TWI654443B - 採用進階光學干涉顯微術之光學切層裝置 - Google Patents

採用進階光學干涉顯微術之光學切層裝置

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Abstract

一種採用光學干涉顯微術及螢光顯微術之光學切層裝置，具有：一分光器，能夠使一入射光束分成一反射光束及一透射光束；一寬頻光源裝置，用以提供該入射光束；一參考端單元，用以使該透射光束經一可調光程返回該分光器；一短波光源裝置；一第一二色分光器，其第一側邊係面對該短波光源裝置，其第三側邊係面對該分光器，且其能夠使波長短於一預設波長之光束無法穿透；一物鏡，具有一平行光側以面對該第一二色分光器之所述第二側邊；一樣本承載單元，係面對該物鏡之一聚光側；以及一投影透鏡及一感測單元，用以接收該分光器之一輸出光束。

Description

採用進階光學干涉顯微術之光學切層裝置
本發明係有關於一種光學切層裝置，特別是一種採用光學干涉顯微術及螢光顯微術之光學切層裝置。
進行腫瘤切除手術時，常須等待病理科醫師用冷凍切片(frozen section)來檢驗以確定腫瘤是否切除乾淨，不僅耗費時間，也可能因時間緊迫而無法完全確認到所有方位之腫瘤組織均已切除。
在進行冷凍切片的過程中，對於多水分的樣本，其冷凍後所產生的冰晶(crystal ice)會破壞組織結構；對於多脂肪(fat)的樣本，在一般組織冷凍固化溫度(~-20℃)時，其脂肪組織因尚未冷凍固化，容易從切片脫落，造成切片組織不完整。
光學同調斷層掃描術(optical coherence tomography，OCT)，是近年新興的一種光學成像技術，其工作原理與超音波相似，但解析度比超音波更高，主要係利用各組織對光的反射、吸收及散射能力的不同及透過光學干涉原理對樣本進行成像與分辨。因為能直接對常溫下的組織進行掃瞄，不需再經過冷凍及切片等程序，所以能避免多水分或多脂肪組織在冷凍切片時產生的結構失真(morphological artifacts)，以維持組織樣本的完整性，因此能提高病理檢查的準確性，對於縮短手術時間與提升手術成效亦有貢獻。然而由於該光學成像技術的景深(depth of focus)太大，所以檢查時必須將組織作實體切片(real sectioning)，厚度通常為4~5μm，用以避免不同深度的組織影像疊合在一起，進而得到清晰的影像。
習知技術如美國US9185357 B2「Optical tissue sectioning using full field optical coherence tomography」專利，揭露一種用於觀察組織切片的全場式OCT裝置，其特徵在於：包含有一全場成像干涉儀及一光學分割成像系統。透過光學干涉儀來改善景深的問題，能直接取得組織裡的結構影像，使該影像的橫向與縱向之解析度都能達到1 mm之內，藉以省去組織固定(fixation)程序。如：冷凍或石蠟(paraffin)包覆，以及實體切片(sectioning)的程序。
此外，傳統的H&E染色切片(H&E section)係使用蘇木精(hematoxylin)與伊紅(eosin)兩種染劑分別對細胞核(nucleus)及細胞質(cytoplasm)著上藍紫色與粉紅色，然而取得的影像中細胞核係呈現藍紫的信號，不易顯現細胞核內的細節。如：核仁(nucleolus)或異染色質(heterochromotin)，該專利係透過螢光染色方式補充細胞核細部影像以符合病理檢查所需。
