DE10043585A1 - Lochmaske, zugehöriges Plattenteil, und Verfahren zur Herstellung einer Lochmaske - Google Patents

Lochmaske, zugehöriges Plattenteil, und Verfahren zur Herstellung einer Lochmaske

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Hiromitsu Ochiai
Akira Makita
Hirofumi Hideshima
Takuya Ogio
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Abstract

Eine Lochmaske wird aus einem Plattenteil hergestellt, welches einen äußeren Gestellabschnitt aufweist, einen Körperabschnitt einer Lochmaske, der eine äußere Umfangslinie aufweist, die durch einen Ätzprozeß ausgebildet wird, und mehrere Verbindungsabschnitte, durch welche der Körperabschnitt der Lochmaske durch den äußeren Gestellabschnitt gehaltert wird. Die Lochmaske wird aus dem Plattenteil dadurch hergestellt, daß der äußere Gestellabschnitt von dem Körperabschnitt der Lochmaske entfernt wird. Bei diesem Prozeß wird ein Bruchabschnitt bei der Lochmaske dadurch ausgebildet, daß der äußere Gestellabschnitt entfernt wird, so daß der Bruchabschnitt nach innen gegenüber der äußeren Umfangslinie der Lochmaske ausgenommen ausgebildet ist.

Description

HINTERGRUND DER ERFINDUNG
Die vorliegende Erfindung betrifft eine Lochmaske für eine Braun'sche Röhre (Kathodenstrahlröhre), ein Plattenteil für die Lochmaske, sowie ein Verfahren zur Herstellung der Lochmaske. Insbesondere betrifft die vorliegende Erfindung eine Lochmaske, die so aufgebaut ist, daß sie das Vorhandensein eines Fremdkörpermaterials verhindert, oder dann, wenn das Fremdkörpermaterial dennoch vorhanden ist, verhindert, daß dieses herunterfällt, betrifft ein Plattenteil für eine derartige Lochmaske, und ein Verfahren zur Herstellung der Lochmaske.
Normalerweise wird eine Lochmaske aus einem ursprünglichen Metallplattenmaterial oder -teil hergestellt, das nachstehend als "Plattenteil für eine Lochmaske" bezeichnet wird. Das Plattenteil besteht aus einer Lochmaske (Lochmaskenkörper) und einem äußeren Gestellteil, an welchem die Lochmaske über mehrere Verbindungsabschnitte gehaltert wird, wobei ein Körper der Lochmaske über einen Ätzprozeß mit einer äußeren Umfangslinie versehen wird, welche das Plattenteil durchdringt. Dann wird das äußere Gestellteil durch Biege- oder Zugbearbeitung entfernt. Bei dieser Bearbeitung wird die äußere Umfangslinie der Lochmaske durch den Ätzprozeß hergestellt, und werden die mehreren Verbindungsabschnitte intermittierend als nicht durchdringende Abschnitte ausgebildet. Daher wird die Lochmaske durch das äußere Gestellteil des Plattenteils über diese Verbindungsabschnitte gehaltert.
Das äußere Gestellteil wird abgebrochen und dann von dem Plattenteil entfernt, und zwar durch Knicken und Biegen des äußeren Gestellteils, oder Ausüben einer Zugkraft auf dieses, wodurch man die Lochmaske (Lochmaskenkörper) erhält.
Mit der so erhaltenen Lochmaske werden dann verschiedene Prozesse durchgeführt, und danach wird sie an der Braun'schen Röhre angebracht, um ihre Aufgabe oder Auswirkungen als Lochmaske zu erfüllen.
In der vorliegenden Beschreibung ist der Begriff "äußere Umfangslinie" so definiert, daß er eine Linie des extrem äußeren Umfangsabschnitts der Lochmaske bezeichnet, welche durch den Ätzprozeß hergestellt wird, unabhängig von der Form des extrem äußeren Umfangsabschnitts.
In der japanischen Patentveröffentlichung Nr. SHO 63-888, der japanischen Offenlegungsschrift Nr. HEI 4-71138, der japanischen offengelegten Patentanmeldung Nr. HEI 8-31317 und der japanischen offengelegten Patentanmeldung Nr. HEI 11-73876 sind Verfahren zur Herstellung einer Lochmaske durch Entfernen der Lochmaske von einem Plattenteil beschrieben, an welchem ein Lochmaskenkörper vorhanden ist. Die herkömmlichen Verfahren dienten dazu, eine Verformung eines effektiven Abschnitts der Lochmaske zu verhindern, und wirksam das äußere Gestellteil dadurch zu entfernen, daß ein Halbätzprozeß bei den Verbindungsabschnitten durchgeführt wurde, so daß die Verbindungsabschnitte einfach brechen, und zur Verbesserung des Vorgangs des Entfernens des äußeren Gestells.
Bei jedem der herkömmlichen Lochmaskenherstellungsverfahren bleibt ein Abschnitt oder bleiben Abschnitte übrig, welche eine im wesentlichen konvexe (vorspringende) Farm aufweisen, nämlich an den Verbindungsabschnitten an einem Ort außerhalb der äußeren Umfangslinie der Lochmaske. Ein derartiger, vorspringender Abschnitt kann einen negativen Einfluß auf Prozesse nach dem Entfernungsvorgang des äußeren Gestellteils oder -abschnitts ausüben.
