DE102006032831A1 - Trocknereinrichtung zur Behandlung einer Bedruckstoffoberfläche in einer Verarbeitungsmaschine - Google Patents
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Abstract
Die Erfindung betrifft eine Trocknereinrichtung zur Behandlung einer Bedruckstoffoberfläche in einer Verarbeitungsmaschine. Aufgabe der Erfindung ist es, eine Trocknereinrichtung derart zu verbessern, dass der Anteil der von einer Strahlungseinheit emittierten Strahlungsenergie einer Wellenlänge im Infrarot (IR-Strahlung) aus der auf den Bedruckstoff gerichteten Strahlungsenergie mit einfachen Mitteln reduzierbar ist. Gelöst wird das dadurch, indem der Reflektor der Trocknereinrichtung 10 an seiner der Strahlungseinheit zugewandten Vorderseite eine dichroitische Schicht und an seiner Rückseite eine erste IR-Absorberschicht trägt.
Description
- Die Erfindung betrifft eine Trocknereinrichtung zur Behandlung einer Bedruckstoffoberfläche in einer Verarbeitungsmaschine nach dem Oberbegriff von Patentanspruch 1. Als Verarbeitungsmaschinen eignen sich insbesondere Rotationsdruckmaschinen sowie Lackiermaschinen für die Verarbeitung von Bedruckstoffen.
- In Verarbeitungsmaschinen werden bekanntlich zum Trocknen von UV(Ultraviolett)-härtenden Druckfarben und/oder Lacken Trocknereinrichtungen eingesetzt, welche als Strahlungseinheit wenigstens eine UV-Lichtquelle, wie Quecksilber-Dampflampen oder UV-emittierende Leuchtdioden, aufweisen.
- Eine Trocknereinrichtung dieser Art ist als Bestrahlungseinrichtung aus
DE 102 43 577 A1 bekannt. Die Trocknereinrichtung umfasst einen (über die Formatbreite) lang gestreckt angeordneten, ringförmigen UV-Strahler sowie einen teilweise über dessen Umfang gekrümmt angeordneten Reflektor. An der Strahlenaustrittsfläche ist ein zusätzlicher Reflektor zwecks Umlenkung der UV-Strahlung angeordnet, der in seiner Neigung verstellbar ist. Dabei können die Reflektorflächen eine dichroitische Beschichtung aufweisen. - Gegenüber der Strahlungsaustrittsfläche kann ein Strahlungsabsorber zur Aufnahme von im Aus-Zustand des UV-Strahlers nicht auf ein Werkstück gerichteter Strahlung angeordnet sein. In einer weiteren Ausbildung kann der zusätzlich angeordnete Reflektor in einem gewissen Grade als Ersatz des Strahlungsabsorbers fungieren. Bekanntlich sind derartige Reflektorflächen mit Hochglanz ausgeführt. Nachteilig ist hierbei die relativ aufwendige Ausbildung der Trocknereinrichtung.
- Aufgabe der Erfindung ist es, eine Trocknereinrichtung der eingangs genannten Art derart zu verbessern, dass der Anteil der von einer Strahlungseinheit emittierten Strahlungsenergie mit einer Wellenlänge im Infrarot (IR-Strahlung) aus der zur Behandlung der Bedruckstoffoberfläche auf diese gerichteten Strahlungsenergie mit einfachen Mitteln reduziert wird.
- Gelöst wird die Aufgabe durch die Ausbildungsmerkmale von Patentanspruch 1. Weiterbildungen ergeben sich aus den abhängigen Ansprüchen.
- Ein erster Vorteil der Erfindung ist darin begründet, dass bei der Trocknereinrichtung der Anteil der IR-Strahlung aus der ansonsten auf den mit unter UV-Strahlung härtender Druckfarbe und/oder härtendem Lack und/oder härtendem Klebstoff (UV-Druckfarbe, UV-Lack, UV-Klebstoff) versehenen Bedruckstoff gerichteter Strahlung spürbar reduziert ist. Dadurch wird der Anteil der UV-Strahlung als Nutzstrahlung verbessert und der bisher durch den IR-Anteil der Strahlung bedingte Wärmeeintrag in den Bedruckstoff bzw. in benachbarte Bauteile der Trocknereinrichtung bzw. der Verarbeitungsmaschine reduziert. Weiterhin wird durch die Reduzierung des nicht erwünschten Anteils der IR-Strahlung die Gefahr der Überhitzung des Bedruckstoffes spürbar reduziert.
