JP2020534549A - 干渉撮像装置およびその用途 - Google Patents

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Abstract

本開示において、装置およびシステムが提供され、該装置およびシステムは、光源を光のラインに変換し且つ光信号を処理する光学的干渉モジュールに対して光源を提供するように構成された照明モジュール;光学的干渉モジュールからの光に対処し且つサンプルから発生した光信号を処理する干渉対物レンズモジュール;サンプルから後方散乱される干渉信号を受け取るように構成された二次元カメラ、および、干渉信号を処理して画像にするデータ処理モジュール、を含む。【選択図】図6A

Description

世界保健機関の統計によれば、皮膚癌は、生活様式、高齢化社会および地球規模のオゾン層の破壊に密接に関連して、世界的に過去十年間において年ごとに増加している。
皮膚癌は皮膚から発生する癌である。それらは、他の身体部位に侵入もしくは転移する能力を有する異常細胞の発達が原因で生じる。
光干渉断層撮影(OCT)は、非侵襲性の高解像度断面撮像を実行するための技術であり、組織構造(例えば皮膚組織)の画像をミクロンスケールで提供することができる。
本発明は、発明装置/システム(すなわち干渉撮像装置/システム)を提供し、特に干渉信号を受け、および、優れた画質および画像解像度を達成するために二次元カメラを有する、ラインスキャン干渉撮像装置に関する。装置は、干渉対物レンズモジュールにライン状の反射鏡を含み、それによって光を利用する効率を増加させる。
ある態様において、本発明は装置/システムを提供し、該装置/システムは、光学的干渉モジュールに対して光源を提供するように構成された照明モジュールであって、前記光学的干渉モジュールが光源を光のラインに変換し且つ光信号を処理する、照明モジュール;光学的干渉モジュールからの光に対処し且つサンプルから発生した光信号を処理する干渉対物レンズモジュール;サンプルから後方散乱される干渉信号を受け取るように構成された二次元カメラ、および干渉信号を処理して画像にするデータ処理モジュール、を含む。
別の態様において、本発明は装置/システムを提供し、該装置/システムは、光学的干渉モジュールに対して光源(光のライン、または光の領域など)を提供するように構成された照明モジュール;対物レンズと干渉手段を含み、光学的干渉モジュールからの光に対処し、およびサンプルから発生した光信号を処理する干渉対物レンズモジュール;サンプルから後方散乱される干渉信号を受け取る二次元カメラ;および、光信号を分析し且つサンプル撮像を提供するためのデータ処理モジュール;を含み、そこにおいて装置/システムは、対物レンズが焦点面と対物レンズの主平面との間に入射光の焦点を有するような配置において入射光を受け入れるように構成される。
さらに別の態様において、本発明はサンプルを撮像するための方法を提供し、該方法は、本明細書に記載された装置またはシステムによって、サンプルから発生する試験光を詳細に撮像するステップ、および、サンプルのダイナミックな状態を提供するために吸収、分散、および/またはサンプルの下部構造からの散乱の対比画像を撮像するステップを含む。
さらに別の態様において、本発明はサンプルを撮像するための方法を提供し、該方法は、光学的干渉モジュールからの光に対処し且つサンプルから発生した光信号を処理する本発明の干渉対物レンズモジュールにおける対物レンズに、焦点面と対物レンズの主平面との間に入射光の焦点を有するような配置において照明モジュールからの入射光を受け入れさせるステップ、および、前記干渉モジュールによって発生した干渉信号をデータ処理モジュールによって処理して画像にするステップを含む。
参照による組み込み
本明細書に記載される刊行物、特許、および特許出願は全て、それぞれの個々の刊行物、特許、または特許出願が参照により組み込まれるように具体的且つ個々に示されるのと同じ程度まで、参照により本明細書に組み込まれる。
本発明の特徴と利点についてのよりよい理解は、発明の原則を利用した実例の実施形態を明示した後述の詳細な説明、および添付図面への参照によって得られる:
照明モジュールA、光学的干渉モジュールB、サンプルの領域に隣接する干渉対物レンズモジュールC、二次元カメラDおよびイメージ処理モジュールEを含む、本発明の装置/システムを例示するブロック図である(図1A)。別の二次元カメラFを含む撮像誘導モジュールを随意に含む、本発明の装置/システムを例示するブロック図である(図1B)。 照明モジュールA、光学的干渉モジュールB、サンプルの領域に隣接する干渉対物レンズモジュールC、二次元カメラDおよびイメージ処理モジュールEを含む、本発明の装置/システムを例示するブロック図である(図1A)。別の二次元カメラFを含む撮像誘導モジュールを随意に含む、本発明の装置/システムを例示するブロック図である(図1B)。 第2の二次元(2−D)カメラを組込まない、典型的な発明の装置/システムを例示する。 