Beispielsweise bei einem Vorgang, bei welchem die Lochmaske druckbeaufschlagt wird, um sie so in eine vorbestimmte Form zu bringen, die zulässig ist, um an die Braun'sche Röhre angebracht zu werden, berührt der vorspringende, übrigbleibende Abschnitt des Verbindungsabschnitts eine Metallform der Presse und fällt als der Fremdkörper (als metallisches Stück oder metallische Spitze) herunter, und falls die Lochmaske an der Braun'schen Röhre angebracht wird, während der Fremdkörper an einem Ätzloch der Lochmaske anhaftet, wird die Qualität der Braun'schen Röhre nach deren Herstellung beeinträchtigt.
ZUSAMMENFASSUNG DER ERFINDUNG
Ein Vorteil der vorliegenden Erfindung besteht in der Ausschaltung von Fehlern oder Nachteilen, die bei dem voranstehend geschilderten Stand der Technik auftraten, und in der Bereitstellung einer Lochmaske, die so aufgebaut ist, daß dann, wenn die Lochmaske an einer Braun'schen Röhre angebracht wird, das Auftreten eines Fremdkörpers verhindert wird, oder verhindert werden kann, daß bei Vorhandensein des Fremdkörpers dieser herunterfällt, in der Bereitstellung eines Plattenteils für eine derartige Lochmaske, und in der Bereitstellung eines Verfahrens zur Herstellung der Lochmaske.
Diese und weitere Vorteile der vorliegenden Erfindung können dadurch erzielt werden, daß gemäß einer Zielrichtung eine Lochmaske zur Verfügung gestellt wird, die aus einem Plattenteil ausgebildet wird, welches einen äußeren Gestellabschnitt aufweist, einen Körperabschnitt einer Lochmaske, bei welchem eine äußere Umfangslinie über einen Ätzprozeß ausgebildet wird, und mehrere Verbindungsabschnitte, durch welche der Körperabschnitt der Lochmaske durch den äußeren Gestellabschnitt gehaltert wird, wobei die Lochmaske so ausgebildet wird, daß der äußere Gestellabschnitt von dem Körperabschnitt der Lochmaske entfernt wird, wobei ein Bruchabschnitt bei der Lochmaske dadurch ausgebildet wird, daß das äußere Gestell so entfernt wird, daß es von der äußeren Umfangslinie der Lochmaske aus nach Innen ausgenommen ist.
Bei bevorzugten Ausführungsformen dieser Zielrichtung wird der Bruchabschnitt dadurch ausgebildet, daß ein Halbätzprozeß bei einem vorbestimmten Abschnitt des Körperabschnitts der Lochmaske eingesetzt wird. Der Bruchabschnitt wird durch einen von Bruchprozessen ausgebildet, die zumindest einen Abknickprozeß, einen Zugprozeß und einen Abreißprozeß umfassen. Bei dem Bruchabschnitt ist ein Endabschnitt vorgesehen, der von der äußeren Umfangslinie aus nach innen ausgenommen ist, wobei die Entfernung auf einem Bereich von 10 bis 100 µm eingestellt ist.
Gemäß dieser Zielrichtung der Erfindung ist es möglich, da der durch Entfernen des äußeren Gestellabschnitts ausgebildete Bruchabschnitt innerhalb der äußeren Umfangslinie der Lochmaske konkav ausgebildet ist, in einem vorbestimmten Prozeß nach dem Entfernungsprozeß zu verhindern, daß der Bruchabschnitt abgerieben wird, und von der Lochmaske als Fremdkörper herunterfällt.
Da der halbgeätzte Abschnitt eine restliche geringe Dicke aufweist, ist es selbst im Falle des Abknickens des äußeren Gestellabschnitts, um den äußeren Gestellabschnitt abzubrechen, schwierig, Risse zu erzeugen, was es ermöglicht, das Herunterfallen eines Fremdkörpers zu verhindern.
Da der Bruchabschnitt konkav ausgebildet (ausgenommen) ist, und zwar innerhalb in Bezug auf die äußere Umfangslinie, ist es möglich, das Ausmaß der Freiheit für die Auswahl eines der Verfahren zum Entfernen des äußeren Gestellabschnitts zu erhöhen, wodurch die Lochmaske effektiv hergestellt werden kann.
Da der Endabschnitt des Bruchabschnitts nach innen von der äußeren Umfangslinie aus ausgenommen ist, so daß die Entfernung zwischen dem Endabschnitt des Bruchabschnitts und dem äußeren Umfangsabschnitt auf einem Bereich von 10 bis 100 µm eingestellt ist, ist es möglich zu verhindern, daß sich das metallische Teilchen an einem anderen Teil reibt, und dann herunterfällt.
