DE102006021557B3 - Vorrichtung und Verfahren zur kombinierten interferometrischen und abbildungsbasierten Geometrieerfassung, insbesondere in der Mikrosystemtechnik - Google Patents

Vorrichtung und Verfahren zur kombinierten interferometrischen und abbildungsbasierten Geometrieerfassung, insbesondere in der Mikrosystemtechnik Download PDF

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    • G01B9/04—Measuring microscopes

Abstract

Die erfindungsgemäße Vorrichtung weist ein Objektiv (8) auf, das in zumindest zwei verschiedenen Messmodi arbeiten kann. In einem ersten Interferenzmodus wird ein Messobjekt (9) interferenzoptisch vermessen. In einem zweiten abbildenden Betriebsmodus wird z.B. auf einem nach Art einer Kamera ausgebildeten Detektorarray (12) ein optisches Bild erzeugt, das einer Bildverarbeitungsroutine zugeführt werden kann. Die Umschaltung zwischen beiden Messmodi erfolgt durch Umschaltung der Beleuchtungseinrichtungen, die an unterschiedliche Stellen des Strahlengangs der Vorrichtung angeschlossen sind - aus Sicht der Kamera eine vor dem Strahlteiler und die andere hinter dem Strahlteiler, der den Referenzlichtweg an den Strahlengang ankoppelt.