然而，在該專利架構中：(1)短波光束(如:紫外光)在經過分光器分光膜後功率會剩下原有光強度之10~40%不等；(2)分光器的抗反射鍍膜在波長小於400 nm的紫外光波段穿透率較低。在此兩種因素加成下，會導致樣本之螢光信號變非常弱，為增強螢光信號強度，縮短曝光時間，進而加快取像速度，本領域亟需一新穎的光學切層裝置。
本發明之一目的在於揭露一種光學切層裝置，其中第一二色分光器置於分光器與第一物鏡之間，用以使照射到樣本上的短波光束不會被分光器分光，而增強螢光信號強度，縮短曝光時間，進而加快取像速度。
本發明之另一目的在於揭露一種光學切層裝置，其中樣本發出的螢光光束在穿過第一二色分光器時，該第一二色分光器會先行過濾短波光束以得到對比度較好的螢光信號，縮短曝光時間，進而加快取像速度。
本發明之又一目的在於揭露一種光學切層裝置，其中感測單元具有長波通濾光器進一步過濾該短波光束以提升螢光信號強度，縮短曝光時間，進而加快取像速度。
為達前述目的，一種採用光學干涉顯微術及螢光顯微術之光學切層裝置乃被提出，其具有：
一種採用光學干涉顯微術及螢光顯微術之光學切層裝置，其具有：
一分光器，具有一第一側邊、一第二側邊、一第三側邊及一第四側邊，且其能夠使由所述第一側邊入射之一入射光束分成由所述第二側邊穿出之一反射光束及由所述第三側邊穿出之一透射光束；
一寬頻光源裝置，用以產生一寬頻光束以照射該分光器之所述第一側邊；
一參考端單元，用以使該透射光束經一可調光程返回該分光器；
一短波光源裝置，用以產生一短波光束；
一第一二色分光器，具有具有一第一側邊、一第二側邊及一第三側邊，所述第一側邊係面對該短波光源裝置，所述第三側邊係面對該分光器之所述第二側邊，且該第一二色分光器係用以使波長短於一預設波長之光束無法穿透，且該短波光束之波長小於該預設波長；
一第一物鏡，具有一平行光側及一聚光側，該平行光側係面對該第一二色分光器之所述第二側邊；
一樣本承載單元，面對該第一物鏡之聚光側且係用以承載一染有螢光劑之樣本；
一投影透鏡，具有一入光側及一出光側，該入光側係面對該分光器之所述第四側邊；以及一感測單元係面對該投影透鏡之該出光側。
在一實施例中，該參考端單元包括:一光程延遲器，具有一第一側邊及一第二側邊，所述第一側邊係面對該分光器之所述第三側邊；一第二物鏡，具有一平行光側及一聚光側，該平行光側係面對該光程延遲器之所述第二側邊；以及一反射鏡，面對該第二物鏡之所述聚光側，用以反射該透射光束，其中該光程延遲器係用以調整該可調光程以使該可調光程對稱於由該樣本承載單元、該第一物鏡及該第一二色分光器所形成之一樣本光程。
在一實施例中，該寬頻光源裝置、該短波光源裝置，均包括一光源；或一光源及一光柵；或一光源、一光柵及一可調變傾斜角度之轉折鏡；或一LED條狀分布光源。
在一實施例中，該樣本承載單元進一步具有一白光光源以提供該第一物鏡一適當之穿透亮度，該白光光源包括一白光LED、一白光鹵素燈、或一鎢絲燈。
在一實施例中，該感測單元包括一第二二色分光器、一彩色二維感光元件、一長波通濾光器及一單色二維感光元件，該第二二色分光器具有一第一側邊、一第二側邊及一第三側邊，所述第一側邊係面對該投影透鏡，以將該螢光光束及該白光光束經由所述第三側邊反射並成像於該彩色二維感光元件及將該寬頻光束經由所述第二側邊透射並成像於該單色二維感光元件；或該感測單元包括一可翻式轉折鏡、一彩色二維感光元件、一長波通濾光器及一單色二維感光元件，該可翻式轉折鏡翻正時，該白光光束成像於該彩色二維感光元件，翻開時則該寬頻光束與該螢光光束先後成像於單色二維感光元件，該長波通濾光器設置於該投影透鏡與該可翻轉式轉折鏡之間、該投影透鏡與第二二色分光器之間、該可翻轉式轉折鏡與該單色二維感光元件之間或該第二二色分光器與該單色二維感光元件之間。