Bei einer anderen Zielrichtung der vorliegenden Erfindung wird ein Plattenteil für eine Lochmaske zur Verfügung gestellt, welches aufweist:
eine Lochmaske, die eine äußere Umfangslinie aufweist, die deren Außenkontur angibt, wobei die äußere Umfangslinie durch einen Ätzprozeß erzeugt wird;
einen äußeren Gestellabschnitt zum Haltern der Lochmaske;
mehrere Verbindungsabschnitte, durch welche die Lochmaske durch den äußeren Gestellabschnitt gehaltert wird; und
einen Abschnitt, der abgebrochen werden soll, und an einer Lochmaskenseite an einem Abschnitt innerhalb der äußeren Umfangslinie der Lochmaske vorgesehen ist.
Bei einer bevorzugten Ausführungsform bei dieser Zielrichtung ist der abzubrechende Abschnitt so angeordnet, daß er dem Verbindungsabschnitt gegenüberliegt. Der abzubrechende Abschnitt weist eine vorbestimmte Länge in einer Richtung entlang der äußeren Umfangslinie auf, wobei die vorbestimmte Länge des abzubrechenden Abschnitts im wesentlichen gleich der Länge des gegenüberliegenden Verbindungsabschnitts in der Richtung entlang der äußeren Umfangslinie ist. Mit dem abzubrechenden Abschnitt wird ein Halbätzprozeß durchgeführt. Der abzubrechende Abschnitt wird mit einem mittleren Abschnitt versehen, der eine im wesentlichen konkave Form aufweist.
Der Abschnitt, mit welchem der Halbätzprozeß durchgeführt werden soll, weist eine Breite in einer Richtung orthogonal zur Richtung der äußeren Umfangslinie auf, und eine Zentrumslinie der Breite liegt innerhalb der äußeren Umfangslinie, so daß eine Entfernung zwischen der äußeren Umfangslinie und der Zentrumslinie größer als 25 µm und nicht größer als 100 µm ist.
Der abzubrechende Abschnitt ist ein Abschnitt, der einen Bruchabschnitt der Lochmaske bildet, von welcher der äußere Gestellabschnitt entfernt wird.
Gemäß einer anderen Zielrichtung der vorliegenden Erfindung wird der Bruchabschnitt konkav auf einer inneren Seite der äußeren Umfangslinie der Lochmaske ausgebildet, da der abzubrechende Abschnitt, der beim Entfernen des äußeren Gestellabschnitts abgebrochen wird, auf einer Lochmaskenseite in Bezug auf die Verbindungsabschnitte und eine Innenseite der äußeren Umfangslinie der Lochmaske ausgebildet wird. Daher kann in einem vorbestimmten Prozeß nach dem Entfernungsprozeß verhindert werden, daß sich der Bruchabschnitt an einem anderen Teil reibt, so daß er nicht als Fremdkörper herunterfällt.
Da die vorbestimmte Länge des abzubrechenden Abschnitts gleich der Länge des gegenüberliegenden Verbindungsabschnitts in der äußeren Umfangslinie ist, tritt der durch Entfernen des äußeren Gestellabschnitts auftretende Bruch selektiv unmittelbar innerhalb des Verbindungsabschnitts auf, also an einer Innenseite der Lochmaske, so daß es möglich ist, den Bruchabschnitt an einem Ort an der Innenseite in Bezug auf die äußere Umfangslinie der erhaltenen Lochmaske auszubilden.
Darüber hinaus wird der äußere Gestellabschnitt selektiv an dem halbgeätzten Abschnitt abgebrochen, damit er von der Materialplatte entfernt wird. Die Zentrumslinie der Breite liegt an der Innenseite der äußeren Umfangslinie, so daß die Entfernung zwischen der äußeren Umfangslinie und der Zentrumslinie größer als 25 µm und nicht größer als 100 µm ist, so daß selbst dann, wenn der Bruchabschnitt durch einen der Prozesse unter den Abknickprozessen, den Zugprozessen und den Abreißprozessen entfernt wird, es möglich ist, den Bruchabschnitt an der Innenseite der äußeren Umfangslinie der erhaltenen Lochmaske auszubilden.
Bei einer weiteren Zielrichtung der vorliegenden Erfindung wird weiterhin ein Verfahren zur Herstellung einer Lochmaske mit folgenden Schritten zur Verfügung gestellt:
Bereitstellung eines Plattenteils, welches eine Lochmaske aufweist, bei welcher eine äußere Umfangslinie durch einen Ätzprozeß ausgebildet wird, einen äußeren Gestellabschnitt zum Haltern der Lochmaske, mehrere Verbindungsabschnitte, über welche die Lochmaske durch den äußeren Gestellabschnitt gehaltert wird, und einen abzubrechenden Abschnitt, der auf der Lochmaskenseite an einem Abschnitt innerhalb der äußeren Umfangslinie der Lochmaske vorgesehen ist; Entfernen des äußeren Gestellteils von dem Plattenteils durch einen der Bruchprozesse, welche zumindest einen Abknickprozeß, einen Zugprozeß und einen Abreißprozeß umfassen, der bei den abzubrechenden Abschnitt eingesetzt wird.
Bei dieser Zielrichtung kann das Plattenteil aus einer dünnen Metallplatte dadurch hergestellt werden, daß bei dieser ein Ätzprozeß eingesetzt wird.