Description

  • Die Erfindung betrifft eine Vorrichtung und Verfahren zum optischen Vermessen eines Messobjekts. Die Vorrichtung und das Verfahren eignen sich insbesondere für Messaufgaben in der Mikrosystemtechnik.
  • Um Höhenstrukturen auch an gestuften Objekten flächenhaft mit höchster Genauigkeit optisch zu messen, eignet sich vor allem die vertikal scannende Weißlichtinterferometrie (WLI). Übliche interferometrische Anordnungen dazu sind das Michelson Interferometer, das Linnik-Interferometer und das Mirau-Interferometer. In der WLI wird eine Weißlichtquelle, typischerweise eine Halogenlampe, zur Beleuchtung eingesetzt. Während der Messung wird die optische Weglängendifferenz zwischen dem Messstrahlengang und dem Referenzstrahlengang kontinuierlich vergrößert oder verringert während im Abstand von weniger als 100 nm Interferenzbilder des Objekts im allgemeinen mit einem flächig auflösenden Pixelsensor (z.B. CCD- oder CMOS-Array) aufgezeichnet werden. Die optische Weglängenänderung kann durch eine Bewegung des Messobjekts in Richtung des Interferometers, eine Bewegung des Interferometers in Richtung auf das Objekt oder von diesem weg, eine Bewegung des Interferenzobjektivs oder eines Referenzspiegels erzeugt werden. Dieser Vorgang wird als „vertikales Scannen" bezeichnet. Der von der optischen Weglängendifferenz abhängige Intensitätsverlauf für jedes Kamerapixel, das so genannte Korrelogramm, wird der weiteren Signalauswertung zugeführt.
  • Bei der WLI-Signalauswertung wird zwischen Kohärenz-Peak-Auswertung, die eine vergleichsweise grobe Abschätzung der Höhenlage eines Messpunkts mit Abweichungen von teilweise über 100 nm liefert, und der Phasenauswertung unterschieden, die Messunsicherheiten im Nanometer- oder Subnanometerbereich erlaubt. Der Höhenmessbereich kann mehrere Millimeter betragen.
  • Laterale Geometriemerkmale von Messobjekten lassen sich über die digitale Auswertung von Pixelbildern z.B. mit Kantendetektionsalgorithmen bestimmen. Bei mikroskopischen Objekten werden folglich Messmikroskope mit geeigneten Kameras ausgerüstet, um solche Pixelbilder aufzuzeichnen und anschließend digital auszuwerten. Ein Vorteil dieses Verfahrens besteht in der hohen Messgeschwindigkeit, die es gestattet, bei entsprechender Synchronisation zwischen dem Bildeinzug und der Anregung des Messobjekts auch Untersuchungen des dynamischen Verhaltens entsprechender Messobjekte vorzunehmen. Sämtliche mikroskopischen Verfahren sind hinsichtlich der erreichbaren lateralen Auflösung jedoch den durch die beugungsbegrenzte Abbildung gegebenen Einschränkungen unterworfen. Dies führt bei Verwendung von sichtbarem Licht im Allgemeinen zu lateralen Auflösungen von ca. 0,5 μm.
  • Soll die auf digitalisierten lichtmikroskopischen Aufnahmen basierende Auswertung lateraler Strukturen mit einer der oben genannten Interferometeranordnungen durchgeführt werden, wirken sich die in der Interferenzmikroskopie zwangsläufig auftretenden Interferenzeffekte aufgrund der dadurch bedingten zusätzlichen Bildkontraste störend aus.
  • Deshalb schlägt die WO 2005/108915 A1 eine Messeinrichtung vor, die mit ein und demselben Objektiv sowohl in einem interferometrischen als auch in einem abbildenden Betriebsmodus arbeiten kann. Dazu werden zwei Lichtquellen vorgesehen, die Licht unterschiedlicher spektraler Zusammensetzung emittieren. In dem Referenzlichtweg ist ein Filter angeordnet, das nur Licht der einen spektralen Zusammensetzung, nicht aber das Licht der anderen Zusammensetzung passieren lässt.
  • Durch dieses Prinzip ist die Anwendung auf unterschiedliche Lichtarten in den unterschiedlichen Betriebsmodi festgelegt.
    •
  • Es ist Aufgabe der Erfindung, hier abzuhelfen.
  • Diese Aufgabe wird mit der Vorrichtung nach Anspruch 1 und dem Verfahren nach Anspruch 28 gelöst.
  • Bei der erfindungsgemäßen Vorrichtung und dem erfindungsgemäßen Verfahren sind zumindest zwei Betriebsmodi ver fügbar, nämlich ein interferometrischer Betriebsmodus und ein abbildender Betriebsmodus, in dem eine Bildverarbeitung oder auch eine manuelle Beobachtung des Messobjekts oder eine Bildaufzeichnung zur Bildarchivierung oder späteren Bildauswertung durchgeführt werden kann.
  • Die Messeinrichtung weist eine erste und eine zweite Beleuchtungseinrichtung mit Lichtquellen auf, die Licht mit unterschiedlicher oder auch gleicher spektraler Zusammensetzung emittieren. Die Umschaltung zwischen beiden Betriebsmodi erfolgt durch Umschaltung der beiden Beleuchtungseinrichtungen, von denen dann entweder nur die erste oder nur die zweite betrieben werden. Die unterschiedlichen Betriebsarten bei alternativer Aktivierung der Beleuchtungseinrichtungen wird erreicht, indem das Licht der einen (ersten) Lichtquelle einen Strahlteiler, über den eine Referenzlichtweg an den Strahlengang angeschlossen ist, in einer ersten Richtung, in der er einen Referenzlichtstrahl abzweigt, passiert, während das Licht der anderen (zweiten) Lichtquelle diesen Strahlteiler nur in Gegenrichtung durchläuft, in der der Strahlteiler kein Licht in den Referenzlichtweg abzweigt.
  • Dazu wird beispielsweise das Licht der ersten Beleuchtungseinrichtung an einer zwischen dem genannten Strahlteiler und der Bildaufnahmeeinrichtung gelegenen Stelle in den Strahlengang der Messeinrichtung eingekoppelt. Dagegen wird beispielsweise das Licht der zweiten Beleuchtungseinrichtung an einer zwischen dem besagten Strahlteiler und dem Messobjekt gelegenen Stelle in den Strahlengang der Messeinrichtung eingekoppelt oder alternativ direkt auf das Messobjekt gestrahlt. Das Licht der ersten Beleuchtungseinrichtung durchläuft den Strahlteiler dann in Richtung auf das Messobjekt zu und das vom Messobjekt rückgestrahlte Licht durchläuft den Strahlteiler in Gegenrichtung. Das Licht durchläuft den Strahlteiler also doppelt, d.h. in Hin-Richtung und in Rück- Richtung. Von dem zum Messobjekt Bestrahlten und durch den Strahlteiler laufenden Licht wird ein Teil in den Referenzlichtweg abgezweigt.
