DE102006037273B4 - Flattened, printed circuit board coated with resin - Google Patents

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Abstract

Verfahren zur Herstellung einer gedruckten Leiterplatte, umfassend die Stufen:Aufbringen einer photo- und wärmehärtenden Harzzusammensetzung (105) auf eine Oberfläche und das Durchgangsloch (103) einer gedruckten Leiterplatte mit dem Durchgangsloch (103);nacheinander erfolgendes Durchführen der folgenden Stufen (1) und (2);Aufbringen der photo- und wärmehärtenden Harzzusammensetzung (105) auf die andere Oberfläche der gedruckten Leiterplatte; undnacheinander erfolgendes Durchführen der folgenden Stufen (1) bis (3):(1) Abflachen oder Abgleichen der Oberfläche des aufgebrachten Harzes mit einer Druckwalze (107, 108);(2) Photohärten des aufgebrachten Harzes; und(3) Wärmehärten des photogehärteten Harzes.A method of manufacturing a printed circuit board, comprising the steps of: applying a photo and thermosetting resin composition (105) to a surface and the through hole (103) of a printed circuit board having the through hole (103); performing the following steps (1) and (2); applying the photo and thermosetting resin composition (105) to the other surface of the printed circuit board; and sequentially performing the following steps (1) through (3) :( 1) flattening or leveling the surface of the applied resin with a platen roller (107, 108); (2) photocuring the applied resin; and (3) thermosetting the photocured resin.

Description

HINTERGRUND DER ERFINDUNGBACKGROUND OF THE INVENTION

Gebiet der ErfindungField of the Invention

Die vorliegende Erfindung betrifft eine gedruckte Leiterplatte und ein Verfahren zu ihrer Herstellung. Die Erfindung betrifft insbesondere eine gedruckte Leiterplatte, bei der beide Oberflächen (Vorder- und Rückseiten) stark abgeflacht bzw. stark abgeglichen sind und (insbesondere die gesamte Fläche davon) mit einem Harz beschichtet ist und beispielsweise eine abgeflachte bzw. abgeglichene und mit Harz beschichtete gedruckte Leiterplatte, eine vierschichtige gedruckte Leiterplatte, die als innere Schicht verwendbar ist, und eine doppelseitig bedruckte Leiterplatte, die als äußere Schicht verwendbar ist, sowie ein Verfahren zur Herstellung derselben.The present invention relates to a printed circuit board and a method for its production. The invention particularly relates to a printed circuit board in which both surfaces (front and back sides) are greatly flattened or strongly matched and (in particular the entire surface thereof) is coated with a resin and, for example, a flattened or matched and coated with resin Printed circuit board, a four-layer printed circuit board which can be used as the inner layer, and a double-sided printed circuit board which can be used as the outer layer, and a method for producing the same.

Beschreibung des einschlägigen Standes der TechnikDescription of the relevant prior art

Als ein Verfahren zur Herstellung einer abgeflachten und mit gepluggten bzw. verschlossenen Löchern versehenen gedruckten Leiterplatte ist schon ein Verfahren bekannt, bei dem zuerst ein Durchgangsloch der gedruckten Leiterplatte mit einer wärmehärtenden Harzzusammensetzung gepluggt bzw. verschlossen wird und dann das eingegebene Harz wärmegehärtet wird und ein gehärteter Teil des Harzes von der Oberfläche der gedruckten Leiterplatte entfernt wird, indem ein Polieren durchgeführt wird, um die Oberfläche abzuflachen (Patentdokument 1).As a method of manufacturing a flattened printed circuit board with plugged holes, a method is known in which a through hole of the printed circuit board is first plugged with a thermosetting resin composition and then the input resin is thermoset and a hardened one Part of the resin is removed from the surface of the printed circuit board by polishing to flatten the surface (Patent Document 1).

Dieses Verfahren ist jedoch mit einem Problem dahingehend behaftet, dass die Anzahl der Herstellungsstufen durch das Polieren erhöht wird und dass die Polierkosten erhöht werden. Das Verfahren ist auch mit einem weiteren Problem dahingehend behaftet, dass durch das Polieren eine Deformation (oder eine Dimensionsveränderung) der gedruckten Leiterplatte erfolgt.However, this method has a problem in that the number of manufacturing steps is increased by the polishing and that the polishing cost is increased. The method also has another problem in that the polishing causes the printed circuit board to deform (or change dimension).

Dann ist ein Verfahren zum Abflachen der Oberfläche der gedruckten Leiterplatte ohne Polieren angestrebt worden. Als ein solches Verfahren ist das Verfahren gemäß dem Patentdokument 2 vorgeschlagen worden. Das heißt, bei diesem Verfahren wird zuerst das Durchgangsloch der gedruckten Leiterplatte mit einem härtenden Harz zugestöpselt [7A, 705]. Dann wird die gedruckte Leiterplatte mit härtenden Resists, durch thermische Verpressung mit der gedruckten Leiterplatte sandwichartig bei den Härtungsresists angeordnet, press-verbunden [7B, 727]. Danach werden das aufgebrachte Harz und der härtende Resist durch ein Hochtemperaturerhitzen vollständig gehärtet [7C, 728].Then a method of flattening the surface of the printed circuit board without polishing has been sought. As such a method, the method according to Patent Document 2 has been proposed. That is, in this method, the through hole of the printed circuit board is first plugged with a hardening resin [ 7A , 705 ]. Then the printed circuit board with hardening resists, sandwiched by thermal pressing with the printed circuit board at the hardening resists, is press-connected [ 7B , 727 ]. Thereafter, the applied resin and the hardening resist are fully hardened by high temperature heating [ 7C , 728 ].

Bei diesem Verfahren ist es jedoch schwierig, dass der Resist [7B, 727] an einer Aussparung [7B, 704a] zwischen den Schaltkreisen vollständig haftet und zwar insbesondere in einem Teil mit vielen Schaltungen, selbst dann, wenn ein Vakuumpressen durchgeführt wird. Als Ergebnis wird leicht ein Spalt zwischen der Aussparung und dem Resistfilm gebildet und in manchen Fällen bleibt Luft in dem Spalt zurück. Daher tritt auf der Oberfläche des Resistfilms [7B, 725] das sogenannte „Popcorn-Phänomen“ auf, bei dem die zurückgebliebene Luft bei der nachfolgenden Hochtemperaturerhitzung thermisch expandiert wird und manchmal auf der Oberfläche des Resistfilms Blasen auftreten.With this method, however, it is difficult for the resist [ 7B , 727 at a recess [ 7B , 704a ] fully adheres between the circuits, particularly in a part with many circuits, even when vacuum pressing is performed. As a result, a gap is easily formed between the recess and the resist film, and in some cases, air remains in the gap. Therefore, on the surface of the resist film [ 7B , 725 ] the so-called "popcorn phenomenon", in which the remaining air is thermally expanded during the subsequent high-temperature heating and sometimes bubbles appear on the surface of the resist film.

Demgegenüber tritt, weil eine große Menge des Resistharzes [7B, 727] verwendet wird, um eine Aussparung [7B, 704b] zwischen den Schaltkreisen in einem Teil mit wenigen Schaltkreisen verwendet wird, manchmal eine Kerbe auf der Oberfläche des Resists nach dem Wärmehärten auf. [7C, 726].On the other hand, because a large amount of the resist resin [ 7B , 727 ] is used to make a recess [ 7B , 704b ] is used between the circuits in a part with few circuits, sometimes a notch on the surface of the resist after thermosetting. [ 7C , 726 ].

Daher wird, weil eine durch ein derartiges Verfahren hergestellte gedruckte Leiterplatte eine Oberfläche mit Blasen und Kerben hat und diese nicht vollständig abgeflacht ist, die Komponentenbefestigungsfähigkeit (Bondhügelbindungsfähigkeit und dergleichen) der gedruckten Leiterplatte verringert.Therefore, because a printed circuit board made by such a method has a surface with bubbles and notches and it is not completely flattened, the component attachability (bump bonding ability and the like) of the printed circuit board is reduced.

Weiterhin hat die Oberfläche der gedruckten Leiterplatte Blasen und Kerben, die Dicke einer isolierenden Schicht, insbesondere die Dicke einer isolierenden Schicht, die auf einer leitenden Schaltkreisschicht gebildet worden ist [7C, 702] wird nicht stabilisiert, wodurch eine Verringerung der Impedanzcharakteristiken, wie eine Erhöhung der Fluktuation der Impedanz, hervorgerufen wird.Furthermore, the surface of the printed circuit board has bubbles and notches, the thickness of an insulating layer, especially the thickness of an insulating layer formed on a conductive circuit layer [ 7C , 702 ] is not stabilized, causing a decrease in impedance characteristics such as an increase in fluctuation in impedance.

Das heißt, in einem peripheren Blasenteil [7C, 729] ist die Dicke [8A, 831] der isolierenden Schicht, die auf der leitenden Schaltkreisschicht gebildet ist [ 8A, 802] allmählich in Richtung eines Mittelteils der Blase erhöht. Andererseits ist in einem Kerbenumfangsteil [7C, 730] die Dicke [8B, 831] der isolierenden Schicht, die auf der leitenden Schaltkreisschicht gebildet ist [8B, 802] allmählich in Richtung des Zentralteils der Kerbe verringert.That is, in a peripheral bladder part [ 7C , 729 ] is the thickness [ 8A , 831 ] the insulating layer formed on the conductive circuit layer [ 8A , 802 ] gradually in Direction of a middle part of the bladder increased. On the other hand, in a notch peripheral part [ 7C , 730 ] the fat [ 8B , 831 ] the insulating layer formed on the conductive circuit layer [ 8B , 802 ] gradually decreased toward the central part of the notch.

Auch wird selbst in einer unter Verwendung einer derartigen gedruckten Leiterplatte als innere Schicht oder äußere Schicht hergestellte mehrschichtige gedruckte Leiterplatte, die nicht vollständig abgeflacht ist, eine Verringerung der Komponentenbefestigungfähigkeit (Bondhügelbindungsfähigkeit und dergleichen) und der Impedanzcharakteristik oder dergleichen hervorgerufen.

  • [Patentdokument 1] Offengelegte japanische Patentanmeldung ( JP-A) Nr. 2001-15909
  • [Patentdokument 2] Offengelegte japanische Patentanmeldung ( JP-A) Nr. 2001-111214
Also, even in a multilayer printed circuit board made using such a printed circuit board as an inner layer or an outer layer that is not completely flattened, a decrease in component mounting ability (bump bonding ability and the like) and impedance characteristic or the like is caused.
  • [Patent Document 1] Japanese Patent Application Laid-Open ( JP-A) No. 2001-15909
  • [Patent Document 2] Japanese Patent Application Laid-Open ( JP-A) No. 2001-111214

Im Hinblick auf die obige Situation ist es eine Aufgabe der vorliegenden Erfindung, eine abgeflachte, mit Harz beschichtete gedruckte Leiterplatte herzustellen, bei der beide Oberflächen der gedruckten Leiterplatte extrem stark abgeflacht sind und die Dicke der gedruckten Leiterplatte in allen Bereichen (das heißt allen Portionen und Teilen) der gedruckten Leiterplatte fixiert bzw. festgelegt ist, wodurch die Komponentenbefestigungfähigkeit (Bondhügelbindungsfähigkeit und dergleichen) und die Impedanzcharakteristiken (Impedanzstabilität und dergleichen) ausgezeichnet gemacht werden, ohne dass ein Polieren erforderlich ist. Es ist weiterhin eine Aufgabe der vorliegenden Erfindung, eine gedruckte Leiterplatte zur Verfügung zu stellen, die aus einer solchen gedruckten Leiterplatte hergestellt worden ist und bei der beide Oberflächen stark abgeflacht sind, z.B. eine mehrschichtige gedruckte Leiterplatte (insbesondere eine vierschichtige gedruckte Leiterplatte), die als eine innere Schicht geeignet ist, und eine gedruckte Leiterplatte (insbesondere eine doppelseitig bedruckte Leiterplatte), die als äußere Schicht geeignet ist.In view of the above situation, it is an object of the present invention to produce a flattened resin-coated printed circuit board in which both surfaces of the printed circuit board are extremely flattened and the thickness of the printed circuit board in all areas (i.e., all portions and Parts) of the printed circuit board is fixed, thereby making the component attachability (bump bondability and the like) and the impedance characteristics (impedance stability and the like) excellent without the need for polishing. It is a further object of the present invention to provide a printed circuit board which has been made from such a printed circuit board and in which both surfaces are greatly flattened, e.g. a multi-layer printed circuit board (especially a four-layer printed circuit board) which is suitable as an inner layer, and a printed circuit board (in particular a double-sided printed circuit board) which is suitable as an outer layer.

ZUSAMMENFASSUNG DER ERFINDUNGSUMMARY OF THE INVENTION

Zur Lösung der obigen Aufgabe haben die benannten Erfinder Untersuchungen durchgeführt und als deren Ergebnis die folgende Erfindung gemacht.In order to achieve the above object, the named inventors conducted investigations and, as a result, made the following invention.

Gemäß einer ersten Ausführungsform der vorliegenden Erfindung wird ein Verfahren zur Herstellung einer gedruckten Leiterplatte zur Verfügung gestellt, umfassend die Stufen:

  • Aufbringen einer photo- und wärmehärtenden Harzzusammensetzung auf eine Oberfläche und das Durchgangsloch einer gedruckten Leiterplatte mit dem Durchgangsloch;
  • nacheinander erfolgendes Durchführen der folgenden Stufen (1) und (2);
  • Aufbringen der photo- und wärmehärtenden Harzzusammensetzung auf die andere Oberfläche der gedruckten Leiterplatte; und
  • nacheinander erfolgendes Durchführen der folgenden Stufen (1) bis (3):
    1. (1) Abflachen bzw. Abgleichen der Oberfläche des aufgebrachten Harzes mit einer Druckwalze;
    2. (2) Photohärten des aufgebrachten Harzes; und
    3. (3) Wärmehärten des photogehärteten Harzes.
According to a first embodiment of the present invention, there is provided a method for producing a printed circuit board, comprising the steps:
  • Applying a photo and thermosetting resin composition to a surface and the through hole of a printed circuit board having the through hole;
  • successively performing the following stages (1) and (2);
  • Applying the photo and thermosetting resin composition to the other surface of the printed circuit board; and
  • successively performing the following stages (1) to (3):
    1. (1) flattening the surface of the applied resin with a pressure roller;
    2. (2) photocuring the applied resin; and
    3. (3) thermosetting the photocured resin.

Gemäß einer zweiten Ausführungsform der vorliegenden Erfindung wird ein Verfahren zur Herstellung einer mehrschichtigen gedruckten Leiterplatte zur Verfügung gestellt, umfassend die Stufen:

  • Aufbringen einer photo- und wärmehärtenden Harzzusammensetzung auf eine Oberfläche und das Durchgangsloch einer gedruckten Leiterplatte mit dem Durchgangsloch;
  • nacheinander erfolgendes Durchführen der folgenden Stufen (1) bis (2);
  • Aufbringen der photo- und wärmehärtenden Harzzusammensetzung auf die andere Oberfläche der gedruckten Leiterplatte;
  • nacheinander erfolgendes Durchführen der folgenden Stufen (1) und (2);
  • (A) zuerst erfolgende Durchführung der obigen Stufe (3), als Nächstes laminierendes Verpressen der gedruckten Leiterplatte und der Press-Bindungsmaterialien, wobei die gedruckte Leiterplatte sandwichartig zwischen den Press-Bindungsmaterialien angeordnet ist, um die Press-Bindungsmaterialien durch Pressen zu binden, oder
  • (B) laminierendes Verpressen der gedruckten Leiterplatte und der Press-Bindungsmaterialien bei der Wärmehärtungstemperatur oder höher des photogehärteten Harzes, wobei die gedruckte Leiterplatte sandwichartig zwischen den Press-Bindungsmaterialien angeordnet ist, um die Press-Bindungsmaterialien durch Pressen zu binden, und auf diese Weise gleichzeitig die genannte Stufe (3) durchzuführen;
  • Bilden eines Lochs von der Oberfläche des PressBindungsmaterials zu einer Leiterschicht, um einen Mikroweg zu bilden;
  • Aufbringen einer Gesamtflächenplattierung;
  • Bilden eines Strom- oder Schaltkreises von einer Plattierungsschicht; und
  • Aufschichten eines Resists.
According to a second embodiment of the present invention, there is provided a method of manufacturing a multilayer printed circuit board, comprising the steps of:
  • Applying a photo and thermosetting resin composition to a surface and the through hole of a printed circuit board having the through hole;
  • successively performing the following stages (1) to (2);
  • Applying the photo and thermosetting resin composition to the other surface of the printed circuit board;
  • successively performing the following stages (1) and (2);
  • (A) performing step (3) above first, next laminating pressing the printed circuit board and the press bonding materials, the printed circuit board being sandwiched between the press bonding materials to press-bond the press binding materials, or
  • (B) laminating pressing the printed circuit board and the press bonding materials at the thermosetting temperature or higher of the photocured resin, the printed circuit board being sandwiched between the press binding materials to bond the press binding materials by pressing, and thus simultaneously perform said step (3);
  • Forming a hole from the surface of the press bond material to a conductor layer to form a micro path;
  • Applying total area plating;
  • Forming a circuit or circuit from a plating layer; and
  • Layering a resist.

Gemäß einer dritten Ausführungsform der vorliegenden Erfindung wird ein Verfahren zur Herstellung einer mehrschichtigen gedruckten Leiterplatte gemäß der zweiten Ausführungsform zur Verfügung gestellt, wobei der Resist eine Öffnung hat.According to a third embodiment of the present invention, there is provided a method of manufacturing a multilayer printed circuit board according to the second embodiment, wherein the resist has an opening.

Gemäß einer vierten Ausführungsform der vorliegenden Erfindung wird ein Verfahren zur Herstellung einer gedruckten Leiterplatte zur Verfügung gestellt, umfassend die Stufen:

  • Aufbringen einer photo- und wärmehärtenden Harzzusammensetzung auf eine Oberfläche und das Durchgangsloch einer gedruckten Leiterplatte mit dem Durchgangsloch;
  • nacheinander erfolgendes Durchführen der obigen Stufen (1) und (2);
  • Aufbringen der photo- und wärmehärtenden Harzzusammensetzung auf die andere Oberfläche der gedruckten Leiterplatte; und
  • nacheinander erfolgendes Durchführen der obigen Stufen (1) bis (3) und:
  • Bilden einer Öffnung in der aufgeschichteten Harzschicht.
According to a fourth embodiment of the present invention, there is provided a method of manufacturing a printed circuit board, comprising the steps of:
  • Applying a photo and thermosetting resin composition to a surface and the through hole of a printed circuit board having the through hole;
  • sequentially performing steps (1) and (2) above;
  • Applying the photo and thermosetting resin composition to the other surface of the printed circuit board; and
  • successively performing the above stages (1) to (3) and:
  • Form an opening in the layered resin layer.

Gemäß einer fünften Ausführungsform der vorliegenden Erfindung wird ein Verfahren zur Herstellung einer gedruckten Leiterplatte gemäß der dritten oder vierten Ausführungsform zur Verfügung gestellt, wobei eine durch die Öffnung freigelegte Oberfläche bzw. eine Oberfläche bei der Öffnung mit einer Plattierung bedeckt wird.According to a fifth embodiment of the present invention, there is provided a method for producing a printed circuit board according to the third or fourth embodiment, wherein a surface exposed through the opening or a surface at the opening is covered with a plating.

Gemäß einer sechsten Ausführungsform der vorliegenden Erfindung wird ein Verfahren zur Herstellung einer gedruckten Leiterplatte nach einer der ersten bis fünften Ausführungsform zur Verfügung gestellt, wobei die Oberfläche einer leitenden Schicht der gedruckten Leiterplatte mit dem Durchgangsloch aufgeraut wird.According to a sixth embodiment of the present invention, there is provided a method of manufacturing a printed circuit board according to any one of the first to fifth embodiments, wherein the surface of a conductive layer of the printed circuit board is roughened with the through hole.

Gemäß einer siebten Ausführungsform der vorliegenden Erfindung wird eine gedruckte Leiterplatte zur Verfügung gestellt, die durch das Herstellungsverfahren gemäß einer beliebigen der ersten bis sechsten Ausführungsform hergestellt worden ist.According to a seventh embodiment of the present invention, there is provided a printed circuit board manufactured by the manufacturing method according to any one of the first to sixth embodiments.

Durch die Erfindung kann, ohne dass ein Polieren erforderlich ist, eine abgeflachte bzw. abgeglichene, mit Harz beschichtete gedruckte Leiterplatte hergestellt werden, bei der beide Oberflächen extrem stark abgeflacht sind und die Dicke der gedruckten Leiterplatte in allen Bereichen (das heißt allen Portionen und Teilen) der gedruckten Leiterplatte fixiert bzw. festgelegt ist, wodurch eine ausgezeichnete Befestigungsfähigkeit der Komponenten (Bondhügelbindungsfähigkeit und dergleichen) und ausgezeichnete Impedanzcharakteristik (Impedanzstabilität und dergleichen) erhalten werden. Weiterhin kann die Erfindung eine gedruckte Leiterplatte zur Verfügung stellen, die aus einer derartigen gedruckten Leiterplatte hergestellt worden ist und bei der beide Oberflächen extrem stark abgeflacht sind, zum Beispiel eine mehrschichtige gedruckte Leiterplatte (insbesondere eine vierschichtige gedruckte Leiterplatte), die als eine innere Schicht geeignet ist, und eine gedruckte Leiterplatte (insbesondere eine doppelseitig bedruckte Leiterplatte), die als äußere Schicht geeignet ist.By means of the invention, a flattened or balanced, resin-coated printed circuit board can be produced without the need for polishing, in which both surfaces are extremely flat and the thickness of the printed circuit board in all areas (i.e. all portions and parts) ) of the printed circuit board is fixed, whereby an excellent fastening ability of the components (bump binding ability and the like) and excellent impedance characteristics (impedance stability and the like) are obtained. Furthermore, the invention can provide a printed circuit board which has been made from such a printed circuit board and in which both surfaces are extremely flattened, for example a multilayer printed circuit board (in particular a four-layer printed circuit board) which is suitable as an inner layer and a printed circuit board (in particular a double-sided printed circuit board) which is suitable as an outer layer.