2−Dカメラがある(2B)、典型的な発明の装置/システムを例示する。 本発明の装置/システムの実施形態によって生成された典型的な画像を示す。1−Dカメラによって生成された画像を3Aにおいて示す。2−Dカメラによって生成された画像を3Cにおいて示す。3Bは、画像における斑点の少ない数を提供するために重なっている、幾つかの画像を示す。 ブラックスポットの無い、典型的な干渉対物レンズモジュールの設計を例示する。 ブラックスポットのある、典型的な干渉対物レンズモジュールの設計を例示する。 ライン状の反射鏡がある第1のガラスの実施形態を例示する。 マイケルソン型対物レンズが撮像誘導モジュールなしで使用される場合の、本発明の装置/システムのさらに別の実施形態を例示する。 マイケルソン型対物レンズが撮像誘導モジュールと共に使用される場合の、本発明の装置/システムのさらに別の実施形態を例示する。 本発明の装置/システムが照明モードを変更するスイッチを有している典型的な設計のさらに別の実施形態を提供する。 干渉対物レンズモジュールを含む典型的な発明装置/システムを例示し、入射光の焦点44を焦点面41と主面42の間で位置させるように対物レンズ31が構成される。 迷光を2−DカメラDの撮像範囲のエッジおよび外に集束させるために典型的な装置/システムがどのように構成されるかをさらに例示する。 10A−10Cは、異なる形状を伴う反射参照ミラーの例を例示する。
近年、光干渉断層撮影(OCT)は、皮膚組織または角膜の三次元(3−D)画像再構成で広く利用されている。平均総厚み(a−TT)、平均層数(a−NOLs)、および平均細胞層厚み(a−CLT)などの角質層(SC)についての層パラメーター(LPs)を非侵襲的に調査することが、表皮の皮膚保湿性の評価にとって重要となることが知られている。しかしながら、皮膚組織の撮像にOCT技術を適用するために、組織における1.2μmよりもよい距離分解能はSCのLPを評価することの敷居である。その上、単一の3−Dの表皮細胞の形態もまた、前癌診断の正常および異常細胞の早期発見にとって重要である。これらはすべて、組織におけるサブミクロンの空間分解能を必要とする。
本明細書において提供されるのは、サンプル上に照らされるライン光を利用する、皮膚組織または角膜の撮像にOCT技術(例えばFF−OCT)を適用する装置およびシステムであり、それは、二次元カメラによって期待以上に明瞭で斑点の少ない画質をもつ横断面の走査像を生成する。特に、本発明は、光の利用の効率を達成し、および、画像走査速度を改良するために、干渉対物レンズモジュールにおいて二次元カメラによって検知されるライン状の光に平行なライン状の反射鏡を有する装置とシステムを提供する。
いくつかの実施形態において、装置/システムが提供され、該装置/システムは、光学的干渉モジュールに対して光源(光のラインまたは光の領域など)を提供するように構成された照明モジュール;光学的干渉モジュールからの光に対処し且つサンプルから発生した光信号を処理する干渉対物レンズモジュール;サンプルから後方散乱される干渉信号を受け取る二次元カメラ;および、光信号を分析し、サンプル撮像を提供するためのデータ処理モジュール、を含む。
図1Aで示される本発明の装置/システムの実施形態が提供され、該装置/システムは、光学的干渉モジュールBに光源(例えば光のライン、または光の領域)を提供するように構成された照明モジュールA;光を処理し、およびそこからモジュールBに投射し、光のラインをサンプル3に向ける干渉対物レンズモジュールC;サンプル3から後方散乱される干渉信号を受け取るよう構成された二次元カメラD;および、干渉信号を処理して画像にするデータ処理モジュールEを含む。
いくつかの実施形態において、照明モジュール(光源11など)は、自然放出光源、自然放出増幅光源、スーパールミネッセントダイオード、発光ダイオード(LED)、広帯域のスーパーコンティニューム光源、モード同期レーザー、波長可変レーザー、フーリエドメイン・モード同期光源、光学パラメトリック発振器(OPO)、ハロゲンランプ、またはCe3+:YAG結晶ファイバー、Ti3+:Al結晶ファイバー、Cr4+:YAG結晶ファイバーなどのドープ結晶ファイバーを含む。特定の実施形態において、光源モジュールはCe3+:YAG結晶ファイバー、Ti3+:Al結晶ファイバー、またはCr4+:YAG結晶ファイバーを含む。特定の実施形態において、照明モジュールはTi3+:Al結晶ファイバーを含む。例えば、光源モジュールは0.5〜500mW、または4〜100mW、または10〜50mW、または20〜40mW、または他の適切な出力範囲の能力を有するTi3+:Al結晶ファイバー光源である。
いくつかの実施形態において、光学的干渉モジュールは、照明モジュールにおける光源によって投射されたラインパターン光を生成するよう構成される。特定の実施形態において、光学的干渉モジュールは、円柱レンズのようなアナモフィックレンズ、または円状−ライン状変換ファイバー・バンドル、回折光学素子、特別設計の光学ディフューザーなどを含む。当業者は、3:100、または、5:20、または他の適切な比率といった様々なアスペクト比を伴うライン状の光を生成するために、容易に他の適切な手段を適用するであろう。当技術分野において知られている薄い光を出力するための他の適切な光学構成要素は、限定なく使用することができる。
