DE10162965A1 - Wälzlager und Lagereinheit - Google Patents

Wälzlager und Lagereinheit

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DE10162965A1 DE2001162965 DE10162965A DE10162965A1 DE 10162965 A1 DE10162965 A1 DE 10162965A1 DE 2001162965 DE2001162965 DE 2001162965 DE 10162965 A DE10162965 A DE 10162965A DE 10162965 A1 DE10162965 A1 DE 10162965A1
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Abstract

Ein Wälzlager (10) weist Laufflächen (11, 12), die eine Laufrille (15, 16) besitzen, und Wälzelemente (13), die eine Wälzkontaktfläche besitzen, auf, worin mindestens die Laufrille (15, 16) der Laufflächen (11, 12) eine maschinenbearbeitete Oberfläche besitzt, und eine Oberflächenschicht (11a, 12a) ist auf der maschinenbearbeiteten Oberfläche durch elektrochemisches oder chemisches Auflösen der maschinenbearbeiteten Oberfläche gebildet, wodurch Kontamination erheblich vermindert ist.

Description

    Hintergrund der Erfindung Technisches Gebiet der Erfindung
  • Die vorliegende Erfindung bezieht sich auf ein Wälzlager und eine Lagereinheit, die in technischen Gebieten wie Informationsverarbeitende Ausrüstung, Luft- und Raumfahrt, Flugzeugen und Halbleitern verwendet werden.
  • Beschreibung des Standes der Technik
  • Um bei einem Wälzlager den Verschleißwiderstand zu verbessern und die Erzeugung von Staubpartikeln zu vermindern, wurden die folgenden Verfahren als Verfahren zum Fertigpolieren der Laufringflächen vorgeschlagen.
  • Die japanische Patentveröffentlichung Nr. Toku Kai Sho 62-24956 schlägt ein Verfahren der Verwendung eines mit kubischem Boronnitrid (CBN) Reibkorn-beschichteten Überdeckungsbandes vor, um die Laufringrille (Laufringfläche) zu überdecken.
  • Die japanische Patentveröffentlichung Nr. Toku Kai Hei 3-84218 schlägt ein Verfahren zum Fertigschleifen der umlaufenden Siegelrille der Laufringe gleichzeitig mit dem Fertigschleifen der inneren Laufringfläche und der äußeren Laufringfläche mittels desselben Schleifmittels vor.
  • In jüngster Zeit sind Wälzlager, die einen sehr hohen Verschleißwiderstand, eine geringe Erzeugung von Staubpartikeln, einen hohen Widerstand gegenüber Beschädigung und gute akustische Eigenschaften aufweisen, sowie eine geringe Verschlechterung infolge Vibration und eine geringe Änderung im Drehmoment besitzen, gewünscht. Beispielsweise gibt es einen großen Bedarf, eine geringe Erzeugung von Staubpartikeln (Verminderung der Kontamination) in Wälzlagern zu haben, die in informationsverarbeitenden Vorrichtungen wie Festplatten (HDD) verwendet werden, oder in Luft- und Raumfahrtvorrichtungen wie künstlichen Satelliten. Es besteht das Bedürfnis nach der Entwicklung von Wälzlagern, welche diese strikten Anforderungen erfüllen.
  • Herkömmlicherweise war es möglich, die Kontamination durch Waschen während des Zusammenbauverfahrens nach dem Oberflächenfertigbearbeiten zu vermindern, allerdings ist es schwierig, die Kontamination mittels dieses Verfahrens weiter zu vermindern.
  • Dennoch ist es durch Verbessern der fertig bearbeiteten Oberflächen, wie der Laufringoberflächen, möglich, die Kontamination weiter zu vermindern. Allerdings wird in dem Oberflächenfertigbearbeitungsverfahren, das in der japanischen Patentveröffentlichung Nr. Tokai Kai Sho 62-24956 beschrieben ist, das Fertigbearbeiten durch maschinelles Bearbeiten durchgeführt, so dass es schwierig ist, sehr kleine Grate von den maschinenbearbeiteten Oberflächen zu entfernen, und es ist schwierig, verbleibende Schleifmittel zu entfernen, insbesondere anhaftendes, stachelartiges Schleifmittel. Weiterhin ist es schwierig, geringe Grate zu entfernen, selbst durch Durchführen von Ultrallschallreinigung über eine lange Zeitperiode.