FigurenlisteFigure list

  • Die 1 zeigt ein Herstellungsverfahren einer abgeflachten, mit Harz beschichteten gedruckten Leiterplatte gemäß der Erfindung (insbesondere Beispiel 1);The 1 shows a manufacturing method of a flattened, resin-coated printed circuit board according to the invention (in particular Example 1);
  • die 2 zeigt ein Herstellungsverfahren einer vierschichtigen gedruckten Leiterplatte gemäß der Erfindung (insbesondere Beispiel 3);the 2nd shows a manufacturing method of a four-layer printed circuit board according to the invention (in particular Example 3);
  • die 3 zeigt ein Herstellungsverfahren einer doppelseitigen gedruckten Leiterplatte gemäß der Erfindung (insbesondere Beispiel 4); the 3rd shows a manufacturing method of a double-sided printed circuit board according to the invention (in particular Example 4);
  • die 4 zeigt ein Herstellungsverfahren einer vierschichtigen gedruckten Leiterplatte gemäß einer Ausführungsform, bei der eine erfindungsgemäße vierschichtige gedruckte Leiterplatte modifiziert und ausgedehnt ist;the 4th shows a manufacturing method of a four-layer printed circuit board according to an embodiment in which a four-layer printed circuit board according to the invention is modified and expanded;
  • die 5 zeigt ein Herstellungsverfahren einer vierschichtigen gedruckten Leiterplatte gemäß einer weiteren Ausführungsform, bei der eine erfindungsgemäße vierschichtige gedruckte Leiterplatte modifiziert und ausgedehnt ist;the 5 shows a manufacturing method of a four-layer printed circuit board according to a further embodiment, in which a four-layer printed circuit board according to the invention is modified and expanded;
  • die 6 zeigt ein Herstellungsverfahren einer gepluggten gedruckten Leiterplatte gemäß Vergleichsbeispiel 1, bei dem ein Polieren durchgeführt wird;the 6 Fig. 11 shows a manufacturing process of a plugged printed circuit board according to Comparative Example 1, in which polishing is carried out;
  • die 7 zeigt ein Herstellungsverfahren einer gepluggten gedruckten Leiterplatte, bei der eine Aussparung zwischen Schaltkreisen zuvor nicht mit einem Harz gemäß einem herkömmlichen Verfahren gefüllt worden ist;the 7 Fig. 11 shows a manufacturing process of a plugged printed circuit board in which a recess between circuits has not been previously filled with a resin according to a conventional method;
  • die 8A zeigt eine partial vergrößerte Ansicht eines Blasenumfangsteils und die 8B zeigt eine teilweise vergrößerte Ansicht eines Kerbenumfangsteils einer herkömmlichen gedruckten Leiterplatte mit einer Kerbe und einer Blase; undthe 8A shows a partial enlarged view of a bladder peripheral part and 8B Fig. 14 is a partially enlarged view of a notch peripheral part of a conventional printed circuit board with a notch and a bladder; and
  • die 9A und 9B zeigen teilweise vergrößerte Querschnittsansichten der Nähe eines Bondhügelbindungsteils, um das Auftreten einer schlechten Bondhügelverbindung zu zeigen, wenn die Bondhügelverbindung der BGA-Komponente bei einer herkömmlichen vierschichtigen gedruckten Leiterplatte mit einer Kerbe und einer Blase durchgeführt ist, wobei die 9A eine partiale vergrößerte Querschnittsansicht ist, die ein schlechtes Bondhügelbinden in der Nachbarschaft der Blase auf der Oberfläche der vierschichtigen gedruckten Leiterplatte zeigt und wobei die 9B eine teilweise vergrößerte Querschnittsansicht ist, die eine schlechte Bondhügelbindung in der Nachbarschaft der Kerbe der Oberfläche der vierschichtigen gedruckten Leiterplatte zeigt.the 9A and 9B Fig. 14 shows partially enlarged cross sectional views of the vicinity of a bump bond part to show the occurrence of a bad bump connection when the bump connection of the BGA component is performed on a conventional four-layer printed circuit board with a notch and a bubble, the 9A FIG. 4 is a partial enlarged cross-sectional view showing poor bump bonding in the vicinity of the bubble on the surface of the four-layer printed circuit board, and wherein FIG 9B Fig. 3 is a partially enlarged cross-sectional view showing poor bump bonding in the vicinity of the notch on the surface of the four-layer printed circuit board.

BESCHREIBUNG DER BEVORZUGTEN AUSFÜHRUNGSFORMENDESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS

Bei dem Verfahren zur Herstellung der abgeflachten, mit Harz beschichteten gedruckten Leiterplatte gemäß der Erfindung schließen Beispiele der photo- und wärmehärtenden Harzzusammensetzungen (das heißt von in Zwei-Stufen härtenden Harzzusammensetzungen, bei denen ein primäres Härten durch Bestrahlung mit Licht durchgeführt wird und ein sekundäres Härten durch Erhitzen durchgeführt wird) solche ein, die die folgenden Bestandteile [I] bis [V] enthalten.In the method of manufacturing the flattened resin-coated printed circuit board according to the invention, examples of the photo and thermosetting resin compositions (i.e., two-stage curing resin compositions in which primary curing by light irradiation is performed and secondary curing) are included by heating) includes those containing the following components [I] to [V].

  1. [I]: Partiale Addukte eines Epoxyharzes mit einer ungesättigten Fettsäure[I]: Partial adducts of an epoxy resin with an unsaturated fatty acid
  2. [II]: (Meth)acrylate[II]: (meth) acrylates
  3. [III]: Photo-Vernetzungsmittel[III]: Photo-crosslinking agent
  4. [IV]: Epoxyharze[IV]: epoxy resins
  5. [V]: latente Härtungsmittel[V]: latent curing agents

Bevorzugte spezielle Beispiele für photo- und wärmehärtende Harzzusammensetzungen werden in den offengelegten japanischen Patentanmeldungen ( JP-A) Nr. 2003-105061 und 2004-75967 beschrieben.Preferred specific examples of photo- and thermosetting resin compositions are disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open ( JP-A) No. 2003-105061 and 2004-75967 described.

Die photo- und wärmehärtende Harzzusammensetzung enthält ein partiales Addukt eines Epoxyharzes mit einer ungesättigten Fettsäure als Bestandteil [I]. Die Epoxyzahl des Epoxyharzes (nachstehend gelegentlich der Einfachheit halber als „Ausgangsmaterial-Epoxyharz“ bezeichnet) als Ausgangsmaterial für die Herstellung des Bestandteils (I) beträgt beispielsweise 130 bis 400 und insbesondere 150 bis 250. Beispiele für die Ausgangsmaterial-Epoxyharze schließen Epoxyharze vom Phenol-Novolak-Typ, Epoxyharze, hergestellt aus einem polyfunktionellen Phenol, Epoxyharze mit einem Naphthalinskelett, Epoxyharze vom Glycidylamin-Typ, Epoxyharze mit einem Triacinskelett, Epoxyharze vom Glycidylester-Typ und Epoxyharze vom alicyclischen Typ ein.The photo- and thermosetting resin composition contains a partial adduct of an epoxy resin with an unsaturated fatty acid as a component [I]. The epoxy number of the epoxy resin (hereinafter, sometimes referred to simply as the “raw material epoxy resin” for simplicity) as the raw material for the preparation of the component (I) is, for example, 130 to 400 and in particular 150 to 250. Examples of the raw material epoxy resins include epoxy resins of phenolic Novolak type, epoxy resins made from a polyfunctional phenol, epoxy resins with a naphthalene skeleton, epoxy resins of the glycidylamine type, epoxy resins with a triacine skeleton, epoxy resins of the glycidyl ester type and epoxy resins of the alicyclic type.

Bevorzugte Beispiele für das Ausgangsmaterial-Epoxyharz schließen die einzelnen Verbindungen ein, die durch die Formeln [Chemische Formeln I-E1] bis [Chemische Formel I-E7] in Tabelle 1 angegeben werden. Besonders bevorzugte Beispiele hierfür schließen Epoxyharze vom Phenol-Novolak-Typ, Epoxyharz vom Cresol-Novolak-Typ, Epoxyharze vom Trisphenylmethan-Typ, Epoxyharze vom Bisphenol A-Novolak-Typ und Epoxyharze vom Dicyclopentadienphenol-Typ ein, wobei mindestens eine Art davon verwendet werden kann.

Figure DE102006037273B4_0001
Figure DE102006037273B4_0002
Preferred examples of the raw material epoxy resin include the individual compounds represented by the formulas [Chemical Formula I-E1] to [Chemical Formula I-E7] in Table 1. Particularly preferred examples include phenolic novolak type epoxy resins, epoxy resin Cresol novolak type, trisphenylmethane type epoxy resins, bisphenol A novolak type epoxy resins and dicyclopentadiene phenol type epoxy resins, at least one kind of which can be used.
Figure DE102006037273B4_0001
Figure DE102006037273B4_0002

In den Formeln bedeutet „G“ eine Glycidylgruppe, ausgenommen in dem Fall, dass „G“ für eine verschiedene Definition verwendet wird.

Figure DE102006037273B4_0003
In the formulas, "G" means a glycidyl group, except when "G" is used for a different definition.
Figure DE102006037273B4_0003

Das Symbol n bedeutet eine ganze Zahl von 0 bis 30 in den Formeln [Chemische Formel I-E1] bis [Chemische Formel I-E3]. Das Symbol n bedeutet eine ganze Zahl von 1 bis 30 in den Formeln [Chemische Formel I-E4] bis [Chemische Formel I-E6]. Das Symbol n bedeutet eine ganze Zahl von 2 bis 50 in der Formel [Chemische Formel I-E7]. In der Formel [Chemische Formel I-E2] stehen jeweils R1 und R2 unabhängig voneinander für H oder CH3.The symbol n means an integer from 0 to 30 in the formulas [Chemical formula I-E1] to [Chemical formula I-E3]. The symbol n means an integer from 1 to 30 in the formulas [Chemical formula I-E4] to [Chemical formula I-E6]. The symbol n means an integer from 2 to 50 in the formula [Chemical Formula I-E7]. In the formula [Chemical formula I-E2], R 1 and R 2 each independently represent H or CH 3 .

Beispiele für ungesättigte Fettsäuren als weiteres Ausgangsmaterial für die Herstellung des Bestandteils (I) schließen Materialien der folgenden Formel [Chemische Formel I-UFA] ein.

Figure DE102006037273B4_0004
wobei jeder Rest von R1 bis R3 unabhängig H oder CH3 ist. Spezielle Beispiele für die ungesättigte Fettsäure schließen Acrylsäure, Methacrylsäure und Crotonsäure ein.Examples of unsaturated fatty acids as another raw material for the preparation of the component (I) include materials of the following formula [Chemical formula I-UFA].
Figure DE102006037273B4_0004
wherein each radical from R 1 to R 3 is independently H or CH 3 . Specific examples of the unsaturated fatty acid include acrylic acid, methacrylic acid and crotonic acid.

Der Bestandteil [I] kann mittels eines üblichen Herstellungsverfahrens hergestellt werden. So kann beispielsweise der Bestandteil [I] dadurch hergestellt werden, dass mindestens eine Art des Ausgangsmaterial-Epoxyharzes und mindestens eine Art der ungesättigten Fettsäure [zum Beispiel Acrylsäure und/oder Methacrylsäure (nachstehend gelegentlich der Einfachheit halber als „(Meth)acrylsäure“ abgekürzt)] erforderlichenfalls unter Erhitzen miteinander gerührt und vermischt werden.The component [I] can be produced by a usual manufacturing process. For example, the component [I] can be prepared by at least one kind of the raw material epoxy resin and at least one kind of the unsaturated fatty acid [for example, acrylic acid and / or methacrylic acid (hereinafter sometimes abbreviated as “(meth) acrylic acid” for the sake of simplicity)) If necessary, stir and mix with each other while heating.

Der Bestandteil [I] wird dadurch erhalten, dass die ungesättigte Fettsäure partial zu dem Epoxyharz gegeben wird. Das heißt, bei einem partialen Addukt des Epoxyharzes mit der ungesättigten Fettsäure bleibt mindestens eine Epoxygruppe in dem Epoxyharz nach der Zugabe der ungesättigten Fettsäure zurück. Speziell wird die ungesättigte Fettsäure vorzugsweise zu 20 bis 80%, vorzugsweise 40 bis 60% der Epoxygruppen in dem Ausgangsmaterial-Epoxyharz gegeben. Bei einem Addukt, bei dem die Zugabemenge der ungesättigten Fettsäure weniger als 20% beträgt [das gelegentlich der Einfachheit halber als „Addukt mit weniger als 20% ungesättigter Fettsäure“ und dergleichen bezeichnet wird] bleibt gelegentlich in dem primär photogehärteten Produkt eine Adhäsion zurück. Als Ergebnis haftet daher, wenn ein später beschriebener Deckfilm abgezogen wird, das primär photogehärtete Produkt gelegentlich an dem Deckfilm. Im Gegensatz hierzu wird bei einem Addukt mit mehr als 80% ungesättigter Fettsäure die Zähigkeit des gehärteten Produkts durch Verringerung der Epoxygruppen verschlechtert, so dass daher die Tendenz zu einer Rissbildung auftritt.The component [I] is obtained by partially adding the unsaturated fatty acid to the epoxy resin. That is, in the case of a partial adduct of the epoxy resin with the unsaturated fatty acid, at least one epoxy group remains in the epoxy resin after the addition of the unsaturated fatty acid. Specifically, the unsaturated fatty acid is preferably added to 20 to 80%, preferably 40 to 60% of the epoxy groups in the raw material epoxy resin. For an adduct in which the addition amount of the unsaturated fatty acid is less than 20% [which is sometimes referred to simply as an "adduct with less than 20% unsaturated fatty acid" and the like for convenience], there is occasionally adhesion in the primary photo-cured product. As a result, it is liable if a cover film described later is peeled off , the primary photo-cured product occasionally on the cover film. In contrast, in the case of an adduct with more than 80% unsaturated fatty acid, the toughness of the hardened product is deteriorated by reducing the epoxy groups, so that there is a tendency to crack.

Beispiele für den Bestandteil [I] schließen Addukte eines Epoxyharzes vom Novolak-Typ mit (Meth)acrylsäure (speziell ein Addukt eines Epoxyharzes vom Cresol-Novolak-Typ mit Acrylsäure etc. ein) und die photo- und wärmehärtende Harzzusammensetzung kann mindestens eine Art davon enthalten.Examples of the component [I] include adducts of a novolak-type epoxy resin with (meth) acrylic acid (specifically, an adduct of a cresol-novolak-type epoxy resin with acrylic acid, etc.) and the photo- and thermosetting resin composition may be at least one kind thereof contain.

Bevorzugte Beispiele für den Bestandteil [I] schließen partiale Addukte eines Epoxyharzes vom Phenol-Novolak-Typ mit Acrylsäure, partiale Addukte eines Epoxyharzes vom Cresol-Novolak-Typ mit Acrylsäure, partiale Addukte eines Epoxyharzes vom Trisphenylmethan-Typ mit Acrylsäure, partiale Addukte eines Epoxyharzes vom Bisphenol-A-Novolak-Typ mit Methacrylsäure, partiale Addukte eines Epoxyharzes vom Dicyclopentadien-Phenol-Typ mit Methacrylsäure und partiale Addukte eines Epoxyharzes vom Phenol-Novolak-Typ mit Crotonsäure ein, wobei mindestens eine Art davon zum Einsatz kommen kann.Preferred examples of the component [I] include partial adducts of a phenol novolak type epoxy resin with acrylic acid, partial adducts of a cresol novolak type epoxy resin with acrylic acid, partial adducts of a trisphenylmethane type epoxy resin with acrylic acid, partial adducts of an epoxy resin of the bisphenol A novolak type with methacrylic acid, partial adducts of an epoxy resin of the dicyclopentadiene-phenol type with methacrylic acid and partial adducts of an epoxy resin of the phenol novolak type with crotonic acid, at least one type of which can be used.

Die photo- und wärmehärtende Harzzusammensetzung enthält (Meth)acrylate (d.h. Acrylate und/oder Methacrylate) als Bestandteil [II]. Bei dem Bestandteil [II] schließen Beispiele der Acrylate Ester von Acrylsäuren mit Hydroxyverbindungen ein. Beispiele für die Methacrylate schließen Ester von Methacrylsäuren mit Hydroxyverbindungen ein.The photo and thermosetting resin composition contains (meth) acrylates (i.e., acrylates and / or methacrylates) as component [II]. In the component [II], examples of the acrylates include esters of acrylic acids with hydroxy compounds. Examples of the methacrylates include esters of methacrylic acids with hydroxy compounds.

Beispiele für die oben genannten Acrylsäuren und Methacrylsäuren schließen ungesättigte Fettsäuren, angegeben durch die Formel [Chemische Formel I-UFA] ein. Spezielle Beispiele für Acrylsäuren und Methacrylsäuren sind Acrylsäure, Methacrylsäure und Crotonsäure.Examples of the above-mentioned acrylic acids and methacrylic acids include unsaturated fatty acids indicated by the formula [Chemical Formula I-UFA]. Specific examples of acrylic acids and methacrylic acids are acrylic acid, methacrylic acid and crotonic acid.

Beispiele für die oben genannten Hydroxyverbindungen schließen Alkohole, (Hemi)acetale oder (Hemi)ketale und Hydroxyester ein. Beispiele für die Alkohole schließen niedrige Alkohole, cyclische Alkohole, mehrwertige Alkohole und aromatische Alkohole etc. ein. Bei den Hydroxyverbindungen schließen Beispiele der (Hemi)acetale oder (Hemi)ketale Kondensate der obigen Alkohole (z.B. cyclische Alkohole und mehrwertige Alkohole oder dergleichen) mit Formaldehyd oder Hydroxyaldehyd ein. Bei den Hydroxyverbindungen schließen spezielle Beispiele der Hydroxysäureester Ringöffnungsaddukte von Caprolacton mit Furfurylalkohol, Neopentylglykol, Hydroxypivalat oder dergleichen ein.Examples of the above-mentioned hydroxy compounds include alcohols, (hemi) acetals or (hemi) ketals and hydroxy esters. Examples of the alcohols include lower alcohols, cyclic alcohols, polyhydric alcohols and aromatic alcohols, etc. In the hydroxy compounds, examples of the (hemi) acetal or (hemi) ketal condensates of the above alcohols (e.g. cyclic alcohols and polyhydric alcohols or the like) with formaldehyde or hydroxyaldehyde include. In the hydroxy compounds, specific examples of the hydroxy acid esters include ring opening adducts of caprolactone with furfuryl alcohol, neopentyl glycol, hydroxypivalate or the like.

Bevorzugte Beispiele des Bestandteils [II] schließen die einzelnen Verbindungen, angegeben durch die Formeln [Chemische Formel II-1] bis [Chemische Formel II-9] gemäß Tabelle 2 ein und insbesondere Isobornylacrylat, Dicyclopentanylmethacrylat, Hydroxypivalinsäureneopentylglykoldiacrylat, Tricyclodecandimethanolacrylat, Trimethylolpropantriglykolacrylat, Dipentaerythrithexaacrylat und Isobornylcrotonat ein, wobei mindestens eine Art davon zum Einsatz kommen kann.

Figure DE102006037273B4_0005
Figure DE102006037273B4_0006
Preferred examples of the ingredient [II] include the individual compounds represented by the formulas [Chemical Formula II-1] to [Chemical Formula II-9] according to Table 2, and particularly isobornyl acrylate, dicyclopentanyl methacrylate, hydroxypivalic acid neopentyl glycol diacrylate, tricyclodecanedimethanol acrylate, trimethylolpropanitro trityl acrylate, diphenyl tetrachylacetate, diphenyl acrylate, diphenyl acrylate, diphenyl acrylate, trimethylol propane tra-phenyl acrylate, diphenyl acetonitrile acrylate, diphenyl tetra acrylate, diphenyl tetra acrylate, diphenyl acrylate, diphenyl tetra acrylate, trimethylol propane trenta acrylate, diphenyl tetra acrylate, diphenyl acrylate, diphenyl tetra acrylate, diphenyl acrylate, one, at least one type of which can be used.
Figure DE102006037273B4_0005
Figure DE102006037273B4_0006

Die photo- und wärmehärtende Harzzusammensetzung enthält ein Photo-Vernetzungsmittel als Bestandteil [III]. Beispiele für den Bestandteil [III] schließen einen Bestandteil ein, durch den eine primäre Härtungsreaktion durch Bestrahlung mit Licht, beispielsweise mit Ultraviolettlicht oder dergleichen mit einer Wellenlänge von 200 bis 400 nm gestattet wird.The photo- and thermosetting resin composition contains a photo-crosslinking agent as component [III]. Examples of the component [III] include a component that allows a primary curing reaction by irradiation with light such as ultraviolet light or the like having a wavelength of 200 to 400 nm.

Spezielle Beispiele für den Bestandteil [III] schließen Hydroxyketone, Benzylmethylketale, Acylphosphinoxide, Aminoketone, Benzoinether, Benzoylverbindungen, Thioxanthone, Biimidazole, Dimethylaminobenzoat, Sulfoniumsalze, Anthrachinone, Acridone, Acridine, Carbazole und Titankomplexe ein, wobei mindestens eine Art davon zum Einsatz kommen kann.Specific examples of the component [III] include hydroxy ketones, benzyl methyl ketals, acylphosphine oxides, amino ketones, benzoin ethers, benzoyl compounds, thioxanthones, biimidazoles, dimethylaminobenzoate, sulfonium salts, anthraquinones, acridones, acridines, carbazoles and titanium complexes, at least one of which can be used.

Bevorzugte Beispiele für den Bestandteil [III] schließen die einzelnen Verbindungen, die durch die Formeln [Chemische Formel III-1] und [Chemische Formel 111-2] gemäß Tabelle 3 angegeben sind, ein, wobei mindestens eine Art davon verwendet werden kann.