在一實施例中，該寬頻光束的波長範圍在470nm至800nm時，該短波光束的波長範圍在365nm至460nm之間，該分光器的工作波長範圍在400nm至800nm之間，該第一二色分光器及該長波通濾光器的截止波長範圍均在400nm至470nm之間。
在一實施例中，該寬頻光束的波長範圍在650nm至1000nm時 ，該短波光束的波長範圍在365nm至630nm之間，該分光器的工作波長範圍在400nm至1000nm之間該第一二色分光器、該第二二色分光器及該長波通濾光器的截止波長範圍均在400nm至650nm之間。
在一實施例中，該寬頻光源裝置與該分光器之間進一步具有一第一極化器，該單色二維感光元件前方進一步具有一第二極化器，該第一物鏡與該第一二色分光器間進一步具有一第一四分之一波片，該光程延遲器與該第二物鏡間進一步具有一第二四分之一波片，該第一極化器具有一第一極化方向，該第二極化器具有一第二極化方向，該第一極化器方向與該第二極化方向係互相垂直，該第一四分之一波片具有一第一光軸方向，該第二四分之一波片具有一第二光軸方向，該第一光軸方向與該第二光軸方向均介於該第一極化方向與該第二極化方向之間，用以提供一增強干涉效率及影像品質之效果。
在一實施例中，更進一步包括一資訊處理裝置，用以執行一影像處理程序。
在一實施例中，該參考端單元進一步具有一軸向平台，該樣本承載單元進一步具有一三維移動平台，俾藉由以該軸向平台移動該參考端單元之該第二物鏡與該反射鏡、以該三維移動平台移動該染有螢光劑之樣本及調變該光程延遲器，而使該資訊處理裝置能夠計算出該樣本之一三維影像。
為使　貴審查委員能進一步瞭解本發明之結構、特徵及其目的，茲附以圖式及較佳具體實施例之詳細說明如後。
請一併參照圖1至圖2，其中，圖1繪示本發明之採用光學干涉顯微術及螢光顯微術之光學切層裝置之一實施例方塊圖，圖2繪示圖1之分光與聚焦之運作示意圖。
如圖所示，本案之採用光學干涉顯微術及螢光顯微術之光學切層裝置，其包括：一寬頻光源裝置100；一短波光源裝置200；一分光器300；一第一二色分光器400；一第一物鏡500；一樣本承載單元600；一投影透鏡700；一參考端單元800；以及一感測單元900。
其中，該寬頻光源裝置100用以產生一寬頻光束10，該寬頻光束之行進方向以一中空頭箭頭表示；該短波光源裝置200用以產生一短波光束20，該短波光束之行進方向以一實線箭頭表示；該樣本承載單元600係用以承載一染有螢光劑之樣本610，該染有螢光劑之樣本610中的螢光劑受到該短波光束20照射會釋放出一螢光光束30，該螢光光束30之行進方向以虛線箭頭表示；該樣本承載單元600進一步具有一白光光源620以提供該第一物鏡500一適當穿透亮度，該白光光源620釋放之一白光光束40之行進方向以一空頭箭頭表示。
該分光器300具有一第一側邊S301、一第二側邊S302、一第三側邊S303及一第四側邊S304；該寬頻光源裝置100用以產生一寬頻光束10以照射該分光器300之所述第一側邊S301，該分光器300能使由所述第一側邊S301入射之該寬頻光束10分成由所述第二側邊S302反射及由所述第三側邊S303透射。
該短波光源裝置200用以產生一短波光束20，該第一二色分光器400，具有一第一側邊S401、一第二側邊S402及一第三側邊S403，所述第一側邊S401係面對該短波光源裝置200並反射該短波光束20，所述第三側邊S403係面對該分光器300之所述第二側邊S302並用以透射該寬頻光束10。
