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Die
vorliegende Erfindung betrifft einen stapelbaren, eingehäusten Baustein,
einen Bausteinstapel mit eingehäusten
Bausteinen und Verfahren zu deren Herstellung.
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Um
umfassende Halbleitersysteme zur Verfügung stellen zu können und
um dabei der Nachfrage nach immer höherer Integration gerecht zu
werden, kommt dem platzsparenden Stapeln von einzelnen eingehäusten Chips
immer größere Bedeutung zu.
Ein Verfahren zum Bereitstellen eines multifunktionalen Systems
besteht darin, einzelne, bereits eingehäuste Bauelemente aufeinander
zu einem Bausteinstapel zu stapeln, der aufgrund von verkürzten Zuleitungen
eine höhere
Leistung bei optimierter Bausteingröße bietet.
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Ein
weiterer Ansatz besteht im Stapeln einer Reihe einzelner (nicht
eingehäuster)
Chips in ein einziges Gehäuse,
um ein Multichip-System in einem einzigen Baustein zur Verfügung zu
stellen. Ein Problem, das dabei für gewöhnlich auftritt, ist die Schwierigkeit,
die nicht eingehäusten
Chips vor dem Stapeln zu testen, da ein elektrisches Kontaktieren der
Chips im nicht eingehäusten
Zustand kostenintensiv ist, wodurch die Herstellungskosten insgesamt steigen
würden.
Nach der Montage müsste
bei einem fehlerhaften Speicherchip normalerweise der gesamte Bausteinstapel
verworfen werden. Aus diesem Grund kann es sinnvoller sein, eingehäuste Bausteine
zu stapeln, da die eingehäusten
einzelnen Chips auf kostengünstige
Art und Weise getestet werden können,
bevor sie zu einem Bausteinstapel zusammengebaut werden. Auf diese
Weise werden nur Bauelemente, von denen bekannt ist, dass sie ordnungsgemäß funktionieren
(known good dies), für den
Bausteinstapel verwendet.
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Herkömmlicherweise
erfolgt das Stapeln der eingehäusten
Chips mithilfe von Zwischenelementen, die sich jeweils zwischen
zwei gestapelten eingehäusten
Bauelementen befinden, um eine elektrische Verbindung für jeden
der gestapelten eingehäusten
Bauelemente bereitzustellen. Die Herstellung und Handhabung der
Zwischenelemente ist kostenaufwändig.
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Die
Druckschrift US 2005/0077632 A1 offenbart ein Verfahren zum Herstellen
eines Multichip-Moduls. Das Verfahren umfasst das Anbringen mindestens
eines hervorstehenden Kontakts auf einem Substrat, das Aufbringen
und Strukturieren einer Umverdrahtungsstruktur auf dem Substrat,
und mindestens einen hervorstehenden Kontakt, wobei auf dem mindestens
einen hervorstehenden Kontakt eine Kontaktvorrichtung vorgesehen
ist. Das Verfahren umfasst außerdem
das Aufbringen eines Halbleiterchips auf dem Substrat mit einer
elektrischen Verbindung zu der Umverdrahtungsstruktur, das Aufbringen
eines nicht elektrisch leitfähigen
Gehäusematerials
auf dem Halbleiterchip, dem Substrat, der Umverdrahtungsstruktur
und dem mindestens einen hervorstehenden Kontakt, so dass die Kontaktvorrichtung auf
dem mindestens einen hevorstehenden Kontakt an einer ersten Oberfläche des
Gehäuses
freiliegt. Mindestens einer von mindestens den ersten zwei Aufbringungsschritten
wird wiederholt, wobei die erste Oberfläche des Gehäuses als Substrat dient und die
entsprechend hergestellte Umverdrahtungsstruktur einen elektrischen
Kontakt mit der Kontaktvorrichtung des mindestens einen hervorstehenden
Kontakts des darunter liegenden Bausteins zur Verfügung stellt.
In dem in der Druckschrift offenbarten Verfahren werden bloße Chips
zum Herstellen des Multichip-Moduls verwendet. Wie oben erwähnt, ist es
schwer, bloße
Chips funktionalen Tests zu unterziehen, da ihre elektrische Kontaktierung
zeitaufwändig
ist und teures Spezialwerkzeug zum Kontaktieren notwendig macht.
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Es
ist daher Aufgabe der vorliegenden Erfindung ein Verfahren zum Herstellen
von stapelbaren Bausteinen zur Verfügung zu stellen, die einfach
herzustellen sind und die unter anderem vor dem Stapeln in einem
Multichip-Bauelement getestet werden können. Es ist weiterhin Aufgabe
der vorliegenden Erfindung ein Verfahren zum Stapeln von stapelbaren
Bausteinen zur Verfügung
zu stellen, bei dem kein zusätzliches
Zwischenelement oder ähnliches notwendig
ist, um eine Kontaktierung zwischen den stapelbaren Bausteinen zu
erreichen. Es ist weiterhin Aufgabe der vorliegenden Erfindung,
einen stapelbaren Baustein und einen Bausteinstapel zur Verfügung zu
stellen, die einfach herstellbar sind.
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Diese
Aufgaben werden durch die Gegenstände der unabhängigen Ansprüche betreffend
das Verfahren zum Herstellen eines stapelbaren Bausteins, das Verfahren
zum Herstellen eines Bausteinstapels, den stapelbaren Baustein sowie
den Multichip-Bausteinstapel gelöst.
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Weitere
vorteilhafte Ausgestaltungen der Erfindung sind in den abhängigen Ansprüchen angegeben.
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Gemäß einem
ersten Aspekt der vorliegenden Erfindung ist ein Verfahren zum Herstellen
mindestens eines stapelbaren Bausteins vorgesehen, dass die Schritte
aufweist: Bereitstellen eines Gehäusekörpers mit mindestens einem
kontaktierbaren Bauelement, Herstellen von mindestens einem elektrisch
leitenden Kontaktelement in dem Gehäusekörper, dass eine Durchkontaktierung
durch den Gehäusekörper bildet
und anschließendes
Aufbringen einer leitfähigen
Umverdrahtungsstruktur auf dem Gehäusekörper zum Bereitstellen einer
elektrischen Verbindung zwischen dem elektrisch leitenden Kontaktelement
und dem Bauelement.
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Auf
diese Weise kann zum einen eine Durchkontaktierung von einer Oberfläche zu einer
gegenüberliegenden
Oberfläche
des Bauelements mit Hilfe des als Durchkontaktierung ausgebildeten
Kontaktelements vorgesehen werden und andererseits eine Kontaktierung
des Bauelements in dem stapelbaren Baustein auf einfache Weise erreicht
werden.
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Gemäß einer
Ausführungsform
der Erfindung umfasst der Schritt des Bereitstellens eines Gehäusekörpers mit
mindestens einem kontaktierbaren Bauelement die Schritte des Bereitstellens
eines Trägersubstrats,
des Anordnens von mindestens einen kontaktierbaren Bauelement auf
dem Trägersubstrat, des
Ausbildens des Gehäusekörpers auf
dem Trägersubstrat,
dass das Bauelement zumindest teilweise umgibt und des Entfernens
des Trägersubstrats. Dadurch
wird in vorteilhafter Weise erreicht, dass das kontaktierbare Bauelement
in dem Gehäusekörper angeordnet
ist und gleichzeitig die Kontaktflächen des kontaktierbaren Bauelements
durch Entfernen des Trägersubstrats
freigelegt werden, sodass mit der Umverdrahtungsstruktur das Bauelement
kontaktiert werden kann.