Gemäß einer weiteren Zielrichtung der vorliegenden Erfindung wird der äußere Gestellabschnitt des Plattenteils durch einen der Prozesse entfernt, welche den Abknickprozeß, den Zugprozeß und den Abreißprozeß umfassen, und ist es möglich, einfach die Lochmaske so herzustellen, daß verhindert wird, daß sich der Bruchabschnitt an einem anderen Teil reibt, so daß er nicht als Fremdkörper herunterfällt.
Die Eigenschaft und die weiteren charakteristischen Merkmale der vorliegenden Erfindung werden aus der folgenden Beschreibung unter Bezugnahme auf die beigefügten Zeichnungen noch deutlicher.
KURZBESCHREIBUNG DER ZEICHNUNGEN
In den beigefügten Zeichnungen ist:
Fig. 1 eine Aufsicht, welche ein Beispiel für ein Plattenteil für eine Lochmaske gemäß einer Ausführungsform der vorliegenden Erfindung zeigt;
Fig. 2 eine Darstellung eines Bereiches II in vergrößertem Maßstab von Fig. 1;
Fig. 3 eine Schnittansicht entlang einer Linie III-III von Fig. 2;
Fig. 4, welche die Fig. 4A bis 4C umfaßt, eine Darstellung zur Erläuterung von Prozessen eines Verfahrens zur Herstellung der Lochmaske gemäß einer anderen Ausführungsform der vorliegenden Erfindung;
Fig. 5, welche die Fig. 5A bis 5C umfaßt, eine vergrößerte Schnittansicht mit einer Darstellung der Formen von Abschnitten, die abgebrochen werden sollen, des Plattenteils;
Fig. 6 eine Aufsicht auf ein Beispiel für die Lochmaske gemäß der vorliegenden Erfindung;
Fig. 7 eine Darstellung eines Bereiches VII in vergrößertem Maßstab von Fig. 6;
Fig. 8 eine Schnittansicht entlang einer Linie VIII-VIII von Fig. 7;
Fig. 9 eine Aufsicht mit der Darstellung eines Verbindungsabschnitts (eines abzubrechenden Abschnitts), in vergrößertem Maßstab, eines Plattenteils, für eine herkömmliche Lochmaske;
Fig. 10 eine Aufsicht auf einen Bereich X, von welchem der Verbindungsabschnitt abgebrochen ist, der herkömmlichen Lochmaske; und
Fig. 11 eine Darstellung eines Bereiches XI in vergrößertem Maßstab von Fig. 10.
BESCHREIBUNG DER BEVORZUGTEN AUSFÜHRUNGSFORMEN
Die bevorzugten Ausführungsformen der vorliegenden Erfindung werden nachstehend unter Bezugnahme auf die beigefügten Zeichnungen beschrieben.
In den Fig. 1 bis 3 zeigt ein schraffierter Abschnitt in Fig. 2 einen Abschnitt, der abgebrochen werden soll, beispielsweise einen Abschnitt, mit welchem ein Halbätzprozeß durchgeführt wurde.
Eine Lochmaske wird aus einem ursprünglichen, plattenförmigen Material oder Teil 1 ausgebildet, welches hier als "Plattenteil 1" bezeichnet wird, und aus einem dünnen Metallplattenteil über einen Ätzprozeß hergestellt wird. Das Plattenteil 1 für Lochmasken besteht, wie in Fig. 1 gezeigt, aus einem Lochmaskenkörper (Lochmaske) 2, der eine äußere Umfangslinie 4 aufweist, einem äußeren Gestellabschnitt 3, und mehreren Verbindungsabschnitten 5, durch welche die Lochmaske 2 an dem äußeren Gestellabschnitt 3 gehaltert wird.
Das Plattenteil 1 ist mit Durchdringungsabschnitten 7 versehen, die innerhalb der Lochmaske 2 vorgesehen sind, und durch welche ein Elektronenstrahl hindurchgeht. Die Lochmaske 2 wird so hergestellt, daß der äußere Gestellabschnitt 3 von dem Plattenteil 1 entfernt wird.
Innerhalb der Lochmaske 2 ist ein Abschnitt 6 ausgebildet, der mehrere Schlitze (Öffnungen) aufweist.
Darüber hinaus ist die Lochmaske 2 an ihrem Umfangsabschnitt mit abzubrechenden Abschnitten 11 versehen, wie dies in Fig. 2 gezeigt ist. Die abzubrechenden Abschnitte 11 sind so angeordnet, daß sie dem jeweiligen Verbindungsabschnitt 5 gegenüberliegen, mit demselben Abstand wie bei den Verbindungsabschnitten.
Als nächstes wird im einzelnen der abzubrechende Abschnitt 11 erläutert.