該第一物鏡500，具有一平行光側S501及一聚光側S502，該平行光側S501係面對該第一二色分光器400之所述第二側邊S402；該樣本承載單元600，面對該第一物鏡500之該聚光側S502且係用以承載一染有螢光劑之樣本610，該樣本承載單元600、該第一物鏡500及該第一二色分光器400形成一樣本光程。
該投影透鏡700，具有一入光側S701及一出光側S702，該入光側S701係面對該分光器300之所述第四側邊S304；該感測單元900係面對該投影透鏡700之該出光側S702。
其中，該白光光源620例如但不限為包括一白光LED、一白光鹵素燈、或一鎢絲燈，該第一物鏡500的工作波長範圍例如但不限為350~1000nm，該寬頻光源裝置100、該短波光源裝置200均包括一光源；或一光源及一光柵；或一光源、一光柵及一可調變傾斜角度之轉折鏡；或一LED條狀分布光源(均圖未示)，其為習知技術，故在此不擬重複敘述。
請參照圖3，其繪示圖1之參考端單元之一實施例方塊圖。
如圖所示，該參考端單元800包括: 一光程延遲器810；一第二物鏡820以及一反射鏡830。
該光程延遲器810、該第二物鏡820以及該反射鏡830形成一可調光程，該參考端單元800係用以使該寬頻光束10經由該可調光程返回該分光器300(圖未示)。
其中，該光程延遲器810，具有一第一側邊S811及一第二側邊S812，所述第一側邊S811係面對該分光器300之所述第三側邊S303(均圖未示)；該第二物鏡820，具有一平行光側S821及一聚光側S822，該平行光側S821係面對該光程延遲器810之所述第二側邊S812；該反射鏡830面對該第二物鏡820之所述聚光側S822，用以反射該寬頻光束10 。該第二物鏡820的工作波長範圍例如但不限為350~1000nm。
該光程延遲器810係透過例如但不限為改變一轉折鏡之位移(displacement)，在該可調光程對稱於該樣本光程狀態下，用以產生一連續干涉載波(continuous interference carrier wave)，其載波數可為一個或多個，再由單色二維感光元件940記錄下各像素上，干涉所產生的強度變化經方均根與強度平均等計算後擷取出橫截面( en -face)干涉強度影像，其中所述干涉載波亦可由三維移動平台630產生。其為習知技術，在此不擬贅述。
請參照圖4，其繪示圖1之收光與匯合後投影之運作示意圖。
如圖所示，該樣本承載單元600能反射該短波光束20及該寬頻光束10，該染有螢光劑之樣本610(圖未示)中的螢光劑受到該短波光束20照射後，會釋放出一螢光光束30，該樣本承載單元600具有之該白光光源620(圖未示)亦會釋放出一白光光束40。
該第一二色分光器400係用以使波長短於一預設波長之光束無法穿透，且該短波光束20之波長小於該預設波長，意即該短波光束20無法穿透，只有該寬頻光束10、該螢光光束30及該白光光束40能分別穿透該第一二色分光器400。
該分光器300之所述第三側邊S303係面對該參考端單元800用以反射該寬頻光束10；所述第二側邊S302係面對該第一二色分光器400用以分別透射該寬頻光束10、該螢光光束30及該白光光束40。
其中，由於該可調光程與該樣本光程係相對稱(in between the coherent length)，使得經由該可調光程反射之該寬頻光束與經由該樣本光程反射該寬頻光束合併而產生一光學干涉現象，其為習知技術，在此不擬贅述。
該投影透鏡700，具有一入光側S701及一出光側S702，該入光側S701係面對該分光器300之所述第四側邊S304，該出光側S702係用以向該感測單元900投射該寬頻光束10、該螢光光束30及該白光光束40。