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Weiterhin
kann vorgesehen sein, dass das Herstellen des mindestens einen elektrisch
leitenden Kontaktelementes mit folgenden Schritten durchgeführt wird
Aufbringen des Kontaktelements auf das Trägersubstrat vor dem Aufbringen
des Gehäusekörpers und
Ausbilden des Gehäusekörpers auf
dem Trägersubstrat,
so dass ein Abschnitt des elektrisch leitenden Kontaktelements auf
einer dem Trägersubstrat
gegenüberliegenden
Oberfläche
des Gehäusekörpers freiliegt.
Auf diese Weise kann das als Durchkontaktierung ausgebildete Kontaktelement
in besonders einfacher Weise hergestellt werden.
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Auf
mindestens einer Oberfläche
des Gehäusekörpers kann
eine elektrisch leitende Kontaktierungsstruktur ausgebildet werden,
die elektrisch mit der elektrisch leitenden Umverdrahtungsstruktur gekoppelt
ist, um eine elektrische Kontaktierung des Bauelements von außen zur
Verfügung
zu stellen. Die elektrisch leitende Kontaktierungsstruktur kann beispielsweise
eine Lotkugel oder eine sonstige geeignete Struktur sein, um das
stapelbare Bauelement mit einem externen Kontakt zu verbinden.
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Vorzugsweise
ist das mindestens eine elektrisch leitende Kontaktelement durch
ein Verfahren aufgebracht, das aus einer Gruppe der folgenden Verfahren
ausgewählt
ist: Siebdruck, Schablonendruck, Dispense-Verfahren und Prägeverfahren. Auch
andere Verfahren zum Aufbringen des elektrisch leitenden Kontaktelements
auf das Trägersubstrat
sind möglich.
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Das
elektrisch leitende Kontaktelement kann mit Hilfe von mindestens
einem Material hergestellt werden, dass aus einer Gruppe der folgenden
Materialien ausgewählt
ist: ein flexibles elektrisch leitendes Material, eine elektrisch
leitende Paste, ein elektrisch leitender Klebstoff, ein elektrisch
leitendes Epoxidmaterial, ein mit Metall dotiertes Material und
ein elektrisch leitendes Polymer.
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Gemäß einer
weiteren Ausführungsform
der Erfindung kann der Gehäusekörper über das
mindestens eine elektrisch leitende Kontaktelement hinweg ausgebildet
werden, wobei der Abschnitt des elektrisch leitenden Kontaktelements
durch Entfernen eines Teils des Gehäusekörpers freigelegt wird.
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Gemäß einer
weiteren Ausführungsform
der Erfindung kann das Herstellen des mindestens einen elektrisch
leitenden Kontaktelements durchgeführt werden, indem ein Durchgangsloch
in den Gehäusekörper eingebracht
wird und das Durchgangsloch mit einem leitfähigen Kontaktmaterial gefüllt wird,
um das Kontaktelement zu bilden.
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Insbesondere
kann das Aufbringen der leitfähigen
Umverdrahtungsstruktur vor dem Füllen
des Kontaktloches durchgeführt
werden. Vorzugsweise wird das Füllen
des Durchgangslochs durchgeführt, sodass
das Kontaktelement über
mindestens eine Oberfläche
des Gehäusekörpers hervorsteht.
Insbesondere kann das Füllen
des Durchgangslochs durchgeführt
werden, sodass das Kontaktelement über die Oberfläche und
eine gegenüberliegende Oberfläche des
Gehäusekörpers hervorsteht,
wobei die hervorstehenden Abschnitte des Kontaktelements mit zu
einander komplementären
Profilen ausgebildet sind, um bei aufeinander Anordnen der komplementären hervorstehenden
Abschnitte eine elektrische Kontaktierung und eine seitliche Fixierung
zu gewährleisten.
Auf diese Weise kann ein seitliches Verrutschen der stapelbaren
Bausteine, wenn diese übereinander
gestapelt sind, vermieden werden.
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Vorzugsweise
kann das Einbringen des Durchgangslochs durch Bohren, Stanzen, Lasern, Ätzen oder
durch ein Plasmaverfahren durchgeführt werden.
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Das
leitfähige
Kontaktmaterial kann aus mindestens einer der folgenden Materialien
hergestellt werden: Ein flexibles elektrisch leitendes Material, eine
elektrisch leitende Paste, einen elektrisch leitenden Klebstoff,
ein elektrisch leitendes Epoxidmaterial, ein mit Metall dotiertes
Material und ein elektrisch leitendes Polymer.
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Gemäß einer
weiteren bevorzugten Ausführungsform
der Erfindung, kann der Schritt des Bereitstellens eines Gehäusekörpers mit
mindestens einem kontaktierbaren Bauelement die weiteren Schritte
umfassen: Bereitstellen eines Bausteinsubstrats aus einem Gehäusematerial,
Strukturieren des Bausteinssubstrats mit mindestens einer Ausnehmung zum
Aufnehmen von mindestens einen kontaktierbaren Bauelement und Anordnen
des kontaktierbaren Bauelements in der Ausnehmung. Auf diese Weise kann
das kontaktierbare Bauelement (Chip) möglichst schonend in den Gehäusekörper eingebracht werden,
da ein Aufbringen eines flüssigen
Gehäusematerials
auf dem kontaktierbaren Bauelement bei erhöhten Temperaturen vermieden
werden kann.
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Weiterhin
kann das Herstellen des mindestens einen elektrisch leitenden Kontaktelements durchgeführt werden,
bevor das kontaktierbare Bauelement in der Ausnehmung angeordnet
wird.
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Beim
Strukturieren des Bausteinsubstrats kann mindestens ein Durchgangsloch
und die mindestens eine Ausnehmung gebildet werden, wobei das Durchgangsloch
mit einem elektrisch leitenden Kontaktmaterial gefüllt wird.
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Vorzugsweise
können
mehrere Bauelemente in dem Gehäusekörper angeordnet
werden, wobei der Gehäusekörper nach
dem Aufbringen einer leitfähigen
Umverdrahtungsstruktur auf dem Gehäusekörper getrennt wird, um mehrere
stapelbare Bausteine herzustellen. Auf diese Weise ist es möglich, gleichzeitig
mehrere stapelbare Bausteine zu erzeugen, da die eingesetzten Verfahrensschritte
geeignet sind, gleichzeitig mehrere Bausteine herzustellen.
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Vorzugsweise
wird auf mindestens einer Oberfläche
des Gehäusekörpers eine
elektrisch leitende Kontaktierungsstruktur ausgebildet, die elektrisch
mit der elektrisch leitenden Umverdrahtungsstruktur oder mit dem
Kontaktelement gekoppelt ist, um eine von der Oberfläche des
Gehäusekörpers hervorstehende
elektrische Kontaktierung des Bauelements von außen zur Verfügung zu
stellen.
