe unterworfen, um ein primär photogehärtetes Material herzustellen. Die oben genannten PET-Filme, die auf beide Oberflächen aufgeschichtet worden waren, wurden abgezogen und entfernt.Then, the above-mentioned printed circuit board was subjected to light irradiation at an exposure of 1200 mJ / cm 2 using a high-pressure mercury arc lamp to prepare a primary photocured material. The above PET films stacked on both surfaces were peeled off and removed.
Anschließend wurde die rückseitige Oberfläche (folgende Oberfläche) der obigen gedruckten Leiterplatte ebenfalls in der gleichen Art und Weise wie die vorhergegangene Oberfläche behandelt. Das heißt, ein Siebdruck wurde auf die photo/wärmehärtende Harzzusammensetzung (Herstellungsbeispiel 1) bei den in der folgenden Tabelle 5 gezeigten Druckbedingungen unter Verwendung einer Vakuumdruckmaschine aufgebracht und die photo/wärmehärtende Harzzusammensetzung wurde auf die gesamte Fläche der anderen Oberfläche (folgende Oberfläche) der obigen Leiterplatte aufgebracht. Die Aussparung zwischen den Stromkreisen wurde mit der photo/wärmehärtenden Harzzusammensetzung gefüllt.Subsequently was the back surface (following surface) the above printed circuit board also in the same way and how the previous surface is treated. That is, a screen printing was applied to the photo / thermosetting resin composition (Production Example 1) in the case shown in Table 5 below Applied pressure conditions using a vacuum printing machine and the photo / thermosetting resin composition was on the entire surface the other surface (following surface) applied to the above printed circuit board. The recess between the Circuits were made with the photo / thermosetting resin composition filled.
Dann wurde die gedruckte Leiterplatte sandwichartig zwischen PET-Filmen mit einer Filmdicke von 100 μm angeordnet. Mit der mit dem Film bedeckten gedruckten Leiterplatte, die sandwichartig zwischen zwei Walzen aus Edelstahl angeordnet war (Laminierungsdruck: 0,1 MPa, Laminierungsgeschwindigkeit: 0,5 m/min, Laminierungstemperatur: Raumtemperatur), wurden die Walzen auf dem Film be wegt. Auf diese Weise wurde die aufgebrachte Harzschicht, die auf der Oberfläche der gedruckten Leiterplatte gebildet worden war, abgeflacht und verdünnt.Then The printed circuit board was sandwiched between PET films with a film thickness of 100 μm arranged. With the printed circuit board covered with the film, sandwiched between two stainless steel rollers was (lamination pressure: 0.1 MPa, lamination speed: 0.5 m / min, Lamination temperature: room temperature), the rolls were placed on the Moved film. In this way, the applied resin layer, the on the surface the printed circuit board had been formed, flattened and diluted.
Dann wurde die oben genannte gedruckte Leiterplatte einer Lichtbestrahlung bei einer Belichtung von 1200 mJ/cm2 unter Verwendung einer Hochdruckquecksilberbogenlampe unterworfen, um ein primär photogehärtetes Material herzustellen. Die oben genannten PET-Filme, die auf beide Oberflächen aufgeschichtet worden waren, wurden abgezogen und entfernt.Then, the above-mentioned printed circuit board was subjected to light irradiation at an exposure of 1200 mJ / cm 2 using a high-pressure mercury arc lamp to prepare a primary photocured material. The above PET films stacked on both surfaces were peeled off and removed.
Hierauf wurde die gedruckte Leiterplatte 30 Minuten lang auf 150°C erhitzt, um eine sekundäre Wärmehärtung des photogehärteten Harzes durchzuführen, wodurch eine abgeflachte, mit Harz beschichtete gedruckte Leiterplatte (Beispiel 2) gemäß der Erfindung mit einer Gesamtdicke von 1030 mm hergestellt wurde.hereupon the printed circuit board was heated to 150 ° C for 30 minutes, to a secondary Heat curing of photocured Perform resin, whereby a flattened, resin coated printed circuit board (Example 2) according to the invention made with a total thickness of 1030 mm.