請一併參照圖5a~圖5b，其中圖5a繪示圖1之感測單元之一實施例方塊圖；圖5b繪示圖1之感測單元之另一實施例方塊圖。
該感測單元900包括: 一可翻式轉折鏡915；一彩色二維感光元件920；一長波通濾光器930及一單色二維感光元件940。
其中該長波通濾光器930係用以將該短波光束20(圖未示)進一步過濾，該可翻式轉折鏡915具有一可翻式支架(flip mount，圖未示)用以調整成一翻正 (flip on)或一翻開(flip off)之狀態，其為習知技術，在此不擬贅述。
如圖5a所示，該長波通濾光器930設置於該投影透鏡700與該可翻轉式轉折鏡915之間，當該可翻式轉折鏡915翻正 (flip on) 時，該白光光束40成像於該彩色二維感光元件920，當該可翻式轉折鏡915翻開(flip off) 時，則該寬頻光束10與該螢光光束30先後成像於單色二維感光元件940。
如圖5b所示，該長波通濾光器930設置該可翻轉式轉折鏡915與該單色二維感光元件940之間，當該可翻式轉折鏡915翻正 (flip on) 時，該白光光束40成像於該彩色二維感光元件920，當該可翻式轉折鏡915翻開(flip off) 時，則該寬頻光束10與該螢光光束30先後成像於單色二維感光元件940。
請一併參照圖5c~圖5d，其中圖5c繪示圖1之感測單元之又一實施例方塊圖；圖5d繪示圖1之感測單元之再一實施例方塊圖。
該感測單元900包括: 一第二二色分光鏡910；一彩色二維感光元件920；一長波通濾光器930及一單色二維感光元件940，其中該長波通濾光器930係用以將該短波光束20(圖未示)進一步過濾。
如圖5c所示，該長波通濾光器930設置於該投影透鏡700與該第二二色分光鏡910之間，透過該第二二色分光器910將該螢光光束30及該白光光束40經由所述第三側邊S903反射並成像於該彩色二維感光元件920；以及將該寬頻光束10經由所述第二側邊S902透射並成像於該單色二維感光元件940。
如圖5d所示，該長波通濾光器930設置該第二二色分光器910與該單色二維感光元件940之間，透過該第二二色分光器910將該螢光光束30及該白光光束40經由所述第三側邊S903反射並成像於該彩色二維感光元件920；以及將該寬頻光束10經由所述第二側邊S902透射並成像於該單色二維感光元件940。
其中，當該寬頻光束10的波長範圍在470nm至800nm時，需使用該可翻式轉折鏡915，該短波光束20(圖未示)的波長範圍在365nm至460nm之間，該分光器300(圖未示)的工作波長範圍在400nm至800nm之間，該第一二色分光器400的截止波長範圍均在400nm至470nm之間。
當該寬頻光束10的波長範圍在650nm至1000nm時，該短波光束20的波長範圍在365nm至630nm之間，該分光器300的工作波長範圍在400nm至1000nm之間，可使用該可翻式轉折鏡915或該第二二色分光器910，該第一二色分光器400、該第二二色分光器910及該長波通濾光器930的截止波長範圍均在400nm至650nm之間。
請參照圖6，其繪示本發明之採用光學干涉顯微術及螢光顯微術之光學切層裝置之另一實施例方塊圖。
如圖所示，該寬頻光源裝置100與該分光器300之間進一步具有一第一極化器950；該單色二維感光元件940前方進一步具有一第二極化器960；該第一二色分光器400與該第一物鏡500間進一步具有一第一四分之一波片970；該光程延遲器810與第二物鏡820之間進一步具有一第二四分之一波片980。