Figure DE102006037273B4_0007
Preferred examples of the ingredient [III] include the individual compounds represented by the formulas [Chemical Formula III-1] and [Chemical Formula 111-2] shown in Table 3, and at least one kind thereof can be used.
Figure DE102006037273B4_0007

Die photo- und wärmehärtende Harzzusammensetzung enthält ein Epoxyharz als Bestandteil [IV]. Beispiele für das Epoxyharz schließen kristalline Epoxyharze und/oder flüssige Epoxyharze ein. Bei dem Bestandteil [IV] werden kristalline Epoxyharze mit einem Schmelzpunkt von beispielsweise 80 bis 110°C, insbesondere 90 bis 105°C, bevorzugt. Weiterhin beträgt bei den kristallinen Epoxyharzen die Viskosität (mPa·s) vorzugsweise 50 oder weniger, insbesondere 0,1 bis 20, beim Schmelzpunkt bis zum Schmelzpunkt plus 20°C. Weiterhin wird ein kristallines Epoxyharz bevorzugt, das in der photo- und wärmehärtenden Harzzusammensetzung schwer löslich ist.The photo- and thermosetting resin composition contains an epoxy resin as a component [IV]. Examples of the epoxy resin include crystalline epoxy resins and / or liquid epoxy resins. In the component [IV], crystalline epoxy resins having a melting point of, for example, 80 to 110 ° C., in particular 90 to 105 ° C., are preferred. Furthermore, the viscosity (mPa · s) of the crystalline epoxy resins is preferably 50 or less, in particular 0.1 to 20, at the melting point to the melting point plus 20 ° C. Also preferred is a crystalline epoxy resin that is sparingly soluble in the photo and thermosetting resin composition.

Beispiele für kristalline Epoxyharze schließen kristalline Epoxyharze vom Biphenyl-Typ, vom Diphenyl-Typ, vom Hydrochinon-Typ, vom Biphenyl-Novolak-Typ und vom Fluorein-Typ ein, wobei mindestens eine Art davon zum Einsatz kommen kann.Examples of crystalline epoxy resins include biphenyl-type, diphenyl-type, hydroquinone-type, biphenyl-novolak-type and fluorine-type crystalline epoxy resins, and at least one type thereof can be used.

Beispiele für kristalline Epoxyharze vom Biphenyl-Typ schließen eine Verbindung, angegeben durch die folgende Formel [Chemische Formel IVc-1] ein.

Figure DE102006037273B4_0008
wobei R für H oder CH3 steht und wobei mindestens eine Art davon enthalten sein kann.Examples of biphenyl type crystalline epoxy resins include a compound represented by the following formula [Chemical Formula IVc-1].
Figure DE102006037273B4_0008
where R is H or CH 3 and at least one type of which may be contained.

Beispiele für kristalline Epoxyharze vom Biphenyl-Typ schließen ein Material mit der folgenden Formel [Chemische Formel IVc-2] ein.

Figure DE102006037273B4_0009
worin X für O oder S steht und R1 und R2 jeweils unabhängig voneinander für H, CH3 oder t-Butyl stehen und wobei mindestens eine Art davon enthalten sein kann.Examples of biphenyl type crystalline epoxy resins include a material having the following formula [Chemical Formula IVc-2].
Figure DE102006037273B4_0009
wherein X is O or S and R 1 and R 2 are each independently H, CH 3 or t-butyl and at least one type of which may be included.

Beispiele für kristalline Epoxyharze vom Hydrochinon-Typ schließen ein solches ein, das durch die folgende Formel [Chemische Formel IVc-3] angegeben wird.

Figure DE102006037273B4_0010
worin n den Wert 0, 1 oder 2 hat und wobei mindestens eine Art davon enthalten sein kann.Examples of hydroquinone type crystalline epoxy resins include one indicated by the following formula [Chemical Formula IVc-3].
Figure DE102006037273B4_0010
wherein n has the value 0, 1 or 2 and at least one type of which may be included.

Beispiele für kristalline Epoxyharze vom Biphenyl-Novolak-Typ schließen ein solches mit der folgenden Formel [Chemische Formel IVc-4] ein.

Figure DE102006037273B4_0011
worin n den Wert 1 oder 2 hat und wobei mindestens eine Art davon enthalten sein kann.Examples of crystalline biphenyl novolak type epoxy resins include one having the following formula [Chemical Formula IVc-4].
Figure DE102006037273B4_0011
wherein n has the value 1 or 2 and at least one type of which may be included.

Beispiele für kristalline Epoxyharze vom Fluorein-Typ schließen ein solches mit der folgenden Formel [Chemische Formel IVc-5] ein.

Figure DE102006037273B4_0012
Examples of fluorine type crystalline epoxy resins include one having the following formula [Chemical Formula IVc-5].
Figure DE102006037273B4_0012

Bevorzugte Beispiele für kristalline Epoxyharze schließen Tetramethylbiphenyl-Epoxyharze, Hydrochinondiglycidylether und Di(p-glycidylphenyl)ether ein, wobei mindestens eine Art davon enthalten sein kann.Preferred examples of crystalline epoxy resins include tetramethylbiphenyl epoxy resins, hydroquinone diglycidyl ether and di (p-glycidylphenyl) ether, at least one kind of which may be included.

Im Falle des Bestandteils [IV] stellt das flüssige Epoxyharz ein flüssiges oder halbfestes Epoxyharz bei Normaltemperatur dar. Beispiele hierfür schließen ein Epoxyharz mit einer Fließfähigkeit bei Normaltemperatur ein. Es ist zu bevorzugen, dass das flüssige Epoxyharz eine Viskosität (Raumtemperatur, mPa·s) von beispielsweise 20000 oder weniger und besonders bevorzugt von 1000 bis 10000 hat.In the case of component [IV], the liquid epoxy resin is a liquid or semi-solid epoxy resin at normal temperature. Examples include an epoxy resin with a flowability Normal temperature. It is preferable that the liquid epoxy resin has a viscosity (room temperature, mPa · s) of 20,000 or less, for example, and particularly preferably 1,000 to 10,000.

Spezielle Beispiele für das flüssige Epoxyharz schließen ein Epoxyharz vom Bisphenol A-Typ, angegeben durch die folgende Formel [Chemische Formel IV1-1] ein.

Figure DE102006037273B4_0013
worin n den Wert 0 oder 1 hat und wobei mindestens eine Art davon enthalten sein kann.Specific examples of the liquid epoxy resin include a bisphenol A type epoxy resin indicated by the following formula [Chemical Formula IV1-1].
Figure DE102006037273B4_0013
wherein n has the value 0 or 1 and at least one type of which can be contained.

Weiterhin schließen spezielle Beispiele des flüssigen Epoxyharzes ein Epoxyharz vom Bisphenol F-Typ, angegeben durch die folgende Formel [Chemische Formel IV1-2] ein.

Figure DE102006037273B4_0014
wobei n den Wert 0 oder 1 hat und wobei mindestens eine Art davon enthalten sein kann.Furthermore, specific examples of the liquid epoxy resin include a bisphenol F type epoxy resin indicated by the following formula [Chemical Formula IV1-2].
Figure DE102006037273B4_0014
where n has the value 0 or 1 and at least one type of which may be included.

Weiterhin schließen spezielle Beispiele für ein flüssiges Epoxyharz ein Harz vom Napthalin-Typ, ein Harz vom Diphenylthioether(sulfid)-Typ, ein Harz vom Trityl-Typ, ein Harz vom alicyclischen Typ, ein Harz, hergestellt aus den folgenden Alkoholen, ein Harz vom Diallyl-bis-A-Typ, ein Harz vom Methylresorcin-Typ, ein Harz vom Bisphenol AD-Typ und ein N,N,O-Tris(glycidyl)-p-aminophenol ein, wobei mindestens eine Art davon enthalten sein kann.Furthermore, specific examples of a liquid epoxy resin include a naphthalene-type resin, a diphenylthioether (sulfide) -type resin, a trityl-type resin, an alicyclic-type resin, a resin made from the following alcohols, a resin of A diallyl-bis-A type, a methylresorcinol type resin, a bisphenol AD type resin and an N, N, O-tris (glycidyl) -p-aminophenol, and at least one kind thereof may be contained.

Bevorzugte Beispiele für das flüssige Epoxyharz schließen ein Epoxyharz vom Bisphenol A-Typ, ein Epoxyharz vom Bisphenol F-Typ, N,N,O-Tris(glycidyl)-p-aminophenol und ein Epoxyharz vom Bisphenol AD-Typ ein, wobei mindestens eine Art davon enthalten sein kann.Preferred examples of the liquid epoxy resin include a bisphenol A-type epoxy resin, a bisphenol F-type epoxy resin, N, N, O-tris (glycidyl) -p-aminophenol, and a bisphenol AD-type epoxy resin, at least one of which Kind of it can be included.

Die photo- und wärmehärtende Harzzusammensetzung enthält ein latentes Härtungsmittel als Bestandteil [V]. Eine sekundäre Härtungsreaktion wird durch Erhitzen des Bestandteils [V] bewirkt. Bei dem Bestandteil [V] beträgt beispielsweise die Starttemperatur der sekundären Härtungsreaktion vorzugsweise 150 bis 300°C und besonders bevorzugt 150 bis 200°C.The photo- and thermosetting resin composition contains a latent curing agent as an ingredient [V]. A secondary curing reaction is accomplished by heating component [V]. For the component [V], for example, the starting temperature of the secondary curing reaction is preferably 150 to 300 ° C and particularly preferably 150 to 200 ° C.

Spezielle Beispiele für den Bestandteil [V] schließen Dicyandiamide (DICY), Imidazole, einen BF3-Aminkomplex, Aminaddukt-Härtungsmittel, Aminosäureanhydrid(Polyamid)addukt-Härtungsmittel, Hydrazid-Härtungsmittel, Carboxylate (Salze) von Amin-Härtungsmitteln und Oniumsalze ein, wobei mindestens eine Art davon enthalten sein kann.Specific examples of the component [V] include dicyandiamide (DICY), imidazole, a BF 3 amine complex, amine adduct hardener, amino acid anhydride (polyamide) adduct hardener, hydrazide hardener, carboxylates (salts) of amine hardener and onium salts, at least one type of which may be included.

Bei dem Bestandteil [V] schließen spezielle Beispiele des Aminaddukt-Härtungsmittels ein Addukt eines Härtungsmittels vom Imidazol-Typ [2-Ethyl-4-methylimidazol, 2-Methylimidazol, 2,4-Diamino-6-(2'-methylimidazolyl-(1H)-ethyl-S-triazin oder dergleichen] oder ein Amin-Härtungsmittel (Diethylamin oder dergleichen) mit einer Epoxyverbindung mit Harnstoff oder einer Isocyanatverbindung ein. Beispiele für die Hydrazid-Härtungsmittel schließen Adipinsäuredihydrazid (ADH) und Sebacinsäuredihydrazid (SDH) ein. Beispiele für die Carboxylate (Salze) der Amin-Härtungsmittel schließen Nylonsalze und das ATU (3,9-Bis(3-aminopropyl)-2,4,8,10-tetraoxaspiro[5,5]undecan)adipinsäuresalz ein. Beispiele für die Oniumsalze schließen Sulfoniumsalze, Ammoniumsalze und Phosphoniumsalze ein.In the component [V], specific examples of the amine adduct curing agent include an adduct of an imidazole type curing agent [2-ethyl-4-methylimidazole, 2-methylimidazole, 2,4-diamino-6- (2'-methylimidazolyl- (1H ) -ethyl-S-triazine or the like] or an amine curing agent (diethylamine or the like) with an epoxy compound with urea or an isocyanate compound, examples of the hydrazide curing agents include adipic acid dihydrazide (ADH) and sebacic acid dihydrazide (SDH) the carboxylates (salts) of the amine curing agents include nylon salts and the ATU (3,9-bis (3-aminopropyl) -2, 4,8,10-tetraoxaspiro [5,5] undecane) adipic acid salt. Examples of the onium salts include sulfonium salts, ammonium salts and phosphonium salts.

Bevorzugte Beispiele für den Bestandteil [V] schließen die Verbindungen der Formeln [Chemische Formel V-1] bis [Chemische Formel V-3] in Tabelle 4 ein, wobei mindestens eine Art davon enthalten sein kann.

Figure DE102006037273B4_0015
Preferred examples of the ingredient [V] include the compounds of the formulas [Chemical Formula V-1] to [Chemical Formula V-3] in Table 4, which may include at least one kind thereof.
Figure DE102006037273B4_0015

Zu der photo- und wärmehärtenden Harzzusammensetzung können erforderlichenfalls verschiedene Additive gegeben werden. Beispiele für die Additive schließen Füllstoffe, organische/anorganische Farbmittel, flammverzögernde Mittel und Antischaummittel ein, wobei mindestens eine Art davon enthalten sein kann.Various additives can be added to the photo- and thermosetting resin composition if necessary. Examples of the additives include fillers, organic / inorganic colorants, flame retardants and anti-foaming agents, at least one kind of which may be included.

Hinsichtlich der Zusammensetzung des photo- und wärmehärtenden Harzes werden zu 100 Gew.-Teilen des Bestandteils [I] 100 bis 300 Gew.-Teile (insbesondere 150 bis 250 Gew.-Teile) des Bestandteils [II], 1 bis 50 Gew.-Teile (insbesondere 5 bis 15 Gew.-Teile) des Bestandteils [III], 50 bis 200 Gew.-Teile (insbesondere 60 bis 120 Gew.-Teile) des Bestandteils [IV], 1 bis 50 Gew.-Teile (insbesondere 5 bis 20 Gew.-Teile) des Bestandteils [V] und 200 bis 500 Gew.-Teile (insbesondere 250 bis 350 Gew.-Teile) des Füllstoffs bevorzugt.With regard to the composition of the photo- and thermosetting resin, 100 to 300 parts by weight of component [I] from 100 to 300 parts by weight (in particular 150 to 250 parts by weight) of component [II], 1 to 50 parts by weight. Parts (in particular 5 to 15 parts by weight) of component [III], 50 to 200 parts by weight (in particular 60 to 120 parts by weight) of component [IV], 1 to 50 parts by weight (in particular 5 to 20 parts by weight) of the component [V] and 200 to 500 parts by weight (in particular 250 to 350 parts by weight) of the filler are preferred.

Die photo- und wärmehärtende Harzzusammensetzung kann beispielsweise dadurch hergestellt werden, dass die einzelnen Bestandteile [I] bis [V] und erforderlichenfalls das Additiv miteinander vermischt werden, dass das Gemisch gleichförmig dispergiert wird und dass das dispergierte Gemisch im Vakuum entschäumt wird. Die Reihenfolge der Zugabe oder dergleichen der Bestandteile ist keinen besonderen Beschränkungen unterworfen und jeder Bestandteil kann nacheinander zugesetzt werden oder alle Bestandteile können auf einmal zugesetzt werden.The photo- and thermosetting resin composition can be produced, for example, by mixing the individual constituents [I] to [V] and, if necessary, the additive, the mixture being uniformly dispersed and the foam-dispersed mixture being defoamed in vacuo. The order of addition or the like of the ingredients is not particularly limited, and each ingredient can be added sequentially or all of the ingredients can be added at once.

Es wird bevorzugt, dass die wie oben hergestellte photo- und wärmehärtende Harzzusammensetzung eine Harz-Viskosität (Pa·s, Raumtemperatur) von 10 bis 50 im Hinblick auf die Aufbringungseigenschaften auf die gedruckte Leiterplatte oder dergleichen hat, wobei Viskositäten von 15 bis 30 besonders bevorzugt werden.It is preferred that the photo and thermosetting resin composition prepared as above have a resin viscosity (Pa · s, room temperature) of 10 to 50 in view of the application properties to the printed circuit board or the like, with viscosities of 15 to 30 being particularly preferred become.

Nachstehend wird die Erfindung im Detail anhand der Zeichnungen beschrieben.The invention is described in detail below with reference to the drawings.

Bei dem erfindungsgemäßen Herstellungsverfahren der abgeflachten, mit Harz beschichteten gedruckten Leiterplatte wird eine gedruckte Leiterplatte mit einem Durchgangsloch [1A, 103] als gedruckte Leiterplatte verwendet. Beispiele für die Durchgangslöcher schließen alle Arten von Löchern ein, die die gedruckte Leiterplatte penetrieren. Spezielle Beispiele der Durchgangslöcher schließen Durchgangsweglöcher, Komponentenlöcher und andere Durchgangslöcher ein. Beispiele für die Arten der gedruckten Leiterplatte schließen doppelseitig bedruckte Leiterplatten ein. Beispiele der doppelseitig bedruckten Leiterplatten schließen eine starre gedruckte Leiterplatte, eine flexible gedruckte Leiterplatte und eine starre, Flex-bedruckte Leiterplatte ein.In the manufacturing method of the flattened, resin-coated printed circuit board according to the invention, a printed circuit board with a through hole [ 1A , 103 ] used as a printed circuit board. Examples of the through holes include all types of holes that penetrate the printed circuit board. Specific examples of the through holes include through holes, component holes, and other through holes. Examples of the types of the printed circuit board include double-sided printed circuit boards. Examples of the double-sided printed circuit boards include a rigid printed circuit board, a flexible printed circuit board and a rigid, flex printed circuit board.

Im Hinblick auf die gedruckte Leiterplatte mit einem Durchgangsloch wird die Oberfläche der leitfähigen Schicht [1A, 102] vorzugsweise zur Verstärkung der Adhäsion einer leitfähigen Schicht und einer Harzschicht und dergleichen aufgeraut. Beispiele für die leitfähige Schicht schließen eine Leitermetallschicht, insbesondere eine Schaltkreisschicht, eine Plattierungsmetallschicht und eine Metallfolienschicht, gebildet auf der inneren Wand des Durchgangslochs, ein. Beispiele für die Aufrauungsbehandlungen schließen eine Behandlung mit einem schwarzen Oxid, die auch als eine „CZ-Behandlung“ (Behandlung mit einem chemischen Aufrauungsmittel, hergestellt von der Firma MECetchBOND CO., LTD.), eine Schwarz-Reduktions-Behandlung, eine Plattierung mit einer nadelförmigen Legierung und eine physikalische Bearbeitung (Sandstrahlen, Abstrahlen, Polieren mit Leder oder dergleichen) ein.Regarding the printed circuit board with a through hole, the surface of the conductive layer [ 1A , 102 ] preferably roughened to enhance the adhesion of a conductive layer and a resin layer and the like. Examples of the conductive layer include a conductor metal layer, particularly a circuit layer, a plating metal layer and a metal foil layer formed on the inner wall of the through hole. Examples of the roughening treatments include a treatment with a black oxide, also called a "CZ treatment" (treatment with a chemical roughening agent manufactured by MECetchBOND CO., LTD.), A black reduction treatment, and plating a needle-shaped alloy and physical processing (sandblasting, blasting, polishing with leather or the like).

Bei der Herstellung der erfindungsgemäßen abgeflachten, mit Harz beschichteten gedruckten Leiterplatte wird zuerst die photo- und wärmehärtende Harzzusammensetzung auf eine Oberfläche und das Durchgangsloch der gedruckten Leiterplatte aufgebracht. When manufacturing the flattened resin-coated printed circuit board of the present invention, the photo- and thermosetting resin composition is first applied to a surface and the through hole of the printed circuit board.

Die photo- und wärmehärtende Harzzusammensetzung kann beispielsweise durch ein Siebdrucken (Maskendrucken oder dergleichen unter Verwendung eines Polyestersiebs oder eines Edelstahlsiebs etc.), ein Metallmaskendrucken, ein Walzenbeschichtungsdrucken und dergleichen aufgebracht werden.The photo and thermosetting resin composition can be applied, for example, by screen printing (mask printing or the like using a polyester screen or a stainless steel screen, etc.), metal mask printing, roller coating printing, and the like.

Die Erzeugung von Blasen in dem aufgetragenen Harz kann durch Verwendung einer Vakuumdruckmaschine verhindert werden. Weiterhin kann das Harz dadurch entschäumt werden, dass das aufgebrachte Harz erhitzt wird (z.B. 10 bis 60 Minuten lang auf 80 bis 120°C), um die Viskosität des Harzes zu verringern.The generation of bubbles in the applied resin can be prevented by using a vacuum printing machine. Furthermore, the resin can be defoamed by heating the applied resin (e.g., at 80 to 120 ° C for 10 to 60 minutes) to reduce the viscosity of the resin.

Obgleich die gesamte Fläche der gedruckten Leiterplatte mit der Harzschicht [1B, 105] durch die obge erfindungsgemäße Aufbringung bedeckt ist, wird auch insbesondere eine Aussparung (eine Aussparung oder dergleichen zwischen den Schaltkreisen) [1B, 104], gebildet auf der Oberfläche der gedruckten Leiterplatte, und ein Durchgangsloch ebenfalls mit dem aufgebrachten Harz [ 1B] gefüllt (das Loch wird gepluggt). Herkömmlicherweise werden ein Resist, ein Prepreg, ein halb gehärtetes Harz, eine Adhäsionsfolie und das Beschichtungsmaterial beschichtet, ohne dass zuvor die Aussparung zwischen den Schaltkreisen der gedruckten Leiterplatte mit dem Harz gefüllt wird.Although the entire area of the printed circuit board with the resin layer [ 1B , 105 ] is covered by the above application according to the invention, in particular a recess (a recess or the like between the circuits) [ 1B , 104 ] formed on the surface of the printed circuit board and a through hole also with the resin applied [ 1B ] filled (the hole is plugged). Conventionally, a resist, a prepreg, a semi-hardened resin, an adhesive sheet and the coating material are coated without first filling the gap between the circuits of the printed circuit board with the resin.