Der abzubrechende Abschnitt 11 der Materialplatte 1 ist ein Abschnitt, der einen Bruchabschnitt 21 der Lochmaske 2 ausbildet, von welchem der entsprechende äußere Rahmenabschnitt 3 entfernt wird, wie dies in den Fig. 6 und 7 gezeigt ist. Gemäß der vorliegenden Erfindung ist, wie in Fig. 2 gezeigt, der abzubrechende Abschnitt 11 auf der Innenseite der äußeren Umfangslinie 4 der Lochmaske 2 vorgesehen. Da der abzubrechende Abschnitt 11 an diesem Ort der Lochmaske 2 vorgesehen ist, wird der Bruchabschnitt 21, wenn der entsprechende äußere Gestellabschnitt 3 von der Lochmaske 2 entfernt wird, an der Innenseite der äußeren Umfangslinie 4 der Lochmaske 2 ausgebildet, so daß er eine im wesentlichen konkave Form aufweist, etwa eine Ausnehmung. Dies führt dazu, daß bei einem Prozeß nach dem Abbrechprozeß keine Befürchtung besteht, daß sich der Bruchabschnitt 21 an einem anderen Teil reibt und dann abgeschält wird, oder als Fremdkörper (metallisches Teilchen) herunterfällt.
Der abzubrechende Abschnitt 11 kann dadurch auf der Lochmaske 2 vorgesehen werden, daß die Breite des Abschnitts 11 durch einen Halbätzprozeß dünn ausgebildet wird, oder durch Ausbildung verschiedener Schlitze auf dem Abschnitt 11. Da der so bearbeitete, abzubrechende Abschnitt 11 zum Teil eine geringe Festigkeit aufweist, werden die abzubrechenden Abschnitte 11 selektiv abgebrochen, wenn der äußere Gestellabschnitt 3 von dem Plattenteil 1 entfernt wird. Insbesondere ist es vorzuziehen, den Abschnitt 11 mittels Halbätzung auszubilden.
Daher ist, wie in Fig. 3 gezeigt, der abzubrechende Abschnitt 11 mit einem mittleren Abschnitt versehen, der eine im wesentlichen konkave Form aufweist. Der abzubrechende Abschnitt 11, mit welchem der Halbätzprozeß durchgeführt wird, weist daher eine ordnungsgemäße Festigkeit auf, während das Plattenteil 1 normal behandelt wird, aber wenn mit der Materialplatte 1 der Knick- oder Biegeprozeß oder der Zugprozeß durchgeführt wird, um den äußeren Gestellabschnitt 3 zu entfernen, ist es einfach, den Abschnitt 11 des Plattenteils 1 abzubrechen, da sich die Beanspruchung auf diesen Abschnitt 11 konzentriert.
Es ist wünschenswert, selektiv den abzubrechenden Abschnitt 11 abzubrechen, wenn das äußere Gestellteil 3 von dem Plattenteil 1 entfernt wird, so daß, wie in Fig. 2 gezeigt, der Abschnitt 11 eine vorbestimmte Länge L in der äußeren Umfangslinie 4 aufweist, welche gleich einer Länge L' des gegenüberliegenden Verbindungsabschnitts 5 in der Umfangslinie 4 ist. Bei dem voranstehend geschilderten Aufbau des abzubrechenden Abschnitts 11 befindet sich der Abschnitt 11 unmittelbar an der Innenseite des gegenüberliegenden Verbindungsabschnitts 5, liegt also auf der Innenseite der Lochmaske 2 selbst, so daß der Bruchabschnitt 21 nach Abbrechen des Abschnitts 11, um den entsprechenden äußeren Gestellabschnitt 3 zu entfernen, konkav als Ausnehmung an der Innenseite der äußeren Umfangslinie 4 der Lochmaske 2 ausgebildet wird.
Darüber hinaus wird mit beiden Enden des Halbätzabschnitts, der auf dem abzubrechenden Abschnitt 11 ausgebildet wird (beide Enden des Abschnitts 11 in der Richtung der Länge L in Fig. 2) und bei beiden Enden des Verbindungsabschnitts 5 (beiden Enden des Verbindungsabschnitts 5 in der Richtung der Länge L' in Fig. 2) der Halbätzprozeß durchgeführt, um sie jeweils zu verbinden, wodurch es möglich ist, den Bruchabschnitt 21 konkav auszubilden, wenn der entsprechende äußere Gestellabschnitt 3 von der Lochmaske entfernt wird, und zwar an der Innenseite der äußeren Umfangslinie 4 der Lochmaske 2.
Wenn die Länge L des abzubrechenden Abschnitts 11 kleiner als die Länge L' des gegenüberliegenden Verbindungsabschnitts 5 ist, werden Abschnitte des Plattenteils 1, also deren Verbindungsabschnitte 5 abgebrochen, mit Ausnahme des abzubrechenden Abschnitts 11, so daß ein Endabschnitt jedes übrigbleibenden Verbindungsabschnitts konvex außerhalb der äußeren Umfangslinie 4 ausgebildet wird, und es daher schwierig ist, die voranstehend geschilderten Probleme zu lösen.
Wenn andererseits die Länge L des abzubrechenden Abschnitts 11 größer als die Länge L' des gegenüberliegenden Verbindungsabschnitts 5 ist, wird der bearbeitete, abzubrechende Abschnitt 11 durch den Verbindungsabschnitt 5 beim Entfernen des äußeren Gestellabschnitts 3 gezogen, so daß ein Endabschnitt des Bruchabschnitts 21 konvex als Vorsprung an der Außenseite der äußeren Umfangslinie 4 ausgebildet wird, und es ebenfalls schwierig ist, die voranstehend geschilderten Problem zu überwinden.