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Gemäß einem
weiteren Aspekt der vorliegenden Erfindung ist ein Verfahren zum
Herstellen eines gestapelten Bausteins vorgesehen, dass die Schritte
umfasst Herstellen von mehreren stapelbaren Bausteinen mit jeweils
einem oder mehreren elektrisch leitenden Kontaktelementen, die jeweils eine
Durchkontaktierung durch den Baustein bilden und Stapeln der stapelbaren
Bausteine, sodass die elektrisch leitenden Kontaktelemente eines
ersten stapelbaren Bausteins und die elektrisch leitenden Kontaktelemente
eines zweiten stapelbaren Bausteins, die in elektrischer Verbindung
stehen, einen Bausteinstapel bilden.
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Vorzugsweise
können
die mehreren stapelbaren Bausteine mit flexiblen elektrisch leitenden Kontaktelementen
hergestellt werden. Insbesondere werden die flexiblen elektrisch
leitenden Kontaktelemente so hergestellt, dass sie zumindest über eine Oberfläche des
stapelbaren Bausteins hervorstehen. Vorzugsweise werden die flexiblen
elektrisch leitenden Kontaktelemente hergestellt, sodass das Kontaktelement über die
Oberfläche
und eine gegenüberliegende
Oberfläche
des Gehäusekörper hervorsteht,
wobei die hervorstehenden Abschnitte des Kontaktelements mit zueinander
komplementären Formen
ausgebildet sind, um bei aufeinander Anordnen der komplementären hervorstehenden
Abschnitte eine elektrische Kontaktierung und eine seitliche Fixierung
zu gewährleisten.
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Gemäß einer
bevorzugten Ausführungsform der
Erfindung werden die mehreren stapelbaren Bausteine vor dem Stapeln überprüft, ob bestimmte
Testkriterien erfüllt
sind, und wobei nur Bausteine, bei denen die Testkriterien erfüllt sind,
gestapelt werden.
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Gemäß einem
weiteren Aspekt gemäß der vorliegenden
Erfindung ist ein stapelbarer Baustein vorgesehen, mit mindestens
einem Bauelement, das in dem Gehäusekörper angeordnet
ist, mit einem oder mehreren elektrisch leitenden Kontaktelementen,
die Durchkontaktierungen bilden, die von zwei gegenüberliegenden
Oberflächen
des Gehäusekörpers zugänglich sind
und die einen elektrischen Kontakt mit den Bauelementen zur Verfügung stellen
und mit einer Umverdrahtungsstruktur auf einer Oberfläche des
Bausteins, um einen elektrischen Kontakt zwischen dem Bauelement
und dem elektrisch leitenden Kontaktelement herzustellen.
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Weiterhin
können
die elektrisch leitenden Kontaktelemente über mindestens eine Oberfläche des
Bausteins hervorstehen. Weiterhin können die elektrisch leitenden
Kontaktelemente eines der folgenden Materialien aufweisen• Ein flexibles
elektrisch leitendes Material, eine elektrisch leitende Paste, einen
elektrisch leitenden Klebstoff, ein elektrisch leitendes Epoxidmaterial,
ein mit Metall dotiertes Material und ein elektrisch leitendes Polymer.
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Gemäß einem
weiteren Aspekt der vorliegenden Erfindung ist ein Multichip-Bausteinstapel vorgesehen,
der mehrere stapelbare Bausteine umfasst. Die mehreren stapelbaren
Bausteine sind so gestapelt, dass die elektrisch leitenden Kontaktelemente
von zwei benachbarten stapelbaren Bausteinen miteinander elektrisch
in Kontakt stehen.
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Weiterhin
kann mindestens eines der stapelbaren Bausteine ein flexibles Kontaktelement
aufweisen, das über
mindestens eine der Oberflächen
des stapelbaren Bausteins hervorsteht, wobei der stapelbare Baustein
mit dem Kontaktelement eines weiteren stapelbaren Bausteins in Kontakt
gebracht ist, indem mit Hilfe einer Klemmvorrichtung eine Klemmkraft
ausgeübt
wird, die das flexible Kontaktelement auf den weiteren Baustein
drückt.
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Die
Klemmvorrichtung kann mindestens eines der folgenden Elemente aufweisen:
Eine Feder, eine Umfassung, eine Schnappvorrichtung und eine Verschraubung.
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Vorzugsweise
können
aneinander zugeordnete flexible Kontaktelemente von zwei benachbarten
stapelbaren Bausteinen jeweils ein Profil aufweisen, wobei die in
der Stapelanordnung einander kontaktierenden Kontaktelemente komplementäre Profile
aufweisen, um eine seitliche Fixierung der stapelbaren Bausteine
zu einander zu erreichen.
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Für ein detailliertes
Verständnis
der oben beschriebenen erfindungsgemäßen Merkmale, wird die Erfindung,
die oben kurz zusammengefasst wurde, nun anhand von Ausführungsformen
näher erläutert, von
denen einige in den beigefügten
Zeichnungen dargestellt sind. Es wird jedoch darauf hingewiesen, dass
die beigefügten
Zeichnungen nur typische Ausführungsformen
der Erfindung darstellen und daher ihren Umfang nicht einschränken, da
die Erfindung weitere, gleichwertige Ausführungsformen zulässt. Es
zeigen:
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1A bis 1I Verfahrensstände des Verfahrens
zum Herstellen eines stapelbaren Bausteins gemäß einer Ausführungsform
der vorliegenden Erfindung;
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2 ein
Trägersubstrat
mit den stapelbaren eingehäusten
Bausteinen vor dem Aufbringen der Umverdrahtungsstruktur;
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3A bis 3G Verfahrensstände eines weiteren
Verfahrens zum Herstellen eines stapelbaren Bausteins gemäß der Erfindung;
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4A bis 4B zwei
Ausführungsbeispiele
von stapelbaren Bausteinen gemäß der Erfindung;
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5A und 5B Bausteinstapel
mit jeweils zwei stapelbaren Bausteinen;
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6A und 6B Möglichkeiten,
eine Kontaktkraft auf den Bausteinstapel aufzubringen; und
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7A bis 7D ein
weiteres Verfahren zur Herstellung eines stapelbaren Bausteins.
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DETAILLIERTE
BESCHREIBUNG DER BEVORZUGTEN AUSFÜHRUNGSFORMEN
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In
einer Ausführungsform
der vorliegenden Erfindung wird ein Verfahren zum Herstellen eines eingehäusten Multichip-Bausteinstapels zur
Verfügung
gestellt. Das Verfahren umfasst das Herstellen einer Anzahl von
stapelbaren eingehäusten
Bausteinen und das Stapeln der stapelbaren Bausteine, so dass die
Kontaktelemente und/oder Kontaktstrukturen zweier benachbarter Bausteine
miteinander in Kontakt kommen.