  • Das Licht der zweiten Beleuchtungseinrichtung durchläuft den Strahlteiler nicht in der zu dem Messobjekt gerichteten Richtung, in der er Licht in den Referenzlichtweg abzweigen könnte. Deshalb ist der Referenzlichtweg für das Licht der zweiten Beleuchtungseinrichtung vollkommen inaktiv und zwar auch dann, wenn die erste und die zweite Beleuchtungseinrichtung gleiche Lichtquellen verwenden. Im Stand der Technik vorhandene Einschränkungen hinsichtlich der Wahl der Lichtquellen für die Beleuchtungseinrichtungen zur Erzeugung der unterschiedlichen Messmodi sind somit beseitigt.
  • Als Lichtquellen kommen sowohl für die erste als auch für die zweite Beleuchtungseinrichtung kurzkohärente Lichtquellen, langkohärente Lichtquellen, farbige Lichtquellen, Weißlichtquellen, wie beispielsweise Laserdioden, Leuchtdioden, farbige Leuchtdioden, weiße Leuchtdioden, Superlumineszensdioden, Halogenlampen und ähnliches in Frage. Die Umschaltung zwischen den Betriebsmodi ist rein elektronischer Natur – es müssen nur die Beleuchtungseinrichtungen aktiviert oder deaktiviert werden. Weder ist eine mechanische Verstellung noch ein Objektivwechsel erforderlich. Während im interferenzoptischen Betriebsmodus eine Auflichtbeleuchtung des Messobjekts durch das Objektiv hindurch erfolgt kann die Beleuchtung im abbildenden Betriebsmodus in weiten Grenzen willkürlich festgelegt werden. Es ist sowohl eine Beleuchtung durch das Objektiv hindurch in Form einer Auflichtbeleuchtung als auch eine Durchlichtbeleuchtung als auch eine Dunkelfeldbeleuchtung oder anderweitige Beleuchtung des Messobjekts mit Lichtquellen möglich, die an dem Objektiv, außerhalb des Objektivs an gesonderten Trägern oder Haltern in Nachbarschaft des Objektivs oder auch hinter dem Messobjekt oder dem Messobjektträger angeordnet sind. Beispielsweise kann eine Dun kelfeldbeleuchtungseinrichtung mit ringförmiger Leuchtdiodenanordnung vorgesehen werden.
  • Durch lichtmikroskopisches „Antasten" mit nachfolgender interferometrischer Messung besteht zudem die Möglichkeit, schnelle automatische Messabläufe zu realisieren. Im lichtmikroskopischen Betriebsmodus kann zudem eine rasche Prüfung des dynamischen Verhaltens des untersuchten Objekts oder Systems erfolgen.
  • Als Objektiv wird vorzugsweise ein Mirau-Interferenzobjektiv mit integrierter Strahlteilerplatte und integriertem Referenzspiegel verwendet.
  • Das z.B. unter Verwendung von blauem Licht aufgenommene lichtmikroskopische Bild dient der lateralen Erfassung von Geometrieelementen mit hoher Auflösung. Allein aufgrund der geringen Wellenlänge des blauen Lichts lassen sich laterale Auflösungen kleiner 0,5 μm erreichen. Mit Hilfe einer externen Lichtquelle auf Basis blauer LEDs, z.B. einer segmentweise ansteuerbaren Ringlichtbeleuchtung, kann im Bildverarbeitungsmodus auch auf geneigten spiegelnden Flanken gemessen werden, ohne das Messobjekt aufwendig kippen zu müssen.
  • Durch Erweiterung des Ansatzes auch auf Michelson-Objektive lassen sich größere Messbereiche (bei entsprechend der geringeren nummerischen Apertur reduzierter lateraler Auflösung) mit einem Messvorgang erfassen. Die Linnik-Anordnung ist hingegen zweckmäßig, um die laterale Auflösung zu minimieren, indem eine möglichst große nummerische Apertur des Objektivs gewählt wird. Es können auch mehrere Objektive z.B. über einen Objektivrevolver in der Vorrichtung verwendet werden.
  • Die interferometrische Anordnung lässt sich gemäß einem Aspekt der Erfindung auch als phasenschiebendes Interferometer betreiben. In diesem Fall wird eine näherungsweise monochromatische Lichtquelle für die interferometrische Messung verwendet.
  • Die zusätzliche Anbringung eines taktilen Mikrotasters im Sichtfeld des Mikroskops gestattet es, auch an Strukturen, die der optischen Messung nicht zugänglich sind, Geometriemessdaten zu ermitteln, wobei die taktile Messung aufgrund der mechanischen Kopplung mit der optischen Vorrichtung in dem gleichen Bezugssystem erfolgt wie die interferometrische Messung und die Bildverarbeitung. Der taktile Mikrotaster kann z.B. als Siliziumbiegebalken ausgeführt werden, der mit einer piezoresistiven Brückenschaltung zur Messung der Tasterauslenkung versehen ist.
  • Die Kopplung der Messvorrichtung mit mechanischen Positioniereinheiten für die X, Y und Z-Achse, die mit geeigneten Inkrementalmesssystemen ausgestattet sein können, erlaubt es, Messungen unterschiedlicher Objektbereiche zueinander in Beziehung zu setzen. Je nach Messaufgabe können auch rotatorische Positionierachsen zweckmäßig sein.
  • Die erfindungsgemäße Vorrichtung lässt sich als kompaktes Sensormodul ausführen und ermöglicht bei vergleichsweise geringen Gerätekosten eine Vielzahl von Anwendungen, speziell aus dem Bereich der Mikrosystemtechnik. Sie trägt den wachsenden Ansprüchen an die Messgenauigkeit, die Messgeschwindigkeit und die prozessnahe und flexible Einsatzbarkeit Rechnung. Der Einsatz von LEDs als Lichtquellen birgt gegenüber den in der Weißlichtinterferometrie verbreiteten thermischen Strahlern Vorteile hinsichtlich Gestaltungsfreiheit, Kompaktheit, Lebensdauer und Reduzierung thermischer Störeffekte.
  • Bei dem erfindungsgemäßen Verfahren werden die Einzelsysteme der Messvorrichtung so aufeinander abgestimmt betrieben, dass die jeweilige Messaufgabe in optimaler Weise gelöst wird. Dabei werden laterale Strukturgrößen mittels Bildverarbeitung analysiert, Höhenstrukturen mittels der Weißlichtinterferometrie erfasst und weitere Merkmale, z.B. Mikrostrukturen auf senkrechten Flanken, gegebenenfalls mit einem taktilen Mikrotaster erfasst. Sämtliche Messdaten liegen in demselben Bezugssystem vor und können somit miteinander kombiniert werden.