  • Das in der japanischen Patentveröffentlichung Nr. Toku Kai Hei 3-84218 beschriebene Verfahren zur Oberflächenfertigbearbeitung ist effektiv beim Entfernen großer Grate und Schlicks, allerdings, da das Fertigbearbeiten durch maschinelle Bearbeitung durchgeführt wird, ist es schwierig, verbleibendes Schleifmittel zu entfernen, insbesondere anhaftendes, stachelartiges Schleifmittel.
  • Zusammenfassung der Erfindung
  • Unter Berücksichtigung der oben beschriebenen Nachteile ist es eine Aufgabe der vorliegenden Erfindung, ein Wälzlager bereitzustellen, in welchem die Kontamination erheblich vermindert ist.
  • Kurze Beschreibung der Zeichnungen
  • Fig. 1 ist eine Querschnittsansicht, um einen Teil eines Lagers in einer ersten Ausführungsform der vorliegenden Erfindung zu zeigen.
  • Fig. 2 ist eine Querschnittsansicht, um einen Teil eines Lagers in einer zweiten Ausführungsform der vorliegenden Erfindung zu zeigen.
  • Fig. 3 (A) und Fig. 3(B) sind Flussdiagramme, um die Herstellungsschritte der vorliegenden Erfindung zu erläutern.
  • Fig. 4 ist ein Graph, um ein Ausführungsbeispiel der vorliegenden Erfindung mit einem Vergleichsbeispiel zu vergleichen.
  • Ausführliche Beschreibung bevorzugter Ausführungsformen
  • Das Wälzlager der vorliegenden Erfindung weist eine Lauffläche, die eine Laufrille besitzt, und Wälzelemente, die eine Wälzkontaktfläche besitzen, auf; und eine Oberflächenschicht ist auf mindestens dem Laufrille der Laufflächen durch Maschinenbearbeiten von mindestens der Oberfläche der Laufrille und durch elektrochemisches oder chemisches Auflösen der maschinenbearbeiteten Oberfläche zum Bilden der Oberflächenschicht gebildet.
  • Elektrolytisches Schleifen, chemisches Schleifen, elektrolytisches Kompositschleifen oder chemisches Kompositschleifen können als Beispiele des Verfahrens zum elektrochemischen oder chemischen Auflösen der maschinenbearbeiteten Oberfläche angeführt werden.
  • In der vorliegenden Erfindung ist es bevorzugt, dass die maschinenbearbeitete Oberfläche feinst fertigbearbeitet ist (super finished), bevor die elektrochemische oder chemische Bearbeitung durchgeführt wird.
  • Auch ist in der vorliegenden Erfindung die Oberflächenschicht durch elektrochemisches oder chemisches Auflösen der maschinenbearbeiteten Oberfläche von mindestens der Laufrille der Laufflächen gebildet. Insbesondere wird durch Bilden von Oberflächenschichten über die gesamten Laufflächen durch Maschinenbearbeiten der gesamten Laufflächen und anschließendes elektrochemisches oder chemisches Auflösen der maschinenbearbeiteten Oberflächen die Kontaminierung entfernt, und daher ist es möglich, die Kontaminierungsverminderung weiter zu verbessern.
  • Anstelle der Verwendung mechanischer Einrichtungen entfernt die vorliegende Erfindung die Kontamination durch elektrochemisches oder chemisches Auflösen von kleinen Partikeln (Kontamination), wie Reibmittel, das auf der maschinenbearbeiteten Oberfläche der Laufflächen verbleibt. Durch Durchführen elektrochemischer oder chemischer Bearbeitung auf diese Weise ist es möglich, jegliche Unebenheit der maschinenbearbeiteten Laufflächen zu entfernen und Oberflächen mit sehr geringer Rauhigkeit zu erzeugen. Es ist für kleine Partikel schwierig, an Oberflächen mit geringer Rauhigkeit zu haften, so dass es möglich ist, jegliche anhaftenden Kleinpartikel durch Abwaschen zu entfernen. Dies ermöglicht es ebenso, während des Zusammenbaus des Lagers zu verhindern, dass jegliche Kleinstpartikel in das Innere des Lagers eingebracht werden.