- Ein zweiter Vorteil besteht darin, dass durch die Reduzierung des Wärmeeintrages die auf den Bedruckstoff vor dem Trocknungsprozess aufgetragene UV-Druckfarbe und/oder der UV-Lack und/oder UV-Klebstoff schonender aushärten und dennoch sofort fest werden. Dadurch wird auch ein Beitrag zur Verbesserung der Druck-/Lackqualität (Farbbrillanz, Glanzgrad, Kratzfestigkeit, Haftfestigkeit etc.) geleistet.
- Die Erfindung ist nicht auf unter UV-Strahlung härtende Druckfarben oder Lacke beschränkt. Vielmehr kann ein unter UV-Strahlung härtender Klebstoff vorher auf die Bedruckstoffoberfläche aufgetragen sein, der anschließend mittels der erfindungsgemäßen Trocknereinrichtung vorhärten und/oder aushärten kann. Eine derartige Anwendung ist beispielsweise bei aus mehreren Lagen bestehenden Bedruckstoffen, beim Zusammenführen mehrerer Lagen zu einem Bedruckstoff oder beim Prägefoliendruck, bei dem bildgebende Schichten von einer Transferfolie auf den Bedruckstoff applizierbar sind, realisierbar.
- Die Erfindung soll an einem Ausführungsbeispiel näher erläutert werden. Dabei zeigen schematisch:
-
1 eine Rotationsdruckmaschine mit den relevanten Komponenten zugeordneten Trocknereinrichtungen, -
2 eine Trocknereinrichtung in erster Ausbildung, -
3 eine Trocknereinrichtung in zweiter Ausbildung, -
4 eine Reflektorausbildung gem.2 , -
5 eine Reflektorausbildung gem.3 , -
6 eine Weiterbildung gem.5 . - Eine Rotationsdruckmaschine für die Verarbeitung von bogenförmigen Bedruckstoffen
19 (Bogenmaterial) umfasst mehrere Druckwerke I, II, wenigstens ein Lackwerk III sowie einen Ausleger IV. Jedes Druckwerk I, II besitzt einen eine Druckform tragenden Formzylinder4 . Dem Formzylinder4 ist zumindest ein Farbwerk und bei Bedarf ein Feuchtwerk zugeordnet (nicht gezeigt). Dabei wird die Druckform mittels Auftragwalzen, speziell Farbauftragwalzen, mit einem Medium in Form von Druckfarbe eingefärbt und bei Einsatz eines Feuchtwerkes mittels wenigstens einer Auftragwalze, speziell wenigstens einer Feuchtauftragwalze, mit einem Medium in Form von Feuchtmittel benetzt. Alternativ umfasst ein Lackwerk III einen eine Druckform (einschließlich Gummituch) tragenden Formzylinder5 (Lackierzylinder5 ), dem ein Dosiersystem6 zugeordnet ist, wobei die Druckform mittels einer Auftragwalze, hier speziell mit einer gerasterten Lackauftragwalze und einem Kammerrakel, mit einem Medium in Form von Lack benetzt wird. - Gemäß
1 weist ein Druckwerk I, II einen als Plattenzylinder ausgebildeten Formzylinder4 und einen dem Formzylinder4 benachbart angeordneten Gummituchzylinder3 auf, wobei der Gummituchzylinder3 mit einem den bogenförmigen Bedruckstoff19 in Förderrichtung7 transportierenden Bogenführungszylinder1 , speziell einem Druckzylinder, zusammen wirkt. Dem Formzylinder5 des Lackwerkes III ist ebenso ein Bogenführungszylinder1 , speziell ein Druckzylinder, zugeordnet. - Für den Transport des bogenförmigen Bedruckstoffes
19 in Förderrichtung7 ist zwischen den Bogenführungszylindern/Druckzylindern1 wenigstens ein Bogenführungszylinder als Transferzylinder2 angeordnet. Bei Bedarf kann zwischen den Bogenführungszylindern1 der Druckwerke I, II und/oder Lackwerken III ein Bogenführungszylinder8 als Wendeeinrichtung angeordnet sein. Die gezeigte Wendeeinrichtung8 ist als Eintrommelwendung nach dem Prinzip der Hinterkantenwendung ausgebildet. Alternativ sind andere Wendeeinrichtungen einsetzbar. - Die Bogenführungszylinder
1 ,2 und8 weisen an sich bekannte Bogenhalteeinrichtungen20 , beispielsweise Greifersysteme, auf. - Im vorliegenden Beispiel ist dem Lackwerk III in Förderrichtung