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In
den 1A bis 1I sind
die Schritte eines Verfahrens zum Herstellen eines stapelbaren Bausteins
und zum Stapeln der stapelbaren Bausteine gemäß einer ersten Ausführungsform
gezeigt. Wie in 1A gezeigt ist, wird ein Trägersubstrat
bereitgestellt, das als Trägermaterial
für einen
herzustellenden eingehäusten
Baustein oder mehreren herzustellenden eingehäusten Bausteinen dient. Die Position,
an der der Baustein ausgebildet wird, wird hierin als Bausteinposition
bezeichnet. Das Trägersubstrat
in der dargestellten Ausführungsform
ist als lösbare
Schicht 1 dargestellt, die auf einem ebenen, festen Untergrund 2 aufliegt,
auf dem die lösbare Schicht 1 aufgebracht
wird. Die lösbare
Schicht 1 wird so ausgewählt, dass sie sich mit den
nachfolgenden Verfahrensschritten zum Aufbau eines eingehäusten Bausteins,
insbesondere durch ein thermisches Verfahren, verträgt. Anstelle
der lösbaren Schicht 1 können andere
feste Substrate mit ebener Fläche
vorgesehen werden, die auf einfache Weise abgelöst werden können, nachdem in einem der nachfolgenden
Verfahrensschritte, in denen schließlich die eingehäuste Struktur
wie unten beschrieben ausgebildet wird, ein Gehäusematerial aufgebracht wurde.
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In 1B ist
das Verfahrensstadium nach dem Aufbringen der Kontaktelemente 3 gezeigt.
Die Kontaktelemente 3 werden so aufgebracht, dass sie als
Durchkontaktierungen dienen, die sich durch das auszubildende Package
erstrecken. Die Kontaktelemente 3 können durch ein Siebdruck-,
einen Schablonendruck-, Dispense-, Prägeverfahren oder ähnliche
Techniken unter Verwendung von elektrisch leitendem Material aufgebracht
werden. Beispielsweise kann das Drucken durch Aufbringen einer Druckmaske
auf der Oberfläche
des Trägersubstrats
(lösbare Schicht 1)
und durch Aufbringen des elektrisch leitenden Materials auf der
Druckmaske erfolgen. Stellen, an denen ein Kontaktelement auf dem
Trägersubstrat ausgebildet
werden soll, werden in Form von Durchgangslöchern in der Druckmaske zur
Verfügung
gestellt, die durch Aufbringen des elektrisch leitenden Materials
aufgefüllt
werden. Durch Entfernen der Druckmaske verbleiben die Kontaktelemente
wie von der Druckmaske vorgegeben auf dem Trägersubstrat. Vor oder nach
dem Entfernen der Druckmaske wird das elektrisch leitende Material
in Abhängigkeit von
dem elektrisch leitenden Material, ausgehärtet oder verfestigt. Anstelle
des Aushärtens
des elektrisch leitenden Materials kann auch ein Trocknungs- oder ein anderes
Verfahren durchgeführt
werden, wodurch das Kontaktelement gehärtet wird.
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Bei
einigen Ausführungsformen
umfasst das elektrisch leitende Material ein flexibles elektrisch
leitendes Material, ein elektrisches Material, eine elektrisch leitende
Paste, einen elektrisch leitenden Klebstoff, ein elektrisch leitendes
Epoxidmaterial, ein mit Metall dotiertes Material (z.B. Silber)
oder ein elektrisch leitendes Polymer, welches ausgehärtet oder verfestigt
werden kann. Es ist bekannt, dass als elektrisch leitendes Material
zum Ausbilden der Kontaktelemente 3 verschiedene elektrisch
leitende Materialen aufgebracht werden können, die durch ein Siebdruck-,
ein Schablonendruck-, ein Dispense- oder ein Prägeverfahren ausgebildet werden
können.
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Wie
in dem Verfahrensstadium von 1C gezeigt,
wird als nächster
Verfahrensschritt ein elektronisches Bauelement in Form eines Chips 4 auf
die lösbare
Schicht 1 des Trägersubstrats
aufgebracht. Die aktive Oberfläche,
d.h. die Oberfläche,
von der aus der Chip 4 kontaktiert wird, wird dabei auf
die Oberfläche
der lösbaren
Schicht 1 aufgesetzt. Das bedeutet, dass der Chip 4 mit
der Oberseite nach unten auf dem Trägersubstrat 1, 2 aufgebracht
wird. Obwohl in 1C nur das Aufbringen eines
einzelnen Chips 4 auf das Trägersubstrat 1 gezeigt
ist, kann der Verfahrensschritt zum Aufbringen des Chips 4 mehrfach
für jede
Bausteinposition über
die gesamte Fläche
des Trägersubstrats 1 wiederholt werden,
so dass nachfolgende Verfahrensschritte vorzugsweise gleichzeitig
angewendet werden, um mehrere stapelbare Bausteine parallel herzustellen (siehe 2).
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In
einem nächsten
Verfahrensschritt, wie er in 1D dargestellt
ist, wird ein Gehäusematerial über die
gesamte Oberfläche
des Trägersubstrats 1, 2,
die Kontaktelemente 3 und die Chips 4 aufgebracht.
Das Gehäusematerial
wird durch ein geeignetes Verfahren wie Aushärten, Trocknen oder ähnliches
gehärtet,
um für
den auszubildenden Baustein eine feste Struktur bereitzustellen.
Nach dem Einhäusen
des Chips 4 wird die dem Trägersubstrat gegenüberliegende
Bausteinoberfläche
vorzugsweise so planarisiert, dass die Kontaktelemente 3 freigelegt sind,
um so eine elektrische Kontaktierung der Kontaktelemente 3 zu
ermöglichen.
Das Gehäusematerial 5 sollte
so aufgebracht werden, dass jeweils ein Abschnitt 6 der
Kontaktelemente frei liegt oder nachfolgend freigelegt werden kann.
Dies kann dadurch erreicht werden, indem das Gehäusematerial 5 so aufgebracht
wird, dass der Abschnitt 6 des Kontaktelements 3 unbedeckt
bleibt, oder indem das Gehäusematerial 5 aufgebracht
und anschließend
abgetragen wird, beispielsweise durch Polieren und/oder Plasmabehandlung
oder ähnliches,
so dass die oberen Abschnitte 6 der Kontaktelemente 3 schließlich freigelegt
werden. Die oberen Abschnitte 6 der Kontaktelemente 3 fluchten
vorzugsweise mit einer ersten Oberfläche 12 des Gehäusematerials 5.
Es ist jedoch auch möglich,
dass der Abschnitt 6 des Kontaktelements 3 in
Bezug auf die erste Oberfläche 12 des Gehäusematerials 5 erhöht oder
tiefer liegend angebracht ist.