  • Wenn die vorliegende Erfindung auf ein Verfahren zum Herstellen eines Wälzlagers, das Laufflächen, die eine Laufrille besitzen, und Wälzelemente, die eine Wälzkontaktfläche besitzen, aufweist, anzuwenden, ist es beispielsweise möglich, Schleifen und anschließendes Feinstfertigbearbeiten (super finishing) auf der Oberfläche der Laufrille durchzuführen, dann die Oberflächenschicht mindestens auf der Laufrille der Laufflächen durch elektrochemisches oder chemisches Auflösen der Maschinenbearbeiteten Oberfläche zu bilden, und dann die Laufflächen zu waschen, bevor die Laufflächen mit den übrigen Teilen des Lagers zusammengebaut werden.
  • In der japanischen Patentveröffentlichung Nr. Toku Kai Hei 6-173958 wird vorgeschlagen, dass elektrolytisches Kompositschleifen oder chemisches Kompositschleifen für die Oberfläche eines ausgestanzten Behälters durchgeführt wird. Allerdings gibt die Schrift keinen Hinweis auf das Durchführen elektrochemischen Bearbeitens oder chemischen Bearbeitens von Laufflächen. Auch berücksichtigt dieselbe Veröffentlichung in keinster Weise sehr kleine Grate auf maschinenbearbeiteten Oberflächen von Laufrillen, wie sie in der vorliegenden Erfindung berücksichtigt werden. Die Technologie in derselben Veröffentlichung ist in keinster Weise in der Lage, die Kontamination zu vermindern, wie dies durch die vorliegende Erfindung erhalten wird.
  • In der japanischen Patentveröffentlichung Nr. Toku Hyo 2000-511267 wird ein Durchführen elektrochemischen Bearbeitens von Laufflächen vorgeschlagen. Allerdings bezieht sich die in dieser Veröffentlichung verwendete Technologie auf die Form der Elektrode und ist von der vorliegenden Erfindung vollständig unterschiedlich. Dieselbe Veröffentlichung gibt keinen Hinweis und bezieht sich nicht auf das Durchführen elektrochemischen Bearbeitens der Laufflächen nach Feinstfertigbearbeiten (super finishing) der Laufflächen. Auch ist es innerhalb der Technologie derselben Veröffentlichung nicht möglich, eine Oberflächenschicht über den gesamten Laufflächen durch elektrochemisches oder chemisches Auflösen der maschinenbearbeiteten Oberflächen der Laufflächen zu bilden.
  • Das Wälzlager der vorliegenden Erfindung ist bestens zur Verwendung in informationsverarbeitenden Vorrichtungen wie einer Festplatte (HDD) oder in rotierenden Teilen in künstlichen Satelliten geeignet. Einige Beispiele rotierender Teile in künstlichen Satelliten schließen ein: Schwungräder, Ausfahrmechanismen und Motoren für Solarbatteriesegel, Antennenausfahrmechanismen, Stellantriebe für Andockmechanismen, und Roboterarmbetätiger, Radiometer, Schalter, etc.
  • Eine weitere Zielrichtung der vorliegenden Erfindung ist eine Wälzlagereinheit, die eine rotierende Welle eines Schwungrades zur Fluglageregelung eines künstlichen Satelliten und ein Wälzlager, das zum Lagern der rotierenden Welle vorgesehen ist und mit einer Laufrille gebildete Laufflächen und mit einer Wälzkontaktfläche gebildete Wälzlagerelemente besitzt, aufweist, worin eine maschinenbearbeitete Oberfläche auf mindestens der Laufrille der Laufflächen gebildet ist und eine Oberflächenschicht auf der maschinenbearbeiteten Oberfläche durch elektrochemisches oder chemisches Auflösen der maschinenbearbeiteten Oberfläche gebildet ist.
  • Die bevorzugten Ausführungsformen der Erfindung werden basierend auf den Zeichnungen beschrieben. Fig. 1 zeigt eine erste Ausführungsform des Wälzlagers (Schrägkugellager) 10, das einen Innenring 11, eine Außenring 12, eine Vielzahl von Kugeln 13, die zwischen dem Innen- und Außenring 11, 12 angeordnet sind, und einen Halter 14 zum Halten der Kugel 13 in gleichmäßigen Abständen entlang der Umfangsrichtung aufweist. Der Innen- und Außenring 11, 12 und die Kugel 13 sind aus rostfreiem Martensitstahl (SUS440C) oder dergleichen hergestellt. Eine Rille 15, die als Innenringlaufrille funktioniert, ist auf der äußeren Umfangsfläche des Innenrings 11 gebildet, und eine Rille 16, die als Außenringlaufrille funktioniert, ist auf der inneren Umfangsfläche des Außenrings 12 gebildet.