其中，該第一極化器950具有一第一極化方向，該第二極化器960具有一第二極化方向，該第一四分之一波片970具有一第一光軸方向，該第二四分之一波片980具有一第二光軸方向，該第一極化器方向與該第二極化方向係互相垂直，該第一光軸方向與第二光軸方向均介於該第一極化方向與該第二極化方向之間。
圖中該第一極化器方向為垂直；該第二極化方向為水平；該第一光軸方向與該第二光軸方向均為45度，但不以此為限。當該寬頻光源裝置100產生之該寬頻光束10經過該第一極化器950使其成為垂直極化方向，當經由該分光器300分光後分別通過該參考端單元800之第二四分之一波片980及通過該第一物鏡500與該第一二色分光器400之間的該第一四分之一波片970後，均會成為順向圓極化方向，反射後均成為逆向圓極化方向，分別再度經過第二四分之一波片980及該第一四分之一波片970後成為水平極化方向，而該單色二維感光元件940前方之該第二極化器960只允許水平極化方向寬頻光束10通過，進一步隔離掉分光鏡300抗反射膜之反射光，用以提供一增強干涉效率及影像品質之效果。
請參照圖7，其繪示本發明之採用光學干涉顯微術及螢光顯微術之光學切層裝置之再一實施例方塊圖。
如圖所示，該參考端單元800進一步具有一軸向平台840；該樣本承載單元600進一步具有一三維移動平台630；該採用光學干涉顯微術及螢光顯微術之光學切層裝置，其更進一步包括一資訊處理裝置(圖未示)，用以執行一影像處理程序。
藉由以軸向平台840移動該第二物鏡820與該反射鏡830、調變光程延遲器500及以三維移動平台630移動該染有螢光劑之樣本610，而使該資訊處理裝置(圖未示)能夠計算出該樣本之一三維影像(圖未示) ，其為習知技術，在此不擬贅述。
藉由前述所揭露的設計，本發明乃具有以下的優點：
1.本發明的光學切層裝置，其中第一二色分光器置於分光器與第一物鏡之間，用以使照射到樣本上的短波光束不會被分光器分光，而增強螢光信號強度，縮短曝光時間，加快取像速度。
2.本發明的光學切層裝置，其中樣本發出的螢光光束在穿過第一二色分光器時，該第一二色分光器會先行過濾短波光束以得到對比度較好的螢光信號，縮短曝光時間，加快取像速度。
3.本發明的光學切層裝置，其中感測單元具有長波通濾光器進一步過濾該短波光束以增強螢光信號強度，縮短曝光時間，加快取像速度。
本案所揭示者，乃較佳實施例，舉凡局部之變更或修飾而源於本案之技術思想而為熟習該項技藝之人所易於推知者，俱不脫本案之專利權範疇。
綜上所陳，本案無論就目的、手段與功效，在在顯示其迥異於習知之技術特徵，且其首先發明合於實用，亦在在符合發明之專利要件，懇請　貴審查委員明察，並祈早日賜予專利，俾嘉惠社會，實感德便。
寬頻光束10 短波光束20 螢光光束30 白光光束40 寬頻光源裝置100 短波光源裝置200 分光器300 第一側邊S301 第二側邊S302 第三側邊S303 第四側邊S304 第一二色分光器400 第一側邊S401 第二側邊S402 第三側邊S403 第一物鏡500 平行光側S501 聚光側S502 樣本承載單元600 染有螢光劑之樣本610 白光光源620 三維移動平台630 投影透鏡700 入光側S701 出光側S702 參考端單元800 光程延遲器810 第一側邊S811 第二側邊S812 第二物鏡820 平行光側S821 聚光側S822 反射鏡830 軸向平台840 感測單元900 第二二色分光器910 第一側邊S901 第二側邊S902 第三側邊S903 可翻式轉折鏡915 彩色二維感光元件920 長波通濾光器930 單色二維感光元件940 第一極化器950 第二極化器960 第一四分之一波片970 第二四分之一波片980