  • Weitere Einzelheiten vorteilhafter Ausführungsformen der Erfindung ergeben sich aus der Zeichnung, der Beschreibung oder Ansprüchen.
    •
  • In der Zeichnung sind Ausführungsbeispiele der Erfindung veranschaulicht. Es zeigen:
  • 1 eine erfindungsgemäße auf einem Michelson-Interferometer basierende Vorrichtung zum optischen Vermessen eines Messobjekts in Prinzipdarstellung,
  • 2 eine auf einem Mirau-Interferometer basierende erfindungsgemäße Vorrichtung in Prinzipdarstellung,
  • 3 die Vorrichtung nach 2 in ausschnittsweiser Darstellung zur Veranschaulichung ihrer Dunkelfeld-Beleuchtungseinrichtung in Prinzipdarstellung,
  • 4 die Dunkelfeld-Beleuchtungseinrichtung nach 3 in perspektivischer Darstellung,
  • 5 eine drei Messmodi gestattende erfindungsgemäße Vorrichtung basierend auf einem Mirau-Interferometer und
  • 6 eine Messeinrichtung mit interferometrischem Betriebsmodus, abbildendem Betriebsmodus und zusätzlichem mechanischen Taster, in Prinzipdarstellung.
  • In 1 ist eine Vorrichtung zum kombinierten flächenhaften Erfassen von Höhenwerten eines Messobjekts 9 alternativ in einem interferometrischen Betriebsmodus und in einem Bildverarbeitungsmodus mittels optischer Abbildung des Messobjekts 9 veranschaulicht. Zu der Vorrichtung gehört eine Beleuchtungsanordnung 1 mit einer ersten Beleuchtungseinrichtung 1a und einer zweiten Beleuchtungseinrichtung 1b zur Beleuchtung des Messobjekts 9. Die Beleuchtungseinrichtungen 1a, 1b enthalten Lichtquellen z.B. mit einer angeschlossenen Optik, die das Licht jeweils auf die Oberfläche des Messobjekts 9 leitet.
  • Die Beleuchtungseinrichtungen 1a, 1b geben Licht mit gleicher oder unterschiedlicher spektraler Zusammensetzung ab. Beispielsweise wird die erste Beleuchtungseinrichtung 1a durch eine Weißlicht-LED gebildet, die ein relativ breites Lichtspektrum erzeugt. Die zweite Beleuchtungseinrichtung 1b wird beispielsweise durch eine blaue, d.h. kurzwellig strahlende Leuchtdiode gebildet. Alternativ können beiden Beleuchtungseinrichtungen 1a, 1b durch Weißlicht-LED oder durch farbige, z.B. blaue LED oder andere Lichtquellen gebildet werden.
  • Die Messvorrichtung weist einen Strahlengang auf, der von dem Messobjekt zu einer Bildaufnahmeeinrichtung 12 führt. In dem Strahlengang ist ein Strahlteiler 2 angeordnet, der dem Strahlengang einen Referenzlichtweg 3 hinzufügt. In dem Referenzlichtweg 3 ist ein Spiegel 4 angeordnet. Durch einen Kondensor 5 und einen weiteren Strahlteiler 6 wird die Lichtquelle der ersten Beleuchtungseinrichtung 1a auf eine Eintrittspupille 7 eines Objektivs 8 abgebildet, das den Strahlteiler 2 und den Referenzspiegel 4 enthält. In dem interferometrischen Betriebsmodus wird ein Teil des durch den Strahlteiler 2 aus dem Strahlengang abgezweigten Lichts der Lichtquelle 1a durch den Strahlteiler 2 zu dem Referenzspiegel 4 geleitet und von diesem reflektiert. Ein anderer Teil Lichts wird von dem Strahlteiler 2 zunächst zu einem weiteren Strahlteiler 10 geleitet, der zum bedarfsweisen Einspiegeln der Lichtquelle der zweiten Beleuchtungseinrichtung 1b dient. Diesen passiert das Licht der ersten Beleuchtungseinrichtung 1a und gelangt zu dem Messobjekt 9 geleitet und wird von diesem reflektiert.
  • Der Referenzspiegel 4 und der sich innerhalb der Schärfentiefe befindliche Teil des Messobjekts 9 werden mittels des Objektivs 8 und einer Tubuslinse 11 auf ein Detektorarray 12, z.B. eine Pixelkamera mit 800 × 600 Pixeln, abgebildet. Das von dem Messobjekt 9 und dem Spiegel 4 reflektierte Licht wird dabei durch den Strahlteiler 2 zusammengeführt, es durchquert den Strahlteiler 6 und gelangt auf dem Detektorarray 12 zur Interferenz.
  • Eine Positioniereinheit 13 dient dazu, das Objektiv 8 senkrecht zu dem Messobjekt 9, d.h. in Z-Richtung zu verstellen. Ein als Steuereinrichtung dienender Digitalrechner 14 nimmt die von dem Detektorarray 12 abgegebenen Bilder auf und steuert die Positioniereinheit 13. Die interferometrische Messung erfolgt dadurch, dass das Objektiv 8 mittels der Positioniereinheit 13 entlang der optischen Achse bewegt wird, und indem für verschiedene Höhenpositionen des Objektivs Interferenzbilder aufgezeichnet und in dem Digitalrechner 14 ausgewertet werden. Für den Interferenzbetrieb ist die Beleuchtungseinrichtung 1a (z.B. eine Weißlichtquelle) in Betrieb. Die Beleuchtungseinrichtung 1b (z.B. blaue LEDs) ist in dem Interferenzmodus außer Betrieb. Das Licht der Beleuchtungseinrichtung 1a passiert den dem Referenzlichtweg 3 ankoppelnden Strahlteiler 2 zwei mal, einmal vorwärts zum Messobjekt 9 und einmal rückwärts zur Bildaufnahmeeinrichtung 12.
  • In dem Bildverarbeitungsmodus wird die Beleuchtungseinrichtung 1a außer Betrieb genommen und die Beleuchtungseinrichtung 1b wird eingeschaltet. Das Licht wird über einen Kondensor 15 und den Strahlteiler 10 so in den Strahlengang eingekoppelt, dass der Referenzlichtweg 3 umgangen wird. Dazu ist der Strahlteiler 10 zwischen dem Strahlteiler 2 und dem Messobjekt angeordnet. Das Licht der Beleuchtungseinrichtung 1b beleuchtet das Messobjekt 9 und dient in Verbindung mit der Tubuslinse 11 zur Abbildung der innerhalb der Schärfentiefe des Objektivs 8 befindlichen Objektbereiche auf das Detektorarray 12. Dieses zeichnet das Bild des Objekts auf und führt es zur nachgeschalteten digitalen Auswertung dem Digitalrechner 14 zu.