– Beispiel 3- Example 3
Die
obige gedruckte Leiterplatte (Beispiel 1) wurde als Grundmaterial
zur Herstellung einer vierschichtigen gedruckten Leiterplatte verwendet.
Das heißt,
zuerst wurden beide Oberflächen
der obigen gedruckten Leiterplatte (Beispiel 1) mit Prepregs [
Hierauf wurde gemäß den Pressbedingungen der Tabelle 6 die oben genannte gedruckte Leiterplatte erhitzt und im Vakuum verpresst, um die Prepregs durch Verpressung zu binden.hereupon was according to the press conditions Table 6 heated the above printed circuit board and Pressed in a vacuum to bind the prepregs by compression.
Tabelle 6 Table 6
Dann
wurde ein Laser von der Oberfläche
des Prepregs der obigen gedruckten Leiterplatte aufgestrahlt, um
eine Stromkreisschicht freizulegen [
Dann
wurde eine Kupferplattierung (zuerst eine stromlose Kupferplattierung
und danach eine elektrolytische Kupferplattierung) auf beiden Oberflächen der
oben genannten gedruckten Leiterplatte und der Oberfläche der
inneren Wand des Mikrowegs durchgeführt [
Dann
wurde ein Stromkreis [
Dann wurde ein Trägerfilm des trockenen Films abgezogen und eine Entwicklungslösung (1% Natriumcarbonatlösung) wurde von einer Sprühdüse auf die freigelegte Oberfläche des Resists aufgesprüht und es wurde eine Entwicklung durchgeführt. Hierauf wurde die Oberfläche des Resists gewaschen, um ein Resistmuster zu bilden.Then became a carrier film of the dry film and a developing solution (1% sodium carbonate) was from a spray nozzle on the exposed surface of the resist sprayed on and a development has been done. This was the surface of the Resists washed to form a resist pattern.
Dann wurde ein Ätzen durchgeführt. Das heißt, es wurde eine Eisen(III)-chloridlösung (36 Gew.-%) auf beide Oberflächen des obigen Resists, der mit dem doppelseitigen Kupferplattierungslaminat bedeckt war, von der Sprühdüse aufgesprüht und unnötige Kupferfolie wurde ausgelöst und entfernt. Eine 3%ige Natriumhydroxidlösung wurde von der Sprühdüse nach Beendigung des obigen Ätzens aufgespritzt und der Ätzresist wurde weggewaschen, wobei der Ätzresist aufquoll.Then, an etching was performed. That is, an iron (III) chloride solution (36 wt%) was coated on both surfaces of the above resist covered with the double-sided copper clad laminate The spray nozzle was sprayed on and unnecessary copper foil was released and removed. A 3% sodium hydroxide solution was sprayed from the spray nozzle after completion of the above etching and the etch resist was washed away, causing the etch resist to swell.
Nach
der Bildung des Stromkreises, wie oben beschrieben, wurde eine Lötmittelresist-Druckfarbe
aufgebracht, um einen Lötmittelresist
zu bilden [
Dann
wurde nach dem Vorbrennen des Harzes in einem Heißluft-Trockenofen
ein Negativfilm auf das Harz aufgeklebt und das Harz wurde belichtet
(300 mJ/cm2) und gehärtet. Das Harz wurde mittels
einer 1%igen Natriumcarbonatlösung
(30°C, 2,5
kg/cm2) entwickelt, um einen Öffnungs (Auflagenteil
[
Hierauf
wurden der Auflagenteil [
Wie
oben beschrieben, wurde eine vierschichtige gedruckte Leiterplatte
(Beispiel 3) [
– Beispiel 4- Example 4
Die
obige gedruckte Leiterplatte (Beispiel 2) wurde als Grundmaterial
eingesetzt, um eine doppelseitig bedruckte Leiterplatte herzustellen.