  • Die Ausführungsform bezieht sich auf ein Wälzlager für ein Schwungrad zur Fluglagenregelung eines künstlichen Satelliten.
  • Um die Fluglage eines künstlichen Satelliten zu regeln, wird ein Verfahren zum Installieren eines Schwungrades in dem Satelliten und zum Aufbringen eines Reaktionsdrehmoments auf den Satelliten durch Verändern der rotationellen Winkelgeschwindigkeit des Schwungrads verwendet. Für das Wälzlager 10 des Schwungrades zum Regeln der Fluglage eines künstlichen Satelliten ist zusätzlich zu Verschleißwiderstand und geringer Stauberzeugung in einem Vakuum, ein geringes Drehmoment, ein Halten der Veränderung des Drehmoments auf einem Minimum und eine hohe Lebensdauer erwünscht. Um diese Anforderungen zu erfüllen ist es erforderlich, stabil eine Minimalmenge an Schmieröl zu dem Lager zu fördern.
  • Bei dieser Art von Wälzlager 10 wird die Schmierung, bevor die Schmierung von einer externen Schmierölquelle zu dem Lager gefördert wird, durch eine sehr geringe Menge an Schmieröl durchgeführt. Allerdings tritt während dieser Zeit Abnutzung in den Laufrillenflächen und den Wälzflächen auf. Selbst bei geringer Abnutzung breitet sich diese Abnutzung aus und es tritt Kontamination nach langen Betriebszeiträumen in der besonderen Umgebung des Raumes auf, was es schwierig macht, die Funktion des Wälzlagers aufrechtzuerhalten.
  • Allerdings sind in dieser Ausführungsform die gesamten Oberflächen der Innenringe 11 und Außenringe 12 maschinenbearbeitet, spezifisch feinstfertigbearbeitet (super finished), und Oberflächenschichten 11a, 11b sind über den gesamten feinstfertigbearbeiteten Oberflächen des Innenrings 11 und des Außenrings 12 durch elektrochemisches oder chemisches Auflösen der feinstfertigbearbeiteten Oberflächen gebildet, so dass nur geringe Kontamination auftritt.
  • Durch elektrochemisches oder chemisches Bearbeiten der maschinenbearbeiteten, insbesondere feinstfertigbearbeiteten Oberflächen, ist es möglich, kleine Schleifgrate, Superfinishgrate (Riff) und anhaftendes Schleifmittel vollständig zu entfernen. Dadurch ist es möglich, ein Anschlagen der Grate und Riffe während des Wälzens der Kugel 13 zu beseitigen, und daher ist es ebenso möglich, das Auftreten stempelförmiger Einkerbungen zu verhindern.
  • Darüber hinaus ist es durch Durchführen elektrochemischen oder chemischen Bearbeitens in dieser Weise möglich, die Unebenheit der maschinenbearbeiteten Oberflächen zu beseitigen und eine Oberfläche mit sehr geringer Rauhigkeit zu schaffen. Für kleine Partikel ist es schwierig, an Oberflächen mit sehr geringer Rauhigkeit zu haften, so dass es möglich ist, jegliche anhaftenden Kleinpartikel leicht durch Waschen zu beseitigen. Dies ermöglicht es ebenso auszuschließen, dass jegliche Kleinpartikel in das Innere des Lagers während des Zusammenbaus des Lagers eindringen.
  • Fig. 2 zeigt das Wälzlager 20 einer zweiten Ausführungsform der Erfindung. In dieser Ausführungsform, zusätzlich zum Bilden von Oberflächenschichten 11a, 12a über die gesamten Oberflächen des Innenrings 11 und des Außenrings 12 durch Maschinenbearbeiten der gesamten Oberflächen und anschließendes elektrochemisches oder chemisches Auflösen der maschinenbearbeiteten Oberflächen, sind ebenso Oberflächenschichten 23a über die gesamten Oberflächen der Kugeln 23 durch Maschinenbearbeiten der gesamten Oberflächen und anschließendes elektrochemisches oder chemisches Auflösen der maschinenbearbeiteten Oberflächen gebildet.
  • Als nächstes wird das Verfahren zum Herstellen des Wälzlagers der vorliegenden Erfindung basierend auf Fig. 3a erläutert, welche das Herstellungsverfahren für das Wälzlager der vorliegenden Erfindung zeigt. Fig. 3(B) zeigt das Herstellungsverfahren für ein herkömmliches Wälzlager.