  • Im interferometrischen Betriebsmodus kann beispielsweise nach einem der im Zusammenhang mit der Weißlichtinterferometrie bekannten Verfahren zur Bestimmung von Höhenpositionen von Strukturen des Messobjekts 9 gearbeitet werden. Beispielsweise wird die Positioniereinheit 13 verstellt bis Interferenzerscheinungen auftreten und es werden diese ausgewertet.
  • Im Bildverarbeitungsmodus wird hingegen das mit Licht der Beleuchtungseinrichtung 1b beleuchtete Messobjekt 9 optisch auf dem Detektorarray 12 abgebildet. Das erhaltene Bild kann von dem Digitalrechner 14 abgespeichert oder weiter verarbeitet werden. Beispielsweise können mittels Kantenfinderroutinen Bildstrukturen erkannt und Vermessen werden.
  • Das Licht der Beleuchtungseinrichtung 1a für die interferometrische Messung trifft erst den Strahlteiler 2 und dann das Messobjekt 9. Das Licht der Beleuchtungseinrichtung 1b trifft erst das Messobjekt 9 und dann den Strahlteiler 2.
  • 2 veranschaulicht eine andere Ausführungsform der erfindungsgemäßen Vorrichtung als Mirau-Interferometer. Die vorige Beschreibung gilt unter Zugrundelegung gleicher Bezugszeichen entsprechend. Der Strahlteiler 2 ist als teilweise reflektierende Platte ausgebildet. Der Referenzspiegel 4 ist auf der optischen Achse angeordnet. Die Beleuchtungseinrichtung 1b ist außerhalb des Objektivs angeordnet. Sie strahlt ihr Licht auf das Messobjekt, so dass es wie schon beim vorigen Beispiel dieses erreicht, bevor es den ersten Strahlteiler 2 passieren kann. Nur das vom Messobjekt 9 herkommende Licht tritt durch den Strahlteiler 2 und gelangt zu der Bildverarbeitungseinrichtung 12.
  • 3 veranschaulicht die Beleuchtungseinrichtung 1b in ihrer Ausführungsform als Dunkelfeld-Beleuchtungseinrichtung. Die Dunkelfeldbeleuchtungseinrichtung weist mehrere Lichtquellen, beispielsweise Leuchtdioden auf, die unterhalb einer Ebene 16 angeordnet sind, auf der das Messobjekt 9 gelagert ist. Das Messobjekt 9 kann, wie dargestellt, mehrere Stufen und Kanten 17, 18, 19, 20 und Seitenflächen 21, 22 aufweisen, die von der Beleuchtungseinrichtung 1b beleuchtet werden. Dazu weist diese, wie erwähnt, eine Anzahl von Lichtquellen, beispielsweise Leuchtdioden, auf, die, wie 4 veranschaulicht, z.B. in ein oder mehreren Ringen gruppiert sein können. Sie weisen jeweils einen Öffnungs- oder Lichtaustrittswinkel α von beispielsweise 25° auf. Ihre optischen Achsen treffen sich vorzugsweise in einem gemeinsamen Punkt. Die Leuchtdioden sind vorzugsweise so angeordnet, dass das von ihnen emittierte Licht nicht direkt in das Objektiv 8 gelangen kann.
  • Zu der Beleuchtungseinrichtung 1b kann, wie 3 veranschaulicht, eine weitere Lichtquelle 23, beispielsweise in Form einer Leuchtdiode oder einer anderweitigen Lichtquelle, wie z.B. Glühlampe, gehören, die unterhalb des Messobjekts 9 auf der optischen Achse der Vorrichtung angeordnet ist. Diese Lichtquelle kann dazu dienen, Messobjekte im Durchlichtbetrieb zu beleuch ten. Dies kann beispielsweise bei durchscheinenden oder durchsichtigen Messobjekten zweckmäßig sein. Die Leuchtdioden können farbige Leuchtdioden, kurzwellige blaue Leuchtdioden, ultraviolett strahlende Leuchtdioden oder Weißlichtleuchtdioden sein.
  • 5 veranschaulicht eine weitere Ausführungsform der erfindungsgemäßen Vorrichtung, die auf der Ausführungsform nach 2 beruht. Auf die entsprechende Beschreibung wird verwiesen. Abweichend von der vorbeschriebenen Ausführungsform ist die Beleuchtungseinrichtung 1b oberhalb des Messobjekts 9 angeordnet und als Auflichtbeleuchtung ausgebildet. Die Beleuchtungseinrichtung 1b kann durch eine oder mehrere Lichtquellen gebildet sein, die ihr Licht auf das Messobjekt 9, nicht aber in das Objektiv 8 einstrahlen. Somit gelangt nur das von dem Messobjekt 9 rückgestreute Licht der Beleuchtungseinrichtung 1b in das Objektiv 8. Der Referenzstrahlengang 3 ist in diesem Betriebsmodus inaktiv – es wird mit optischer Abbildung gearbeitet.
  • Des Weiteren kann die Beleuchtungseinrichtung 1a zwei Lichtquellen 24, 25 umfassen, deren Licht über einen Strahlteiler 26 zusammengefasst und über den Kondensor 5 sowie den Strahlteiler 6 in den Strahlengang der Vorrichtung eingespiegelt wird. Die Lichtquellen 24, 25 können unterschiedliche spektrale Eigenschaften aufweisen, die beide für den interferometrischen Betriebsmodus geeignet sind. Beispielsweise kann eine langkohärent und die andere kurzkohärent sein. Als interferenzerzeugendes Objektiv kann eine Anordnung nach Michelson, Mirau oder auch Linnik verwendet werden.
  • Wie 6 veranschaulicht, kann zusätzlich ein punktförmig messender Taster 16 in das Sichtfeld der Abbildungsoptik eingebracht werden. Dies gilt entsprechend für alle vorbeschriebenen Ausführungsformen. Der punktförmig messende Taster 26 ist vorzugsweise mit dem Digitalrechner 14 verbunden.
  • Durch translatorische und/oder rotatorische Verstelleinrichtungen, d.h. Achsen, die dem Messobjekt 9 und/oder der Vorrichtung insbesondere dem Objektiv 8 zugeordnet sind, kann eine Änderung der Relativposition zwischen dem Messobjekt und dem Messgerät vorgenommen werden.
  • Die erfindungsgemäße Vorrichtung weist ein Objektiv auf, das in zumindest zwei verschiedenen Messmodi arbeiten kann. In einem ersten Interferenzmodus wird ein Messobjekt 9 interferenzoptisch vermessen. In einem zweiten abbildenden Betriebsmodus wird z.B. auf einem nach Art einer Kamera ausgebildeten Detektorarray ein optisches Bild erzeugt, das einer Bildverarbeitungsroutine zugeführt werden kann. Die Umschaltung zwischen beiden Messmodi erfolgt durch Umschaltung der Beleuchtungseinrichtungen, die an unterschiedliche Stellen des Strahlengangs der Vorrichtung angeschlossen sind – aus Sicht der Kamera eine vor dem Strahlteiler und die andere hinter dem Strahlteiler, der den Referenzlichtweg an den Strahlengang ankoppelt.