Das heißt,
die bedeckende gehärtete
Harzschicht [
Dann
wurden der Auflagenteil [
Wie
oben beschrieben wurde, wurde eine erfindungsgemäße doppelseitig bedruckte Leiterplatte
(Beispiel 4) hergestellt, bei der die Dicke der isolierenden Schicht,
die auf einem Stromkreis-reichen Teil gebildet worden war, festgelegt
war (gleichförmig
war), die Dicke der isolierenden Schicht, die auf dem Stromkreis-armen
Teil gebildet worden war, festgelegt war (gleichförmig war),
und bei der keinerlei Blasen und Kerben auf der gesamten Oberfläche vorhanden
waren. Die gesamte Zusammenstellung war flach und die Gesamtdicke betrug
1,030 mm [
– Vergleichsbeispiel 1Comparative Example 1
Es
wurde eine doppelseitig bedruckte Leiterplatte [Dicke des Kupferstromkreises:
40 μm, (L/S)
20 μm/40 μm, Durchmesser
des Durchgangslochs nach der Plattierung: 100 μm] verwendet, bei der Stromkreisschichten
[
Ein
Siebdruck wurde auf eine thermo/wärmehärtende Harzzusammensetzung
(Herstellungsbeispiel 2) [
Dann
wurden, nachdem die obige gedruckte Leiterplatte 60 Minuten auf
130°C erhitzt
worden war, um ein primär
wärmegehärtetes Harz
zu bilden [
Dann
wurden beide Oberflächen
der obigen gedruckten Leiterplatte mit Prepregs bedeckt [FIG.
Dann
wurde die obige gedruckte Leiterplatte bei den Pressbedingungen
gemäß Tabelle
6 einem Vakuumerhitzungs-Pressverfahren unterworfen und die Pressbindung
des Prepregs und ein sekundäres
Wärmehärten des
primär
wärmegehärteten Harzes
wurden gleichzeitig durchgeführt,
um eine gedruckte Leiterplatte herzustellen [
Die
folgenden Defekte wurden bei der erhaltenen gedruckten Leiterplatte
(Vergleichsbeispiel 1) beobachtet. Das heißt die Füllung aufgrund des Prepregs
war in dem Stromkreis-reichen Teil von L/S = 20 μm/40 μm unzulänglich. Dadurch blieb Luft
zwischen den Stromkreisen zurück
und die Oberfläche
quoll auf [
Weiterhin,
obgleich die Füllung
aufgrund des Prepregs in dem Stromkreis-armen Teil von L/S = 20 μm/200 μm perfekt
war, erfolgte eine Einkerbung aufgrund der Füllung und des Verbrauchs des
Prepregs zwischen den Stromkreisen [
– Vergleichsbeispiel 2Comparative Example 2
Die obige gedruckte Leiterplatte (Vergleichsbeispiel 1) wurde als Grundmaterial für die Herstellung einer vierschichtigen gedruckten Leiterplatte verwendet. Das heißt, die vierschichtige gedruckte Leiterplatte (Vergleichsbeispiel 2) wurde in der gleichen Art und Weise wie im Falle des Beispiels 3 mit der Ausnahme hergestellt, dass das Material des Vergleichsbeispiels 1 als gedruckte Leiterplatte anstelle des Materials des Beispiels 1 verwendet wurde.The The above printed circuit board (Comparative Example 1) was used as a base material for the Production of a four-layer printed circuit board used. This means, the four-layered printed circuit board (Comparative Example 2) was in the same manner as in the case of Example 3 with the exception that the material of the comparative example 1 as a printed circuit board instead of the material of the example 1 was used.