いくつかの実施形態において、干渉対物レンズモジュールは、干渉信号を発生させるために、光学的干渉モジュールによってサンプルに投射された光のラインなどの光源を処理し、およびそこから後方散乱される信号を受け取るように構成された対物レンズと干渉手段を含む。いくつかの実施形態において、干渉対物レンズモジュールは、ミロー型干渉対物レンズモジュール、マイケルソン型干渉モジュール、マッハツェンダ干渉対物レンズモジュール、または当業者によって容易に認識されるあらゆる適切な干渉タイプ対物レンズモジュールである。
いくつかの実施形態において、対物レンズはサンプルの屈折率に近似する屈折率を備えた浸漬溶液を有する液浸対物レンズを含むミロー型干渉対物レンズモジュールである。例えば、サンプルが皮膚ならば、屈折率は約1.2〜約1.8、好ましくは約1.3〜約1.5の範囲内にある。いくつかの実施形態において、媒体は水、シリコーン油、エタノール、グリセロール、パイレックス(登録商標)、超音波ゲル、またはそれらの組み合わせを含む。特定の実施形態において、媒体は水、シリコーン油またはグリセロールを含む。特定の実施形態において、媒体は水を含む。
いくつかの実施形態において、図1Bにおいて示されるように、本発明の装置/システムは撮像を誘導するために使用されるカメラレンズおよび第2の2−Dカメラを含む撮像誘導モジュールFをさらに含む。撮像誘導モジュールは、サンプルの広範囲画像(例えばサンプル表面の詳細な広範囲)を提供する。撮像誘導モジュールおよび干渉対物レンズモジュールは同じ光学チャネルまたは経路を共有し、従って、図2Bにおいて示されるように重なった視界を提供する。
図2Aは典型的な発明システム/装置を提供する。光は典型的な光源11含む照明モジュールによって発生し、および、光ファイバー16を介してコリメーションレンズ12に送られる。光は、例えば、円柱レンズ13によってライン状光に変形され、次に円偏光でライン状の光を変換するために偏光ビームスプリッタ14および1/4波長板15を通り抜ける。その後、光は干渉対物レンズモジュールCに入る。いくつかの実施形態において、干渉対物レンズモジュールCは対物レンズ21および干渉手段22を含む。光(ライン状の光など)が干渉対物レンズモジュールCを通ってサンプル3に投射される時、サンプル3によって後方散乱された光は干渉対物レンズモジュールCをビームスプリッタ14の方へ通過し、および、投射レンズ4を介して二次元カメラDに光信号を供給する。その後、信号は、サンプルの撮像を提供するためにデータ処理モジュール(図示せず)によってさらに処理される。一次元の「線」以外の領域を記録する必要性がないため、ラインスキャン光が一次元カメラによって処理されることは当技術分野で知られている。特別な設計、高い画像信号雑音比を備えた2−DカメラDの使用は、1−Dカメラの使用と比較して、高分解能断面像を生成することが、意外にも発見された。それは干渉対物レンズモジュールCをZ方向に走査するために、z−軸の圧電変換素子(PZT)6を利用するよう設計されている。干渉信号を含むライン状の光は、投射レンズ4を介して、ピクセルの一部が狭い長方形の領域にある二次元カメラD上に投射される。PZTによって走査された干渉信号を記録した後に、狭い長方形の領域における各々の列は、データ処理モジュールEによって処理され、横断面の画像を生成する。従って、走査はいくつかの横断面画像を生成することができる。いくつかの横断面の画像を重ねた後、高画像信号雑音比、高分解能の断面画像は生成される。
ある実施形態において、干渉手段は、第1のガラスプレート、第2のガラスプレートおよび第3のガラスプレートを含む、水平に配置されたガラスを含む。第1のガラスプレートは、光のラインに平行な形状を有するように構成された反射鏡を含む。第2のガラスプレートは第3のガラスプレートに部分的に光を通すように構成される。例えば、反射鏡は、第1のガラスプレート上に細い線の形で形成することができ、アスペクト比がおよそ1:5000、特に4:1000、特に8:250、特に10:100であり,当業者は、必要に応じてその比を調節することができる。反射鏡のアスペクト比の範囲により視野(FOV)の範囲を確定することができる。いくつかの実施形態では、ガラス−サンプルインタフェースによって反射される迷光を避けるため、第2のガラスプレートにおよそ5%〜30%、好ましくは5%〜20%の屈折の比率を持たせ、ビームスプリッタとして使用することができる。さらに、それらの3枚のガラスプレートは、ガラス−サンプルインタフェースによって生じる迷光を避けるため、サンプルの屈折率に対応する屈折率を持っており、例えば、約1.2〜約1.8、好ましくは約1.3〜約1.5の範囲内である。