Jedoch, wenn die Aussparung zwischen den Schaltkreisen zuvor nicht gefüllt worden ist, dann ist es schwierig, die Aussparung mit dem Beschichtungsmaterial zu füllen, und die Füllung tendiert dahingehend, selbst dann unzulänglich zu sein, wenn die Aussparung zwischen den Schaltkreisen mit dem Material für die Schicht durch eine Vakuumpresse gefüllt wird. Insbesondere dann, wenn eine Linie und ein Raum in einem Schaltkreis mit hoher Dichte eng sind, dann ist es schwierig, die Aussparung zwischen den Schaltkreisen mit dem Beschichtungsmaterial zu füllen. Daher wird in geringem Umfang ein Spalt in der Aussparung zwischen den Schaltkreisen gebildet und in dem Spalt bleibt manchmal Luft zurück. Als Ergebnis ist es so, dass, wenn die gedruckte Leiterplatte bei hoher Temperatur behandelt wird (z.B. bei 200 bis 300°C) durch ein Schmelzen oder dergleichen im Falle der Befestigung der Komponenten bei einem Nachbehandlungsverfahren die zurückgebliebene Luft expandiert und dass manchmal eine Blasenbildung (was als „Popcorn-Phänomen“ bezeichnet wird) der Überzugsoberfläche erfolgt [6E, 625 und 7C, 725].However, if the inter-circuit recess has not been previously filled, then it is difficult to fill the recess with the coating material, and the filling tends to be insufficient even if the inter-circuit recess is filled with the material for the Layer is filled by a vacuum press. Particularly when a line and a space in a high density circuit are narrow, it is difficult to fill the gap between the circuits with the coating material. Therefore, a gap is formed to a small extent in the gap between the circuits, and air is sometimes left in the gap. As a result, when the printed circuit board is treated at a high temperature (e.g., at 200 to 300 ° C) by melting or the like in the case of fixing the components in a post-treatment process, the remaining air expands and sometimes blistering ( what is called a "popcorn phenomenon") of the coating surface [ 6E , 625 and 7C , 725 ].

Andererseits, wenn der Raum zwischen den Schaltkreisen größer ist, dann kann der Raum vollständig mit dem Harz gefüllt werden. Wenn jedoch der Raum vollständig mit dem Harz gefüllt ist, dann wird ein Beschichtungsmaterial für ein großes Raumvolumen zwischen den Schaltkreisen zum Füllen verwendet und als Ergebnis erfolgt manchmal die Bildung einer Kerbe auf der Oberfläche der aufgeschichteten Harzschicht [6E, 626 und 7C, 726]. Sowohl die oben genannte Blase als auch die Kerbe der beschichteten Oberfläche beeinträchtigen in erheblichem Umfang die Flachheit der gedruckten Leiterplatte.On the other hand, if the space between the circuits is larger, the space can be completely filled with the resin. However, when the space is completely filled with the resin, a coating material for a large volume of space between the circuits is used for filling, and as a result, sometimes a notch is formed on the surface of the layered resin layer [ 6E , 626 and 7C , 726 ]. Both the bubble above and the notch on the coated surface significantly affect the flatness of the printed circuit board.

Daher ist es zum Erhalt der hohen Flachheit der gedruckten Leiterplatte von Wichtigkeit, nicht nur das Durchgangsloch der gedruckten Leiterplatte, sondern auch die Aussparung auf der Oberfläche der gedruckten Leiterplatte (die Aussparung zwischen den Schaltkreisen oder dergleichen) mit der photo- und wärmehärtenden Harzzusammensetzung zu füllen.Therefore, in order to maintain the high flatness of the printed circuit board, it is important not only to fill the through hole of the printed circuit board but also the recess on the surface of the printed circuit board (the recess between the circuits or the like) with the photo- and thermosetting resin composition .

Bei dem erfindungsgemäßen Verfahren zur Herstellung der abgeflachten, mit Harz beschichteten gedruckten Leiterplatte wird die oben genannte photo- und wärmehärtende Harzzusammensetzung aufgebracht und eingefüllt. Dann werden der Reihe nach die folgenden Stufen (1) und (2) durchgeführt:

  1. (1) eine Stufe der Abflachung der Oberfläche des aufgebrachten Harzes; und
  2. (2) eine Stufe der Photohärtung des aufgebrachten Harzes.
In the method according to the invention for producing the flattened, printed circuit board coated with resin, the above-mentioned photo- and thermosetting resin composition is applied and filled. Then the following stages (1) and (2) are carried out in order:
  1. (1) a step of flattening the surface of the applied resin; and
  2. (2) a step of photocuring the applied resin.

Speziellerweise wird in Stufe (1) die oben genannte beschichtete und befüllte gedruckte Leiterplatte sandwichartig zwischen zwei Deckfilmen angeordnet [FIG. IC, 106]. Der Deckfilm kann von der gedruckten Leiterplatte nach einer später zu beschreibenden primären Photohärtung abgezogen werden und vorzugsweise durchdringt diesen das Bestrahlungslicht gut. Spezielle Beispiele für den Deckfilm schließen einen PET-Film, einen PEN-Film, einen PP-Film und einen PE-Film ein. Die Filmdicke der Deckfilme kann beispielsweise 10 bis 200 (typischerweise 25 bis 100) µm betragen.Specifically, in step (1), the above-mentioned coated and filled printed circuit board is sandwiched between two cover films [FIG. IC, 106]. The cover film can be removed from the printed circuit board after a primary photocuring, which will be described later, and preferably penetrates the irradiation light well. Specific examples of the cover film include a PET film, a PEN film, a PP film and a PE film. The film thickness of the cover films can be, for example, 10 to 200 (typically 25 to 100) μm.

Dann wird die mit dem obigen Deckfilm bedeckte gedruckte Leiterplatte einem Druckwalzen unterworfen. Das Druckwalzen kann beispielsweise unter Verwendung eines Laminators oder dergleichen durchgeführt werden. Das heißt, die gedruckte Leiterplatte, die mit dem obigen Deckfilm bedeckt ist, wird zuerst sandwichartig zwischen zwei Walzen angeordnet [1D, 107].Then, the printed circuit board covered with the above cover film is subjected to a pressure roller. The pressure rolling can be carried out, for example, using a laminator or the like become. That is, the printed circuit board covered with the above cover film is first sandwiched between two rollers [ 1D , 107 ].

In diesem Fall wird ein Intervall zwischen den Walzen vorzugsweise so eingestellt, dass die Schichtdicke des auf den Schaltkreis der gedruckten Leiterplatte aufgebrachten Harzes [1I, 111] 0,1 bis 10 (insbesondere 0,1 bis 5) µm nach der Härtung des Harzes beträgt. Weiterhin ist die Dicke der Harzschicht, die auf ein Grundmaterial der gedruckten Leiterplatte aufgebracht worden ist [1I, 112], vorzugsweise die Dicke einer Schaltkreiskupferfolie plus 0,1 bis plus 10 (insbesondere plus 0,1 bis plus 5) µm nach der Härtung des Harzes. Wenn die Schichtdicke des gehärteten Harzes zu klein ist, dann kann in manchen Fällen die aufgeraute Kupferfolie nicht in genügendem Umfang bedeckt sein. Andererseits führt, wenn die gehärtete Harzschicht dann poliert wird, um die Oberfläche der Kupferfolie freizulegen oder wenn eine nachstehend zu beschreibende Öffnung gebildet werden soll, eine zu hohe Schichtdicke des gehärteten Harzes in manchen Fällen dazu, dass Schwierigkeiten bei der Polierbehandlung oder bei der Behandlung zur Erzielung einer Öffnung auftreten. Als Ergebnis treten gelegentlich Probleme, wie das Auftreten von Variationen der Abmessungen der gedruckten Leiterplatte auf oder dass das Harz in der Öffnung zurückbleibt. Es kann auch eine große Toleranz zwischen dem vorgesehenen Wert und dem tatsächlichen Wert der Impedanz auftreten.In this case, an interval between the rollers is preferably set so that the layer thickness of the resin applied to the printed circuit board circuit [ 1I , 111 ] Is 0.1 to 10 (especially 0.1 to 5) µm after curing the resin. Furthermore, the thickness of the resin layer applied to a base material of the printed circuit board is [ 1I , 112 ], preferably the thickness of a circuit copper foil plus 0.1 to plus 10 (in particular plus 0.1 to plus 5) µm after curing of the resin. If the layer thickness of the hardened resin is too small, in some cases the roughened copper foil may not be covered to a sufficient extent. On the other hand, when the hardened resin layer is polished to expose the surface of the copper foil or when an opening to be described below is to be formed, an excessive layer thickness of the hardened resin sometimes leads to difficulties in the polishing treatment or the treatment Achieving an opening occur. As a result, problems such as the occurrence of variations in the dimensions of the printed circuit board or the resin remaining in the opening occasionally arise. There may also be a large tolerance between the intended value and the actual value of the impedance.

Die zwei Walzen werden auf der gesamten Oberfläche der jeweiligen Deckfilme, die auf beide Oberflächen der gedruckten Leiterplatte aufgebracht worden sind, bewegt, während das oben genannte Walzenintervall aufrechterhalten wird [1D, 108].The two rollers are moved on the entire surface of the respective cover films applied to both surfaces of the printed circuit board while maintaining the above roller interval [ 1D , 108 ].

Als Laminierungsbedingungen können speziell ein Laminierungsdruck von 0,01 bis 10 (typischerweise 0,1 bis 1) MPa, eine Laminierungsgeschwindigkit von 0,1 bis 10 (typischerweise 0,3 bis 3) m/Minute, eine Laminierungstemperatur von Raumtemperatur bis 150°C (typischerweise 25 bis 100°C) angewendet werden.Specifically, as the lamination conditions, a lamination pressure of 0.01 to 10 (typically 0.1 to 1) MPa, a lamination speed of 0.1 to 10 (typically 0.3 to 3) m / minute, a lamination temperature of room temperature to 150 ° C (typically 25 to 100 ° C) can be used.

Bei dem erfindungsgemäßen Verfahren zur Herstellung der abgeflachten, mit Harz beschichteten gedruckten Leiterplatte wird der Prozess (2) nach Durchführung des Prozesses (1) durchgeführt. Beide Seiten der gedruckten Leiterplatte werden vorzugsweise bei dem Prozess (2) mit Licht bestrahlt. In diesem Falle können beide Seiten (Vorderseite und Rückseite) der gedruckten Leiterplatte gleichzeitig mit Licht bestrahlt werden und sie können auch nacheinander mit Licht bestrahlt werden. Das aufgebrachte Harz wird mit Licht auf dem Wege über den Deckfilm bestrahlt und als Ergebnis erfolgt ein primäres Photohärten des aufgebrachten Harzes [1E, 109].In the method according to the invention for producing the flattened, printed circuit board coated with resin, process (2) is carried out after carrying out process (1). Both sides of the printed circuit board are preferably irradiated with light in process (2). In this case, both sides (front and back) of the printed circuit board can be irradiated with light at the same time and they can also be irradiated with light in succession. The applied resin is irradiated with light on the way through the cover film, and as a result, primary photosetting of the applied resin occurs [ 1E , 109 ].

Was die Bestrahlung mit Licht betrifft, so kann das Harz mit Licht mit einem charakteristischen Bereich der Absorptionswellenlänge des Bestandteils [III] speziell mit Ultraviolettlicht mit einer Wellenlänge von 200 bis 400 nm bei -20 bis 80°C bestrahlt werden, wobei die Bestrahlungslichtmenge 0,5 bis 10 J/cm2 beträgt. Das Photohärten kann auch unter Verwendung einer untergetauchten Belichtungseinrichtung, beschrieben in den JP-A Nrn. 9-6010 und 10-29247 , durchgeführt werden.As for the irradiation with light, the resin can be irradiated with light having a characteristic range of the absorption wavelength of the component [III] specifically with ultraviolet light with a wavelength of 200 to 400 nm at -20 to 80 ° C, the irradiation light amount being 0, 5 to 10 J / cm 2 . The photocuring can also be carried out using a submerged exposure device described in US Pat JP-A Nos. 9-6010 and 10-29247 , be performed.

Nach der Photohärtung des obigen Harzes wird jeder der Deckfilme auf beiden Oberflächen der gedruckten Leiterplatte abgezogen und entfernt.After photocuring the above resin, each of the cover films on both surfaces of the printed circuit board is peeled off and removed.

Bei dem erfindungsgemäßen Verfahren zur Herstellung der abgeflachten, mit Harz beschichteten gedruckten Leiterplatte werden die Stufen (1) und (2) wie oben beschrieben vervollständigt und dann wird die photo- und wärmehärtende Harzzusammensetzung [1F, 105] auch auf die andere Oberfläche der gedruckten Leiterplatte aufgebracht. Das Harz kann in der gleichen Art und Weise wie bei der zuvor beschriebenen Aufbringung auf eine Oberfläche der gedruckten Leiterplatte aufgebracht werden.In the process of the present invention for producing the flattened resin-coated printed circuit board, steps (1) and (2) are completed as described above, and then the photo- and thermosetting resin composition [ 1F , 105 ] also applied to the other surface of the printed circuit board. The resin can be applied to a surface of the printed circuit board in the same manner as in the previously described application.

Sodann wird die Stufe (1) [1G, 1H] und die Stufe (2) nacheinander wie oben beschrieben durchgeführt. Bei dem Verfahren zur Herstellung der abgeflachten, mit Harz beschichteten gedruckten Leiterplatte gemäß der Erfindung wird dann die folgende Stufe (3) durchgeführt:

  • 3) eine Stufe der Wärmehärtung des photogehärteten Harzes.
Then stage (1) [ 1G , 1H ] and step (2) are carried out in succession as described above. The following step (3) is then carried out in the process for producing the flattened, resin-coated printed circuit board according to the invention:
  • 3) a step of thermosetting the photocured resin.

Bei der Stufe (3) wird das aufgebrachte Harz, das in Stufe (2) primär photogehärtet worden ist, dann sekundär wärmegehärtet, um das Harz vollständig auszuhärten [1I, 110]. Die ausgezeichneten Eigenschaften hinsichtlich der Hitzebeständigkeit, der Beständigkeit gegenüber einem Lötmittel und der Adhäsion des ausgehärteten Harzes und der gedruckten Leiterplatte oder dergleichen werden durch die vollständige Härtung erhalten.In step (3), the resin applied, which has been primarily photo-cured in step (2), is then thermoset secondarily to fully cure the resin [ 1I , 110 ]. The excellent properties in terms of heat resistance, resistance to solder and adhesion of the cured resin and the printed circuit board or the like are obtained by the full curing.

Die Erhitzungstemperatur in der Stufe (3) ist vorzugsweise nicht kleiner als die Starttemperatur der Reaktion (Starttemperatur des sekundären Wärmehärtens) des Bestandteils [V] der photo- und wärmehärtenden Harzzusammensetzung. Speziellerweise wird das Harz vorzugsweise auf 120 bis 300°C (insbesondere 140 bis 200°C) 30 bis 200 Minuten lang erhitzt. The heating temperature in the step (3) is preferably not lower than the starting temperature of the reaction (starting temperature of the secondary thermosetting) of the component [V] of the photo- and thermosetting resin composition. Specifically, the resin is preferably heated at 120 to 300 ° C (especially 140 to 200 ° C) for 30 to 200 minutes.

Wie es oben bereits beschrieben wurde, ist es so, dass, weil es nicht notwendig ist, das Hitzeverpressen bei der erfindungsgemäßen Herstellung der abgeflachten, mit Harz beschichteten gedruckten Leiterplatte durchzuführen (das heißt, dass es nicht notwendig ist, das Erhitzen und das Verpressen gleichzeitig durchzuführen), eine Deformation des Harzes verhindert werden kann und dass auch eine Verschlechterung der Flachheit der gedruckten Leiterplatte verhindert werden kann.As already described above, because it is not necessary to carry out the heat-pressing in the production according to the invention of the flattened, resin-coated printed circuit board (that is, it is not necessary to heat and press at the same time deformation) of the resin can be prevented and deterioration of the flatness of the printed circuit board can also be prevented.

Bei der erfindungsgemäßen abgeflachten, mit Harz beschichteten gedruckten Leiterplatte, die auf die obige Weise erhalten worden ist, beträgt der maximale Wert der Differenz der Projektion bzw. der vorstehenden Teile und der Aussparung der Oberfläche im Allgemeinen 3 (typischerweise 1) µm oder weniger.In the flattened resin-coated printed circuit board of the present invention obtained in the above manner, the maximum value of the difference in projection or protrusions and the recess in the surface is generally 3 (typically 1) µm or less.

Bei der erfindungsgemäßen abgeflachten, mit Harz beschichteten gedruckten Leiterplatte [1], die auf die obige Art und Weise hergestellt worden ist, werden die Aussparung (insbesondere die Aussparung zwischen den Schaltkreisen und dergleichen) und das Durchgangsloch der gedruckten Leiterplatte mit dem gehärteten Harz gefüllt und die abgeflachte, mit Harz beschichtete gedruckte Leiterplatte wird mit einer gehärteten Harzschicht (Film) mit extremer Flachheit und gleichförmiger Oberfläche bedeckt.In the flattened resin-coated printed circuit board [ 1 ] made in the above manner, the recess (especially the recess between the circuits and the like) and the through hole of the printed circuit board are filled with the hardened resin, and the flattened resin-coated printed circuit board is hardened Resin layer (film) covered with extreme flatness and uniform surface.

Daher ist die Dicke der erfindungsgemäßen abgeflachten, mit Harz beschichteten gedruckten Leiterplatte über die gesamte Fläche der gedruckten Leiterplatte . gleichförmig, ungeachtet der Schaltkreisdichte, und die Dicke der aufgebrachten Harzschicht, die auf der leitfähigen Schaltkreisschicht (Schaltkreis-Kupferfolie) gebildet worden ist, ist fixiert.Therefore, the thickness of the flattened resin-coated printed circuit board of the present invention is over the entire area of the printed circuit board. uniform regardless of the circuit density, and the thickness of the applied resin layer formed on the conductive circuit layer (circuit copper foil) is fixed.

Eine mehrschichtige gedruckte Leiterplatte (insbesondere eine vierschichtige gedruckte Leiterplatte), die als inneres Schichtmaterial oder dergleichen der mehrschichtigen gedruckten Leiterplatte verwendbar ist, kann dadurch hergestellt werden, dass die oben genannte, abgeflachte, mit Harz beschichtete gedruckte Leiterplatte gemäß der Erfindung als Material eingesetzt wird.A multilayer printed circuit board (particularly a four-layer printed circuit board) which can be used as an inner layer material or the like of the multilayer printed circuit board can be manufactured by using the above-mentioned flattened resin-coated printed circuit board according to the invention as the material.

Das heißt, bei der erfindungsgemäßen mehrschichtigen gedruckten Leiterplatte wird zuerst die photo- und wärmehärtende Harzzusammensetzung auf eine Oberfläche und das Durchgangsloch der gedruckten Leiterplatte aufgebracht. Die Stufen (1) und (2) werden nacheinander durchgeführt und die photo- und wärmehärtende Harzzusammensetzung wird dann auf die andere Oberfläche der gedruckten Leiterplatte aufgebracht. Nach der sequentiellen Durchführung der Stufen (1) und (2) wird die folgende Stufe A durchgeführt.That is, in the multilayer printed circuit board of the present invention, the photo and thermosetting resin composition is first applied to a surface and the through hole of the printed circuit board. Steps (1) and (2) are carried out sequentially, and the photo and thermosetting resin composition is then applied to the other surface of the printed circuit board. After the sequential execution of the stages (1) and (2), the following stage A is carried out.

A) Durchführung der Stufe (3) und laminierende Verpressung der gedruckten Leiterplatte, wobei die gedruckte Leiterplatte sandwichartig zwischen Pressbindungsmaterialien angeordnet wird, um die Pressbindungsmaterialien mit der gedruckten Leiterplatte durch Verpressung zu verbinden.A) Performing step (3) and laminating pressing of the printed circuit board, the printed circuit board being sandwiched between press bond materials in order to press-bond the press bond materials to the printed circuit board.

Bei der obigen Stufe (A) wird zuerst die oben genannte abgeflachte, mit Harz beschichtete gedruckte Leiterplatte gemäß der Erfindung wie oben beschrieben in einer Stufe, wo die Stufe (3) vervollständigt worden ist, erhalten.In the above step (A), the above-mentioned flattened resin-coated printed circuit board according to the invention is obtained as described above in a step where step (3) has been completed.

Dann wird die erfindungsgemäße abgeflachte, mit Harz beschichtete gedruckte Leiterplatte mit der abgeflachten, mit Harz beschichteten gedruckten Leiterplatte sandwichartig zwischen den Pressbindungsmaterialien [2A, 213] angeordnet, laminiert und verpresst, wodurch die Pressbindungsmaterialien mit der erfindungsgemäßen abgeflachten, mit Harz beschichteten gedruckten Leiterplatte durch Verpressen verbunden werden bzw. die erfindungsgemäße abgeflachte, mit Harz beschichtete gedruckte Leiterplatte wird sandwichartig zwischen Pressbindungsmaterialien angeordnet [2A, 213], einer Laminierung und Verpressung unterworfen, wodurch die Pressbindungsmaterialien mit der erfindungsgemäßen abgeflachten, mit Harz beschichteten gedruckten Leiterplatte durch Verpressen verbunden werden. Beispiele für die Pressbindungsmaterialien schließen ein Prepreg, eine Kupferfolie mit einem Harz, einen halbgehärteten Harzfilm, eine Adhäsionsfolie, einen trockenen Film und einen Resist ein und typische Beispiele hierfür schließen den Prepreg ein. Die Dicke des Pressbindungsmaterials kann z.B. 50 bis 100 µm betragen. Erforderlichenfalls kann eine Vielzahl von Pressbindungsmaterialien zum Einsatz kommen.Then, the flattened, resin-coated printed circuit board with the flattened, resin-coated printed circuit board is sandwiched between the press bond materials [ 2A , 213 ] arranged, laminated and pressed, whereby the press bond materials with the flattened, resin-coated printed circuit board according to the invention are connected by pressing or the flattened, resin-coated printed circuit board according to the invention is sandwiched between press bond materials [ 2A , 213 ], subjected to lamination and pressing, whereby the press bond materials are connected to the flattened, resin-coated printed circuit board according to the invention by pressing. Examples of the press bond materials include a prepreg, a copper foil with a resin, a semi-hardened resin film, an adhesive foil, a dry film and a resist, and typical examples thereof include the prepreg. The thickness of the press bond material can be, for example, 50 to 100 μm. If necessary, a variety of press bond materials can be used.