Claims (30)

  1. Vorrichtung zum Abbilden und/oder Vermessen eines Messobjekts (9) mittels Interferometrie in einem interferometrischen Abbildungsmodus und mittels nicht interferometrischer Abbildung in einem optischen Abbildungsmodus mittels Aufzeichnung und digitaler Auswertung optischer Abbildungen des Messobjekts, mit einem Objektiv (8), das einen Strahlengang festlegt, um von dem Messobjekt (9) herkommendes Licht aufzunehmen und einer Bildaufnahmeeinrichtung (12) zuzuführen, mit einem ersten Strahlteiler (2), der zusammen mit einem Reflektor (4) einen Referenzlichtweg (3) festlegt und in dem Strahlengang angeordnet ist, mit einer ersten Beleuchtungseinrichtung (1a) zur Beleuchtung des Messobjekts (9), die an den Strahlengang angeschlossen ist, um von ihr ausgesandtes Licht sowohl in den Referenzlichtweg (3) als auch in den Strahlengang einzustrahlen, und mit einer zweiten Beleuchtungseinrichtung (1b), die zur Beleuchtung des Messobjekts (9) dient und deren Licht von dem Referenzlichtweg fern gehalten wird.
  2. Vorrichtung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass die erste Beleuchtungseinrichtung (1a) an den Strahlengang an einer Stelle zwischen der Bildaufnahmeeinrichtung (12) und dem ersten Strahlteiler (2) angeschlossen ist, so dass ihr Licht den Strahlteiler (2) in zwei einander entgegen gesetzten Richtungen durchläuft.
  3. Vorrichtung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass die zweite Beleuchtungseinrichtung (1b) so angeordnet ist, dass ihr Licht den ersten Strahlteiler (2) ausschließlich in einer von dem Messobjekt (9) zu der Bildaufnahmeeinrichtung (12) gerichteten Richtung durchläuft.
  4. Vorrichtung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass die zweite Beleuchtungseinrichtung (1b) an das Objektiv (8) angeschlossen ist um durch dieses hindurch das Messobjekt (9) zu beleuchten.
  5. Vorrichtung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass die zweite Beleuchtungseinrichtung (1b) über einen zweiten Strahlteiler (10) an den Strahlengang angeschlossen ist.
  6. Vorrichtung nach Anspruch 5, dadurch gekennzeichnet, dass der zweite Strahlteiler (10) zwischen dem ersten Strahlteiler (2) und dem Messobjekt (9) angeordnet ist.
  7. Vorrichtung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass die zweite Beleuchtungseinrichtung (1b) so angeordnet ist, dass ihr Licht zuerst auf das Messobjekt (9) und dann in das Objektiv (8) fällt.
  8. Vorrichtung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass die zweite Beleuchtungseinrichtung (1b) außerhalb des Objektivs (8) angeordnet ist.
  9. Vorrichtung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass die zweite Beleuchtungseinrichtung (1b) eine Dunkelfeldbeleuchtungseinrichtung ist.
  10. Vorrichtung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass die zweite Beleuchtungseinrichtung (1b) eine Auflichtbeleuchtungseinrichtung ist oder enthält
  11. Vorrichtung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass die zweite Beleuchtungseinrichtung (1b) eine Lichtquelle (23) zur Durchlichtbeleuchtung ist oder enthält.
  12. Vorrichtung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass die zweite Beleuchtungseinrichtung (1b) eine telezentrische Durchlichtbeleuchtungseinrichtung(23) ist oder enthält.
  13. Vorrichtung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass zumindest eine der Beleuchtungseinrichtungen (1a, 1b) eine Weißlichtquelle (LED) aufweist.
  14. Vorrichtung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass zumindest eine der Beleuchtungseinrichtungen (1a, 1b) eine farbige Lichtquelle (LED) aufweist.
  15. Vorrichtung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass beide Beleuchtungseinrichtungen (1a, 1b) Weißlichtquellen (LED) aufweisen.
  16. Vorrichtung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass beide Beleuchtungseinrichtungen (1a, 1b) Lichtquellen (LED) aufweisen, die Licht gleicher spektraler Zusammensetzung abgeben.
  17. Vorrichtung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass die zweite Beleuchtungseinrichtung (1b) mehrere Lichtquellen (LED) zur gleichzeitigen Messobjektbeleuchtung umfasst.
  18. Vorrichtung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass die zweite Beleuchtungseinrichtung (1b) mehrere Lichtquellen (LED, 23) zur alternativen Messobjektbeleuchtung aufweist.
  19. Vorrichtung nach Anspruch 18, dadurch gekennzeichnet, dass die Lichtquellen (LED, 23) zur alternativen Messobjektbeleuchtung Licht gleicher spektraler Zusammensetzung liefern.
  20. Vorrichtung nach Anspruch 18, dadurch gekennzeichnet, dass die Lichtquellen (LED, 23) zur alternativen Messobjektbeleuchtung Licht unterschiedlicher spektraler Zusammensetzung liefern.
  21. Vorrichtung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass an die Bildaufnahmeeinrichtung (12) eine Bildverarbeitungseinrichtung (14) angeschlossen ist.
  22. Vorrichtung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass die erste Beleuchtungseinrichtung (1a) als Lichtquelle für den interferometrischen Betriebsmodus eine kurzkohärente Lichtquelle (24) und oder eine langkohärente Lichtquelle (25) aufweist.
  23. Vorrichtung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass dem Interferometer, dem Objektiv (5) und/oder dem Messobjekt (9) eine Stelleinrichtung (10) zur Durchführung vertikal scannender Interferometrie zugeordnet ist.
  24. Vorrichtung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass das Interferometer einen Phasenschieber enthält.
  25. Vorrichtung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass in dem Sichtfeld der Vorrichtung ein punktförmig messender Taster (26) angeordnet ist.
  26. Vorrichtung nach Anspruch 24, dadurch gekennzeichnet, dass der Taster (26) ein mechanischer Taster ist.
  27. Vorrichtung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass eine Positioniereinrichtung (13) zur Relativverstellung der Vorrichtung und des Messobjekts (9) zueinander vorgesehen ist.
  28. Verfahren zum kombinierten flächenhaften Erfassen von Höhenwerten eines Messobjekts (9) mittels Interferometrie in einem interferometrischen Betriebsmodus und zum Messen lateraler Dimensionen von Geometrieelementen in einem Bildverarbeitungsmodus mittels Aufzeichnung und digitaler Auswertung optischer Abbildungen des Messobjekts (9), wobei bei dem Verfahren das Licht einer ersten Beleuchtungseinrichtung (1a) in einer ersten Richtung zu dem Messobjekt (9) hin und in einer zweiten Richtung zu einer Bildaufnahmeeinrichtung (12) hin durch einen Strahlteiler (2) geleitet wird, der einen Referenzlichtweg (3) an den Strahlengang anschließt, um einen Interferometrischen Betriebsmodus zu schaffen, und das Licht einer zweiten Beleuchtungseinrichtung (1b) nur in der Richtung von dem Messobjekt (9) weg zu der Bildaufnahmeeinrichtung (12) hin durch den Strahlteiler (2) geleitet wird, um keinen wesentlichen Lichtanteil in den Referenzlichtweg (3) gelangen zu lassen und in einem abbildenden Betriebsmodus zu arbeiten.
  29. Verfahren nach Anspruch 28, dadurch gekennzeichnet, dass in einem dritten Betriebsmodus mittels einer zusätzlich vorgesehenen langkohärenten Lichtquelle (25) phasenschiebende Interferometrie durchgeführt wird.
  30. Verfahren nach Anspruch 28 oder 29, dadurch gekennzeichnet, dass das Messobjekt (9) mit einem in dem Sichtfeld der Vorrichtung angeordneten punktförmig messenden Taster (26) angetastet wird.
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JP2009508215A JP5541916B2 (ja) 2006-05-08 2007-05-04 特にマイクロシステムにおける、組み合わされた干渉及びイメージに基づく形状決定のための装置及び方法
CN200780016669.8A CN101438127B (zh) 2006-05-08 2007-05-04 尤其适用于微系统技术领域，运用干涉测量和基于成像处理进行组合式几何测量的设备和方法
US12/290,063 US8072608B2 (en) 2006-05-08 2008-10-27 Apparatus and method for a combined interferometric and image based geometric determination, particularly in the microsystem technology