7 ein Ausleger IV mit einer Abnahmeeinrichtung9 und umlaufenden Fördersystemen mit Bogenhalteinrichtungen20 zwecks Ablage der bogenförmigen Bedruckstoffe19 auf einen Stapel nachgeordnet. - In Förderrichtung
7 ist nach den Druckzonen (gebildet durch Gummituchzylinder3 und Bogenführungszylinder1 ) der Druckwerke I, II und/oder nach der Lackierzone (gebildet durch Formzylinder5 und Bogenführungszylinder1 ) der Lackwerke III jeweils eine Trocknereinrichtung10 zur Zuführung von Strahlungsenergie auf den mit UV-Druckfarbe bedruckten und oder mit UV-Lack lackierten, alternativ mit ei nern UV-Klebstoff versehenen Bedruckstoff19 angeordnet. - Bei Bedarf kann weiterhin im Ausleger IV wenigstens eine Trocknereinrichtung
10 im Bogenaufgang (1 ) und/oder in einem horizontalen Auslegerbereich (nicht gezeigt) angeordnet sein. - Jede Trocknereinrichtung
10 umfasst wenigstens eine sich über die Formatbreite des Bedruckstoffes19 erstreckende Strahlungseinheit11 , insbesondere eine UV-Strahlungseinheit. Die Trocknereinrichtung10 umfasst ferner wenigstens einen über die Formatbreite in einem Teilumfang gekrümmten Reflektor12 als Reflektorspiegel. Im vorliegenden Beispiel sind zwei Reflektoren12 mit Bezug zur Symmetrielinie spiegelbildlich zueinander angeordnet und auf den Bedruckstoff19 gerichtet. - Ein derartiger Reflektor
12 weist einen in Richtung des zu trocknenden Bedruckstoffes19 offenen Strahlungsaustrittsbereich21 auf und ist an seiner vom Bedruckstoff19 bzw. von der Strahlungseinheit11 abgewandten Rückseite14 mit einem Kühlelement15 in Wirkverbindung. - Bevorzugt weist das Kühlelement
15 mehrere von einem Kühlfluid, beispielsweise Wasser, durchströmbare Kühlkanäle16 auf. Alternativ kann ein derartiges Kühlelement15 mehrere Kühlrippen und/oder Kühlkanäle16 aufweisen. - Ein gekrümmter Reflektor
12 umfasst eine dichroitische Schicht22 , welche an seiner der Strahlungseinheit11 zugewandten Vorderseite13 angeordnet ist. An einer Rückseite14 der den Reflektor12 bildenden dichroitischen Schicht22 , d.h. von der Strahlungseinheit11 abgewandt, weist der Reflektor12 eine erste IR(Infrarot)-Absorberschicht17 (2 ,4 ) auf. - Die erste IR-Absorberschicht
17 ist in bevorzugter Ausbildung bevorzugt haftfest an der dichroitischen Schicht22 angeordnet. Dabei kann der mit dichroitischer Schicht22 und erster IR-Absorberschicht17 ausgebildete Reflektor12 mit dem Kühlelement15 eine einteilige Baueinheit bilden. Hierzu ist die vorderseitig mit der dichroitischen Schicht22 verbundene, erste IR-Absorberschicht17 rückseitig am Kühlelement15 haftfest angeordnet (4 ). Alternativ kann die mit der dichroitischen Schicht22 verbundene erste IR-Absorberschicht17 (als Reflektor12 ) lös bar an dem Kühlelement15 angeordnet sein. - Bevorzugt ist die dichroitische Schicht
22 auf der Vorderseite13 der am Kühlelement15 angeordneten, ersten IR-Absorberschicht17 aufgesputtert. - In einer weiteren Ausbildung umfasst der Reflektor
12 ein Substrat23 , beispielsweise ein bevorzugt metallisches Reflektorblech, das an der Vorderseite13 die mit der dichroitischen Schicht22 verbundene, haftfest angeordnete erste Absorberschicht17 trägt. In Weiterbildung kann das Substrat23 rückseitig eine haftfest angeordnete zweite IR-Absorberschicht18 tragen. Bevorzugt ist dieser Reflektor12 (in beiden Ausbildungen) lösbar am Kühlelement15 angeordnet. In einer Ausbildung ist die zweite IR-Absorberschicht18 des Reflektors12 unmittelbar dem Kühlelement15 benachbart zugeordnet. - In einer Weiterbildung ist dieser Reflektor