当技術分野で知られる横断面の画像を得るためにサンプルを走査するための光学モジュールに関するライン状の光に典型的に組み合わされる1−Dカメラの代わりに2−DカメラDを利用することにより、画像の高い鮮明度および画質を伴う期待以上の優れた結果が達成され、そのような設計が効果的に画像信号雑音比を向上させ、および画像斑点の数を減らすことがわかった。図3におけるサンプル映像によって証拠づけられるように、明白な斑点は1−Dカメラによって得られた3Aの画像において見られる。画像は質が低く不明瞭である。他方、3Aの画像と比較して、2−Dカメラによって生成された3Cの画像は、斑点の数がはるかに少ない明瞭な画像信号を持つように見える。光のラインに組み合わされるそのような設計における2−Dカメラの使用が、1−Dカメラ(それは当技術分野で公知の典型的アプローチである)からのものと比較してよりよい画質を持つ理由は、1−Dカメラは1ピクセル幅のサンプル画像だけを受け取ることができるのに対して、2−Dカメラは1ピクセルを超える画像データを受け取ることができるからである。本発明の方式に従って、3Bにおいて例示されるように、いくつかの画像を重ねることにより、斑点の数が少ない明瞭な画像が得られた。しかしながら、積み重ねる厚みが厚すぎる場合、画像のある特徴において画像が不明瞭になることもまた認められた。従って、そのような設計における2−Dカメラの使用は、画像の積重ねのある範囲内でのみ有効であることがわかった。いくつかの実施形態における最適の重ね合せの厚みは、2〜256ピクセル、4〜128ピクセルまたは4〜64ピクセルである。いくつかの実施形態では、最適の重ね合せの厚みは4〜64ピクセルである。例えば、3Cを生成するために8ピクセルが使用されている。驚くべきことに、2−Dカメラは測定領域に対して柔軟に調節することができ、光学設計の異なるアスペクト比の容易な使用を可能にするという事実により、こうした2−Dカメラ設計が、モジュールをよりシンプルにして、必要とされるレンズの数を減らすこともまた認められた。減らされたレンズの数は、本発明の装置/システムを生産するための製造時間および努力を著しく小さくする。
いくつかの実施形態では、装置/システムは、撮像誘導のために、投射レンズ104および第2の2−Dカメラ105を含む撮像誘導モジュールをさらに含む。
装置/システムは、肌表面の詳細を伴う大きな(マクロ)画像を提供する撮像誘導モジュールを組込む。図2Bにおいて示されるように、典型的なミロー型干渉対物レンズモジュールに組み合わされる、高解像度の光学撮像を提供する、2−DカメラDに加えて、カメラレンズ104および2−Dカメラ105を含む撮像誘導モジュールが、装置/システムに含まれており、そこでビームスプリッタ14aが2−Dカメラ105に信号を向けるために使用されている。2つの撮像システムは同じ光学チャネル/経路を共有し;従って、それらのFOVは重ねられ、固定された相対位置を有する。干渉手段22の周囲を巡るLEDなどの光源(L11)は、撮像誘導モジュールための光を提供するために組込まれる。光源L11は照明モジュールからの様々な波長または時間分布を有し、従って、サンプルによる、光源L11によって生成された信号は、肌表面の大きな画像を生成するために2−Dカメラ105によってすべて収集される。
撮像誘導モジュールのFOVは、高解像度の撮像モジュール(すなわち干渉対物レンズモジュール)のFOVより大きい。サンプル(例えば傷、または角膜)を検査する間、先ず、撮像誘導モジュールがサンプル領域の大きい画像を取得するために使用される。その後、干渉対物レンズモジュールがサンプル上に取り付けられ、撮像誘導モジュールがサンプル表面を撮像することを可能とする。誘導画像のFOVが最初の大きい画像上のどこにあるかを計算するためにアルゴリズムが使用される。誘導画像と高解像度画像との間で位置が固定されているので、高解像度画像の位置は大きい画像上に正確に示すことができる。
典型的な発明干渉対物レンズモジュール、および、それがどのように作動するかは図4A、4Bおよび5において示される。
典型的な干渉手段22は図4Aにおいて示される。いくつかの実施形態において、干渉手段は、反射鏡224でコートされた第1のガラスプレート221、第2のガラスプレート222、および第3のガラスプレート223を含み、基準アームを発生させ及びサンプル3によって返された散乱光に対する干渉を生成するために、そこにおいて反射鏡224がコートされる。図4Aにおいて示されるように、第1のガラスプレート222上にコートされた反射鏡224は線形であり、および、集束されたライン状の光111に平行である。
他の実施形態において、図4Bにおいて示されるように、第1のガラスプレート221はさらに反射鏡224に対応する位置で第1のガラスプレート221の反対側にブラックスポット225を含む。