Darüber hinaus weist der Halbätzabschnitt, der auf dem abzubrechenden Abschnitt 11 ausgebildet werden soll, eine Breite in einer Richtung orthogonal zur Richtung der Länge L auf. Es ist wünschenswert, die Halbätzung so vorzunehmen, daß eine Zentrumslinie Y der Breite an der Innenseite der äußeren Umfangslinie 4 liegt, und die Entfernung zwischen der äußeren Umfangslinie 4 und der Zentrumslinie Y größer als 25 µm und nicht größer als 100 µm ist.
Obwohl sich der Ort des Bruches des abzubrechenden Abschnitts 11 entsprechend der Art des Prozesses ändert, der auf den abzubrechenden Abschnitt 11 einwirkt, tritt der Bruch des Abschnitts 11 hauptsächlich an einem Abschnitt in der Nähe der Zentrumslinie Y des Halbätzabschnitts auf, der auf dem Abschnitt 11 ausgebildet wird. Da der Halbätzabschnitt auf dem abzubrechenden Abschnitt 11 ausgebildet wird, so daß die Zentrumslinie Y der Breite des Abschnitts 11 innerhalb äußeren Umfangslinie 4 liegt, und die Entfernung zwischen der äußeren Umfangslinie 4 und der Zentrumslinie Y größer als 25 µm und nicht größer als 100 µm ist, ist es selbst dann, wenn der Endabschnitt 22 des Bruchabschnitts 21, der nach dem Abbrechen des Abschnitts 11 entsteht, länger ausgebildet wird, möglich zu verhindern, daß der Endabschnitt 22 des Bruchabschnitts 21 in Bezug auf die äußere Umfangslinie 4 nach außen hin vorspringt.
Wenn die Entfernung zwischen der äußeren Umfangslinie 4 und der Zentrumslinie Y wesentlich länger als 100 µm ist, besteht zwar keine Befürchtung, daß der Endabschnitt 22 des Bruchabschnitts 21 in Bezug auf die äußere Umfangslinie 4 konvex nach außen hin vorspringt, jedoch können sich die Lochmasken leicht an ihren ausgenommenen Endabschnitten 22 berühren, die jeweils nach den Bruchprozessen ausgebildet werden, wodurch die Möglichkeit besteht, daß Kratzer auf den Lochmasken hervorgerufen werden, oder Verformungen der Lochmasken. Bei dem Formprozeß besteht darüber hinaus die Befürchtung, daß eine Welligkeit der Form infolge des ausgenommenen Endabschnitts 22 hervorgerufen wird.
Wenn ein Zugprozeß bei dem abzubrechenden Abschnitt 11 eingesetzt wird, der durch den Halbätzprozeß ausgebildet wurde, um den Abschnitt 11 abzubrechen, wird vorzugsweise infolge der Tatsache, daß der Bruchabschnitt 21 durch die Stärke der Zugbeanspruchung gelängt wird, die Entfernung zwischen der äußeren Umfangslinie 4 und der Zentrumslinie Y so eingestellt, daß sie in einem Bereich von nicht mehr als 100 µm liegt.
Andererseits ist es wünschenswert, wenn der abzubrechende Abschnitt 11, der durch den Halbätzprozeß erzeugt wurde, abgeknickt wird, um den Abschnitt 11 abzubrechen, eine minimale Dicke T2 des Halbätzabschnitts, der auf dem abzubrechenden Abschnitt 11 ausgebildet wird, auf einen Bereich von 20 bis 40 µm einzustellen. Durch die Einstellung der minimalen Dicke T2 auf innerhalb des Bereiches zwischen 20 und 40 µm vor Entfernen des äußeren Gestellabschnitts 3 ist es möglich zu verhindern, daß die Lochmaske 2 einfach von dem Abschnitt 11 abbricht, um von diesem getrennt zu werden, und darüber hinaus wird, wenn der äußere Gestellabschnitt 3 von der Lochmaske 2 durch Abknicken des Abschnitts 11 entfernt wird, das Auftreten eines Risses bei dem Bruchabschnitt 21 verhindert.
Wenn die minimale Dicke T2 auf weniger als 20 µm eingestellt wird, besteht die Möglichkeit, daß vor dem Entfernen des äußeren Gestellabschnitts 3 die Lochmaske 2 leicht von dem Abschnitt 11 abbricht und sich von diesem trennt. Wenn andererseits die minimale Dicke T2 auf mehr als 40 µm eingestellt ist, besteht die Möglichkeit, daß beim Entfernen des äußeren Gestellabschnitts 3 häufig ein Riß bei dem Bruchabschnitt 21 hervorgerufen wird.