Jedoch
lagen Blasen [
<Herstellung einer gedruckten Leiterplatte mit darauf angebrachter als Bondhügel gebildeter BGA-Komponente><Production of a Printed Circuit Board with BGA component formed as a bump thereon>
– Herstellungsbeispiel
Die Bondhügelbindung des Bondhügels [Mittelwert der Höhe des Bondhügels: 33,4 μm und Standardabweichung der Höhe des Bondhügels: 1,5] in einer BGA-Komponente und dem Auflagenteil der vierschichtigen gedruckten Leiterplatte (jeweils von Beispiel 3 und von Vergleichsbeispiel 2) wurde durchgeführt, um eine BGA-Komponente, mit darauf angebrachter gedruckter Leiterplatte herzustellen (jeweils des Herstellungsbeispiels 1 und des Vergleichs-Herstellungsbeispiels 1) The Bump bonding the bump hill [Mean of height of the bump hill: 33.4 μm and standard deviation of height of the bump hill: 1.5] in a BGA component and the support part of the four-layered printed circuit board (each of Example 3 and Comparative Example 2) was carried out a BGA component, with a printed circuit board attached (respectively of Preparation Example 1 and Comparative Preparation Example) 1)
<Bestimmung der charakteristischen Eigenschaften der gedruckten Leiterplatte><Determination of the characteristic properties the printed circuit board>
Die einzelnen gedruckten Leiterplatten wurden einer Messung unterworfen und auf die Dicke des gehärteten Films der jeweiligen aufgebrachten Harze auf den Stromkreis und des Grundmaterials (jeweils der Beispiele 1 und 2) getestet. Weiterhin wurden die maximalen Blasen und die maximalen Kerben auf der Oberfläche der (vierschichtigen) gedruckten Leiterplatte (jeweils der Beispiele 1 und 2, des Vergleichsbeispiels 1, des Herstellungsbeispiels 1 und des Vergleichs-Herstellungsbeispiels 1), die Standardabweichung (Größe der Schwankung der Dicke in jedem Teil der gedruckten Leiterplatte) der Flachheit der (vierschichtigen) gedruckten Leiterplatte (jeweils der Beispiele 1 und 2, des Vergleichsbeispiels 1, des Herstellungsbeispiels 1 und des Vergleichs-Herstellungsbeispiels 1), der Mittelwert der Höhe des Bondhügels (Herstellungsbeispiel 1 und Vergleichs-Herstellungsbeispiel 1) nach der Montage der BGA-Komponente und die Bondhügel-Bindungsfähigkeit (Herstellungsbeispiel 1 und Vergleichs-Herstellungsbeispiel 1) bestimmt.The individual printed circuit boards were subjected to a measurement and on the thickness of the hardened Films of the respective applied resins on the circuit and of the base material (Examples 1 and 2, respectively). Farther were the maximum bubbles and the maximum notches on the surface of the (four-layer) printed circuit board (each of the examples 1 and 2, of Comparative Example 1, Production Example 1 and Comparative Preparation Example 1), the standard deviation (Size of the fluctuation the thickness in each part of the printed circuit board) of the flatness the (four-layer) printed circuit board (each of the examples 1 and 2, of Comparative Example 1, Production Example 1 and Comparative Production Example 1), the average value of Height of bump (Production Example 1 and Comparative Production Example 1) the mounting of the BGA component and the bump bond capability (Production Example 1 and Comparative Production Example 1).
Die für die Bestimmung verwendete BGA-Einrichtung hatte eine Größe von 16,0 mm × 16,0 mm, eine Dicke der Platte von 0,4 mm, einen Bondhügel-Abstand von 75 μm und eine Anzahl der Bondhügel von 148.The for the Determination used BGA device had a size of 16.0 mm × 16.0 mm, a thickness of the plate of 0.4 mm, a bump distance of 75 μm and a number of bumps from 148.
Tabelle 7 Table 7
Tabelle 8 Table 8
In den Tabellen 7 und 8 bedeuten „Blasenwert" bzw. „Kerbenwert" die Höhe der Blase bzw. die Tiefe der Kerbe bei Verwendung eines Oberflächenteils (das heißt eines abgeflachten Oberflächenteils) als Referenzoberfläche, bei der keine Blasenbildung und Kerbenbildung auf der Oberfläche der (vierschichtigen) gedruckten Leiterplatte erfolgt war.In In Tables 7 and 8, "bubble value" and "notch value" respectively mean the height of the bubble or the depth of the notch when using a surface part (this means a flattened surface part) as reference surface, at the no blistering and notching on the surface of the (four-layer) printed circuit board was done.