  • Wie in Fig. 3(A) dargestellt, wird in dem Herstellungsverfahren der vorliegenden Erfindung elektrolytisches Kompositschleifen durchgeführt, nachdem ein Feinstfertigbearbeiten (super finishing) der Rillen durchgeführt worden ist. Es ist bevorzugt, dass Öl mittels Azeton oder dergleichen entfernt wird, bevor das elektrolytische Kompositschleifen durchgeführt wird. Selbst wenn es eine Halteperiode zwischen dem Feinstfertigbearbeitungsverfahren und dem elektrolytischen Kompositschleifverfahren gibt, ist keine besondere Sorgfalt wie Eintauchlagern der Laufflächen (Arbeit) erforderlich, um diese vor Trocknen zu schützen. In dem elektrolytischen Kompositschleifverfahren wird elektrolytisches Kompositschleifen der gesamten Oberflächen des Innen- und Außenrings durchgeführt, das heißt die Außendurchmesseroberfläche, die Innendurchmesseroberfläche, die Laufrillenoberflächen, die Siegelrille, und alle abgerundeten Abschnitte. Dabei ist es bevorzugt, dass die Rauhigkeit der bearbeiteten Oberflächen Rmax 0,3 µm oder weniger beträgt.
  • Nach dem elektrolytischen Kompositschleifen wird leichtes Waschen mittels Ultraschallwaschen mit reinem Wasser durchgeführt, um die Elektrolyte und Kleinpartikel zu entfernen. Es ist schwer für Partikel, an Oberflächen zu haften, an welchen das elektrolytische Kompositschleifverfahren durchgeführt worden ist, und da das Entfernen derartiger Partikel einfach ist, kann die Waschzeit auf ein Fünftel bis ein Zehntel im Vergleich zu dem herkömmlichen Verfahren vermindert werden, in welchem die Laufflächen vor dem Zusammenbau gewaschen werden.
  • Weiterhin, da sehr wenig Partikel an den Oberflächen haften und es sehr geringe Kontamination innerhalb des Lagers gibt, nachdem das Lager zusammengebaut ist, ist ein Waschen nach dem Zusammenpassen und Zusammenbauen nicht erforderlich, und es ist möglich, zu dem Verfahren zum Aufbringen von Schmieröl fortzuschreiten.
  • In dem in Fig. 3(B) dargestellten herkömmlichen Verfahren wird unmittelbar nach dem Feinstfertigbearbeiten der Rillen ein Bürstenwaschen und Ultrallschallwaschen durchgeführt, um das Schleiffluid und Schleifreste zu entfernen. Weiterhin, um zu verhindern, dass Partikel in das Innere des Lagers gelangen, werden die Laufflächen wiederholt mit Ultraschallwaschen vor dem Zusammenpassen und Zusammenbauen gewaschen. Dann wird das zusammengebaute Lager erneut gründlich gewaschen, bevor zu dem Verfahren zum Aufbringen von Schmieröl fortgeschritten wird.
  • Wie aus der obigen Erläuterung ersichtlich ist, wird in dem in Fig. 3(A) dargestellten Herstellverfahren der vorliegenden Erfindung das Waschverfahren erheblich vereinfacht.
  • Beispiel
  • Ein aus SUS440C hergestellter Außenring wurde vorbereitet und elektrolytisches Kompositschleifen wurde darauf durchgeführt. Nachdem eine geeignete Menge an Partikeln an der Oberfläche haftete, wurde der Außenring gewaschen. Das Waschen wurde durch Eintauchen des Außenrings in eine saubere Lösung und anschließendes Beschallen mit Ultraschallwellen durchgeführt. Nach jedem spezifischen Intervall von Ultraschallwellen wurden die Partikel, welche eine Größe von 1 µm oder größer besitzen und in die Lösung abgegeben wurden, durch einen Partikelzähler in der Lösung gezählt. Die Oberflächenrauhigkeit Rmax des Außenrings, für welchen das elektrolytische Kompositschleifverfahren durchgeführt wurde, betrug 0,3 µm für die Innendurchmesserfläche und Außendurchmesserfläche und 0,27 µm für die Endflächen.