Wenn ein Zugprozeß bei dem abzubrechenden Abschnitt 11 eingesetzt wird, der durch den Halbätzprozeß erzeugt wurde, um den Abschnitt 11 abzubrechen, ist es vorzuziehen, die minimale Dicke T2 des Halbätzabschnitts, der auf dem Abschnitt 11 ausgebildet wird, der nahe an der Zentrumslinie Y liegt, auf einen Bereich von 15 bis 30% einer Breite T1 eines nicht geätzten Abschnitts der Materialplatte 1 einzustellen. Abhängig von der Einstellung der minimalen Dicke T2 vor Entfernen des äußeren Gestellabschnitts 3 ist es möglich, zu verhindern, daß die Lochmaske 2 leicht von dem Abschnitt 11 abbricht und sich von diesem trennt, und darüber hinaus kann beim Entfernen des äußeren Gestellabschnitts 3 von der Lochmaske 2 durch Abreißen des Abschnitts 11 verhindert werden, daß die äußere Umfangslinie 4 verformt wird.
Falls die minimale Dicke T2 auf weniger als 15% der Breite T1 des nicht geätzten Abschnitts eingestellt wird, besteht die Befürchtung, daß vor Entfernen des äußeren Gestellabschnitts 3 die Lochmaske 2 leicht von dem Abschnitt 11 abbricht, und sich so von diesem trennt. Wenn andererseits die minimale Dicke T2 auf mehr als 30% der Breite T1 des nicht geätzten Abschnitts eingestellt wird, ist es schwierig, beim Entfernen des äußeren Gestellabschnitts 3 den äußeren Gestellabschnitt 3 von der Lochmaske 2 abzureißen, so daß die Möglichkeit vorhanden ist, daß die äußere Umfangslinie 4 so verformt wird, daß sie im wesentlichen wellenförmig wird.
Wenn ein Zuprozeß bei dem abzubrechenden Abschnitt 11 eingesetzt wird, der durch den Halbätzprozeß erzeugt wird, um den Abschnitt 11 abzubrechen, ist es darüber hinaus wünschenswert, daß die gesamte Querschnittsfläche des auf dem Abschnitt 11 ausgebildeten Halbätzabschnitts klein ist, was es ermöglicht, den Abschnitt 11 einfach zum Entfernen des äußeren Gestellabschnitts 3 abzubrechen.
Wenn jedoch die Gesamtquerschnittsfläche des Halbätzabschnitts zu klein ist, bricht vor Entfernen des äußeren Gestellabschnitts 3 die Lochmaske 2 leicht von dem Abschnitt 11 ab, und trennt sich von diesem. Wenn andererseits die Gesamtquerschnittsfläche des Halbätzabschnitts zu groß ist, ist es erforderlich, eine hohe Bruchbeanspruchung zum Abbrechen des Abschnitts 11 einzusetzen, so daß beim Abbrechen des abzubrechenden Abschnitts 11 die Befürchtung besteht, daß die äußere Umfangslinie 4 verformt wird.
Der bevorzugte Bereich für die Gesamtquerschnittsfläche des Halbätzabschnitts ändert sich entsprechend der Festigkeit des Materials des abzubrechenden Abschnitts 11, und der Zugkraft des Basismaterials zum Zeitpunkt der Herstellung der Lochmaske, so daß der geeignetste Bereich für die Gesamtquerschnittsfläche des Halbätzabschnitts entsprechend den jeweiligen Bedingungen bei den Plattenteilen für die Lochmasken eingestellt wird.
Nachstehend werden die anderen Elemente für das Plattenteil 1 erläutert.
Die Verbindungsabschnitte 5 sind dazu vorgesehen, um zu verhindern, daß sich die Lochmaske 2 von dem Plattenteil 1 trennt, bei der Handhabung des Plattenteils 1. Die Verbindungsabschnitte 5, die jeweils die vorbestimmte Breite (Länge L') in der Umfangslinie 4 aufweisen, sind intermittierend so vorgesehen, daß sie die äußere Umfangslinie 4 kreuzen, und den abzubrechenden Abschnitten 11 gegenüberliegen. Daher werden mehrere Verbindungsabschnitte 5 und deren Breite L' individuell entsprechend den Vorgaben für die fertiggestellten Lochmasken 2 eingestellt.
In Fig. 9, die ein herkömmliches Beispiel zeigt, ist ein Verbindungsabschnitt 105, der für ein herkömmliches Plattenteil vorgesehen ist, als abzubrechender Abschnitt vorgesehen, so daß beispielsweise ein äußerer Gestellabschnitt 103 dadurch von dem Plattenteil entfernt werden kann, daß der Verbindungsabschnitt 105 abgeknickt wird, mit welchem der Halbätzvorgang durchgeführt wurde, und abgerissen wird.