12 lösbar an dem Kühlelement15 angeordnet. Dabei trägt das Kühlelement15 eine an diesem haftfest angeordnete, dritte IR-Absorberschicht25 und die am Reflektor12 angeordnete zweite IR-Absorberschicht18 ist der dritten IR-Absorberschicht25 unmittelbar benachbart zugeordnet. Bevorzugt ist die dichroitische Schicht22 auf der Vorderseite13 des Reflektors12 (bzw. des Substrates23 ) aufgesputtert. - In einer ersten Ausbildung ist an der Rückseite
14 der dichroitischen Schicht22 die erste IR-Absorberschicht17 haftfest angeordnet, welche wiederum haftfest mit dem Substrat23 verbunden ist. An der Rückseite des Substrates23 ist eine zweite IR-Absorberschicht18 angeordnet (3 ,5 ,6 ). - Einem derartigen Reflektor
12 , speziell dessen zweiter IR-Absorberschicht18 , ist das Kühlelement15 benachbart zugeordnet. Der mit dichroitischer Schicht22 , erster IR-Absorberschicht17 , Substrat23 und zweiter IR-Absorberschicht18 ausgebildete, lösbar am Kühlelement15 angeordnete Reflektor12 und das Kühlelement15 können eine zweiteilige Baueinheit bilden. Hierbei sind die zweite IR-Absorberschicht18 und das Kühlelement15 in einem Kontaktspalt24 mit geringfügigem Abstand zueinander oder bevorzugt in unmittelbarem Oberflächenkontakt zueinander benachbart angeordnet (5 ). - In einer zweiten Ausbildung ist an der Rückseite
14 der dichroitischen Schicht22 die erste IR-Absorberschicht17 haftfest angeordnet, welche wiederum haftfest mit dem Substrat23 verbunden ist. An der Rückseite des Substrates23 ist eine zweite IR-Absorberschicht18 angeordnet (3 ,5 ,6 ). - Einem derartigen, lösbar am Kühlelement
15 angeordneten Reflektor12 , speziell dessen zweiter IR-Absorberschicht18 , ist eine dritte IR-Absorberschicht25 unmittelbar benachbart zugeordnet, welche haftfest am Kühlelement15 angeordnet ist (6 ). Der mit dichroitischer Schicht22 , erster IR-Absorberschicht17 , Substrat23 und zweiter IR-Absorberschicht18 ausgebildete, lösbar am Kühlelement15 angeordnete Reflektor12 und das Kühlelement15 mit dritter IR-Absorberschicht25 können eine zweiteilige Baueinheit bilden. Hierbei sind die zweite IR-Absorberschicht18 und die dritte IR-Absorberschicht25 (am Kühlelement15 ) in einem Kontaktspalt24 mit geringfügigem Abstand zueinander oder bevorzugt in unmittelbarem Oberflächenkontakt zueinander benachbart angeordnet (6 ). - Um die Absorption der Wärmestrahlung (IR-Strahlung) am Reflektor
12 bzw. Kühlelement15 zu verbessern ist bevorzugt die erste und/oder zweite und/oder dritte IR-Absorberschicht17 ,18 ,25 geschwärzt. Dadurch kann insbesondere die ZR-Strahlung vollständig absorbiert werden. - In einer Ausbildung kann die erste und/oder zweite und/oder dritte IR-Absorberschicht
17 ,18 ,25 aus einer wärmebeständigen, geschwärzten Farbschicht gebildet sein. - In einer weiteren Ausbildung kann die erste und/oder zweite und/oder dritte IR-Absorberschicht
17 ,18 ,25 aus einer geschwärzten Eloxierschicht gebildet sein. In einer weiteren Ausbildung kann die erste und/oder zweite und/oder dritte IR-Absorberschicht17 ,18 ,25 aus Schwarzchrom gebildet sein. - Die Wirkungsweise ist wie folgt. Wie in
2 angedeutet wird von der Strahlungseinheit11 eine Strahlungsenergie emittiert, welche u.a. Wellenlängen im Infrarot (IR-Strahlung) und insbesondere im Ultraviolett (UV-Strahlung) beinhaltet. Von der Strahlungseinheit11 kann die Strahlungsenergie direkt oder indirekt auf den Be druckstoff19 (mit UV-härtender Druckfarbe, UV-härtendem Lack oder UV-härtendem Klebstoff oder sonstigen UV-härtenden Materialien) gerichtet sein. Die gegen den Reflektor12 gerichtete Strahlungsenergie (UV- und IR-Strahlung) wird durch die dichroitische Schicht22 am Reflektor12 aufgeteilt, indem die UV-Strahlung dort abgelenkt und auf den Bedruckstoff19 gerichtet wird und indem die IR-Strahlung die dichroitische Schicht22 (als Reflektor12 ) passiert, von der ersten Absorberschicht17 aufgenommen und an das Kühlelement15 abgegeben wird. Mittels Kühlfluid und/oder Kühlrippen kann der durch die ZR-Strahlung in das Kühlelement15 eingebrachte Wärmeeintrag abgeführt werden (4 ). - Bei den Ausbildungen gemäß