対物レンズ21に最も近い透明な第1のガラスプレート221は、焦点面側に向いた表面の中央部が高度に反射するように反射鏡224で部分的にコートされ、一方、および、対物レンズ21側に向いた表面の中央部はブラックスポット225を持ち、それは迷光を遮断するために吸収性である。いくつかの実施形態において、ブラックスポットの位置は反射鏡224と同じ側にあり、ブラックスポットは第1のガラスプレートからの迷光を吸収するように反射する参照鏡224をカバーする。サンプル3に(部分的に)接触する透明な第3のガラスプレート223は、対物レンズの焦点面がサンプルに近くなるような位置(の範囲)にセットされる。
第3のガラスプレート223側に向いた表面が部分的に反射するように、第2のガラス222がコートされる。このコート面はミロー型干渉計におけるビームスプリッタとして機能し、および、高度に反射する領域224が対物レンズの焦点面上にあるように、透明な第2のプレート222の位置は位置にセットされる。
図4Aにおいて示されるように、角度20度以内の偏差が平行として定義される。いくつかの実施形態では、それが角度15度以内、角度10度以内、または角度5度以内である。さらに、反射鏡224にはおよそ3:10、および好ましくは5:8の調整可能なアスペクト比がある。従って、第1のガラスプレートにコートされたライン状の反射鏡のそのような設計の構造は、光の完全利用をもたらす。いくつかの実施形態において、第2のガラスプレート222はおよそ5%〜30%、好ましくは10%〜20%の屈折の比率、または条件に基づいて求められる他の適切な比率を有する。第3のガラスプレート223はサンプル3に適合するために完全に透明であり、ライン状の光がサンプル3を貫通し、および照らすことを可能にしている。
ある実施形態において、干渉手段は、第1のガラスプレート、第2のガラスプレートおよび第3のガラスプレートを含む、水平に配置されたガラスを含む。第1のガラスプレートは、光のラインに平行な形状を有するように構成される反射鏡を含む。第2のガラスプレートは第3のガラスプレートに部分的に光を通すように構成される。例えば、反射鏡は、第1のガラスプレート上に細い線の形で形成することができ、アスペクト比がおよそ1:5000、特に4:1000、特に8:250、特に10:100であり、当業者は、必要に応じてその比を調節することができる。反射鏡のアスペクト比の範囲により視野(FOV)の範囲を確定することができる。いくつかの実施形態において、第2のガラスプレートは、およそ5%〜30%、好ましくは5%〜20%の屈折の比率を有し、ビームスプリッタとして使用することができる。さらに、それらの3枚のガラスプレートは、ガラス−サンプルインタフェースによって生じる迷光を避けるため、サンプルの屈折率に対応する屈折率を持っており、例えば、約1.2〜約1.8、好ましくは約1.3〜約1.5の範囲内である。
図6A/6Bはさらにもう一つの実施形態を提供しており、そこではマイケルソン型干渉対物レンズモジュールが本発明の装置/システムにおいて使用されている。いくつかの実施形態において、本発明の装置/システムは、異なる干渉対物レンズモジュールCの使用以外は、同じ照明モジュールと光学的干渉モジュール、および、図2A/2Bにおけるようなオプションの撮像誘導モジュールを含むマイケルソン型干渉撮像装置/システムである。干渉対物レンズモジュールCは、サンプル3に対してサンプル・アームを生成するために、対物レンズ21a、および、サンプル3に取り付けられた第3のガラスプレート223を含み、および、基準アームを生成するために対物レンズ21bおよび反射鏡225を含む。ライン光がサンプル3および反射鏡225上に同時に照らされ、そこから反射した時、干渉信号が生み出され、投射レンズ4を介して二次元カメラDによって集められ、次に、データ処理モジュールによる横断面の画像を生成し、一方、撮像誘導モジュールは、サンプルの横断面画像の相関のための大きな画像を提供するために、投射レンズ104および2−Dカメラ105を含んでいる。
いくつかの実施形態において、光学的干渉モジュールは、さらに、光線出力を光のラインと光の領域との間でトグルで切り替えるよう構成されたスイッチを含み、装置によりユーザーがサンプルの横断面画像および/または正面を向いた画像を得ること(例えば3−Dスライスデータを得ること)を可能にするために、ラインスキャン・モードと全視野モードの間の切り替えがある。そのような設計は、ユーザーがサンプル全体の情報を得ることを可能にする。
サンプルからより多くの構造情報を得るために、いくつかの実施形態において、光学的干渉モジュールは、図7に示されるように、様々なライティング・モードを提供するように構成されたスイッチ17をさらに含む。いくつかの実施形態において、2つのモードが変えられるように含まれる;1つはライン光照明モードLである、別のものは、面光照明モードFであり、そこにおいて、コリメーションレンズ12と偏光ビームスプリッタ14との間にスイッチ17(例えばThorlabsCFW6)が配置され、スイッチ17のレンズホルダーにはめられた円柱レンズ13と色消しレンズ18がトグルで切り替えられることで、横断面の画像を得るためにライン光照明モードLに、または、正面を向いた画像を得るために面光照明モードFに照明モードが切り替えられ、そのことにより三次元のボリュメトリック画像をもたらすことができる。いくつかの実施形態において、そのようなトグルスイッチの設計は、ライン光照明モードと面光照明モードの変更に限定されず;様々なレンズを伴う他のすべての適切なモードが本発明の方式に従って使用されてもよい。