Die Dicke des gehärteten Films des aufgebrachten Harzes, der Blasen und der Kerben auf der Oberfläche sowie die Höhe des Bondhügels nach der Montage der BGA-Komponente wurden nach der Querschnittsmethode gemessen. Die Standardabweichung der Flachheit der Oberfläche der gedruckten Leiterplatte (jeweils der Beispiele 1 und 2 und des Vergleichsbeispiels 1) wurden dadurch errechnet, dass ein Gitter mit einem Intervall von 2 mm auf die Oberfläche der gedruckten Leiterplatte aufgebracht wurde und dass die gesamte Dicke der gedruckten Leiterplatten in den Kreuzungen von 25 Stücken gemessen wurden, die in vertikaler Richtung und in horizontaler Richtung aufgelegt worden waren. Die Standardabweichungen der Flachheit der Oberfläche der vierschichtigen gedruckten Leiterplatte (jeweils von Beispiel 3 und von Vergleichsbeispiel 2) wurden dadurch errechnet, dass die Gesamtdicke in jedem Auflagenplattierungsteil auf der Oberfläche gemessen wurde.The Thickness of the cured Film of the applied resin, bubbles and notches on the surface as well as the height the bump hill after mounting the BGA component were measured according to the cross-sectional method. The standard deviation the flatness of the surface the printed circuit board (each of Examples 1 and 2 and the Comparative Example 1) were calculated by using a grid with an interval of 2 mm on the surface of the printed circuit board was applied and that the entire thickness of the printed circuit boards in the intersections of 25 pieces were measured in the vertical direction and in horizontal Direction had been laid. The standard deviations of the flatness of the surface the four-layer printed circuit board (each of Example 3 and of Comparative Example 2) were calculated that the Total thickness measured in each overlay plating part on the surface has been.
Die Bondhügel-Bindungsfähigkeit wurde wie folgt bestimmt. Wenn der Mittelwert „h" (= 33,4 μm) der Höhe des Bondhügels vor der Bondhügelbindung, der Mittelwert „h' " der Höhe des Bondhügels nach der Bondhügelbindung (nach der Montage der BGA-Komponente), die Standardabweichung „s" der Flachheit der Oberfläche der vierschichtigen gedruckten Leiterplatte und die Standardabweichung „ρ" (= 1,5) der Höhe des Bondhügels vor der Bondhügelbindung der Bedingung der Gleichung (1) in Tabelle 9 genügten, dann wurde die Bondhügel-Bindungsfähigkeit als „(gute Bondhügel-Bindungsfähigkeit)" bezeichnet. Wenn die Parameter der Beziehung der Gleichung (2) genügten, dann wurde die Bondhügel-Bindungsfähigkeit als „x (schlechte Bondhügel-Bindungsfähigkeit)" bezeichnet. In der Gleichung (1) oder (2) repräsentiert die linke Seite die Menge des zer trümmerten Bondhügels (nachstehend gelegentlich auch der Einfachheit halber als „Bondhügel-Zertrümmerung" bezeichnet) und die rechte Seite repräsentiert die gesamte Summenschwankungsmenge (nachstehend gelegentlich der Einfachheit halber als „Schwankung" bezeichnet) der Schwankung der Flachheit der Oberfläche der vierschichtigen gedruckten Leiterplatte und die Schwankung der Höhe des Bondhügels. Tabelle 9 The bump bondability was determined as follows. If the average "h" (= 33.4 μm) of the height of the bump before the bump bond, the average "h" of the height of the bump after the bump bond (after mounting the BGA component), the standard deviation "s" of Flatness of the surface of the four-layered printed wiring board and the standard deviation "ρ" (= 1.5) of the height of the bump before the bump bonding satisfies the condition of the equation (1) in Table 9, then the bump bonding ability has been judged as "(good bump bonding)." If the parameters satisfied the relationship of equation (2), then the bump bondability was referred to as "x (poor bump bondability)". In the equation (1) or (2), the left side represents the amount of the shattered bump (hereinafter also sometimes referred to as "bump shattering" for convenience), and the right side represents the total sum fluctuation amount (hereinafter, occasionally for simplicity) "Fluctuation") of the fluctuation of the flatness of the surface of the four-layered printed circuit board and the fluctuation of the height of the bump. Table 9