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE102011115027A1 (de) * 2011-10-07 2013-04-11 Polytec Gmbh Kohärenzrasterinterferometer und Verfahren zur ortsaufgelösten optischen Vermessung der Oberflächengeometrie eines Objekts

Families Citing this family (22)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100939537B1 (ko) * 2007-12-14 2010-02-03 (주) 인텍플러스 표면 형상 측정 시스템 및 그를 이용한 측정 방법
JP2011038829A (ja) * 2009-08-07 2011-02-24 Topcon Corp 干渉顕微鏡及び測定装置
FR2959305B1 (fr) * 2010-04-26 2014-09-05 Nanotec Solution Dispositif optique et procede d'inspection d'objets structures.
US9684149B2 (en) 2012-08-07 2017-06-20 Carl Zeiss Industrielle Messtechnik Gmbh Coordinate measuring machine and method for determining spatial coordinates on a measurement object
US9036157B2 (en) * 2012-10-19 2015-05-19 National Applied Research Laboratories System of computing surface reconstruction, in-plane and out-of-plane displacements and strain distribution
CN103268009B (zh) * 2013-06-07 2015-05-06 北京师范大学 垂直照明暗场显微镜
JP2015040825A (ja) 2013-08-23 2015-03-02 キヤノン株式会社 計測装置
DE102013020705B4 (de) * 2013-12-10 2018-01-25 Carl Zeiss Smt Gmbh Verfahren zur Untersuchung einer Maske
JP6576059B2 (ja) * 2015-03-10 2019-09-18 キヤノン株式会社 情報処理、情報処理方法、プログラム
KR102607646B1 (ko) * 2015-05-19 2023-11-29 케이엘에이 코포레이션 오버레이 측정을 위한 지형 위상 제어
CN106289048A (zh) * 2015-06-08 2017-01-04 中国科学院沈阳自动化研究所 基于微透镜的三维超分辨率干涉仪
JP2018537695A (ja) 2015-12-11 2018-12-20 ユニバーシティ オブ ヘルシンキ 表面構造及び表面下構造の特性を決定する装置及び方法
US10136120B2 (en) 2016-04-15 2018-11-20 Microsoft Technology Licensing, Llc Depth sensing using structured illumination
DE102016225484B3 (de) * 2016-12-19 2018-06-07 Carl Zeiss Industrielle Messtechnik Gmbh Verfahren und optischer Sensor zur Bestimmung mindestens einer Koordinate mindestens eines Messobjekts
CN108982433B (zh) * 2017-06-05 2021-09-03 锐准医光股份有限公司 采用进阶光学干涉显微术的光学切层装置
TWI654443B (zh) * 2017-06-05 2019-03-21 銳準醫光股份有限公司 採用進階光學干涉顯微術之光學切層裝置
TWI674089B (zh) * 2017-10-31 2019-10-11 銳準醫光股份有限公司 整合米洛(Mirau)光學干涉顯微術之光學切層裝置
CN110726702A (zh) * 2018-07-17 2020-01-24 锐准医光股份有限公司 采用进阶光学干涉显微术的光学切层装置
CN109163673B (zh) * 2018-08-17 2019-07-05 华中科技大学 一种多波长和相移干涉双同步的表面实时测量方法及系统
CN109211934B (zh) * 2018-08-29 2021-01-26 南京理工大学 基于干涉显微的微球面缺陷检测装置及其检测方法
KR102057956B1 (ko) * 2019-05-07 2019-12-20 주식회사 카이스 카메라 일체형 광학 센서 장치
CN115421311B (zh) * 2022-11-04 2023-01-13 中国航天三江集团有限公司 高精度光束合成光路辅助对准装置