  • Als Vergleich wurde ein aus SUS440C hergestellter Außenring vorbereitet, ohne dass elektrolytisches Kompositschleifen an diesem vorgenommen wurde. Nachdem eine geeignete Menge an Partikeln an der Oberfläche haftete, wurde der Außenring gewaschen und die Partikel wurden gezählt. Die Oberflächenrauhigkeit Rmax des Außenrings, an welcher elektrolytisches Kompositschleifen nicht durchgeführt wurde, betrug 0,9 µm für die Innendurchmesserfläche und Außendurchmesserfläche, und 0,5 µm für die Endflächen.
  • Die Ergebnisse des Partikelzählens sind in Fig. 4 dargestellt.
  • Wie in Fig. 4 deutlich zu sehen ist, wurde für die Teile, die mit elektrolytischem Kompositschleifen bearbeitet wurden, die Partikelzahl in kurzer Zeit vermindert, und nach näherungsweise 15 Minuten ist die Anzahl an Partikeln näherungsweise zu derjenigen in der Lösung selbst vermindert und die an dem Außenring haftenden Partikel waren entfernt. Andererseits war es für die Teile, die nicht mit elektrolytischen Kompositschleifen behandelt waren, nicht möglich, einen Teil der Partikel von dem Außenring zu entfernen, selbst nach dauerndem Waschen für eine lange Zeitperiode.
  • Für Teile, die nicht mit elektrolytischem Kompositschleifen bearbeitet waren, war es nicht nur schwer, die Partikel zu entfernen, sondern es hafteten auch bereits entfernte Partikel erneut an der Oberfläche, so dass in der Lösung enthaltene Partikel anwuchsen und abnahmen, und es war nicht möglich, die Anzahl an Partikeln zu vermindern. Andererseits, für diejenigen, die mit elektrolytischen Kompositschleifen behandelt wurden, waren die Partikel leicht zu entfernen und es war schwer für Partikel, die bereits von der Oberfläche entfernt waren, erneut an diesen zu haften, so dass es möglich war, die Anzahl an Partikeln in kurzer Zeit zu vermindern.
  • Die vorliegende Erfindung ist nicht auf die oben beschriebenen Ausführungsformen und Beispiele beschränkt und kann in geeigneter Weise verändert und verbessert werden. Beispielsweise ist es möglich, das Wälzlager dieser Erfindung zu kombinieren, um ein Kombinationslager zu bilden. Auch kann das technologische Konzept dieser Erfindung auf alle Teile der Lagereinheit zusätzlich zu den Laufflächen und Wälzelementen angewendet werden.
  • Wie oben beschrieben ist es mit der vorliegenden Erfindung möglich, ein Wälzlager bereitzustellen, bei welchem die Kontamination erheblich vermindert ist.
  • Figurenbeschriftung Fig. 3(A)
  • Schleifen der Laufrille
  • Feinstfertigbearbeiten der Laufrille (super finishing)
  • Elektrolytisches Kompositschleifen der Lauffläche
  • Waschen
  • Zusammenpassen und Zusammenbau
  • Schmieren und Einfügen eines Siegels
  • Fig. 3(B)
  • Schleifen der Laufrille
  • Feinstfertigbearbeiten der Rille
  • Waschen
  • Waschen der Teile vor dem Zusammenbau
  • Zusammenpassen und Zusammenbau
  • Waschen des zusammengebauten Produkts
  • Schmieren und Siegeleinfügen

Claims (2)

1. Wälzlager, das eine Lauffläche, die eine Laufrille besitzt, und Wälzelemente, die eine Wälzkontaktfläche besitzen, aufweist, wobei mindestens die Laufrille der Laufflächen eine maschinenbearbeitete Oberfläche besitzt, in welcher eine Oberflächenschicht mittels elektrochemischen oder chemischen Auflösen der maschinenbearbeiteten Oberfläche gebildet ist.
2. Wälzlagereinheit, die aufweist eine rotierende Welle eines Schwungrades zur Fluglagenregelung eines künstlichen Satelliten, und ein Wälzlager, das zum Lagern der rotierenden Welle vorgesehen ist und mit einer Laufrille gebildete Laufflächen und mit einer Wälzkontaktfläche gebildete Wälzelemente besitzt, wobei mindestens die Laufrille der Laufflächen eine maschinenbearbeitete Oberfläche besitzt, in welcher eine Oberflächenschicht mittels elektrochemischem oder chemischem Auflösen der maschinenbearbeiteten Oberfläche gebildet ist.
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