Die Tabellen 7 und 8 zeigen eindeutig Folgendes. Das heißt, die abgeflachten, mit Harz beschichteten gedruckten Leiterplatten (Beispiel 1 und 2) und die vierschichtige gedruckte Leiterplatte (Beispiel 3) gemäß der vorliegenden Erfindung haben eine kleinere Konkavität und Konvexizität auf der Oberfläche der gedruckten Leiterplatte (da die Summe des maximalen Blasenwerts und des maximalen Kerbenwerts klein ist) als die herkömmliche (vierschichtig) gedruckte Leiterplatte (Vergleichsbeispiel 1 und Vergleichs-Herstellungsbeispiel 1) sowie eine extrem abgeflachte Oberfläche (da die Standardabweichung der Flachheit kleiner ist).The Tables 7 and 8 clearly show the following. That is, the flattened, resin coated printed circuit boards (example 1 and 2) and the four-layer printed circuit board (Example 3) according to the present Invention have a smaller concavity and convexity on the surface the printed circuit board (since the sum of the maximum bubble value and the maximum notch value is small) than the conventional ones (four-layer) printed circuit board (Comparative Example 1 and Comparative Preparation Example 1) and an extremely flattened surface (because the standard deviation of flatness is smaller).
Weiterhin ist es so, dass, wenn die BGA-Komponente montiert wird (Bondhügel-gebunden wird) auf der vierschichtigen gedruckten Leiterplatte (Beispiel 3) gemäß der vorliegenden Erfindung (Herstellungsbeispiel 1), die „Schwankung" durch die „Zertrümmerung des Bondhügels" absorbiert werden kann (da die Gesamtmenge der Zertrümmerung des Bondhügels bzw. das Gesamtausmaß der Zertrümmerung des Bondhügels größer ist als die Gesamt-Summenmenge bzw. das Gesamt-Summenausmaß der Schwankungen), so dass hierdurch alle Bondhügel mit Sicherheit gebunden werden.Farther it is such that when the BGA component is mounted (Bond Hill-bound is) on the four-layer printed circuit board (example 3) according to the present Invention (Production Example 1), the "fluctuation" by the "fragmentation of the bump " can (as the total amount of destruction of the bump or the total extent of destruction the bump hill is larger as the total sum or the total sum of the fluctuations), so that by this all bumps be bound with security.
Andererseits kann, wenn die BGA-Komponente montiert wird (Bondhügel-gebunden wird) auf der herkömmlichen vierschichtigen gedruckten Leiterplatte (Vergleichsbeispiel 2) (Vergleichs-Herstellungsbeispiel 1), die „Schwankung" nicht durch die „Zertrümmerung des Bondhügels" absorbiert werden (da die Menge bzw. das Ausmaß der Zertrümmerung des Bondhügels kleiner ist als die Gesamt-Summenmenge bzw. das Gesamt-Summenausmaß der Schwankungen), so dass einige Bondhügel nicht gebunden werden können.on the other hand can when the BGA component is mounted (bump-bound will) on the conventional Four-layer printed circuit board (Comparative Example 2) (Comparative Production Example 1), the "fluctuation" not by the "smashing of the bump " (as the amount or extent of the destruction the bump hill is less than the total sum or the total sum of the fluctuations), leaving some bumps can not be tied.
Das
heißt,
es kann, wie in
Gleichermaßen ist
es so, dass, wie in
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