3 ,5 ,6 wird die gegen den Reflektor12 gerichtete Strahlungsenergie (UV- und IR-Strahlung) durch die dichroitische Schicht22 aufgeteilt, indem die UV-Strahlung dort abgelenkt und auf den Bedruckstoff19 gerichtet wird und indem die IR-Strahlung die dichroitische Schicht22 (als Reflektor12 ) passiert, von der ersten Absorberschicht17 aufgenommen, das Substrat23 passiert und von der zweiten Absorberschicht18 aufgenommen wird. - In der ersten Ausbildung ist der zweiten Absorberschicht
18 unmittelbar das Kühlelement15 zugeordnet. Von der zweiten Absorberschicht18 passiert die IR-Strahlung den Kontaktspalt24 und wird an das Kühlelement15 abgegeben bzw. von diesem aufgenommen (5 ). Mittels Kühlfluid und/oder Kühlrippen kann der durch die IR-Strahlung in das Kühlelement15 eingebrachte Wärmeeintrag aus der Trocknereinrichtung10 abgeführt werden. - In der zweiten Ausbildung ist der zweiten Absorberschicht
18 unmittelbar die dritte IR-Absorberschicht25 am Kühlelement15 zugeordnet. Von der zweiten Absorberschicht18 passiert die IR-Strahlung den Kontaktspalt24 und wird von der dritten IR-Absorberschicht25 aufgenommen und von dieser an das Kühlelement15 abgegeben (6 ). Mittels Kühlfluid und/oder Kühlrippen kann der durch die IR-Strahlung in das Kühlelement15 eingebrachte Wärmeeintrag aus der Trocknereinrichtung10 abgeführt werden. -
- 01
- Bogenführungszylinder (Druckzylinder)
- 02
- Bogenführungszylinder (Transferzylinder)
- 03
- Gummituchzylinder
- 04
- Formzylinder (Plattenzylinder)
- 05
- Formzylinder (Lackierzylinder)
- 06
- Dosiersystem
- 07
- Förderrichtung
- 08
- Bogenführungszylinder (Wendeeinrichtung)
- 09
- Abnahmeeinrichtung
- 10
- Trocknereinrichtung
- 11
- Strahlungseinheit
- 12
- Reflektor
- 13
- Vorderseite
- 14
- Rückseite
- 15
- Kühlelement
- 16
- Kühlkanal
- 17
- erste IR-Absorberschicht
- 18
- zweite IR-Absorberschicht
- 19
- Bedruckstoff
- 20
- Bogenhalteeinrichtung
- 21
- Strahlungsaustrittsbereich
- 22
- dichroitische Schicht
- 23
- Substrat
- 24
- Kontaktspalt
- 25
- dritte IR-Absorberschicht
- I
- erstes Druckwerk
- II
- zweites Druckwerk
- III
- Lackwerk
- IV
- Ausleger
Claims (17)
- Trocknereinrichtung zur Behandlung einer Bedruckstoffoberfläche in einer Verarbeitungsmaschine, mit einer sich über die Formatbreite des Bedruckstoffes erstreckenden Strahlungseinheit, der über einen Teilumfang wenigstens ein gekrümmter Reflektor mit einer dichroitische Schicht zugeordnet ist, der Reflektor einen in Richtung des zu trocknenden Bedruckstoffes offenen Strahlungsaustrittsbereich aufweist und der Reflektor an seiner zum Bedruckstoff abgewandten Rückseite mit einem Kühlelement in Wirkverbindung ist, dadurch gekennzeichnet, dass der Reflektor (
12 ) eine an einer der Strahlungseinheit (11 ) zugewandten Vorderseite (13 ) angeordnete dichroitische Schicht (22 ) und an deren Rückseite (14 ) eine angeordnete erste IR-Absorberschicht (17 ) aufweist. - Trocknereinrichtung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass die erste IR-Absorberschicht (
17 ) haftfest an der dichroitischen Schicht (22 ) angeordnet ist. - Trocknereinrichtung nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, dass die mit der dichroitischen Schicht (