Wenn das Pressbindungsmaterial ein halb-thermisch gehärtetes Harz ist, dann wird die Laminierungsverpressung vorzugsweise unter Erhitzen durchgeführt. Wenn die photo- und wärmehärtende Harzzusammensetzung auf die sekundäre Wärmehärtungstemperatur oder höher (insbesondere auf die Reaktionsstarttemperatur der Bestandteils [V] oder mehr) der photo- und wärmehärtenden Harzzusammensetzung erhitzt wird, dann kann die Stufe (3) bei dem obigen Herstellungsverfahren für die abgeflachte, mit Harz beschichtete gedruckte Leiterplatte weggelassen werden.If the press bond material is a semi-thermally hardened resin, then the lamination compression is preferably carried out with heating. If the photo and thermosetting Resin composition is heated to the secondary thermosetting temperature or higher (particularly, the reaction start temperature of the component [V] or more) of the photo- and thermosetting resin composition, then step (3) in the above manufacturing process for the flattened resin-coated printed circuit board can be omitted become.

Das heißt, in diesem Fall wird zuerst die photo- und wärmehärtende Harzzusammensetzung auf eine Oberfläche und in das Durchgangsloch der gedruckten Leiterplatte aufgebracht bzw. eingefüllt. Die Stufen (1) und (2) werden nacheinander durchgeführt. Dann wird die photo- und wärmehärtende Harzzusammensetzung auf die andere Oberfläche der gedruckten Leiterplatte aufgebracht, die Stufen (1) und (2) werden der Reihe nach durchgeführt und dann wird die folgende Stufe (B) durchgeführt.That is, in this case, the photo- and thermosetting resin composition is first applied to a surface and into the through hole of the printed circuit board. Steps (1) and (2) are carried out one after the other. Then, the photo and thermosetting resin composition is applied to the other surface of the printed circuit board, steps (1) and (2) are carried out in order, and then the following step (B) is carried out.

B) Laminierende Verpressung der gedruckten Leiterplatte bei der Wärmehärtungstemperatur des photogehärteten Harzes oder höher, wobei die gedruckte Leiterplatte sandwichartig zwischen den Pressbindungsmaterialien angeordnet wird, wodurch gleichzeitig die Pressbindungsmaterialien pressverbunden werden und die Stufe (3) durchgeführt wird.B) Laminating compression of the printed circuit board at the thermosetting temperature of the photo-hardened resin or higher, the printed circuit board being sandwiched between the press bond materials, whereby the press bond materials are press bonded simultaneously and step (3) is carried out.

Bei der obigen Stufe (B) werden die Pressbindung (und eine perfekte Wärmehärtung) des Pressbindungsmaterials und das sekundäre Wärmehärten [d.h. die Stufe (3)] des photogehärteten Harzes gleichzeitig durchgeführt, indem bei der Wärmehärtungstemperatur oder darüber eine laminierende Verpressung durchgeführt wird.At step (B) above, the press bond (and perfect thermosetting) of the press bond material and the secondary thermosetting [i.e. the step (3)] of the photo-cured resin is carried out simultaneously by laminating at the heat curing temperature or above.

Bei den Stufen (A) und (B) sind die Laminierungspressbedingungen vorzugsweise beispielsweise 120 bis 200°C (insbesondere 135 bis 180°C), 30 bis 180 (insbesondere 60 bis 150) Minuten, wobei der Druck 10 bis 100 (insbesondere 15 bis 40) kp/cm2 beträgt.In stages (A) and (B), the lamination press conditions are preferably, for example, 120 to 200 ° C (in particular 135 to 180 ° C), 30 to 180 (in particular 60 to 150) minutes, the pressure being 10 to 100 (in particular 15 to 40) kp / cm 2 .

Beispielsweise kann das Laminierungsverpressen mittels eines Laminators vom offenen Typ, eines Vakuumlaminators oder dergleichen durchgeführt werden. Weiterhin können solche Laminatoren z.B. eine hydraulische Presse und eine Autoklavenpresse sein. Weiterhin kann die hydraulische Presse vom Vakuum-Typ, vom Rahmen-Typ, vom Kasten-Typ und dergleichen sein.For example, the lamination molding can be performed by an open type laminator, a vacuum laminator, or the like. Furthermore, such laminators can e.g. a hydraulic press and an autoclave press. Furthermore, the hydraulic press can be of the vacuum type, the frame type, the box type and the like.

Bei der Herstellung der erfindungsgemäßen mehrschichtigen gedruckten Leiterplatte wird nach der Durchführung der obigen Stufe (A) oder (B) ein Loch in die Leiterschicht (z.B. Schaltkreis- oder Stromkreisschicht) von der Oberfläche des Pressbindungsmaterials eingebohrt, um einen Mikroweg [FIG. B, 214] eines Blindlochs zu bilden. Der Mikroweg wird als konformaler Weg für die Zwischenschichtverbindung mit der Schaltkreisschicht, gebildet bei einem Nachverfahren, verwendet. Beispielsweise kann das Loch mittels eines Verfahrens unter Verwendung eines Lasers (UV-Laser, CO2-Laser, Excimer-Laser, Nd:YAG-Laser oder dergleichen) oder einer Plasmabehandlung eingebohrt werden. Es wird bevorzugt, dass der Durchmesser des Mikrowegs beispielsweise 10 bis 200 (insbesondere 20 bis 70) µm beträgt.In the manufacture of the multilayer printed circuit board of the present invention, after performing step (A) or (B) above, a hole is drilled in the conductor layer (e.g., circuit or circuit layer) from the surface of the press bond material to provide a micro path [FIG. B, 214] of a blind hole. The micro path is used as a conformal path for the interlayer connection to the circuit layer formed in a post process. For example, the hole can be drilled using a method using a laser (UV laser, CO 2 laser, excimer laser, Nd: YAG laser or the like) or a plasma treatment. It is preferred that the diameter of the micro path is, for example, 10 to 200 (in particular 20 to 70) μm.

Dann wird bei dem erfindungsgemäßen Verfahren zur Herstellung der mehrschichtigen gedruckten Leiterplatte der gesamte Bereich plattiert [2C, 215]. Es ist zu bevorzugen, dass auf beiden Oberflächen die gesamte Fläche plattiert wird. Die freigelegte Oberfläche (die Oberfläche des Pressbindungsmaterials, die Oberfläche der Innenwand des Mikrowegs, die freigelegte Oberfläche der Leiterschicht, die durch den Mikroweg geöffnet worden ist oder dergleichen) wird mit der Plattierungsschicht durch das auf die gesamte Fläche erfolgende Plattieren bedeckt. Die Plattierungsschicht wird für die Zwischenschichtverbindung oder die Schaltkreis- oder Stromkreisbildung des Nach-Prozesses und dergleichen verwendet.Then, in the method according to the invention for producing the multilayer printed circuit board, the entire area is plated [ 2C , 215 ]. It is preferred that the entire surface be plated on both surfaces. The exposed surface (the surface of the press bond material, the surface of the inner wall of the micro path, the exposed surface of the conductor layer opened by the micro path, or the like) is covered with the plating layer by the entire surface plating. The plating layer is used for the interlayer connection or the circuit or circuit formation of the post-process and the like.

Hinsichtlich der Plattierung der gesamten Fläche ist es zuerst zu bevorzugen, ein stromloses Plattieren durchzuführen, um eine Schicht, die als Unterschicht bezeichnet wird, herzustellen, und weiterhin ein elektrolytisches Plattieren durchzuführen. Beispiele für die Bezeichnung „Plattieren“ beim stromlosen Plattieren und beim elektrolytischen Plattieren schließen ein Plattieren mit Kupfer, ein Plattieren mit Nickel, ein Plattieren mit Gold, ein Plattieren mit Nickel-Gold und ein Plattieren mit Lötmittel ein. Das Plattiermittel kann auch das gleiche sein oder es können zwei Arten davon miteinander kombiniert werden. Es ist zu bevorzugen, dass die Schichtdicke der stromlosen Plattierung 0,1 bis 10 (insbesondere 0,5 bis 5) µm beträgt und dass die Schichtdicke der elektrolytischen Plattierung 10 bis 50 (insbesondere 15 bis 30) µm beträgt.With regard to the plating of the entire surface, it is first preferable to perform electroless plating to make a layer called an underlayer, and further to perform electrolytic plating. Examples of the term “plating” in electroless plating and electrolytic plating include plating with copper, plating with nickel, plating with gold, plating with nickel-gold, and plating with solder. The plating agent can also be the same, or two types can be combined. It is preferable that the layer thickness of the electroless plating is 0.1 to 10 (particularly 0.5 to 5) µm and that the layer thickness of the electrolytic plating is 10 to 50 (particularly 15 to 30) µm.

Dann wird bei dem erfindungsgemäßen Verfahren zur Herstellung der mehrschichtigen gedruckten Leiterplatte ein Schaltkreis oder Stromkreis [2D, 216] der oben genannten Gesamtflächen-Plattierungsschicht gebildet. Beispielsweise kann die Bildung des Schaltkreises oder des Stromkreises durch ein subtraktives Verfahren, ein additives Verfahren oder dergleichen erfolgen.Then, in the method of manufacturing the multilayer printed circuit board of the present invention, a circuit or circuit [ 2D , 216 ] of the above-mentioned total area plating layer. For example, the circuit or the circuit can be formed by a subtractive method, an additive method or the like.

Danach wird bei dem erfindungsgemäßen Verfahren zur Herstellung der mehrschichtigen gedruckten Leiterplatte die Oberfläche mit einem Resist bedeckt [2E, 217]. Beispiele für den Resist schließen einen Lötmittelresist, einen Polyimidresist und einen Polyimidfilm ein. Ein typisches Beispiel ist ein Lötmittelresist. Thereafter, in the method according to the invention for producing the multilayer printed circuit board, the surface is covered with a resist [ 2E , 217 ]. Examples of the resist include a solder resist, a polyimide resist and a polyimide film. A typical example is a solder resist.

Der Resist kann beispielsweise durch ein photographisches Verfahren aufgebracht werden, bei dem das Belichten und Entwickeln unter Verwendung einer lichtempfindlichen Resistdruckfarbe oder eines trockenen Films und eines Druckverfahrens unter Verwendung einer Resistdruckfarbe oder dergleichen durchgeführt wird.The resist can be applied, for example, by a photographic method in which exposure and development are carried out using a photosensitive resist ink or a dry film and a printing method using a resist ink or the like.

Ein Öffnungsteil kann erforderlichenfalls auf dem Resist gebildet werden. In diesem Fall wird das Belichten/Entwickeln der Druckfarbe so durchgeführt, dass ein Resistmuster erhalten wird, das einen Öffnungsteil hat. Speziell kann die Öffnung des Resists zur Erzielung eines Auflagenteils [2E, 218] und/oder eines Kontaktteils [2E, 219] in der mehrschichtigen gedruckten Leiterplatte gebildet werden. In diesem Fall wird die mehrschichtige gedruckte Leiterplatte mit einer Resistmasse, ausgenommen dem Aufflagen- und oder Kontaktteil, bedeckt.An opening part can be formed on the resist if necessary. In this case, the exposure / development of the ink is carried out so that a resist pattern is obtained which has an opening part. In particular, the opening of the resist to achieve a support part [ 2E , 218 ] and / or a contact part [ 2E , 219 ] are formed in the multilayer printed circuit board. In this case, the multilayer printed circuit board is covered with a resist material, except for the pad and or contact part.

Eine Auflagenplattierung [2F, 220] und/oder eine Kontaktplattierung [2F, 221] kann weiterhin auf die Oberfläche der Auflage und/oder die Oberfläche des Kontaktteils, exponiert von der Öffnung des Resists, aufgebracht werden, um die Abriebbeständigkeit zu verbessern. Hinsichtlich der Auflagenplattierung und/oder der Kontaktplattierung kann beispielsweise Nickel aufplattiert werden und dann kann weiterhin Gold aufplattiert werden. Die Schichtdicke der Plattierung beträgt vorzugsweise 0,1 bis 20 (insbesondere 0,5 bis 10) µm.A plating [ 2F , 220 ] and / or a contact plating [ 2F , 221 ] can also be applied to the surface of the support and / or the surface of the contact part, exposed from the opening of the resist, in order to improve the abrasion resistance. With regard to the plating and / or the contact plating, for example, nickel can be plated and then gold can also be plated on. The layer thickness of the plating is preferably 0.1 to 20 (in particular 0.5 to 10) μm.

Bezüglich der mehrschichtigen gedruckten Leiterplatte [2F] gemäß der Erfindung, die auf die oben beschriebene Art und Weise hergestellt worden ist, ist es so, dass ungeachtet der Stromkreisdichte eines Kernteils (das heißt eines Teils, der der als Material verwendeten abgeflachten, mit Harz beschichteten gedruckten Leiterplatte entspricht) keine Blasen und Kerben auf der gesamten Oberfläche existieren und dass eine extrem ausgezeichnete Flachheit erhalten wird. Die Dicke der isolierenden Schicht (der gehärteten Harzschicht und der Schicht aus dem Pressbindungsmaterial), die auf der leitenden Stromkreisschicht (Stromkreiskupferfolie) des Kernteils gebildet worden ist, ist ebenfalls in extremer Art und Weise fixiert.Regarding the multilayer printed circuit board [ 2F ] According to the invention made in the manner described above, regardless of the circuit density of a core part (that is, a part corresponding to the flattened resin-coated printed circuit board used as the material), no bubbles and Notches exist on the entire surface and that an extremely excellent flatness is obtained. The thickness of the insulating layer (the hardened resin layer and the layer of the press bond material) formed on the conductive circuit layer (circuit copper foil) of the core part is also extremely fixed.

Die gedruckte Leiterplatte (insbesondere die doppelseitig bedruckte Leiterplatte), die als Grundmaterial für eine äußere Schicht oder dergleichen der mehrschichtigen gedruckten Leiterplatte verwendbar ist, kann dadurch hergestellt werden, dass die erfindungsgemäße abgeflachte, mit Harz beschichtete gedruckte Leiterplatte als Material verwendet wird. Das heißt, bei dem erfindungsgemäßen Verfahren zur Herstellung der gedruckten Leiterplatte wird die photo- und wärmehärtende Harzzusammensetzung auf eine Oberfläche und in das Durchgangsloch der gedruckten Leiterplatte aufgebracht bzw. eingefüllt, und nacheinander werden die Stufen (1) und (2) durchgeführt. Die photo- und wärmehärtende Harzzusammensetzung wird dann auf die andere Oberfläche der gedruckten Leiterplatte aufgebracht und der Reihe nach werden die Stufen (1) bis (3) durchgeführt, um zuerst eine erfindungsgemäße abgeflachte, mit Harz beschichtete gedruckte Leiterplatte zu erhalten [3A].The printed circuit board (especially the double-sided printed circuit board) which can be used as a base material for an outer layer or the like of the multi-layer printed circuit board can be manufactured by using the flattened resin-coated printed circuit board as the material. That is, in the method of manufacturing the printed circuit board of the present invention, the photo and thermosetting resin composition is applied to a surface and filled in the through hole of the printed circuit board, and steps (1) and (2) are carried out sequentially. The photo- and thermosetting resin composition is then applied to the other surface of the printed circuit board, and steps (1) to (3) are carried out in order to first obtain a flattened resin-coated printed circuit board according to the present invention [ 3A ].

Die Öffnung wird dann in der Schicht des aufgeschichteten Harzes (gehärteten Harzes) der abgeflachten, mit Harz beschichteten gedruckten Leiterplatte gebildet. Bei diesem Gesichtspunkt wirkt die aufgeschichtete Harzschicht als Resist [3B].The opening is then formed in the layer of the coated resin (hardened resin) of the flattened resin-coated printed circuit board. From this point of view, the coated resin layer acts as a resist [ 3B ].

Die Öffnung der aufgeschichteten Harzschicht kann durch ein Verfahren gebildet werden, bei dem ein Laser (ein UV-Laser, ein CO2-Laser, ein Excimer-Laser, ein Nd:YAG-Laser oder dergleichen) oder eine Plasmabehandlung wie oben beschrieben angewendet werden. Speziell kann die Öffnung der aufgeschichteten Harzschicht dadurch gebildet werden, dass ein Auflagen- [3B, 318] und/oder Kontaktteil [3B, 319] in der gedruckten Leiterplatte angeordnet wird. Weiterhin werden eine Auflagenplattierung [3C, 320] und/oder eine Kontaktplattierung [3C, 321] auf die Oberfläche der Auflage und/oder die Oberfläche des Kontaktteils aufgebracht.The opening of the layered resin layer may be formed by a method using a laser (a UV laser, a CO 2 laser, an excimer laser, an Nd: YAG laser or the like) or a plasma treatment as described above . Specifically, the opening of the layered resin layer can be formed by applying a platen [ 3B , 318 ] and / or contact part [ 3B , 319 ] is placed in the printed circuit board. Furthermore, a plating [ 3C , 320 ] and / or a contact plating [ 3C , 321 ] applied to the surface of the support and / or the surface of the contact part.

Bezug nehmend auf die erfindungsgemäße gedruckte Leiterplatte [3C], die auf die oben beschriebene Art und Weise hergestellt worden ist, liegen auf der Oberfläche keinerlei Blasen und Kerben vor und es wird eine extrem ausgezeichnete Flachheit erhalten. Daher hat die gedruckte Leiterplatte eine ausgezeichnete Ortsgenauigkeit, wenn Mikrokomponenten mit hoher Dichte aufmontiert werden, und die gesamte gedruckte Leiterplatte hat eine gleichförmige Dicke, ungeachtet der Stromkreisdichte, und die Gesamtheit (alle Flächen) der gedruckten Leiterplatte ist mit einer flachen Harzschicht (insbesondere einem Lötmittel-Resistfilm) bedeckt. Als Ergebnis hat die gedruckte Leiterplatte auch ausgezeichnete Eintrittseigenschaften der Unterfüllung, wenn BGA (Ballgitteranordnung) mit einem engen Abstand, beispielsweise BGA, deren Abstand der Bondhügel 100 µm oder weniger ist, montiert wird.Referring to the printed circuit board of the present invention [ 3C ] made in the manner described above, there are no bubbles and nicks on the surface, and extremely excellent flatness is obtained. Therefore, the printed circuit board has excellent location accuracy when high-density microcomponents are mounted, and the entire printed circuit board has a uniform thickness regardless of the circuit density, and the entirety (all faces) of the printed circuit board is covered with a flat resin layer (especially a solder) -Resist film) covered. As a result, the printed circuit board also has excellent entry properties of the underfill when BGA (ball grid arrangement) is mounted with a close spacing, for example BGA, the spacing of which is 100 µm or less.

Die Erfindung wurde oben beschrieben. Der Fachmann kann jedoch die Erfindung leicht modifizieren und ausdehnen. Beispielsweise kann bei dem Herstellungsverfahren der erfindungsgemäßen mehrschichtigen gedruckten Leiterplatte „ein Plattierungsresist [4A, 422] gebildet werden und die Plattierung [4B, 415] kann auf einen Teil aufgebracht werden, der nicht mit dem Plattierungsresist bedeckt ist, um den Stromkreis zu bilden [4C, 416]“, anstelle dass „eine Aufbringung einer Gesamtflächenplattierung und eine Bildung des Stromkreises von der Plattierungsschicht erfolgt.“The invention has been described above. However, those skilled in the art can easily modify and extend the invention. For example, in the manufacturing method of the multilayer printed circuit board of the present invention, “a plating resist [ 4A , 422 ] are formed and the plating [ 4B , 415 ] can be applied to a part that is not covered with the plating resist to form the circuit [ 4C , 416 ] ”Instead of“ applying a total area plating and forming the circuit from the plating layer. ”

Weiterhin kann die mehrschichtige gedruckte Leiterplatte mit der gewünschten Anzahl der Schichten dadurch hergestellt werden, dass die einzelnen Herstellungsstufen beim Verfahren zur Herstellung der erfindungsgemäßen mehrschichtigen gedruckten Leiterplatte wiederholt werden.Furthermore, the multilayer printed circuit board with the desired number of layers can be produced by repeating the individual production steps in the method for producing the multilayer printed circuit board according to the invention.

Weiterhin kann bei dem erfindungsgemäßen Verfahren zur Herstellung der mehrschichtigen gedruckten Leiterplatte die Bezeichnung „Kupferfolie mit Harz“ [5A, 523 und 524] als Bezeichnung für das „Pressbindungsmaterial“ verwendet werden. In diesem Fall kann die „Gesamtflächenplattierung“ des Nach-Behandlungsprozesses ebenfalls weggelassen werden (5).Furthermore, in the method according to the invention for producing the multilayer printed circuit board, the term “copper foil with resin” [ 5A , 523 and 524 ] can be used as a designation for the "press binding material". In this case, the "total surface plating" of the post-treatment process can also be omitted ( 5 ).

Die angestrebte mehrschichtige gedruckte Leiterplatte mit zugestöpselten Löchern, bei der die Anzahl der Schichten größer ist und die Schichtstruktur komplizierter ist, kann dadurch hergestellt werden, dass in geeigneter Weise eine Mehrzahl von abgeflachten, mit Harz beschichteten gedruckten Leiterplatten, von mehrschichtigen gedruckten Leiterplatten und von gedruckten Leiterplatten der Erfindung als Grundmaterial für die innere Schicht oder als Grundmaterial für die äußere Schicht kombiniert werden und dass die Zusammenstellung anschließend laminiert wird.The desired plugged-hole multilayer printed circuit board, in which the number of layers is larger and the layer structure is more complicated, can be manufactured by suitably making a plurality of flattened resin-coated printed circuit boards, multilayer printed circuit boards, and printed ones Printed circuit boards of the invention can be combined as a base material for the inner layer or as a base material for the outer layer and that the assembly is then laminated.