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Wie
in dem in 1E dargestellten Verfahrensschritt
gezeigt ist, wird die lösbare
Schicht 1 so abgelöst,
dass eine gegenüber
liegende zweite Oberfläche 11 des
Gehäusematerials 5,
in dem die Chips 4 eingebettet sind, freigelegt wird. In
manchen Ausführungsformen
kann die lösbare
Schicht 1 von dem gehärteten
Gehäusematerial 5 durch
Strippen abgelöst
werden. Für
den Fall, dass das Trägersubstrat
aus einem anderen Material besteht, können andere Methoden zum Entfernen
des Trägersubstrats geeignet
sein. Beispielsweise kann ein festes Trägersubstrat 2, das
aus Metall, Halbleiter- oder Polymermaterial oder ähnlichem
besteht, durch Ätzen, Schleifen
oder Polieren entfernt werden. Nach Entfernen der lösbaren Schicht,
erhält
man eine Scheibenform oder eine andere künstliche Form (beispielsweise
eine Rechteckanordnung), in der eine Vielzahl von Chips 4 an
den Bausteinpositionen eingebettet sind.
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Anschließend wird
auf der zweiten Oberfläche 11 des
Gehäusematerials 5 eine
elektrisch leitende Umverdrahtungsstruktur 7 aufgebracht,
um eine elektrische Verbindung zwischen den Kontaktelementen 3 und
den Bauelementen (Chips 4) als auch zwischen (nicht gezeigten)
Kontaktstrukturen und den Chips 4 und/oder zwischen mindestens
zwei benachbarten gleichen oder unterschiedlichen Chips 4, in
derselben Ebene zur Verfügung
zu stellen. Im selben oder einem separaten Verfahren können auf
der ersten Oberfläche
des Gehäusematerials 5 die
oberen Abschnitte 6 der Kontaktelemente 3 metallisiert werden,
wodurch eine Metallschicht 10 entsteht, auf der die Anwendung
eines Lötverfahrens
möglich
ist. Eine der Aufgaben der vorliegende Erfindung besteht darin,
einen eingehäusten
Multichip-Bausteinstapel zur
Verfügung
zu stellen, der einfach hergestellt werden kann und eine niedrige
Gesamthöhe
besitzt. Außerdem
soll der eingehäuste
Multichip-Bausteinstapel
ohne Zwischenelemente zum Herstellen von elektrischen Verbindungen
zu jedem der gestapelten Bausteine auskommen. Das Löten von
gestapelten eingehäusten
Bausteinen ergibt eine geringere Stapelhöhe und macht Zwischenelemente überflüssig.
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Die
auf der zweiten Oberfläche 11 des
Gehäusematerials 5 aufgebrachte
Umverdrahtungsstruktur 7 kann einlagig oder mehrlagig ausgebildet sein
(wobei beispielsweise jede Lage durch eine Isolationsschicht isoliert
sein kann), um die entsprechende Umverdrahtung bereitzustellen.
Sowohl die Umverdrahtungsstruktur 7, als auch die Metallschicht 10 können entweder
durch Galvanisieren, Sputtern oder Druckverfahren, wie sie aus dem
Stand der Technik bekannt sind, aufgebracht werden.
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Vorzugsweise
wird eine Kontaktstruktur aufgebracht, um eine elektrische Verbindung
zwischen mindestens einem der Kontaktelemente und dem Chip und/oder
zwischen mindestens zwei benachbarten gleichen oder unterschiedlichen
Chips 4 an derselben Bausteinposition zur Verfügung zu
stellen. Damit ist es möglich,
eine Verbindung zu den elektrischen Schaltkreisen auf dem Chip 4 und/oder
zu dem Kontaktelement 3, das mit anderen stapelbaren Bausteinen
verbunden sein kann, zur Verfügung
zu stellen. Als Kontaktstruktur wird entweder eine Lotkugel, eine
elektrisch leitende Polymerkugel oder eine sonstige hervorstehende
Struktur (wie z.B. stud bump) aufgebracht. Insbesondere kann eine
Lotkugel als Kontaktstruktur aufgebracht werden, durch den der stapelbare
Baustein an ein Bausteinstapel-Substrat oder an einen anderen stapelbaren
Baustein gelötet
werden kann.
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Um
auf den dazu bestimmten Flächen
der Umverdrahtungsstruktur Lotkugeln für eine Verbindung zur Umverdrahtungsstruktur 7 aufzubringen, wird,
wie in dem in 1G dargestellten Verfahrensschritt
gezeigt ist, eine Lotstoppschicht 9 vorgesehen, um die
für das
Aufbringen der Lotkugeln 8 bestimmten Flächen abzugrenzen.
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In
einem nächsten
Verfahrensschritt, der in 1H dargestellt
ist, werden die Lotkugeln 8 an den Stellen aufgebracht,
die durch die Lotstoppschicht 9 definiert sind. Die Lotkugeln 8 können sowohl
auf den Kontaktflächen
der Umverdrahtungsstruktur 7 aufgebracht werden, in denen
die Kontaktelemente 3 vorgesehen sind, als auch in Bereichen
mit zusätzlichen (nicht
gezeigten) Kontaktflächen,
die von der Umverdrahtungsstruktur 7 definiert sind. Die
Lotkugeln 8 können
eingesetzt werden, um die elektronischen Schaltkreise in dem Chip 4 extern
zu kontaktieren. Außerdem
können
die Lotkugeln 8 mit der Metallschicht 10 verbunden
werden, die auf dem oberen Abschnitt der Kontaktelemente 3 eines
weiteren eingehäusten
Bausteins vorgesehen sind, um eine elektrische Kontaktierung zwischen
zwei Bausteinen zu erhalten.
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Wenn
durch das vorgehend beschriebene Verfahren mehrere eingehäusten Bausteine
hergestellt wurden, können
die Bausteinpositionen, an denen sich die eingehäusten Bausteine befinden, durch Säge- oder
andere Trennprozesse voneinander getrennt werden.
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Die
Kontaktelemente 3 können
auch so in dem Gehäusematerial 5 eingebracht
sein, dass die Kontaktelemente 3 über die erste Oberfläche 11 des Kontaktmaterials
hervorsteht, sodass das zusätzliche
Vorsehen von Lotkugeln und dergleichen nicht notwendig ist. Der über der
zweiten Oberfläche
des Bausteins hervorstehende Abschnitt der Kontaktelemente 3 kann
dann als geeignete Kontaktstruktur verwendet werden, um den stapelbaren
Baustein mit den anderen Bausteinen zu einem Bausteinstapel zu verbinden.
In einer bevorzugten Ausführungsform können die
Kontaktelemente aus einem flexiblen bzw. elastischen Material ausgebildet
sein, sodass in Verbindung mit dem hervorstehenden Abschnitt der Kontaktelemente
eine Kontaktstruktur gebildet wird, die geeignet ist, eine bestimmte
Kontaktkraft auf eine Kontaktfläche
eines benachbarten stapelbaren Bausteins einfach zu verteilen. Insbesondere
lassen sich dadurch fertigungsbedingte Höhenunterschiede der Abschnitte
der Kontaktelemente, die über
die zweite Oberfläche
des Bausteins hervorstehen, ausgleichen, indem zwei benachbarte
stapelbare Bausteine mit einer bestimmten Kontaktkraft aufeinandergedrückt werden,
sodass jedes der Kontaktelemente in Kontakt mit einer entsprechenden
Kontaktfläche kommt.