いくつかの実施形態において、本発明の装置/システムは迷光を2−DカメラDの撮像範囲のエッジおよび外に集束するよう構成される。
例えば、図8に示されるように、干渉対物レンズモジュールは、対物レンズ31、および干渉手段(反射率参照鏡324を伴う第1のガラスプレート321、第2のガラスプレート322、およびサンプル3に隣接する第3のガラスプレート323を含む)を含み、そこにおいて対物レンズ31は入射光線の焦点44が焦点面41と主面42との間に配置されるよう構成される。そのような配置により、入射光線の焦点44が対物レンズ31の光学軸111からオフセットされ、そのことが迷光を2−DカメラDの撮像範囲のエッジおよび外に集束させる(図9に示されるように)。いくつかの実施形態において、反射参照鏡324は、第1のガラスプレート321上に部分的にコートされ、例えば、第1のガラスプレート321の中心にコートされ、そこにおいては、反射参照鏡324が銀またはコーティングのために使用される他の適切な金属によって高い反射率を得る。
いくつかの実施形態において、入射光線は対物レンズの光学軸に対して0°より大きく45°未満である入射角θ1を持つよう構成され、好ましくは、θ1は0°より大きく20°未満であるか、より好ましくは、0°より大きく5°未満であり、しかし、それに限定されない。
いくつかの実施形態において、焦点はおよそ0°〜70°の範囲にある発散角θ2を持つよう構成される。θ2の値は視野(FOV)およびFOVに対する正比例に依存する。いくつかの実施形態において、当業者は、小さなFOVを達成するために0°〜20°または5°〜15°の範囲内のθ2を選ぶことができ、または、大きなFOVを達成するために40°〜70°または50°〜60°を選ぶことができる。
いくつかの実施形態において、対物レンズは、下記式(1)を満たすNA値を持っている:
:NAは対物レンズの開口数であり、nは屈折率であり、θは1/2の開口角であり、および、θ3は拡開角度の半分であり、対物レンズを形成する。
好ましくは、θ=θ3/(0.5〜1.0)。θ3の角度が大きすぎれば、サンプル輝度を縮小することで、そこにおいてサンプルの信号補正を縮小するだろう。
いくつかの実施形態において、本発明の装置/システムは、光学的干渉モジュールに対して光源(光のライン、または光の領域など)を提供するよう構成された照明モジュール;対物レンズと干渉手段を含み、光学的干渉モジュールからの光に対処し、およびサンプルから発生した光信号を処理する干渉対物レンズモジュール;サンプルから後方散乱される干渉信号を受け取る二次元カメラ;および、光信号を分析し、サンプル撮像を提供するためのデータ処理モジュールを含み、焦点面と対物レンズの主平面との間に入射光の焦点を有するような配置において、対物レンズが入射光を受け入れるように装置/システムが構成される。
図9に示されるように、照明モジュールによって提供される光は光ファイバー16を介して光学的干渉モジュールに投射される。光はコリメーションレンズ312によって集められ、および、次に円柱レンズ313によって、示されるように、ライン状の光に(または図7で示されるように色消しレンズによって面照明に)変形され、および、ビームスプリッタ14を通過し、干渉対物レンズモジュールCの中へ送られる。光が第3のガラスプレート323を通ってサンプル3に向って干渉対物レンズモジュールCを通り抜ける時、光は吸収されるか、反射されるか、または後方散乱される。後方散乱された光信号は、干渉対物レンズモジュールCによって集められ、干渉信号を発生させるために、反射鏡324および第2のガラスプレート322から反射される参照光に干渉する。その後、ビームスプリッタ14は投射レンズ4に対して信号を反射し、迷光を2−DカメラDの撮像範囲のエッジおよび外に集束させる。
いくつかの実施形態では、反射参照鏡の形には線、多角形(例えば正方形)、円形スポットがあり、もしくは装置またはシステムのために適している他の形がある。
例えば、図10(10Aから10C)に示されるように、反射参照鏡324には線(10A)、多角形(正方形、10B)または円形スポット(10C)の形がありえる。いくつかの実施形態では、反射参照鏡のサイズは、1500μm未満、好ましくは1000μm未満、好ましくは500μm未満、および好ましくは300μm未満の範囲内でありえ、および、当業者であれば容易に適切に必要なサイズに調節することができる。第1のガラスプレートに反射参照鏡を部分的にコートすることによって、光の利用は効果的に改善される。