Weiterhin kann bei einem beliebigen erfindungsgemäßen Herstellungsverfahren eine andere Adhäsionsfolie und ein anderes Beschichtungsmaterial oder eine Kupferfolie mit dem Harz anstelle des Prepregs verwendet werden und als Ergebnis kann eine mehrschichtige gedruckte Leiterplatte mit zugestöpselten Löchern mit der gewünschten Struktur hergestellt werden.Furthermore, in any manufacturing method according to the present invention, another adhesive sheet and a different coating material or a copper sheet with the resin can be used instead of the prepreg, and as a result, a multilayer printed circuit board with plugged holes having the desired structure can be manufactured.

Weiterhin können, obgleich die Stufe (1) mit einer Druckwalze unter Verwendung des Deckfilms bei dem erfindungsgemäßen Herstellungsverfahren beschrieben wurde, andere Objekte (eine Form, eine Platte, eine Folie und andere), die anders als ein Film sind, verwendet werden.Furthermore, although step (1) has been described with a platen roller using the cover film in the manufacturing method of the present invention, other objects (a shape, a plate, a film and others) other than a film can be used.

[Beispiele][Examples]

Nachstehend wird die Erfindung speziell in den Beispielen unter Bezugnahme auf die Zeichnungen weiter beschrieben.In the following, the invention will be further described specifically in the examples with reference to the drawings.

<Herstellung der photo- und wärmehärtenden Harzzusammensetzung><Production of photo- and thermosetting resin composition>

- Herstellungsbeispiel 1- Production example 1

Die unten angegebenen Bestandteile wurden verrührt und gemischt. Dann wurde das resultierende Gemisch gleichförmig in einer Dreiwalzenmühle dispergiert. Die erhaltene gleichförmige Dispersion wurde im Vakuum entschäumt, um eine photo- und wärmehärtende Harzzusammensetzung herzustellen (Herstellungsbeispiel 1)The ingredients listed below were stirred and mixed. Then the resulting mixture was uniformly dispersed in a three-roll mill. The obtained uniform dispersion was defoamed in vacuo to prepare a photo- and thermosetting resin composition (Production Example 1)

Photo- und wärmehärtende Harzzusammensetzung (Gew.-Teile):

  • 40% (Meth)acrylsäureaddukt eines Epoxyharzes vom Dicyclopentadienphenol-Typ (100), Dicyclopentanylmethacrylat (30), Trimethylolpropantriacrylat(70), Dipentaerythrithexaacrylat (80), 2-Methyl-1-[4-(methylthio)phenyl]-2-morpholinopropan-1-on (10), Diethylthioxanthon (1), Epoxyharz vom Bisphenol A-Typ1) (80), Epoxyharz vom Bisphenol AD-Typ (20), Dicyandiamid (10), Siliciumdioxid (250), Oberflächenbehandeltes kolloidales Siliciumdioxid (6) und Polydimethylsiloxan (3).
Photo and thermosetting resin composition (parts by weight):
  • 40% (meth) acrylic acid adduct of a dicyclopentadiene phenol type epoxy resin (100), dicyclopentanyl methacrylate (30), trimethylolpropane triacrylate (70), dipentaerythritol hexaacrylate (80), 2-methyl-1- [4- (methylthio) phenyl] -2-morpholinopropane 1-one (10), diethylthioxanthone (1), bisphenol A type 1 epoxy resin (80), bisphenol AD type epoxy resin (20), dicyandiamide (10), silicon dioxide (250), surface-treated colloidal silicon dioxide (6) and polydimethylsiloxane (3).

1) Das Gemisch aus dem flüssigen Epoxyharz (86 Gew.-%) mit n=0 und dem flüssigen Epoxyharz (14 Gew.-%) mit n=1 in der Formel [Chemische Formel IV1-1]. Das mittlere Molekulargewicht betrug 3801) The mixture of the liquid epoxy resin (86% by weight) with n = 0 and the liquid epoxy resin (14% by weight) with n = 1 in the formula [Chemical formula IV1-1]. The average molecular weight was 380

<Herstellung der thermo/wärmehärtenden Harzzusammensetzung> <Production of thermo / thermosetting resin composition>

- Herstellungsbeispiel 2- Production example 2

Die unten angegebenen Bestandteile wurden verrührt und gemischt. Dann wurde das resultierende Gemisch gleichförmig in einer Dreiwalzenmühle dispergiert. Die erhaltene gleichförmige Dispersion wurde im Vakuum entschäumt, um eine photo- und wärmehärtende Harzzusammensetzung herzustellen (Herstellungsbeispiel 2).The ingredients listed below were stirred and mixed. Then the resulting mixture was uniformly dispersed in a three-roll mill. The obtained uniform dispersion was defoamed in vacuo to prepare a photo- and thermosetting resin composition (Production Example 2).

Thermo/wärmehärtende Harzzusammensetzung (Gew.-Teile):

  • Epoxyharz vom Triphenylmethan-Typ (19), N,N,O-Tris(glycidyl)-p-aminophenol (28), Dicyandiamid (2), Epoxyharz-Aminaddukt (1), Aluminiumhydroxid (49), Bentonit (0,5), Polydimethylsiloxan (0,5).
Thermo / thermosetting resin composition (parts by weight):
  • Triphenylmethane type epoxy resin (19), N, N, O-tris (glycidyl) -p-aminophenol (28), dicyandiamide (2), epoxy resin amine adduct (1), aluminum hydroxide (49), bentonite (0.5) , Polydimethylsiloxane (0.5).

<Herstellung der gedruckten Leiterplatte><Manufacturing the Printed Circuit Board>

- Beispiel 1- Example 1

Es wurde eine doppelseitig bedruckte Leiterplatte [Dicke eines Kupferstromkreises: 40 µm, Linie/Abstand (L/S) 20 µm/40 µm, Durchmesser des Durchgangslochs nach der Plattierung 100 µm], wobei die Stromkreisschichten [1A, 102] auf beiden Oberflächen eines Grundmaterials [Dicke. 0,930 mm, [1A, 101] gebildet worden waren, und eine Kupferplattierung auf der inneren Wand des Durchgangslochs gebildet war [1A, 103] verwendet. Es wurde eine doppelseitig bedruckte Leiterplatte verwendet, wobei die Oberfläche einer leitfähigen Schicht (Stromkreis und Kupferplattierung der inneren Wand des Durchgangslochs) zuvor einer Aufrauungsbehandlung mit der Bezeichnung „MECetchBOND CZ-8101“ (hergestellt von MECetchBOND CO. LTD., Aufrauungschemikalien) unterworfen worden war.There was a double-sided printed circuit board [thickness of a copper circuit: 40 microns, line / distance (L / S) 20 microns / 40 microns, diameter of the through hole after plating 100 microns], the circuit layers [ 1A , 102 ] on both surfaces of a base material [thickness. 0.930 mm, [ 1A , 101 ] and a copper plating was formed on the inner wall of the through hole [ 1A , 103 ] used. A double-sided printed circuit board was used, and the surface of a conductive layer (circuit and copper plating of the inner wall of the through hole) was previously subjected to a roughening treatment called "MECetchBOND CZ-8101" (manufactured by MECetchBOND CO. LTD., Roughening chemicals) .

Ein Siebdruck wurde auf die photo- und wärmehärtende Harzzusammensetzung (Herstellungsbeispiel 1) [1B, 105] gemäß den in der folgenden Tabelle 5 gezeigten Druckbedingungen aufgebracht und die photo- und wärmehärtende Harzzusammensetzung wurde auf die gesamte Fläche einer Oberfläche (vorhergegangene Seite) der oben genannten gedruckten Leiterplatte aufgebracht. Das Durchgangsloch und die Aussparung zwischen den Stromkreisen [1B, 104] wurde gefüllt und das Loch wurde mit der photo- und wärmehärtenden Harzzusammensetzung verschlossen. Tabelle 5 Druckbedingungen Sieb Masche: V280, Dicke der Emulsion: 15 µ Druckrakel Härte 90, 9,5 mm, Breite 3 mm links und 20° geschnitten Druckbedingungen Druck beim Druckvorgang (kp) 75 Pushing (mm) 1,5 Anordnungswinkel der Druckrakel (°) 85 Geschwindigkeit der Druckrakel (mm/s) 15 Off-Kontakt (mm) 10 Spalt (mm) 3,5 Screen printing was made on the photo and thermosetting resin composition (Production Example 1) [ 1B , 105 ] was applied in accordance with the printing conditions shown in Table 5 below, and the photo and thermosetting resin composition was applied to the entire surface of one surface (previous side) of the above printed circuit board. The through hole and the recess between the circuits [ 1B , 104 ] was filled and the hole was closed with the photo and thermosetting resin composition. Table 5 Printing conditions Sieve Mesh: V280, thickness of the emulsion: 15 µ Squeegee Hardness 90, 9.5 mm, width 3 mm left and 20 ° cut Printing conditions Pressure during printing (kp) 75 Pushing (mm) 1.5 Arrangement angle of the squeegee (°) 85 Speed of the squeegee (mm / s) 15 Off contact (mm) 10th Gap (mm) 3.5

Dann wurde die gedruckte Leiterplatte 30 Minuten in einem Kasten-Trockner auf 80°C erhitzt, wobei die gedruckte Leiterplatte auf ein horizontales Gestell gebracht wurde, um die Viskosität zu verringern und Blasen in dem aufgetragenen Harz zu entfernen. Die aufgetragene photo- und wärmehärtende Harzzusammensetzung (Herstellungsbeispiel 1) wurde mittels eines Mikroskops bei 50facher Vergrößerung inspiziert und die mikroskopische Inspektion bestätigte die Abwesenheit von Blasen zwischen Stromkreisen oder zwischen den Schaltkreisen.The printed circuit board was then heated in a box dryer to 80 ° C for 30 minutes, placing the printed circuit board on a horizontal stand to reduce the viscosity and remove bubbles in the applied resin. The applied photo- and thermosetting resin composition (Production Example 1) was inspected by a microscope at 50 × magnification, and the microscopic inspection confirmed the absence of bubbles between circuits or between the circuits.

Dann wurde die gedruckte Leiterplatte einer Laminierungsvorrichtung unterworfen, wobei die gedruckte Leiterplatte sandwichartig zwischen PET-Filmen angeordnet war [1C, 106], welche eine Filmdicke von 100 µm hatten. In der mit dem Film bedeckten gedruckten Leiterplatte, die sandwichartig zwischen zwei Walzen [1D, 107], hergestellt aus Edelstahl, angeordnet waren (Laminierungsdruck: 0,1 MPa, Laminierungsgeschwindigkeit: 0,5 m/min, Laminierungstemperatur: 100°C) wurden die Walzen auf dem Film bewegt [1D, 108]. Auf diese Weise wurde die auf der Oberfläche der gedruckten Leiterplatte gebildete aufgetragene Harzschicht abgeflacht und verdünnt [1D]. Then, the printed circuit board was subjected to a laminator, the printed circuit board being sandwiched between PET films [ 1C , 106 ], which had a film thickness of 100 µm. In the printed circuit board covered with the film, sandwiched between two rollers [ 1D , 107 ] made of stainless steel, were arranged (lamination pressure: 0.1 MPa, lamination speed: 0.5 m / min, lamination temperature: 100 ° C), the rollers were moved on the film [ 1D , 108 ]. In this way, the coated resin layer formed on the surface of the printed circuit board was flattened and thinned [ 1D ].

Dann wurde die oben genannte gedruckte Leiterplatte einer Lichtbestrahlung bei einer Belichtung von 1200 mJ/cm2 unter Verwendung einer Hochdruckquecksilberbogenlampe unterworfen, um ein primär photogehärtetes Material herzustellen [1E, 109]. Die oben genannten PET-Filme, die auf beide Oberflächen aufgeschichtet worden waren, wurden abgezogen und entfernt [1E].Then, the above printed circuit board was subjected to light irradiation at an exposure of 1200 mJ / cm 2 using a high pressure mercury arc lamp to produce a primary photo-cured material [ 1E , 109 ]. The above-mentioned PET films, which had been coated on both surfaces, were peeled off and removed [ 1E ].

Dann wurde die rückseitige Oberfläche (folgende Oberfläche) der obigen gedruckten Leiterplatte gleichfalls in der gleichen Art und Weise wie bei der vorhergegangenen Seite behandelt. Das heißt, ein Siebdruck wurde auf die photo- und wärmehärtende Harzzusammensetzung (Herstellungsbeispiel 1) [1F, 105] gemäß den in Tabelle 5 gezeigten Druckbedingungen aufgebracht und die photo- und wärmehärtende Harzzusammensetzung wurde auf die gesamte Fläche der anderen Seiten (folgende Oberfläche) der obigen gedruckten Leiterplatte aufgebracht. Die Aussparung zwischen den Stromkreisen [1F, 104] wurde mit der photo- und wärmehärtenden Harzzusammensetzung gefüllt.Then, the back surface (following surface) of the above printed circuit board was also treated in the same manner as in the previous page. That is, screen printing was applied to the photo- and thermosetting resin composition (Production Example 1) [ 1F , 105 ] was applied in accordance with the printing conditions shown in Table 5, and the photo- and thermosetting resin composition was applied to the entire area of the other sides (following surface) of the above printed circuit board. The gap between the circuits [ 1F , 104 ] was filled with the photo and thermosetting resin composition.

Dann wurde die gedruckte Leiterplatte 30 Minuten in einem Kasten-Trockner auf 80°C erhitzt, wobei die gedruckte Leiterplatte auf ein horizontales Gestell gebracht wurde, um die Viskosität zu verringern und Blasen in dem aufgetragenen Harz zu entfernen. Die aufgetragene photo- und wärmehärtende Harzzusammensetzung (Herstellungsbeispiel 1) wurde mittels eines Mikroskops bei 50facher Vergrößerung inspiziert und die mikroskopische Inspektion bestätigte die Abwesenheit von Blasen zwischen Stromkreisen oder zwischen den Schaltkreisen.The printed circuit board was then heated in a box dryer to 80 ° C for 30 minutes, placing the printed circuit board on a horizontal stand to reduce the viscosity and remove bubbles in the applied resin. The applied photo- and thermosetting resin composition (Production Example 1) was inspected by a microscope at 50 × magnification, and the microscopic inspection confirmed the absence of bubbles between circuits or between the circuits.

Hierauf wurde die gedruckte Leiterplatte sandwichartig zwischen PET-Filmen [1G, 106] mit einer Filmdicke von 100 um angeordnet. Mit der mit dem Film bedeckten gedruckten Leiterplatte, die sandwichartig zwischen zwei Walzen [1G, 107], hergestellt aus Edelstahl, angeordnet war (Laminierungsdruck: 0,1 MPa, Laminierungsgeschwindigkeit: 0,5 m/min, Laminierungstemperatur: 100°C), wurden die Walzen auf dem Film bewegt [1G, 108]. Auf diese Weise wurde die auf der Oberfläche der gedruckten Leiterplatte aufgetragene gebildete Harzschicht abgeflacht und verdünnt. [1H].The printed circuit board was then sandwiched between PET films [ 1G , 106 ] with a film thickness of 100 µm. With the printed circuit board covered with the film sandwiched between two rollers [ 1G , 107 ], made of stainless steel, was arranged (lamination pressure: 0.1 MPa, lamination speed: 0.5 m / min, lamination temperature: 100 ° C), the rollers were moved on the film [ 1G , 108 ]. In this way, the resin layer formed coated on the surface of the printed circuit board was flattened and thinned. [ 1H ].

Dann wurde die oben genannte gedruckte Leiterplatte einer Lichtbestrahlung bei einer Belichtung von 1200 mJ/cm2 unter Verwendung einer Hochdruckquecksilberbogenlampe unterworfen, um ein primär photogehärtetes Material herzustellen. Die oben genannten PET-Filme, die auf beide Oberflächen aufgeschichtet worden waren, wurden abgezogen und entfernt [1E].Then, the above printed circuit board was subjected to light irradiation at an exposure of 1200 mJ / cm 2 using a high pressure mercury arc lamp to produce a primary photo-cured material. The above-mentioned PET films, which had been coated on both surfaces, were peeled off and removed [ 1E ].

Hierauf wurde die gedruckte Leiterplatte 30 Minuten auf 150°C erhitzt, um die sekundäre Wärmehärtung des photogehärteten Harzes durchzuführen [1I, 110], wodurch eine abgeflachte, mit Harz beschichtete gedruckte Leiterplatte (Beispiel 1) gemäß der Erfindung erhalten wurde, deren gesamte Dicke 1,018 mm [1I] betrug.Thereafter, the printed circuit board was heated at 150 ° C for 30 minutes to carry out the secondary thermosetting of the photo-hardened resin [ 1I , 110 ], whereby a flattened resin-coated printed circuit board (Example 1) according to the invention was obtained, the total thickness of which was 1.018 mm [ 1I ] amounted to.

- Beispiel 2- Example 2

Es wurde eine doppelseitig bedruckte Leiterplatte [Dicke eines Kupfer-Stromkreises: 40 um, (L/S) 20 µm/40 µm, Durchmesser des Durchgangslochs nach der Plattierung: 100 µm] verwendet, bei der Stromkreisschichten auf beiden Oberflächen eines Grundmaterials mit einer Dicke von 0,930 mm gebildet worden waren, und eine Kupferplattierung auf der inneren Wand des Durchgangslochs gebildet worden war. Es wurde eine doppelseitig bedruckte Leiterplatte verwendet, wobei die Oberfläche einer leitfähigen Schicht (Stromkreis und Kupferplattierung der inneren Wand des Durchgangslochs) zuvor einer Aufrauungsbehandlung mit der Bezeichnung „MECetchBOND CZ-8101“ unterworfen worden war.A double-sided printed circuit board [thickness of a copper circuit: 40 µm, (L / S) 20 µm / 40 µm, diameter of the through hole after plating: 100 µm] was used in which circuit layers on both surfaces of a base material with a thickness of 0.930 mm, and copper plating was formed on the inner wall of the through hole. A double-sided printed circuit board was used, the surface of a conductive layer (circuit and copper plating of the inner wall of the through hole) had previously been subjected to a roughening treatment with the designation “MECetchBOND CZ-8101”.

Ein Siebdruck wurde auf die photo- und wärmehärtende Harzzusammensetzung (Herstellungsbeispiel 1) bei den in der folgenden Tabelle 5 angegebenen Druckbedingungen unter Verwendung einer Vakuumdruckmaschine aufgebracht und die photo- und wärmehärtende Harzzusammensetzung wurde auf die gesamte Fläche einer Oberfläche (vorhergegangene Oberfläche) der obigen Leiterplatte aufgebracht. Das Durchgangsloch und die Aussparung zwischen den Stromkreisen wurden gefüllt und das Loch wurde mit der photo- und wärmehärtenden Harzzusammensetzung gepluggt.Screen printing was applied to the photo and thermosetting resin composition (Production Example 1) under the printing conditions shown in Table 5 below using a vacuum printing machine, and the photo and thermosetting resin composition was applied to the entire surface of one surface (previous surface) of the above circuit board . The through hole and the gap between the circuits was filled and the hole was plugged with the photo and thermosetting resin composition.

Dann wurde die gedruckte Leiterplatte einem Laminator unterworfen, wobei die gedruckte Leiterplatte sandwichartig zwischen PET-Filmen mit einer Filmdicke von 100 µm angeordnet war. Mit der mit dem Film bedeckten Leiterplatte, die sandwichartig zwischen zwei Walzen, hergestellt aus Edelstahl, angeordnet war (Laminierungsdruck: 0,1 MPa, Laminierungsgeschwindigkeit: 0,5 m/min, Laminierungstemperatur: Raumtemperatur), wurden die Walzen auf dem Film bewegt. Auf diese Weise wurde die aufgebrachte Harzschicht, die auf der Oberfläche der gedruckten Leiterplatte gebildet worden war, abgeflacht und verdünnt.Then the printed circuit board was subjected to a laminator, the printed circuit board being sandwiched between PET films having a film thickness of 100 µm. With the circuit board covered with the film sandwiched between two rollers made of stainless steel (lamination pressure: 0.1 MPa, lamination speed: 0.5 m / min, lamination temperature: room temperature), the rollers were moved on the film. In this way, the applied resin layer formed on the surface of the printed circuit board was flattened and thinned.

Dann wurde die oben genannte gedruckte Leiterplatte einer Lichtbestrahlung bei einer Belichtung von 1200 mJ/cm2 unter Verwendung einer Hochdruckquecksilberbogenlampe unterworfen, um ein primär photogehärtetes Material herzustellen. Die oben genannten PET-Filme, die auf beide Oberflächen aufgeschichtet worden waren, wurden abgezogen und entfernt.Then, the above printed circuit board was subjected to light irradiation at an exposure of 1200 mJ / cm 2 using a high pressure mercury arc lamp to produce a primary photo-cured material. The above-mentioned PET films, which had been coated on both surfaces, were peeled off and removed.

Anschließend wurde die rückseitige Oberfläche (folgende Oberfläche) der obigen gedruckten Leiterplatte ebenfalls in der gleichen Art und Weise wie die vorhergegangene Oberfläche behandelt. Das heißt, ein Siebdruck wurde auf die photo- und wärmehärtende Harzzusammensetzung (Herstellungsbeispiel 1) bei den in der folgenden Tabelle 5 gezeigten Druckbedingungen unter Verwendung einer Vakuumdruckmaschine aufgebracht und die photo- und wärmehärtende Harzzusammensetzung wurde auf die gesamte Fläche der anderen Oberfläche (folgende Oberfläche) der obigen Leiterplatte aufgebracht. Die Aussparung zwischen den Stromkreisen wurde mit der photo- und wärmehärtenden Harzzusammensetzung gefüllt.Then, the back surface (following surface) of the above printed circuit board was also treated in the same manner as the previous surface. That is, screen printing was applied to the photo- and thermosetting resin composition (Production Example 1) under the printing conditions shown in Table 5 below using a vacuum printing machine, and the photo- and thermosetting resin composition was applied to the entire area of the other surface (following surface) the above circuit board applied. The gap between the circuits was filled with the photo and thermosetting resin composition.