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In
einem nächsten
Schritt wird, wie in 1I dargestellt ist, eine Anzahl
von stapelbaren Bausteinen, die durch das in den 1A bis 1H gezeigte
Verfahren hergestellt wurden, aufeinander gestapelt. Das Stapeln
erfolgt durch Verlöten
der eingehäusten
Bausteine über
die Lotkugeln, wobei die eingehäusten
Bausteine auf die Metallschicht 10 eines benachbarten stapelbaren
eingehäusten
Bausteins gelötet
werden, so dass ein Bausteinstapel entsteht. 1I zeigt
das Stapeln gleichartiger Bausteine zu einem Multichip-Bausteinstapel.
Außerdem
können verschiedene
stapelbare eingehäuste
Bausteine so aufeinandergestapelt werden, so dass ein Multichip-Bausteinstapel
entsteht, der ein System von unterschiedlichen Funktionalitäten in verschiedenen stapelbaren
Bausteinstapeln umfasst. Wie in 1I gezeigt
ist, kann ein stapelbarer Baustein auf einen stapelbaren Baustein
unterhalb des betreffenden Bausteins gelötet werden. Außerdem können sie auch
verwendet werden, um den Multichip-Bausteinstapel auf eine Leiterplatte
oder ähnliches
zu löten. Solche
Multichip-Bausteine
können
in bekannter Weise auf eine Leiterplatte montiert werden.
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2 zeigt
das Trägersubstrat
vor der Aufbringung der Umverdrahtungsstruktur. Das Trägersubstrat
hat vorzugsweise eine Scheibenform oder eine beliebige andere Form
(beispielsweise eine rechteckige Anordnung), auf der die Kontaktelemente
und die Chips 4 an den entsprechenden Bausteinpositionen
angeordnet sind. Das Gehäusematerial 5 ist
auf den Chips 4 und auf den Kontaktelementen 3 aufgebracht.
Auf diese Weise entstehen gleichzeitig mehrere eingehäuste Bausteine.
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Insbesondere
die Verfahrensschritte, in denen die Kontaktelemente 3 durch
Siebdruck, Schablonendruck, Dispense-Verfahren oder Prägeverfahren
aufgebracht werden und bei denen das Gehäusematerial 5 auf
einem Trägersubstrat
vorgesehen wird, machen aus dem Verfahren zum Herstellen der stapelbaren
Bausteine ein geeignetes Verfahren zur Massenproduktion gestapelter
Bausteine. Das Aufbringen des Gehäusematerials kann im Wesentlichen über die
gesamte Fläche
des Trägersubstrats durchgeführt werden,
so dass die Chips 4 und die Kontaktelemente 3 im
Gehäusematerial 5 eingebettet
sind. Nach Entfernen des Trägersubstrats
ist die aktive Oberfläche
der Chips 4 zugänglich
und die übrigen
Flächen
(Kanten und Rückseite)
sind durch das Gehäusematerial 5 geschützt. Das
Gehäusematerial 5 bildet
nun eine Platte, die als neue Substratscheibe oder als eine andere
Form (beispielsweise eine rechteckige Anordnung) zum Aufbringen
der Umverdrahtungsstruktur 7 dienen kann, wozu ein herkömmliches
lithographisches Verfahren und geeignete Auftragsverfahren wie Galvanisieren,
Sputtern oder Drucken eingesetzt werden kann. Das Aufbringen der Lötstoppschicht 9 und
der Lotkugeln 8 auf der neuen Substratscheibe kann ebenfalls
vor dem Trennen der Bausteine durchgeführt werden. Die Bausteine können durch
ein bekanntes und häufig
verwendetes Säge-
oder anderes Trennverfahren getrennt werden.
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Nach
dem Trennen der in dem Trägersubstrat
ausgebildeten Bausteine können
diese in einem Testverfahren getestet werden. In diesem Fall können die
durch das oben beschriebene Verfahren erzeugten ungetesteten stapelbaren
eingehäusten Bausteine
vor dem Aufeinanderstapeln zu den erfindungsgemäßen Multichip-Bausteinen auf
korrekte Funktionalität
hin getestet werden.
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Zum
Herstellen des Bausteinstapels werden dann nur die stapelbaren Bausteine
verwendet, die als korrekt funktionierend in dem Testverfahren ermittelt
wurden. Dies ermöglicht
es, auf das Testen von nackten Chips (bare dies) zu verzichten,
das zeitaufwendig ist und eine aufwendige Testausrüstung erfordert.
Auf diese Weise kann das Testen der Bausteine kostengünstiger
durchgeführt
werden, ohne eine Verringerung der Ausbeute beim Herstellen eines
Bausteinstapels zu riskieren.
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Das
erfindungsgemäße Verfahren
stellt eine verbesserte Technik zur Herstellung eines eingehäusten Bausteins
zur Verfügung,
wobei der eingehäuste
Baustein Durchkontaktierungen umfasst, die zum Vorsehen einer elektrischen
Verbindung mit weiteren eingehäusten
Bausteinen, die auf dem eingehäusten
Baustein gestapelt sind, dienen. Um das Kontaktelement auf dem Trägersubstrat
vorzusehen, kann eine Reihe von Techniken eingesetzt werden, ohne
dabei Rücksicht
auf die Kompatibilität
mit bereits vorhandenen Strukturen und vorhergehenden Verfahrensschritten
nehmen zu müssen.
Das Entfernen des Trägersubstrats
hinterlässt
einen Baustein mit geringer Höhe,
die etwa in Höhenbereichs
des Chips 4 variiert, so dass ein Bausteinstapel mit den gemäß dem oben
beschriebenen Verfahren hergestellten stapelbaren Bausteinen im
Vergleich zu herkömmlichen
Bausteinstapeln, die Zwischenelemente und/oder Spacer und/oder Umverdrahtungsschichten
und/oder Drahtverbindung (mit zusätzlicher Isolierung) aufweisen,
eine wesentlich verringerte Höhe hat.
Darüber
hinaus ist es vorteilhaft, dass ein Chip eingehäust sein kann, um so einen
stapelbaren Baustein zu erhalten, ohne vorher einen Test an einem nicht
eingehäusten
Baustein (bare die) durchführen zu
müssen,
da die erfindungsgemäßen Verfahrensschritte
kostengünstig,
und das Testen der korrekten Funktion des einzelnen Chips 4 nach
dem Einhäusen des
einzelnen Chips in dem stapelbaren Baustein einfacher durchgeführt werden
kann, so dass das Verwerfen des stapelbaren eingehäusten Bausteins keine
zusätzlichen
Kosten verursachen würde.
Daher ist es nicht mehr erforderlich, zum effizienten Aufbauen eines
Bausteinstapels Chips zur Verfügung
zu stellen, deren korrekte Funktion überprüft wurde (Known Good Dies).
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In
den 3A bis 3E sind
Verfahrensstände
eines weiteren Verfahrens zur Herstellung eines stapelbaren Bausteins
gemäß einer
weiteren Ausführungsform
der Erfindung dargestellt. Das dort dargestellte Verfahren unterscheidet
sich von dem Verfahren der ersten Ausführungsform dadurch, dass sich
die Verfahrensschritte, die mit Bezug zu den 1A bis 1E durchgeführt werden,
ohne das vorherige Aufbringen der Kontaktelemente erfolgt. Es werden
dabei auf ein Trägersubstrat,
das gemäß Verfahrensstand 3A (vergleichbar
zu Verfahrensstand der 1A) mit einer lösbaren Schicht 21 auf
einen festen Untergrund 22 zur Verfügung gestellt wird, ausgegangen.