いくつかの実施形態において、本発明はサンプルを撮像するための方法を提供し、該方法は、光学的干渉モジュールからの光に対処し且つサンプルから発生した光信号を処理する本発明の干渉対物レンズモジュールにおける対物レンズに、焦点面と対物レンズの主平面との間に入射光の焦点を有するような配置において、照明モジュールからの入射光を受け入れさせるステップ、および、前記干渉モジュールによって発生した干渉信号をデータ処理モジュールによって処理して画像にするステップを含む。いくつかの実施形態では、干渉対物レンズモジュールは本明細書で開示されるあらゆる発明干渉対物レンズモジュールである。
本発明の装置/システムは、サンプルの横断面における、および同様に正面を向いた方向における撮像にとって有用である。それは皮膚または角膜の状態などのサンプル表面および表面下の情報の提供を支援するのに特に役立つ。本発明の装置/システムは、高い信号対ノイズ比の横断面画像を得るためにライン光後方散乱と共に二次元カメラを使用し、効果的に画質を改善し、および1μmレベルの解像度に達する。また、そのような設計は画像走査速度を150μm/秒またはそれ以上に増加させることを可能にする。撮像誘導モジュールの使用は、ユーザーが効率的に対象の領域を正確に捉えることを可能にする。
本発明の好ましい実施形態が本明細書中に示され、記述されてはいるが、そのような実施形態が一例としてしか提供されていないことは当業者にとって明白であろう。多くの変更、変化、および置換が、本発明から逸脱することなく、当業者に着想されるであろう。本明細書に記載された本発明の実施形態の様々な代替物が、本発明の実施において用いられてもよいことが理解されよう。以下の請求項は本発明の範囲を定義するものであり、これらの請求項とその均等物の範囲内の方法、および構造がそれによって包含されるものであるということが意図されている。

Claims (34)

  1. 装置であって、前記装置が:光学的干渉モジュールに対して光源を提供するように構成された照明モジュールであって、前記光学的干渉モジュールが光源を光のラインに変換し且つ光信号を処理する、照明モジュール;光学的干渉モジュールからの光に対処し且つサンプルから発生した光信号を処理する干渉対物レンズモジュール;サンプルから後方散乱される干渉信号を受け取るように構成された二次元カメラ、および干渉信号を処理して画像にするデータ処理モジュール、を含む、装置。
  2. 照明源モジュールが、自然放出増幅光源、スーパールミネッセントダイオード、発光ダイオード(LED)、広帯域のスーパーコンティニューム光源、モード同期レーザー、波長可変レーザー、フーリエドメイン・モード同期光源、光学パラメトリック発振器(OPO)、ハロゲンランプ、Ce3+:YAG結晶ファイバー、Ti3+:Al結晶ファイバー、Cr4+:YAG結晶ファイバーを含むことを特徴とする、請求項1に記載の装置。
  3. 照明源モジュールがCe3+:YAG結晶ファイバー、Ti3+:Al結晶ファイバー、またはCr4+:YAG結晶ファイバーを含むことを特徴とする、請求項2に記載の装置。
  4. 光学的干渉モジュールが照明モジュールにおける光源によって投射されるライン光を発生させるように構成されることを特徴とする、請求項1に記載の装置。
  5. 光学的干渉モジュールが、光源からの光をライン光へ変換するために、アナモフィックレンズまたはファイバー・バンドルのライン・アレイを含むことを特徴とする、請求項4に記載の装置。
  6. ライン光が3:100、または5:20のアスペクト比を有することを特徴とする、請求項5に記載の装置。
  7. 干渉対物レンズモジュールが、干渉信号を発生させるために、サンプルに対する光のラインを処理し、およびそこから後方散乱される信号を受け取るように構成された対物レンズと干渉手段を含むことを特徴とする、請求項1に記載の装置。
  8. 干渉対物レンズモジュールが、ミロー型干渉対物レンズモジュール、マイケルソン型干渉モジュール、またはマッハツェンダ干渉対物レンズモジュールであることを特徴とする、請求項7に記載の装置。
  9. 対物レンズが約1.2〜約1.8の範囲の屈折率を伴う浸漬溶液を有する液浸対物レンズであることを特徴とする、請求項7に記載の装置。
  10. 前記装置がさらに、撮像誘導のために使用されるカメラレンズおよび二次元カメラを含む撮像誘導モジュールを含むことを特徴とする、請求項1に記載の装置。
  11. 撮像誘導モジュールおよび干渉対物レンズモジュールが、重なった視界を提供する同じ光学チャネル又は経路を共有することを特徴とする、請求項10に記載の装置。
  12. 前記干渉対物レンズモジュールが、サンプル上に光を投射するために、さらに光源を組込むことを特徴とする、請求項11に記載の装置。
  13. 干渉手段が、反射鏡でコートされた第1のガラスプレート、第2のガラスプレート、および第3のガラスプレートを含み、基準アームを発生させ及びサンプルによって返された散乱光に対する干渉を生成するために、そこにおいて反射鏡がコートされることを特徴とする、請求項12に記載の装置。
  14. 反射鏡が光のラインに平行な形状を有するように構成されることを特徴とする、請求項13の装置。