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0244781A2 (de) * 1986-05-06 1987-11-11 Kla Instruments Corporation Verfahren und Vorrichtung mit einem Zweistrahleninterferenzmikroskop zur Untersuchung von integrierten Schaltungen und dergleichen
DE19721882C2 (de) * 1997-05-26 1999-04-29 Bosch Gmbh Robert Interferometrische Meßvorrichtung
WO2005108915A1 (de) * 2004-05-04 2005-11-17 Carl Mahr Holding Gmbh Vorrichtung und verfahren zur kombinierten interferometrischen und abbildungsbasierten geometrieerfassung, insbesondere in der mikrosystemtechnik
DE102004026193A1 (de) * 2004-05-28 2005-12-22 Carl Mahr Holding Gmbh Messverfahren zur Formmessung

Family Cites Families (15)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3830562A (en) * 1973-06-25 1974-08-20 Codman & Shurtleff Slit lamp having combination slit and lamp intensity control device
CN1026353C (zh) * 1991-11-22 1994-10-26 中国科学院上海光学精密机械研究所 主动式激光位移传感器
JPH05240628A (ja) * 1992-03-02 1993-09-17 Toshiba Corp パターン検査装置
US5644642A (en) * 1995-04-03 1997-07-01 Carl Zeiss, Inc. Gaze tracking using optical coherence tomography
JPH10239589A (ja) * 1997-02-28 1998-09-11 Olympus Optical Co Ltd 干渉顕微鏡装置
DE19740678A1 (de) * 1997-09-16 1999-03-18 Polytec Gmbh Vorrichtung zur berührungslosen Schwingungsmessung
JP2000292705A (ja) * 1999-04-05 2000-10-20 Olympus Optical Co Ltd 走査型顕微鏡
US6361167B1 (en) * 2000-06-13 2002-03-26 Massie Research Laboratories, Inc. Digital eye camera
JP2002122555A (ja) * 2000-10-16 2002-04-26 Nippi:Kk 透明体検査用光源、透明体検査装置およびその検査方法
US6710799B2 (en) * 2000-12-28 2004-03-23 Umech Technologies Microscopic motion measuring
JP4223349B2 (ja) * 2003-08-13 2009-02-12 フジノン株式会社 耐振動型干渉計装置
JP4474535B2 (ja) 2004-02-27 2010-06-09 株式会社テクノネットワーク四国 立体形状測定及び分析装置
DE502004002547D1 (de) * 2004-06-22 2007-02-15 Polytec Gmbh Vorrichtung zum optischen Vermessen eines Objektes
JP4916779B2 (ja) * 2005-09-29 2012-04-18 株式会社トプコン 眼底観察装置
EP1785690A1 (de) * 2005-11-10 2007-05-16 Haag-Streit Ag Verfahren und Vorrichtung zur Ermittlung geometrischer Werte an einem Gegenstand

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0244781A2 (de) * 1986-05-06 1987-11-11 Kla Instruments Corporation Verfahren und Vorrichtung mit einem Zweistrahleninterferenzmikroskop zur Untersuchung von integrierten Schaltungen und dergleichen
DE19721882C2 (de) * 1997-05-26 1999-04-29 Bosch Gmbh Robert Interferometrische Meßvorrichtung
WO2005108915A1 (de) * 2004-05-04 2005-11-17 Carl Mahr Holding Gmbh Vorrichtung und verfahren zur kombinierten interferometrischen und abbildungsbasierten geometrieerfassung, insbesondere in der mikrosystemtechnik
DE102004026193A1 (de) * 2004-05-28 2005-12-22 Carl Mahr Holding Gmbh Messverfahren zur Formmessung

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE102011115027A1 (de) * 2011-10-07 2013-04-11 Polytec Gmbh Kohärenzrasterinterferometer und Verfahren zur ortsaufgelösten optischen Vermessung der Oberflächengeometrie eines Objekts

Also Published As

Publication number Publication date
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US8072608B2 (en) 2011-12-06

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