Darauf wird ein Chip 24 mit einem elektronischen Schaltkreis
aufgebracht (Verfahrensstand der 3B), der
anschließend
mit einem Gehäusematerial 25 bedeckt
wird (Verfahrensstand der 3C). Anschließend wird
das Trägersubstrat 21, 22 entfernt,
und es verbleibt ein in das Gehäusematerial 25 eingebetteter
Chip 24, dessen aktive Oberfläche, d.h. die Oberfläche, über die
die elektronischen Schaltkreise, die darin integriert sind, kontaktierbar
sind, bündig
mit einer ersten Oberfläche 31 des
Bausteins verläuft
(Verfahrensstand der 3D). Anschließend werden,
wie in 3E dargestellt ist, Durchgangslöcher 26 durch
das Gehäusematerial 25 durch
Bohren, Stanzen oder Prägen oder
einen sonstigen geeigneten Prozess hergestellt, wobei die Durchgangslöcher an
einer Stelle in dem Gehäusematerial 25 gebildet
werden, an der sich nicht der Chip 4 befindet.
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Wie
in 3F gezeigt ist, wird anschließend eine Umverdrahtungsstruktur 2,
die eine Leiterbahn aufweist, auf die erste Oberfläche 31 des
Bausteins aufgebracht, sodass die elektronischen Schaltkreise des
Chips 4 über
Leiterbahnen der Umverdrahtungsstruktur 7 mit einem Bereich
nahe dem Durchgangsloch 26 verbunden werden. Eine solche
Leiterbahn ist in der perspektivischen Ansicht der unteren Abbildung
der 3F gut erkennbar. Der entsprechende Bereich der
Umverdrahtungsstruktur 27 ist im gezeigten Ausführungsbeispiel
als voll- oder teilkreisförmiger
Bereich um die Durchgangsöffnung
angeordnet. Auch andere Anordnungen des Bereiches sind denkbar.
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Wie
in 3G gezeigt werden anschließend die Durchgangsöffnungen 26 mit
einem elektrisch leitenden Material gefüllt, sodass die Kontaktelemente 23 in
Form von Durchkontaktierungen gebildet werden. Die Durchkontaktierungen
stehen über
die erste Oberfläche 31 des
Bausteins bzw. über
eine der ersten Oberfläche
gegenüberliegende
zweite Oberfläche 32 hervor
und bilden Kontaktstrukturen, mit denen der so gebildete stapelbare
Baustein extern kontaktierbar ist. Insbesondere kann der über die
entsprechende Oberfläche
des Bausteins hervorstehende Abschnitt des Kontaktelementes 23 pilzförmig ausgebildet
sein, sodass dieser über
die Ränder
der Durchgangsöffnungen 26 überstehen,
sodass ein besserer Halt des Kontaktelementes in der Durchgangsöffnung 26 gewährleistet
ist. Insbesondere ermöglicht
das Überstehen
des hervorstehenden Abschnitts des Kontaktelements eine Kontaktierung
mit dem entsprechenden Kontaktierungsbereich der Umverdrahtungsstruktur 27,
sodass das Kontaktelement 23 mit den elektronischen Schaltkreisen
der Chips 4 in geeigneter Weise über die Umverdrahtungsstruktur 27 in
Verbindung steht. Die Kontaktelemente 23 weisen vorzugsweise
ebene Enden auf, sodass eine Kontaktierung mit einem weiteren stapelbaren
Baustein bzw. mit einer geeigneten Kontaktfläche z.B. auf einer Leiterplatte
in einfacher Weise durchführbar
ist.
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Vorzugsweise
werden die Kontaktelemente 23 auf einen flexiblen bzw.
elastischen Kontaktmaterial hergestellt, sodass eventuelle Höhenunterschiede
beim Ausbilden der Kontaktelemente 23 durch einen geeigneten
Anpressdruck der Kontaktelemente 23 auf einer entsprechenden
Fläche
die Höhenunterschiede
ausgleicht und eine sichere Kontaktierung aller Kontaktelemente
mit den entsprechenden Kontaktflächen
ermöglicht.
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In
der Draufsicht der unteren Abbildung der 3G ist
eine beispielhafte Anordnung der Durchgangsöffnungen 26 und der
darin befindlichen Kontaktelemente 23 ersichtlich. Im Übrigen wird
auch bei dieser Ausführungsform
des erfindungsgemäßen Verfahrens,
das eine Vielzahl von stapelbaren Bausteinen auf dem Baustein-Substrat
angeordnet werden können,
wobei die nachfolgenden Verfahrensschritte für jeden herzustellenden Baustein
gemeinsam durchgeführt
werden, sodass eine erhebliche Vereinfachung des Herstellungsverfahrens
zum Einhäusen
der Chips erreicht werden kann.
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In 4A und 4B sind
zwei Beispiele dargestellt, wie zwei stapelbare Bausteine, deren Kontaktelemente über beide
gegenüberliegende Oberflächen des
Bausteins hervorstehen, miteinander kontaktiert werden können. In
der 4A erkennt man, dass die Kontaktelemente 23 von
zwei benachbarten stapelbaren Bausteinen mit ebenen Endflächen 40 ausgebildet
sind, die möglichst
aufeinander aufgesetzt werden müssen,
um einen Kontakt zwischen den Kontaktelementen der benachbarten stapelbaren
Bausteine zu erreichen. In 4B erkennt
man, dass die Endflächen
der Kontaktelemente der stapelbaren Bausteine mit einem Profil 33 ausgestattet
sind, wobei in dem gezeigten Beispiel der hervorstehende Abschnitt
des Kontaktelements 23 über
der ersten Oberfläche
konvex und der hervorstehende Abschnitt des Kontaktelements über der zweiten
Oberfläche
des Bausteins konkav ausgebildet ist. Werden nun Bausteine mit derartig
ausgebildeten Kontaktelementen aufeinandergesetzt, so fügen sich
die Abschnitte der Kontaktelemente mit konkaver und konvexer Struktur
ineinander und ermöglichen
so einen Halt der stapelbaren Bausteine gegenseitiges Verrutschen
oder Verschieben. Weiterhin kann bei einem solchen Profil eine Selbstausrichtung erfolgen.
Anstelle eines konkaven bzw. konvexen Profils der Kontaktelemente 23 können auch
andere vertikale Profile an den Endflächen der Kontaktelemente 23 vorgesehen
werden. Darunter fallen auch eine angeraute Endfläche, die
eine erhöhte
Reibung gegenüber
einer weiteren Kontaktfläche
oder Endfläche
eines weiteren Kontaktelements bewirkt.