22 ) verbundene erste IR-Absorberschicht (17 ) haftfest an dem Kühlelement (15 ) angeordnet ist. - Trocknereinrichtung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass die mit der dichroitischen Schicht (
22 ) verbundene erste IR-Absorberschicht (17 ) lösbar an dem Kühlelement (15 ) angeordnet ist. - Trocknereinrichtung nach Anspruch 4, dadurch gekennzeichnet, dass der Reflektor (
12 ) ein Substrat (23 ) aufweist, das an der Vorderseite (13 ) die mit der dichroitischen Schicht (22 ) verbundene, haftfest angeordnet erste IR-Absorberschicht (17 ) trägt. - Trocknereinrichtung nach Anspruch 5, dadurch gekennzeichnet, dass der Reflektor (
12 ) ein Substrat (23 ) aufweist, das an der Vorderseite (13 ) die mit der dichroitischen Schicht (22 ) verbundene, haftfest angeordnet erste IR-Absorberschicht (17 ) trägt und rückseitig eine zweite, haftfest angeordnete IR-Absorberschicht (18 ) trägt. - Trocknereinrichtung nach Anspruch 6, dadurch gekennzeichnet, dass der Reflektor (
12 ) lösbar an dem Kühlelement (15 ) angeordnet ist und die zweite IR-Absorberschicht (18 ) des Reflektors (12 ) unmittelbar dem Kühlelement (15 ) benachbart zugeordnet ist. - Trocknereinrichtung nach Anspruch 6, dadurch gekennzeichnet, dass der Reflektor (
12 ) lösbar an dem Kühlelement (15 ) angeordnet ist und die zweite IR-Absorberschicht (18 ) des Reflektors (12 ) einer am Kühlelement (15 ) haftfest angeordneten, dritten IR-Absorberschicht (25 ) unmittelbar benachbart zugeordnet ist. - Trocknereinrichtung nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass die erste und/oder zweite und/oder dritte IR-Absorberschicht (
17 ,18 ,25 ) geschwärzt sind. - Trocknereinrichtung nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass die erste und/oder zweite und/oder dritte IR-Absorberschicht (
17 ,18 ,25 ) aus einer wärmebeständigen, geschwärzten Farbschicht gebildet sind. - Trocknereinrichtung nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass die erste und/oder zweite und/oder dritte IR-Absorberschicht (
17 ,18 ,25 ) aus einer geschwärzten Eloxierschicht gebildet sind. - Trocknereinrichtung nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass die erste und/oder zweite und/oder dritte IR-Absorberschicht (
17 ,18 ,25 ) aus Schwarzchrom gebildet sind. - Trocknereinrichtung nach Anspruch 3, dadurch gekennzeichnet, dass der mit dichroitischer Schicht (
22 ) und erster IR-Absorberschicht (17 ) ausgebildete Reflektor (12 ) mit dem Kühlelement (15 ) eine einteilige Baueinheit bildet. - Trocknereinrichtung nach Anspruch 4, dadurch gekennzeichnet, dass der mit dichroitischer Schicht (
22 ) und erster IR-Absorberschicht (17 ) ausgebildete Reflektor (12 ) und das Kühlelement (15 ) eine zweiteilige Baueinheit bilden. - Trocknereinrichtung nach Anspruch 5, dadurch gekennzeichnet, dass der mit dichroitischer Schicht (
22 ), erster IR-Absorberschicht (17 ) und Substrat (23 ) ausgebildete Reflektor (12 ) mit dem Kühlelement (15 ) eine zwei teilige Baueinheit bildet. - Trocknereinrichtung nach Anspruch 6, dadurch gekennzeichnet, dass der mit dichroitischer Schicht (
22 ), erster IR-Absorberschicht (17 ), Substrat (23 ) und zweiter IR-Absorberschicht (18 ) ausgebildete Reflektor (12 ) mit dem Kühlelement (15 ) eine zweiteilige Baueinheit bilden. - Trocknereinrichtung nach Anspruch 6, dadurch gekennzeichnet, dass der mit dichroitischer Schicht (
22 ), erster IR-Absorberschicht (17 ), Substrat (23 ) und zweiter IR-Absorberschicht (18 ) ausgebildete Reflektor (12 ) mit dem eine dritte IR-Absorberschicht (25 ) tragenden Kühlelement (15 ) eine zweiteilige Baueinheit bilden.
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