Dann wurde die gedruckte Leiterplatte sandwichartig zwischen PET-Filmen mit einer Filmdicke von 100 µm angeordnet. Mit der mit dem Film bedeckten gedruckten Leiterplatte, die sandwichartig zwischen zwei Walzen aus Edelstahl angeordnet war (Laminierungsdruck: 0,1 MPa, Laminierungsgeschwindigkeit: 0,5 m/min, Laminierungstemperatur: Raumtemperatur), wurden die Walzen auf dem Film bewegt. Auf diese Weise wurde die aufgebrachte Harzschicht, die auf der Oberfläche der gedruckten Leiterplatte gebildet worden war, abgeflacht und verdünnt.Then the printed circuit board was sandwiched between PET films with a film thickness of 100 µm. With the printed circuit board covered with the film sandwiched between two stainless steel rollers (lamination pressure: 0.1 MPa, lamination speed: 0.5 m / min, lamination temperature: room temperature), the rollers were moved on the film. In this way, the applied resin layer formed on the surface of the printed circuit board was flattened and thinned.

Dann wurde die oben genannte gedruckte Leiterplatte einer Lichtbestrahlung bei einer Belichtung von 1200 mJ/cm2 unter Verwendung einer Hochdruckquecksilberbogenlampe unterworfen, um ein primär photogehärtetes Material herzustellen. Die oben genannten PET-Filme, die auf beide Oberflächen aufgeschichtet worden waren, wurden abgezogen und entfernt.Then, the above printed circuit board was subjected to light irradiation at an exposure of 1200 mJ / cm 2 using a high pressure mercury arc lamp to produce a primary photo-cured material. The above-mentioned PET films, which had been coated on both surfaces, were peeled off and removed.

Hierauf wurde die gedruckte Leiterplatte 30 Minuten lang auf 150°C erhitzt, um eine sekundäre Wärmehärtung des photogehärteten Harzes durchzuführen, wodurch eine abgeflachte, mit Harz beschichtete gedruckte Leiterplatte (Beispiel 2) gemäß der Erfindung mit einer Gesamtdicke von 1030 mm hergestellt wurde.Thereafter, the printed circuit board was heated at 150 ° C for 30 minutes to perform secondary thermosetting of the photocured resin, whereby a flattened resin-coated printed circuit board (Example 2) according to the invention with a total thickness of 1030 mm was produced.

- Beispiel 3- Example 3

Die obige gedruckte Leiterplatte (Beispiel 1) wurde als Grundmaterial zur Herstellung einer vierschichtigen gedruckten Leiterplatte verwendet. Das heißt, zuerst wurden beide Oberflächen der obigen gedruckten Leiterplatte (Beispiel 1) mit Prepregs [2A, 213] mit einer Dicke von 0,1 mm bedeckt, so dass die gedruckte Leiterplatte sandwichartig zwischen den Prepregs angeordnet war.The above printed circuit board (Example 1) was used as a base material for producing a four-layer printed circuit board. That is, first both surfaces of the above printed circuit board (Example 1) were prepregs [ 2A , 213 ] covered with a thickness of 0.1 mm, so that the printed circuit board was sandwiched between the prepregs.

Hierauf wurde gemäß den Pressbedingungen der Tabelle 6 die oben genannte gedruckte Leiterplatte erhitzt und im Vakuum verpresst, um die Prepregs durch Verpressung zu binden. Tabelle 6 Stunden (Minuten) Temperatur (°C) Druck (kp/cm2) Bemerkungen Vor dem Start Raumtemperatur 0 Start bei 10 135 15 Anstieg der Temperatur/Anstieg des Drucks 10 bis 30 135 30 Anstieg des Drucks 30 bis 130 180 30 Anstieg der Temperatur/Anstieg des Drucks 130 bis 159 Raumtemperatur 30 Abkühlen 159 bis 160 Raumtemperatur 0 Erniedrigung des Drucks Thereupon, the above-mentioned printed circuit board was heated and pressed in vacuo in accordance with the pressing conditions in Table 6 in order to bind the prepregs by pressing. Table 6 Hours minutes) Temperature (° C) Pressure (kp / cm 2 ) Remarks Before the start Room temperature 0 Start at 10 135 15 Rise in temperature / rise in pressure 10 to 30 135 30th Increase in pressure 30 to 130 180 30th Rise in temperature / rise in pressure 130 to 159 Room temperature 30th cooling down 159 to 160 Room temperature 0 Lowering the pressure

Dann wurde ein Laser von der Oberfläche des Prepregs der obigen gedruckten Leiterplatte aufgestrahlt, um eine Stromkreisschicht freizulegen [2B und 202], wodurch ein Mikroweg (Wegdurchmesser: 70 pm) gebildet wurde [2B, 214] [2B].Then, a laser was irradiated from the surface of the prepreg of the above printed circuit board to expose a circuit layer [ 2 B and 202 ], whereby a micro path (path diameter: 70 pm) was formed [ 2 B , 214 ] [ 2 B ].

Dann wurde eine Kupferplattierung (zuerst eine stromlose Kupferplattierung und danach eine elektrolytische Kupferplattierung) auf beiden Oberflächen der oben genannten gedruckten Leiterplatte und der Oberfläche der inneren Wand des Mikrowegs durchgeführt [2C, 215] und die Oberfläche des Wegs und des Prepregs wurden mit der Kupferfolie bedeckt, um ein doppelseitiges Kupferplattierungslaminat zu bilden. Die Plattierungsdicke der stromlosen Kupferplattierung und der elektrolytischen Plattierung betrugen 1 µm bzw. 14 µm.Then, copper plating (first electroless copper plating and then electrolytic copper plating) was carried out on both surfaces of the above printed circuit board and the surface of the inner wall of the micro path [ 2C , 215 ] and the surface of the path and prepreg were covered with the copper foil to form a double-sided copper plating laminate. The plating thickness of the electroless copper plating and the electrolytic plating were 1 µm and 14 µm, respectively.

Dann wurde ein Stromkreis [2D, 216] wie folgt auf beiden Oberflächen des obigen doppelseitigen Kupferplattierungslaminats gebildet. Zuerst wurde ein Ätzresist durch ein Trockenfilm(laminat)-Verfahren gebildet. Das heißt, der trockene Film wurde auf beiden Oberflächen des obigen doppelseitigen Kupferplattierungslaminats auflaminiert und es wurde ein Film vom Negativ-Typ (Mustermaske) darüber gelegt. Der trockene Film wurde dann mittels einer Ultrahochdruckquecksilberlampe belichtet und gehärtet.Then a circuit [ 2D , 216 ] formed on both surfaces of the above double-sided copper plating laminate as follows. First, an etching resist was formed by a dry film (laminate) process. That is, the dry film was laminated on both surfaces of the above double-sided copper plating laminate, and a negative type film (pattern mask) was overlaid thereon. The dry film was then exposed and cured using an ultra high pressure mercury lamp.

Dann wurde ein Trägerfilm des trockenen Films abgezogen und eine Entwicklungslösung (1% Natriumcarbonatlösung) wurde von einer Sprühdüse auf die freigelegte Oberfläche des Resists aufgesprüht und es wurde eine Entwicklung durchgeführt. Hierauf wurde die Oberfläche des Resists gewaschen, um ein Resistmuster zu bilden.Then, a carrier film of the dry film was peeled off, and a developing solution (1% sodium carbonate solution) was sprayed from a spray nozzle onto the exposed surface of the resist, and development was carried out. The surface of the resist was then washed to form a resist pattern.

Dann wurde ein Ätzen durchgeführt. Das heißt, es wurde eine Eisen(III)-chloridlösung (36 Gew.-%) auf beide Oberflächen des obigen Resists, der mit dem doppelseitigen Kupferplattierungslaminat bedeckt war, von der Sprühdüse aufgesprüht und unnötige Kupferfolie wurde ausgelöst und entfernt. Eine 3%ige Natriumhydroxidlösung wurde von der Sprühdüse nach Beendigung des obigen Ätzens aufgespritzt und der Ätzresist wurde weggewaschen, wobei der Ätzresist aufquoll.Then etching was performed. That is, an iron (III) chloride solution (36% by weight) was sprayed on both surfaces of the above resist covered with the double-sided copper plating laminate from the spray nozzle, and unnecessary copper foil was released and removed. A 3% sodium hydroxide solution was sprayed from the spray nozzle after the above etching was completed, and the etching resist was washed away, causing the etching resist to swell.

Nach der Bildung des Stromkreises, wie oben beschrieben, wurde eine Lötmittelresist-Druckfarbe aufgebracht, um einen Lötmittelresist zu bilden [2E, 217]. Das heißt, ein Ultraviolettstrahlen/wärmehärtendes Acrylat/Epoxymischharz wurde zuerst durch Siebdruck auf beide Oberflächen mit einem Stromkreis, gebildet darauf durch eine Druckrakel (Härte der Druckrakel: 75) auf dem Wege über ein Tetron-Screen mit 150 mesh aufgebracht.After forming the circuit as described above, a solder resist ink was applied to form a solder resist [ 2E , 217 ]. That is, an ultraviolet ray / thermosetting acrylate / epoxy resin was first applied by screen printing to both surfaces with a circuit formed thereon by a doctor blade (doctor blade hardness: 75) by way of a 150 mesh tetron screen.

Dann wurde nach dem Vorbrennen des Harzes in einem Heißluft-Trockenofen ein Negativfilm auf das Harz aufgeklebt und das Harz wurde belichtet (300 mJ/cm2) und gehärtet. Das Harz wurde mittels einer 1%igen Natriumcarbonatlösung (30°C, 2,5 kg/cm2) entwickelt, um einen Öffnungs- (Auflagenteil [2E, 218]) und einen Kontaktteil [2E, 219] zu bilden. Dann wurde das Harz 30 Minuten lang auf 150°C erhitzt und wärmegehärtet.Then, after the resin was pre-baked, a negative film was adhered to the resin in a hot air drying oven, and the resin was exposed (300 mJ / cm 2 ) and cured. The resin was developed using a 1% sodium carbonate solution (30 ° C, 2.5 kg / cm 2 ) to cover an opening (pad part [ 2E , 218 ]) and a contact part [ 2E , 219 ] to build. The resin was then heated to 150 ° C for 30 minutes and thermoset.

Hierauf wurden der Auflagenteil [2E, 218] und der Kontakteil [2E, 219] zuerst auf Elektrolytnickel aufgebracht und danach wurde eine Goldplattierung durchgeführt [2F, 220 und 221].Then the edition part [ 2E , 218 ] and the contact part [ 2E , 219 ] first applied to electrolytic nickel and then gold plating was performed [ 2F , 220 and 221 ].

Wie oben beschrieben, wurde eine vierschichtige gedruckte Leiterplatte (Beispiel 3) [2F] gemäß der Erfindung hergestellt, bei der die Dicke der isolierenden Schicht, gebildet auf einem Stromkreis-reichen Teil im Kernteil, festgelegt war (gleichförmig war) und wobei die Dicke der isolierenden Schicht, gebildet auf einem Stromkreis-armen Teil, festgelegt war (gleichförmig war). Keinerlei Blasen und Kerbungen existierten auf der gesamten Oberfläche. Das gesamte Material war flach.As described above, a four-layer printed circuit board (Example 3) [ 2F ] according to the invention, in which the thickness of the insulating layer formed on a circuit-rich part in the core part was fixed (uniform) and wherein the thickness of the insulating layer formed on a circuit-poor part was fixed (uniform was). There were no bubbles or nicks on the entire surface. All of the material was flat.

- Beispiel 4- Example 4

Die obige gedruckte Leiterplatte (Beispiel 2) wurde als Grundmaterial eingesetzt, um eine doppelseitig bedruckte Leiterplatte herzustellen. Das heißt, die bedeckende gehärtete Harzschicht [3A, 310] der obigen gedruckten Leiterplatte (Beispiel 2) wurde zuerst mit einem Laser bestrahlt, um eine Kupferfolie einer Stromkreisschicht in einem Auflagenteil [3B, 318] und einem Kontaktteil [ 3B, 319] [3B] freizulegen.The above printed circuit board (Example 2) was used as the base material to produce a double-sided printed circuit board. That is, the covering hardened resin layer [ 3A , 310 ] of the above printed circuit board (Example 2) was first irradiated with a laser to cover a copper foil of a circuit layer in a platen part [ 3B , 318 ] and a contact part [ 3B , 319 ] [ 3B ] exposed.

Dann wurden der Auflagenteil [3C, 318] und der Kontaktteil [3C, 319] zuerst auf elektrolytisches Nickel aufgebracht und nachfolgend einer elektrolytischen Goldplattierung unterworfen [3C, 321].Then the edition part [ 3C , 318 ] and the contact part [ 3C , 319 ] first applied to electrolytic nickel and then subjected to electrolytic gold plating [ 3C , 321 ].

Wie oben beschrieben wurde, wurde eine erfindungsgemäße doppelseitig bedruckte Leiterplatte (Beispiel 4) hergestellt, bei der die Dicke der isolierenden Schicht, die auf einem Stromkreis-reichen Teil gebildet worden war, festgelegt war (gleichförmig war), die Dicke der isolierenden Schicht, die auf dem Stromkreis-armen Teil gebildet worden war, festgelegt war (gleichförmig war), und bei der keinerlei Blasen und Kerben auf der gesamten Oberfläche vorhanden waren. Die gesamte Zusammenstellung war flach und die Gesamtdicke betrug 1,030 mm [3C].As described above, a double-sided printed circuit board (Example 4) according to the present invention was manufactured in which the thickness of the insulating layer formed on a circuit-rich part was fixed (uniform), the thickness of the insulating layer was was formed on the circuit-poor part, was fixed (was uniform), and had no bubbles and nicks on the entire surface. The entire compilation was flat and the total thickness was 1.030 mm [ 3C ].

- Vergleichsbeispiel 1- Comparative example 1

Es wurde eine doppelseitig bedruckte Leiterplatte [Dicke des Kupferstromkreises: 40 µm, (L/S) 20µm/40 µm, Durchmesser des Durchgangslochs nach der Plattierung: 100 µm] verwendet, bei der Stromkreisschichten [6A, 602] auf beiden Oberflächen eines Grundmaterials [6A, 601] mit einer Dicke von 0,930 mm gebildet worden waren. Eine Kupferplattierung wurde auf der inneren Wand des Durchgangslochs gebildet. Es wurde eine doppelseitig bedruckte Leiterplatte verwendet, bei der die Oberfläche einer leitfähigen Schicht (Stromkreis und Kupferplattierung der inneren Wand des Durchgangslochs) zuvor einer Aufrauungsbehandlung mit MECetchBOND CZ-8101 unterworfen worden waren.A double-sided printed circuit board [copper circuit thickness: 40 µm, (L / S) 20 µm / 40 µm, diameter of the through hole after plating: 100 µm] was used, in which circuit layers [ 6A , 602 ] on both surfaces of a base material [ 6A , 601 ] with a thickness of 0.930 mm. Copper plating was formed on the inner wall of the through hole. A double-sided printed circuit board was used in which the surface of a conductive layer (circuit and copper plating of the inner wall of the through hole) had previously been subjected to a roughening treatment with MECetchBOND CZ-8101.

Ein Siebdruck wurde auf eine thermo/wärmehärtende Harzzusammensetzung (Herstellungsbeispiel 2) [6A, 605] auf der obigen gedruckten Leiterplatte gemäß den in Tabelle 5 gezeigten Druckbedingungen aufgebracht. Es wurde nur das Durchgangsloch gefüllt und das Loch wurde mit dem Harz gepluggt, ohne dass die Aussparung zwischen den Stromkreisen mit dem Harz gefüllt wurde.Screen printing was performed on a thermosetting resin composition (Production Example 2) [ 6A , 605 ] on the above printed circuit board according to the printing conditions shown in Table 5. Only the through hole was filled and the hole was plugged in with the resin without the gap between the circuits being filled with the resin.

Dann wurden, nachdem die obige gedruckte Leiterplatte 60 Minuten auf 130°C erhitzt worden war, um ein primär wärmegehärtetes Harz zu bilden [6B, 609] [ 6B], beide Oberflächen der obigen gedruckten Leiterplatte zuerst einmal mit einem Keramikschleifmaterial Nr. 400 poliert und dann weiterhin 4-mal mit dem Schleifmaterial Nr. 600 [6C] poliert.Then, after the above printed circuit board was heated at 130 ° C for 60 minutes to form a primarily thermosetting resin [ 6B , 609 ] [ 6B ], both surfaces of the above printed circuit board are first polished with a No. 400 ceramic abrasive material and then further 4 times with the No. 600 abrasive material [ 6C ] polished.

Dann wurden beide Oberflächen der obigen gedruckten Leiterplatte mit Prepregs bedeckt [613], wobei die gedruckte Leiterplatte sandwichartig zwischen den Prepregs angeordnet war. Die Dicke des Prepregs betrug 0,1 mm.Then both surfaces of the above printed circuit board were covered with prepregs [ 613 ], the printed circuit board being sandwiched between the prepregs. The thickness of the prepreg was 0.1 mm.

Dann wurde die obige gedruckte Leiterplatte bei den Pressbedingungen gemäß Tabelle 6 einem Vakuumerhitzungs-Pressverfahren unterworfen und die Pressbindung des Prepregs und ein sekundäres Wärmehärten des primär wärmegehärteten Harzes wurden gleichzeitig durchgeführt, um eine gedruckte Leiterplatte herzustellen [6E] (Vergleichsbeispiel 1)Then, the above printed circuit board was subjected to a vacuum heating pressing process under the pressing conditions shown in Table 6, and the press bonding of the prepreg and secondary heat setting of the primary thermosetting resin were carried out simultaneously to produce a printed circuit board [ 6E ] (Comparative Example 1)

Die folgenden Defekte wurden bei der erhaltenen gedruckten Leiterplatte (Vergleichsbeispiel 1) beobachtet. Das heißt die Füllung aufgrund des Prepregs war in dem Stromkreis-reichen Teil von L/S = 20 µm/40 µm unzulänglich. Dadurch blieb Luft zwischen den Stromkreisen zurück und die Oberfläche quoll auf [6E, 625].The following defects were observed in the printed circuit board (Comparative Example 1) obtained. That is, the filling due to the prepreg was insufficient in the circuit-rich part of L / S = 20 µm / 40 µm. This left air between the circuits and the surface swelled [ 6E , 625 ].

Weiterhin, obgleich die Füllung aufgrund des Prepregs in dem Stromkreis-armen Teil von L/S = 20 um/200 µm perfekt war, erfolgte eine Einkerbung aufgrund der Füllung und des Verbrauchs des Prepregs zwischen den Stromkreisen [6E, 626].Furthermore, although the filling was perfect due to the prepreg in the low-circuit part of L / S = 20 µm / 200 µm, there was a notch due to the filling and the consumption of the prepreg between the circuits [ 6E , 626 ].

- Vergleichsbeispiel 2- Comparative Example 2

Die obige gedruckte Leiterplatte (Vergleichsbeispiel 1) wurde als Grundmaterial für die Herstellung einer vierschichtigen gedruckten Leiterplatte verwendet. Das heißt, die vierschichtige gedruckte Leiterplatte (Vergleichsbeispiel 2) wurde in der gleichen Art und Weise wie im Falle des Beispiels 3 mit der Ausnahme hergestellt, dass das Material des Vergleichsbeispiels 1 als gedruckte Leiterplatte anstelle des Materials des Beispiels 1 verwendet wurde.The above printed circuit board (Comparative Example 1) was used as a base material for producing a four-layer printed circuit board. That is, the four-layer printed circuit board (Comparative Example 2) was manufactured in the same manner as in Example 3, except that the material of Comparative Example 1 was used as the printed circuit board instead of the material of Example 1.

Jedoch lagen Blasen [6E, 625] und Kerben [ 6E, 626] auf der Oberfläche der gedruckten Leiterplatte (Vergleichsbeispiel 1) des Grundmaterials (Kerngrundmaterial) vor. Hierdurch erfolgte eine Bildung von Blasen [9A, 925] und Kerben [9B, 926] auch auf der Oberfläche der so hergestellten vierschichtigen gedruckten Leiterplatte (Vergleichsbeispiel 2).However, there were bubbles [ 6E , 625 ] and notches [ 6E , 626 ] on the surface of the printed circuit board (Comparative Example 1) of the base material (core base material). This caused bubbles to form [ 9A , 925 ] and notches [ 9B , 926 ] also on the surface of the four-layer printed circuit board produced in this way (comparative example 2).

<Herstellung einer gedruckten Leiterplatte mit darauf angebrachter als Bondhügel gebildeter BGA-Komponente><Production of a printed circuit board with a BGA component formed thereon as a bump>

- Herstellungsbeispiel 1 und Vergleichs-Herstellungsbeispiel 1- Production example 1 and comparative production example 1

Die Bondhügelbindung des Bondhügels [Mittelwert der Höhe des Bondhügels: 33,4 µm und Standardabweichung der Höhe des Bondhügels: 1,5] in einer BGA-Komponente und dem Auflagenteil der vierschichtigen gedruckten Leiterplatte (jeweils von Beispiel 3 und von Vergleichsbeispiel 2) wurde durchgeführt, um eine BGA-Komponente, mit darauf angebrachter gedruckter Leiterplatte herzustellen (jeweils des Herstellungsbeispiels 1 und des Vergleichs-Herstellungsbeispiels 1)The bump bonding of the bump [mean value of the height of the bump: 33.4 μm and standard deviation of the height of the bump: 1.5] in a BGA component and the support part of the four-layer printed circuit board (each of Example 3 and Comparative Example 2) was carried out to produce a BGA component with a printed circuit board mounted thereon (each of Manufacturing Example 1 and Comparative Manufacturing Example 1)

<Bestimmung der charakteristischen Eigenschaften der gedruckten Leiterplatte><Determining the Characteristic Properties of the Printed Circuit Board>

Die einzelnen gedruckten Leiterplatten wurden einer Messung unterworfen und auf die Dicke des gehärteten Films der jeweiligen aufgebrachten Harze auf den Stromkreis und des Grundmaterials (jeweils der Beispiele 1 und 2) getestet. Weiterhin wurden die maximalen Blasen und die maximalen Kerben auf der Oberfläche der (vierschichtigen) gedruckten Leiterplatte (jeweils der Beispiele 1 und 2, des Vergleichsbeispiels 1, des Herstellungsbeispiels 1 und des Vergleichs-Herstellungsbeispiels 1), die Standardabweichung (Größe der Schwankung der Dicke in jedem Teil der gedruckten Leiterplatte) der Flachheit der (vierschichtigen) gedruckten Leiterplatte (jeweils der Beispiele 1 und 2, des Vergleichsbeispiels 1, des Herstellungsbeispiels 1 und des Vergleichs-Herstellungsbeispiels 1), der Mittelwert der Höhe des Bondhügels (Herstellungsbeispiel 1 und Vergleichs-Herstellungsbeispiel 1) nach der Montage der BGA-Komponente und die Bondhügel-Bindungsfähigkeit (Herstellungsbeispiel 1 und Vergleichs-Herstellungsbeispiel 1) bestimmt.The individual printed circuit boards were subjected to measurement and tested for the thickness of the cured film of the respective resins applied to the circuit and the base material (each of Examples 1 and 2). Further, the maximum bubbles and the maximum notches on the surface of the (four-layer) printed circuit board (each of Examples 1 and 2, Comparative Example 1, Manufacturing Example 1 and Comparative Manufacturing Example 1), the standard deviation (amount of variation in thickness in each part of the printed circuit board) the flatness of the (four-layer) printed circuit board (each of Examples 1 and 2, Comparative Example 1, Manufacturing Example 1 and Comparative Manufacturing Example 1), the average of the height of the bump (Manufacturing Example 1 and Comparative Manufacturing Example) 1) after assembly of the BGA component and the bump-binding ability (production example 1 and comparative production example 1).