  15. 第1のガラスプレート上の反射鏡がおよそ1:5000、4:1000、8:250、または10:100のアスペクト比を伴う細い線の形を有することを特徴とする、請求項14に記載の装置。
  16. 第1のガラスプレートがさらに、反射鏡に対応する位置において第1のガラスプレートの反対側にブラックスポットを含むことを特徴とする、請求項15に記載の装置。
  17. ブラックスポットが迷光をブロックするために吸収性であることを特徴とする、請求項16に記載の装置。
  18. 第2のプレートの位置が高度に反射する領域が対物レンズの焦点面上にあるようになる位置にセットされることを特徴とする、請求項17に記載の装置。
  19. 第2のガラスプレートがおよそ5%〜30%、または10%〜20%の屈折の比率を持つことを特徴とする、請求項18に記載の装置。
  20. 光学的干渉モジュールが光のラインと光の領域との間で光をトグルで切り替えるように構成されたスイッチをさらに含むことを特徴とする、請求項1に記載の装置。
  21. 前記スイッチが円柱レンズと色消しレンズをトグルで切り替えることを特徴とする、請求項20に記載の装置。
  22. 装置であって、該装置が:光学的干渉モジュールに対して光源(光のライン、または光の領域など)を提供するように構成された照明モジュール;対物レンズと干渉手段を含み、光学的干渉モジュールからの光に対処し、およびサンプルから発生した光信号を処理する干渉対物レンズモジュール;サンプルから後方散乱される干渉信号を受け取る二次元カメラ;および、光信号を分析し、サンプル撮像を提供するためのデータ処理モジュールを含み、焦点面と対物レンズの主平面との間に入射光の焦点を有するような配置において、対物レンズが入射光を受け入れるように装置/システムが構成されることを特徴とする、装置。
  23. 干渉対物レンズモジュールが、干渉信号を発生させるために、サンプルに対する光のラインを処理し、およびそこから後方散乱される信号を受け取るように構成された対物レンズと干渉手段を含むことを特徴とする、請求項22に記載の装置。
  24. 干渉対物レンズモジュールがミロー型干渉対物レンズモジュール、マイケルソン型干渉モジュール、またはマッハツェンダ干渉対物レンズモジュールであることを特徴とする、請求項23に記載の装置。
  25. 対物レンズが約1.2〜約1.8の範囲の屈折率を伴う浸漬溶液を有する液浸対物レンズであることを特徴とする、請求項23に記載の装置。
  26. 前記装置がさらに、撮像誘導のために使用されるカメラレンズおよび二次元カメラを含む撮像誘導モジュールを含むことを特徴とする、請求項22に記載の装置。
  27. 撮像誘導モジュールおよび干渉対物レンズモジュールが、重なった視界を提供する同じ光学チャネル又は経路を共有することを特徴とする、請求項26に記載の装置。
  28. 干渉手段が、反射参照鏡を伴う第1のガラスプレート、第2のガラスプレート、およびサンプルに隣接する第3のガラスプレートを含み、入射光の焦点が焦点面と主面との間に配置されるように対物レンズが構成されることを特徴とする、請求項23に記載の装置。
  29. 入射光の焦点が対物レンズの光学軸からオフセットされ、それにより迷光が2ーDカメラの撮像範囲のエッジおよび外に集束されることを特徴とする、請求項28に記載の装置。
  30. 照明源モジュールが自然放出増幅光光源、スーパールミネッセントダイオード、発光ダイオード(LED)、広帯域のスーパーコンティニューム光源、モードロックレーザー、波長可変レーザー、フーリエドメイン・モード同期光源、光学パラメトリック発振器(OPO)、ハロゲンランプ、Ce3+:YAG結晶ファイバー、Ti3+:Al結晶ファイバー、または、Cr4+:YAG結晶ファイバーを含むことを特徴とする、請求項22に記載の装置。
  31. 照明源モジュールがCe3+:YAG結晶ファイバー、Ti3+:Al結晶ファイバー、またはCr4+:YAG結晶ファイバーを含むことを特徴とする、請求項30に記載の装置。
  32. 光学的干渉モジュールが照明モジュールにおける光源によって投射されるライン光を発生させるように構成されることを特徴とする、請求項23に記載の装置。
  33. 光学的干渉モジュールが、光源からの光をライン光へ変換するために、アナモフィックレンズまたはファイバー・バンドルのライン・アレイを含むことを特徴とする、請求項32に記載の装置。
  34. サンプルを撮像するための方法であって、該方法が、光学的干渉モジュールからの光に対処し且つサンプルから発生した光信号を処理する本発明の干渉対物レンズモジュールにおける対物レンズに、焦点面と対物レンズの主平面との間に入射光の焦点を有するような配置において、照明モジュールからの入射光を受け入れさせるステップ、および、前記干渉モジュールによって発生した干渉信号をデータ処理モジュールによって処理して画像にするステップを含む、方法。
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