圖1為一示意圖，其繪示本發明之採用光學干涉顯微術及螢光顯微術之光學切層裝置之一實施例方塊圖。 圖2為一示意圖，其繪示圖1之分光與聚焦之運作示意圖。 圖3為一示意圖，其繪示圖1之參考端單元之一實施例方塊圖。 圖4為一示意圖，其繪示圖1之收光與匯合後投影之運作示意圖。 圖5a 為一示意圖，其繪示圖1之感測單元之一實施例方塊圖。 圖5b 為一示意圖，其繪示圖1之感測單元之另一實施例方塊圖。 圖5c 為一示意圖，其繪示圖1之感測單元之又一實施例方塊圖。 圖5d 為一示意圖，其繪示圖1之感測單元之再一實施例方塊圖。 圖6為一示意圖，其繪示本發明之採用光學干涉顯微術及螢光顯微術之光學切層裝置之另一實施例方塊圖。 圖7為一示意圖，其繪示本發明之採用光學干涉顯微術及螢光顯微術之光學切層裝置之再一實施例方塊圖。

Claims (11)

  1. 一種採用光學干涉顯微術及螢光顯微術之光學切層裝置，其具有：一分光器，具有一第一側邊、一第二側邊、一第三側邊及一第四側邊，且其能夠使由所述第一側邊入射之一入射光束分成由所述第二側邊穿出之一反射光束及由所述第三側邊穿出之一透射光束；一寬頻光源裝置，用以產生一寬頻光束以照射該分光器之所述第一側邊；一參考端單元，用以使該透射光束經一可調光程返回該分光器；一短波光源裝置，用以產生一短波光束；一第一二色分光器，具有一第一側邊、一第二側邊及一第三側邊，所述第一側邊係面對該短波光源裝置，所述第三側邊係面對該分光器之所述第二側邊，該第一二色分光器係用以使波長短於一預設波長之光束無法穿透，且該短波光束之波長小於該預設波長；一第一物鏡，具有一平行光側及一聚光側，該平行光側係面對該第一二色分光器之所述第二側邊；一樣本承載單元，面對該第一物鏡之聚光側且係用以承載一染有螢光劑之樣本；一投影透鏡，具有一入光側及一出光側，該入光側係面對該分光器之所述第四側邊；以及一感測單元，係面對該投影透鏡之所述出光側。
  2. 如申請專利範圍第1項所述之採用光學干涉顯微術及螢光顯微術之光學切層裝置，其中該參考端單元包括：一光程延遲器，具有一第一側邊及一第二側邊，所述第一側邊係面對該分光器之所述第三側邊；一第二物鏡，具有一平行光側及一聚光側，該平行光側係面對該光程延遲器之所述第二側邊；以及一反射鏡，面對該第二物鏡之所述聚光側，用以反射該透射光束，其中該光程延遲器係用以調整該可調光程以使該可調光程對稱於由該樣本承載單元、該第一物鏡及該第一二色分光器所形成之一樣本光程。
  3. 如申請專利範圍第1項所述之採用光學干涉顯微術及螢光顯微術之光學切層裝置，其中該寬頻光源裝置、該短波光源裝置，均包括一光源；或一光源及一光柵；或一光源、一光柵及一可調變傾斜角度之轉折鏡；或一LED條狀分布光源。
  4. 如申請專利範圍第1項所述之採用光學干涉顯微術及螢光顯微術之光學切層裝置，其中該樣本承載單元進一步具有一白光光源以提供該第一物鏡一適當之穿透亮度，該白光光源包括一白光LED、一白光鹵素燈、或一鎢絲燈。
  5. 如申請專利範圍第1項所述之採用光學干涉顯微術及螢光顯微術之光學切層裝置，其中該感測單元包括一第二二色分光器、一彩色二維感光元件、一長波通濾光器及一單色二維感光元件，該第二二色分光器具有一第一側邊、一第二側邊及一第三側邊，所述第一側邊係面對該投影透鏡，以將一螢光光束及一白光光束經由所述第三側邊反射並成像於該彩色二維感光元件及將該寬頻光束經由所述第二側邊透射並成像於該單色二維感光元件；或該感測單元包括一可翻式轉折鏡、一彩色二維感光元件、一長波通濾光器及一單色二維感光元件，該可翻式轉折鏡翻正時，該白光光束成像於該彩色二維感光元件，翻開時則該寬頻光束與該螢光光束先後成像於單色二維感光元件，該長波通濾光器設置於該投影透鏡與該可翻式轉折鏡之間、該投影透鏡與第二二色分光器之間、該可翻式轉折鏡與該單色二維感光元件之間或該第二二色分光器與該單色二維感光元件之間。