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In
den 5A und 5B ist
ein Bausteinstapel mit zwei stapelbaren Bausteinen 35 dargestellt,
bei denen jeder der stapelbaren Bausteine 35 zwei Reihen
mit Kontaktelementen 23 auf zwei Chipseiten aufweist, um
eine ausreichende Anzahl von Kontaktierungen des Chips zur Verfügung zu
stellen. Die Kontaktelemente 23 sind beispielhaft zweireihig und
vorzugsweise zueinander versetzt angeordnet, um beim Herstellen
einen ausreichenden Abstand der Durchgangsöffnungen 26 in dem
Gehäusematerial 25 zu
gewährleisten,
sodass die Materialintegrität beim
Herstellen der Löcher
nicht beeinträchtig
wird. Das heißt,
durch die versetzte Anordnung wird erreicht, dass beim Herstellen
der Löcher
kein Ausbrechen von Gehäusematerial 25 erfolgt,
da ein Mindestabstand zu einer benachbarten Durchgangsöffnung eingehalten
wird.
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In
den 6A und 6B sind
zwei Möglichkeiten
dargestellt, die nötige
Kontaktkraft der stapelbaren Bausteine beim Bilden eines Bausteinstapels
zu gewährleisten.
In 6A ist dargestellt, dass zwei stapelbare Bausteine 35 mit
jeweils doppelten Reihen von Kontaktelementen übereinander auf eine Leiterplatte
gestapelt sind. Die Kontaktelemente sind übereinander angeordnet, sodass
diese aufeinander aufgesetzt sind, wobei jedes Kontaktelement 23 des einen
stapelbaren Bausteins 35 ein entsprechendes Kontaktelement 23 des
jeweils anderen stapelbaren Bausteins 35 kontaktiert. Der
Bausteinstapel ist auf entsprechende Kontaktflächen auf einer Leiterplatte 36 aufgesetzt,
sodass über
Leiterbahnen auf der Leiterplatte die stapelbaren Bausteine elektrisch
kontaktiert werden können.
Auf den freien Endflächen
der Kontaktelemente des obersten stapelbaren Bausteins ist eine
Klammer 37 aufgesetzt, die im Wesentlichen L-förmig ausgebildet
ist, und durch entsprechende Löcher 38 in
der Leiterplatte 36 geführt sind.
Die Klammer 37 steht unter Spannung und drückt mit
einer Kontaktkraft F auf den obersten Baustein des Bausteinstapels.
Die Klammer ist vorzugsweise nicht elektrisch leitend ausgeführt oder
mit einem nicht elektrisch leitenden Material beschichtet, sodass
zwischen den Kontaktelementen 23 kein Kurzschluss auftritt.
Auf der dem Bausteinstapel gegenüberliegenden
Seite der Leiterplatte 36 können die Klammern 37 in
geeigneter Weise befestigt werden, zum Beispiel durch Verschrauben,
durch Umbiegen, durch Verkleben, durch eine Schnappverbindung oder
ein ähnliches
Befestigungsverfahren.
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In
der 6B ist eine weitere Möglichkeit dargestellt, die
Kontaktkraft auf den Bausteinstapel aufzubringen. Dabei wird eine
Umklammerung 39 des Bausteinstapels vorgesehen, bei dem
eine Oberseite auf den Endflächen
der Kontaktelemente 23 des obersten Bausteins des Bausteinstapels
aufliegt und den Bausteinstapel mit der Kontaktkraft F aufgrund
einer vorgesehenen Vorspannung zusammendrückt. Aufgrund der elastischen
Ausführung
der Kontaktelemente 23 können Höhenunterschiede der hervorstehenden
Abschnitte der Kontaktelemente 23 ausgeglichen werden.
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Die
beiden Ausführungsformen 6A und 6b sind
mögliche
Klemmvarianten. Andere Klemmvarianten sind möglich.
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Die
in den 6A und 6B beschriebenen
Stapelvarianten sind vorzugsweise geeignet für den leichten Austausch einzelner
Bausteine des Stapels (auch elektrisch leicht lösbare Verbindung), zum Beispiel
zum Zwecke der Reparatur des Bausteinstapels. Dabei muss der Stapel
keiner thermischen Belastung ausgesetzt werden und die anderen Bausteine
stehen für
einen erneuten Bausteinstapel wieder zur Verfügung.
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In
den 7A bis 7D ist
ein weiteres Verfahren zur Herstellung eines stapelbaren Bausteins
gemäß einer
weiteren Ausführungsform
der Erfindung dargestellt. In 7A wird
ein nicht elektrisch leitendes Gehäusematerial 45 in
Form einer Substratscheibe bereitgestellt, dass gemäß dem Verfahrensstand
der 7B mit Durchgangslöchern 46 und einer
Ausnehmung 48 zur Aufnahme eines Chips versehen wird. Die
Durchgangslöcher 46 können durch
Bohren, Prägen
oder Stanzen oder einen ähnlichen
Prozess hergestellt werden und die Ausnehmung 48 für den Chip
durch Fräsen
oder einen sonstigen Abtragungsprozess, der ebenfalls aus dem Stand
der Technik bekannt ist. In weiteren Verfahrensschritten werden
ein Chip 44 in die Ausnehmung 48 eingebracht,
und mit einem geeigneten Fixiermittel, z.B. einem Kleber fixiert.
Ein Freiraum zwischen den Rändern
der Ausnehmung und dem Chip 44 wird durch ein Füllmittel 49 ausgefüllt, sodass
eine ebene feste Oberfläche 51 des
Bausteins entsteht. Die Durchgangsöffnungen 46 werden
mit einem elektrisch leitenden Material gefüllt, sodass Kontaktelemente 43 geschaffen
werden. Die Kontaktelemente 43 sind so ausgebildet, dass
sie über
die Oberflächen des
Bausteins 35 hervorstehen. Vorzugsweise wird, wie in der
vorgeschriebenen Ausführungsform,
als Material für
die elektrisch leitenden Kontaktelemente ein elastisches elektrisch
leitendes Material gewählt, sodass
mit den hervorstehenden Abschnitten der Kontaktelemente 43 eine
Kontaktierung mit entsprechenden Kontaktflächen möglich ist und sodass Unebenheiten
und Höhenunterschiede
der vorstehenden Abschnitte in einfacher Weise ausgeglichen werden
können.
Der nachfolgende Verfahrensstand der 7D zeigt
das Aufbringen der Umverdrahtungsstruktur 47, die die elektronischen
Schaltkreise des Chips 44 mit den Kontaktelementen 43 in
geeigneter Weise mit Hilfe von Leiterbahnen verbindet. Auch auf diese
Weise lässt
sich ein stapelbarer Baustein herstellen, wobei der Chip 44 im
Wesentlichen nicht dem Wärmeprozess
des Aufbringens des Gehäusematerials
ausgesetzt ist. Als Materialien für die Kontaktelemente sind
die gleichen Materialien verwendbar, wie bereits in Verbindung mit
der ersten und der zweiten Ausführungsform
beschrieben wurden. Auch die Vorgehensweise zur Herstellung von
mehreren stapelbaren Bausteinen mit den 7A bis 7D verdeutlichten
Herstellungsprozess gilt das zu den Verfahren der vorgehend beschriebenen
Ausführungsformen
Gesagte entsprechend.