Die für die Bestimmung verwendete BGA-Einrichtung hatte eine Größe von 16,0 mm × 16,0 mm, eine Dicke der Platte von 0,4 mm, einen Bondhügel-Abstand von 75 µm und eine Anzahl der Bondhügel von 148. Tabelle 7 Beispiel 1 Beispiel 2 Vergleichsbeispiel 1 Dicke des gehärteten Films des aufgebrachten Harzes (µm) Auf dem Stromkreis 4 10 - Auf dem Grundmaterial 44 50 - Maximaler Blasenwert auf der Oberfläche der gedruckten Leiterplatte (µm) 0,2 0,3 25 Maximaler Kerbenwert auf der Oberfläche der gedruckten Leiterplatte (µm) 0,8 0,9 40 Standardabweichung der Flachheit der Oberfläche der gedruckten Leiterplatte 0,41 0,26 15,6 Tabelle 8 Herstellungsbeispiel 1 Vergleichs-Herstellungsbeispiel 1 Verwendete vierschichtige gedruckte Leiterplatte Beispiel 3 Vergleichsbeispiel 2 Maximaler Blasenwert auf der Oberfläche der vierschichtigen gedruckten Leiterplatte (µm) 0,2 7 Maximaler Kerbenwert auf der Oberfläche der vierschichtigen Lösung (µm) 0,6 13 Standardabweichung „s“ der Flachheit der Oberfläche der vierschichtigen gedruckten Leiterplatte 0,35 1,6 Mittelwert h der Höhe des Bondhügels der BGA-Komponente (µm) 33,4 33,4 Mittelwert „h'“ der Höhe des Bondhügels nach der Montage der BGA-Komponente (µm) 22,0 22,0 (h-h') 11,4 11,4 ( 6 s ) 2 + ( 6 p ) 2

Figure DE102006037273B4_0016
9,2 13,2 Beurteilung der Bondhügel-Bindungsfähigkeit × The BGA device used for the determination had a size of 16.0 mm × 16.0 mm, a plate thickness of 0.4 mm, a bump distance of 75 μm and a number of bumps of 148. Table 7 example 1 Example 2 Comparative Example 1 Cured film thickness of applied resin (µm) On the circuit 4th 10th - On the base material 44 50 - Maximum bubble value on the surface of the printed circuit board (µm) 0.2 0.3 25th Maximum notch value on the surface of the printed circuit board (µm) 0.8 0.9 40 Standard deviation of the flatness of the surface of the printed circuit board 0.41 0.26 15.6 Table 8 Production Example 1 Comparative Production Example 1 Four-layer printed circuit board used Example 3 Comparative Example 2 Maximum bubble value on the surface of the four-layer printed circuit board (µm) 0.2 7 Maximum notch value on the surface of the four-layer solution (µm) 0.6 13 Standard deviation "s" of the flatness of the surface of the four-layer printed circuit board 0.35 1.6 Average h of the height of the bump of the BGA component (µm) 33.4 33.4 Average "h '" of the height of the bump after mounting the BGA component (µm) 22.0 22.0 (h-h ') 11.4 11.4 ( 6 s ) 2nd + ( 6 p ) 2nd
Figure DE102006037273B4_0016
9.2 13.2
Assessment of bond hill binding ability ×

In den Tabellen 7 und 8 bedeuten „Blasenwert“ bzw. „Kerbenwert“ die Höhe der Blase bzw. die Tiefe der Kerbe bei Verwendung eines Oberflächenteils (das heißt eines abgeflachten Oberflächenteils) als Referenzoberfläche, bei der keine Blasenbildung und Kerbenbildung auf der Oberfläche der (vierschichtigen) gedruckten Leiterplatte erfolgt war.In Tables 7 and 8, “bubble value” and “notch value” mean the height of the bubble or the depth of the notch when using a surface part (i.e., a flattened surface part) as a reference surface, in which there are no bubbles and notches on the surface of the ( four-layer) printed circuit board was done.

Die Dicke des gehärteten Films des aufgebrachten Harzes, der Blasen und der Kerben auf der Oberfläche sowie die Höhe des Bondhügels nach der Montage der BGA-Komponente wurden nach der Querschnittsmethode gemessen. Die Standardabweichung der Flachheit der Oberfläche der gedruckten Leiterplatte (jeweils der Beispiele 1 und 2 und des Vergleichsbeispiels 1) wurden dadurch errechnet, dass ein Gitter mit einem Intervall von 2 mm auf die Oberfläche der gedruckten Leiterplatte aufgebracht wurde und dass die gesamte Dicke der gedruckten Leiterplatten in den Kreuzungen von 25 Stücken gemessen wurden, die in vertikaler Richtung und in horizontaler Richtung aufgelegt worden waren. Die Standardabweichungen der Flachheit der Oberfläche der vierschichtigen gedruckten Leiterplatte (jeweils von Beispiel 3 und von Vergleichsbeispiel 2) wurden dadurch errechnet, dass die Gesamtdicke in jedem Auflagenplattierungsteil auf der Oberfläche gemessen wurde.The thickness of the cured film of the applied resin, the bubbles and the notches on the surface, and the height of the bump after mounting the BGA component were measured by the cross-sectional method. The standard deviation of the flatness of the surface of the printed circuit board (Examples 1 and 2 and Comparative Example 1, respectively) was calculated by applying a grid with an interval of 2 mm on the surface of the printed circuit board and the total thickness of the printed circuit boards were measured in the intersections of 25 pieces which had been placed in the vertical direction and in the horizontal direction. The standard deviations of the flatness of the surface of the four-layer printed circuit board (each of Example 3 and Comparative Example 2) were calculated by measuring the total thickness in each plating part on the surface.

Die Bondhügel-Bindungsfähigkeit wurde wie folgt bestimmt. Wenn der Mittelwert „h“ (= 33,4 pm) der Höhe des Bondhügels vor der Bondhügelbindung, der Mittelwert „h'“ der Höhe des Bondhügels nach der Bondhügelbindung (nach der Montage der BGA-Komponente), die Standardabweichung „s“ der Flachheit der Oberfläche der vierschichtigen gedruckten Leiterplatte und die Standardabweichung „p“ (=1,5) der Höhe des Bondhügels vor der Bondhügelbindung der Bedingung der Gleichung (1) in Tabelle 9 genügten, dann wurde die Bondhügel-Bindungsfähigkeit als „(gute Bondhügel-Bindungsfähigkeit)“ bezeichnet. Wenn die Parameter der Beziehung der Gleichung (2) genügten, dann wurde die Bondhügel-Bindungsfähigkeit als „x (schlechte Bondhügel-Bindungsfähigkeit)“ bezeichnet. In der Gleichung (1) oder (2) repräsentiert die linke Seite die Menge des zertrümmerten Bondhügels (nachstehend gelegentlich auch der Einfachheit halber als „Bondhügel-Zertrümmerung“ bezeichnet) und die rechte Seite repräsentiert die gesamte Summenschwankungsmenge (nachstehend gelegentlich der Einfachheit halber als „Schwankung“ bezeichnet) der Schwankung der Flachheit der Oberfläche der vierschichtigen gedruckten Leiterplatte und die Schwankung der Höhe des Bondhügels. Tabelle 9 Gleichung Beurteilung ( h h ' ) > ( 6 s ) 2 + ( 6 p ) 2

Figure DE102006037273B4_0017
(1) ( h h ' ) ( 6 s ) 2 + ( 6 p ) 2
Figure DE102006037273B4_0018
(2)
×
The hillock binding ability was determined as follows. If the mean "h" (= 33.4 pm) of the height of the bump before the bond bump, the mean "h" of the height of the bond bump after the bond bump (after assembly of the BGA component), the standard deviation "s" of Flatness of the surface of the four-layer printed circuit board and the standard deviation "p" (= 1.5) of the height of the bump before the bump bond met the condition of equation (1) in Table 9, then the bump bond ability was considered as "(good bump Binding ability) ”. If the parameters satisfied the relationship of equation (2), then the bump bond ability was referred to as “x (poor bump bond ability)”. In equation (1) or (2), the left-hand side represents the amount of the bump smashed (hereinafter sometimes also referred to as "bump-shattering" for the sake of simplicity) and the right side represents the total sum fluctuation amount (hereinafter sometimes referred to as " Fluctuation "means) the fluctuation in the flatness of the surface of the four-layer printed circuit board and the fluctuation in the height of the bump. Table 9 equation evaluation ( H - H ' ) > ( 6 s ) 2nd + ( 6 p ) 2nd
Figure DE102006037273B4_0017
(1)
( H - H ' ) ( 6 s ) 2nd + ( 6 p ) 2nd
Figure DE102006037273B4_0018
(2)
×

Die Tabellen 7 und 8 zeigen eindeutig Folgendes. Das heißt, die abgeflachten, mit Harz beschichteten gedruckten Leiterplatten (Beispiel 1 und 2) und die vierschichtige gedruckte Leiterplatte (Beispiel 3) gemäß der vorliegenden Erfindung haben eine kleinere Konkavität und Konvexizität auf der Oberfläche der gedruckten Leiterplatte (da die Summe des maximalen Blasenwerts und des maximalen Kerbenwerts klein ist) als die herkömmliche (vierschichtig) gedruckte Leiterplatte (Vergleichsbeispiel 1 und Vergleichs-Herstellungsbeispiel 1) sowie eine extrem abgeflachte Oberfläche (da die Standardabweichung der Flachheit kleiner ist).Tables 7 and 8 clearly show the following. That is, the flattened resin-coated printed circuit boards (Examples 1 and 2) and the four-layer printed circuit board (Example 3) according to the present invention have less concavity and convexity on the surface of the printed circuit board (because the sum of the maximum bubble value and of the maximum notch value is small) than the conventional (four-layer) printed circuit board (Comparative Example 1 and Comparative Manufacturing Example 1), and an extremely flattened surface (since the standard deviation of flatness is smaller).

Weiterhin ist es so, dass, wenn die BGA-Komponente montiert wird (Bondhügel-gebunden wird) auf der vierschichtigen gedruckten Leiterplatte (Beispiel 3) gemäß der vorliegenden Erfindung (Herstellungsbeispiel 1), die „Schwankung“ durch die „Zertrümmerung des Bondhügels“ absorbiert werden kann (da die Gesamtmenge der Zertrümmerung des Bondhügels bzw. das Gesamtausmaß der Zertrümmerung des Bondhügels größer ist als die Gesamt-Summenmenge bzw. das Gesamt-Summenausmaß der Schwankungen), so dass hierdurch alle Bondhügel mit Sicherheit gebunden werden.Furthermore, when the BGA component is mounted (bump-bonded) on the four-layer printed circuit board (Example 3) according to the present invention (Manufacturing Example 1), the "fluctuation" is absorbed by the "shattering of the bump" can be (since the total amount of shattering of the bump or the total amount of shattering of the bump is greater than the total amount or the total amount of fluctuations), so that all bumps are bound with certainty.

Andererseits kann, wenn die BGA-Komponente montiert wird (Bondhügel-gebunden wird) auf der herkömmlichen vierschichtigen gedruckten Leiterplatte (Vergleichsbeispiel 2) (Vergleichs-Herstellungsbeispiel 1), die „Schwankung“ nicht durch die „Zertrümmerung des Bondhügels“ absorbiert werden (da die Menge bzw. das Ausmaß der Zertrümmerung des Bondhügels kleiner ist als die Gesamt-Summenmenge bzw. das Gesamt-Summenausmaß der Schwankungen), so dass einige Bondhügel nicht gebunden werden können.On the other hand, when the BGA component is mounted (bump-bonded) on the conventional four-layer printed circuit board (Comparative Example 2) (Comparative Manufacturing Example 1), the "fluctuation" cannot be absorbed by the "shattering of the bump" (since the Amount or the extent of the shattering of the bump is smaller than the total amount or the total amount of fluctuations), so that some bumps cannot be bound.

Das heißt, es kann, wie in 9A gezeigt wird, wenn die Blase zu groß ist, ein Bondhügel 932a, der in der Blase 925 existiert, nicht bis zu dem Ausmaß zerkleinert werden, dass eine Auflagenplattierung 920 auf einen Bondhügel 932b gebunden werden kann (und zwar deswegen, weil die Menge bzw. das Ausmaß der „Zertrümmerung des Bondhügels“ des Bondhügels 932a bereits eine Grenze erreicht hat). Als Ergebnis kann eine Bondhügelbindung des Bondhügels 932b und der Auflagenplattierung 920 nicht durchgeführt werden.That said, as in 9A if the bubble is too large, a bump is shown 932a that in the bubble 925 exists, cannot be crushed to the extent that plating 920 on a bump 932b can be tied (because of the amount or extent of the "shattering of the bump" of the bump 932a has already reached a limit). As a result, a bump bond of the bump can 932b and plating 920 not be carried out.

Gleichermaßen ist es so, dass, wie in 9B gezeigt, wenn die Kerbe zu groß ist, der Bondhügel 932a nicht bis zu einem Ausmaß zertrümmert werden kann, dass die Auflagenplattierung 920, die in der Kerbe 926 existiert, mit dem Bondhügel 932b verbunden werden kann (dies deswegen, weil die Menge bzw. das Ausmaß der „Zertrümmerung des Bondhügels“ des Bondhügels 932a bereits die Grenze erreicht hat). Als Ergebnis kann eine Bondhügelbindung des Bondhügels 932b mit der Auflagenplattierung 920 nicht durchgeführt werden.Likewise, as in 9B shown if the notch is too big, the bump 932a cannot be smashed to an extent that the plating 920 that in the notch 926 exists with the bump 932b can be connected (this is because the amount or the extent of the "shattering of the bump" of the bump 932a has already reached the limit). As a result, a bump bond of the bump can 932b with the plating 920 not be carried out.

Claims (7)

Verfahren zur Herstellung einer gedruckten Leiterplatte, umfassend die Stufen: Aufbringen einer photo- und wärmehärtenden Harzzusammensetzung (105) auf eine Oberfläche und das Durchgangsloch (103) einer gedruckten Leiterplatte mit dem Durchgangsloch (103); nacheinander erfolgendes Durchführen der folgenden Stufen (1) und (2); Aufbringen der photo- und wärmehärtenden Harzzusammensetzung (105) auf die andere Oberfläche der gedruckten Leiterplatte; und nacheinander erfolgendes Durchführen der folgenden Stufen (1) bis (3): (1) Abflachen oder Abgleichen der Oberfläche des aufgebrachten Harzes mit einer Druckwalze (107, 108); (2) Photohärten des aufgebrachten Harzes; und (3) Wärmehärten des photogehärteten Harzes.A method of manufacturing a printed circuit board, comprising the steps of: Applying a photo and thermosetting resin composition (105) to a surface and the through hole (103) of a printed circuit board having the through hole (103); successively performing the following stages (1) and (2); Applying the photo and thermosetting resin composition (105) to the other surface of the printed circuit board; and successively performing the following stages (1) to (3): (1) flattening or leveling the surface of the applied resin with a pressure roller (107, 108); (2) photocuring the applied resin; and (3) thermosetting the photocured resin. Verfahren zur Herstellung einer mehrschichtigen gedruckten Leiterplatte, umfassend die Stufen: Aufbringen einer photo- und wärmehärtenden Harzzusammensetzung (105) auf eine Oberfläche und das Durchgangsloch (103) einer gedruckten Leiterplatte mit dem Durchgangsloch (103); nacheinander erfolgendes Durchführen der folgenden Stufen (1) und (2); Aufbringen der photo- und wärmehärtenden Harzzusammensetzung (105) auf die andere Oberfläche der gedruckten Leiterplatte; nacheinander erfolgendes Durchführen der folgenden Stufen (1) und (2); (A) zuerst erfolgende Durchführung der folgenden Stufe (3), als Nächstes laminierendes Verpressen der gedruckten Leiterplatte mit Press-Bindungsmaterialien (106, 213), wobei die gedruckte Leiterplatte Sandwich-artig zwischen den Press-Bindungsmaterialien (106, 213) angeordnet ist, oder (B) laminierendes Verpressen der gedruckten Leiterplatte mit den Press-Bindungsmaterialien (106, 213) bei der Wärmehärtungstemperatur oder höher des photogehärteten Harzes, wobei die gedruckte Leiterplatte Sandwich-artig zwischen den Press-Bindungsmaterialien (106, 213) angeordnet ist, um auf diese Weise die genannte Stufe (3) durchzuführen; Bilden eines Lochs von der Oberfläche des Press-Bindungsmaterials zu einer Leiterschicht, um einen Mikroweg (214) zu bilden; Aufbringen einer Gesamtflächenplattierung (215); Bilden eines Strom- oder Schaltkreises (216) aus einer Plattierungsschicht; und Aufschichten eines Resists (217); (1) Abflachen oder Abgleichen der Oberfläche des aufgebrachten Harzes mit einer Druckwalze (107, 108); (2) Photohärten des aufgebrachten Harzes; und (3) Wärmehärten des photogehärteten Harzes. A method of manufacturing a multilayer printed circuit board, comprising the steps of: applying a photo and thermosetting resin composition (105) to a surface and the through hole (103) of a printed circuit board having the through hole (103); successively performing the following stages (1) and (2); Applying the photo and thermosetting resin composition (105) to the other surface of the printed circuit board; successively performing the following stages (1) and (2); (A) first performing the following step (3), next laminating the printed circuit board with press-binding materials (106, 213), the printed circuit board being sandwiched between the press-binding materials (106, 213), or (B) laminating the printed circuit board with the press bonding materials (106, 213) at the thermosetting temperature or higher of the photo-hardened resin, the printed circuit board being sandwiched between the press binding materials (106, 213) so as to in this way to carry out said step (3); Forming a hole from the surface of the press bond material to a conductor layer to form a micro path (214); Applying total area plating (215); Forming a circuit or circuit (216) from a plating layer; and layering a resist (217); (1) flattening or leveling the surface of the applied resin with a pressure roller (107, 108); (2) photocuring the applied resin; and (3) thermosetting the photocured resin. Verfahren zur Herstellung einer mehrschichtigen gedruckten Leiterplatte nach Anspruch 2, wobei der Resist (217) eine Öffnung hat.Method of manufacturing a multilayer printed circuit board according to Claim 2 wherein the resist (217) has an opening. Verfahren zur Herstellung einer gedruckten Leiterplatte, umfassend die Stufen: Aufbringen einer photo- und wärmehärtenden Harzzusammensetzung (105) auf eine Oberfläche und das Durchgangsloch (103) einer gedruckten Leiterplatte mit dem Durchgangsloch (103); nacheinander erfolgendes Durchführen der folgenden Stufen (1) und (2); Aufbringen der photo- und wärmehärtenden Harzzusammensetzung (105) auf die andere Oberfläche der gedruckten Leiterplatte; und nacheinander erfolgendes Durchführen der folgenden Stufen (1) bis (3) und: Bilden einer Öffnung in der aufgeschichteten Harzschicht (310): (1) Abflachen oder Abgleichen der Oberfläche des aufgebrachten Harzes mit einer Druckwalze (107, 108); (2) Photohärten des aufgebrachten Harzes; und (3) Wärmehärten des photogehärteten Harzes.A method of manufacturing a printed circuit board, comprising the steps of: Applying a photo and thermosetting resin composition (105) to a surface and the through hole (103) of a printed circuit board having the through hole (103); successively performing the following stages (1) and (2); Applying the photo and thermosetting resin composition (105) to the other surface of the printed circuit board; and successively performing the following steps (1) to (3) and: forming an opening in the layered resin layer (310): (1) flattening or leveling the surface of the applied resin with a pressure roller (107, 108); (2) photocuring the applied resin; and (3) thermosetting the photocured resin. Verfahren zur Herstellung einer gedruckten Leiterplatte nach Anspruch 3 oder 4, wobei eine durch die Öffnung freigelegte Oberfläche (218, 219, 318, 319) mit einer Plattierung (220, 221, 320, 321) bedeckt wird.Process for manufacturing a printed circuit board according to Claim 3 or 4th , wherein a surface (218, 219, 318, 319) exposed through the opening is covered with a plating (220, 221, 320, 321). Verfahren zur Herstellung einer gedruckten Leiterplatte nach einem der Ansprüche 1 bis 5, wobei die Oberfläche einer leitenden Schicht der gedruckten Leiterplatte mit dem Durchgangsloch (103) aufgeraut wird.Method of manufacturing a printed circuit board according to one of the Claims 1 to 5 roughening the surface of a conductive layer of the printed circuit board with the through hole (103). Gedruckte Leiterplatte, hergestellt nach dem Herstellungsverfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 6.Printed circuit board, manufactured according to the manufacturing process according to one of the Claims 1 to 6 .
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