  6. 如申請專利範圍第2項所述之採用光學干涉顯微術及螢光顯微術之光學切層裝置，其中該感測單元包括一第二二色分光器、一彩色二維感光元件、一長波通濾光器及一單色二維感光元件，該第二二色分光器具有一第一側邊、一第二側邊及一第三側邊，所述第一側邊係面對該投影透鏡，以將一螢光光束及一白光光束經由所述第三側邊反射並成像於該彩色二維感光元件及將該寬頻光束經由所述第二側邊透射並成像於該單色二維感光元件；或該感測單元包括一可翻式轉折鏡、一彩色二維感光元件、一長波通濾光器及一單色二維感光元件，該可翻式轉折鏡翻正時，該白光光束成像於該彩色二維感光元件，翻開時則該寬頻光束與該螢光光束先後成像於單色二維感光元件，該長波通濾光器設置於該投影透鏡與該可翻式轉折鏡之間、該投影透鏡與第二二色分光器之間、該可翻式轉折鏡與該單色二維感光元件之間或該第二二色分光器與該單色二維感光元件之間。
  7. 如申請專利範圍第5或第6項所述之採用光學干涉顯微術及螢光顯微術之光學切層裝置，其中該寬頻光束的波長範圍在470nm至800nm時，需使用包括該可翻式轉折鏡的所述感測單元，該短波光束的波長範圍在365nm至460nm之間，該分光器的工作波長範圍在400nm至800nm之間，該第一二色分光器及該長波通濾光器的截止波長範圍均在400nm至470nm之間。
  8. 如申請專利範圍第5或第6項所述之採用光學干涉顯微術及螢光顯微術之光學切層裝置，其中該寬頻光束的波長範圍在650nm至1000nm時，需使用包括該可翻式轉折鏡或包括該第二二色分光器的所述感測單元，該短波光束的波長範圍在365nm至630nm之間，該分光器的工作波長範圍在400nm至1000nm之間，該第一二色分光器、該第二二色分光器及該長波通濾光器的截止波長範圍均在400nm至650nm之間。
  9. 如申請專利範圍第6項所述之採用光學干涉顯微術及螢光顯微術之光學切層裝置，其中該寬頻光源裝置與該分光器之間進一步具有一第一極化器，該單色二維感光元件前方進一步具有一第二極化器，該第一物鏡與該第一二色分光器間進一步具有一第一四分之一波片，該光程延遲器與該第二物鏡間進一步具有一第二四分之一波片，該第一極化器具有一第一極化方向，該第二極化器具有一第二極化方向，該第一極化方向與該第二極化方向係互相垂直，該第一四分之一波片具有一第一光軸方向，該第二四分之一波片具有一第二光軸方向，該第一光軸方向與該第二光軸方向均介於該第一極化方向與該第二極化方向之間，用以提供一增強干涉效率及影像品質之效果。
  10. 如申請專利範圍第2項所述之採用光學干涉顯微術及螢光顯微術之光學切層裝置，其更進一步包括一資訊處理裝置，用以執行一影像處理程序。
  11. 如申請專利範圍第10項所述之採用光學干涉顯微術及螢光顯微術之光學切層裝置，其中該參考端單元進一步具有一軸向平台，該樣本承載單元進一步具有一三維移動平台，俾藉由以該軸向平台移動該第二物鏡與該反射鏡、調變該光程延遲器及以該三維移動平台移動該染有螢光劑之樣本，而使該資訊處理裝置能夠計算出該樣本之一三維影像。
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