Dagegen wird bei der vorliegenden Erfindung, der abzubrechende Abschnitt 11, der gegenüberliegend und in der Nähe des Verbindungsabschnitts 5 liegt, abgebrochen, so daß der äußere Gestellabschnitt 3 von dem Plattenteil 1 entfernt wird, um hierdurch die Lochmaske 2 zu erhalten. Daher unterscheiden sich der Aufbau des Plattenteils und der Prozeß zum Entfernen des äußeren Gestellabschnitts von dem Plattenteil deutlich von dem Aufbau der herkömmlichen Materialplatte und dem Prozeß zum Entfernen des äußeren Gestellabschnitts des herkömmlichen Plattenteils. Darüber hinaus ist die äußere Umfangslinie 4 eine Linie, welche die Außenkontur der Lochmaske 2 festlegt, und wird deren Form individuell entsprechend den Vorgaben für die fertiggestellte Lochmaske 2 eingestellt. Normalerweise wird, wenn der Abschnitt 6 ausgebildet wird, der die Schlitze oder Öffnungen auf der Lochmaske 2 aufweist, die äußere Umfangslinie 4 durch den Ätzprozeß hergestellt. Ein Teil der äußeren Umfangslinie 4 wird durch den Verbindungsabschnitt 5 blockiert, der zum Haltern der Lochmaske 2 vorgesehen ist. Bei der vorliegenden Erfindung wird unter der Annahme, daß eine virtuelle, äußere Umfangslinie vorgesehen ist, welche die äußere Umfangslinie 4 verlängert, eine Positionsbeziehung zwischen dem abzubrechenden Abschnitt 11 und der äußeren Umfangslinie 4 auf der Grundlage der Beziehung zur virtuellen äußeren Umfangslinie festgelegt.
Der äußere Gestellabschnitt 3 ist ein Abschnitt mit Ausnahme der erhaltenen Lochmaske 2 (Lochmaskenkörper), welcher die Lochmaske 2 haltern kann. Auf dem äußeren Gestellabschnitt 3 können entsprechend den Entfernungsprozessen Perforationen oder Halbätzabschnitte ausgebildet werden. Der Prozeß, der auf den äußeren Gestellabschnitt 3 einwirkt, ist nicht auf vorbestimmte Prozesse beschränkt, beispielsweise den Perforationsprozeß oder den Halbätzprozeß, und es ist möglich, einen geeigneten Prozeß bei dem äußeren Gestellabschnitt 3 entsprechend der Art des Entfernungsprozesses für die Lochmaske 2 einzusetzen. Obwohl das Verfahren gemäß der vorliegenden Erfindung bei jeder Lochmaske einsetzbar ist, wird es besonders bevorzugt in einem Fall eingesetzt, bei welchem für den Abschnitt 21 die Befürchtung besteht, daß er bei dem Lochmaskenbearbeitungsprozeß nach dem Entfernen des äußeren Gestellabschnitts 3 herunterfällt.
Nachstehend wird unter Bezugnahme auf die Fig. 4A bis 4C, welche ein Verfahren zur Herstellung der Lochmaske 2 gemäß der vorliegenden Erfindung zeigen, ein Verfahren zur Herstellung der Lochmaske erläutert.
Fig. 4A zeigt ein Verfahren zur Herstellung der Lochmaske 2 durch Ziehen des äußeren Gestellabschnitts 3 von jede Seite aus, um den äußeren Gestellabschnitt 3 von dem Plattenteil 1 zu entfernen. Bei diesem Verfahren wirkt auf den abzubrechenden Abschnitt 11 eine Zugbeanspruchung ein, so daß die Form (beim Bruch oder nach dem Abbrechen) des Abschnitts 11 normalerweise eine bestimmte Form entsprechend der Zugbruchbeanspruchung aufweist.
Fig. 4B zeigt ein Verfahren zur Herstellung der Lochmaske 2 durch Abknicken des äußeren Gestellabschnitts 3 nach oben und unten in Bezug auf das Plattenteil 1, um so den äußeren Gestellabschnitt 3 davon zu entfernen. Bei diesem Verfahren wirkt auf den abzubrechenden Abschnitt 11 eine Biegebeanspruchung ein, so daß die Bruchform des Abschnitts 11 normalerweise eine bestimmte Form aufweist, entsprechend der Biegebeanspruchung (Knickbeanspruchung).
Fig. 4C zeigt ein Verfahren zur Herstellung der Lochmaske 2 durch Abscheren des äußeren Gestellabschnitts 3, um den äußeren Gestellabschnitt 3 von dem Plattenteil 1 zu entfernen. Bei diesem Verfahren wirkt auf den abzubrechenden Abschnitt 11 eine Scherbeanspruchung ein, so daß die Bruchform des Abschnitts 11 normalerweise eine bestimmte Form entsprechend der Scherbeanspruchung aufweist.
Fig. 5 ist eine vergrößerte Schnittansicht, welche ein Beispiel für jede Bruchform zeigt, die durch jeden der Prozesse erhalten wird, die in den Fig. 4A bis 4C gezeigt sind. Fig. 5A zeigt die Bruchform des abzubrechenden Abschnitts 11 bei dem Zugbeanspruchungsprozeß. Fig. 5B zeigt die Bruchform des abzubrechenden Abschnitts 11 bei dem Abknickprozeß. Fig. 5C zeigt die Bruchform des abzubrechenden Abschnitts 11 bei dem Abreißprozeß.
In Fig. 5A wird der Endabschnitt 22 des Bruchabschnitts 21 verlängert, infolge der Einwirkung des Zugprozesses auf den abzubrechenden Abschnitt 11.
Gemäß der vorliegenden Erfindung kann der Bruchabschnitt 21 in jeder Bruchform so ausgebildet werden, daß er in Bezug auf die äußere Umfangslinie 4 der Lochmaske 2 nach innen ausgenommen ausgebildet ist.
Bei dem Verfahren zur Herstellung der Lochmaske gemäß der vorliegenden Erfindung ist es selbst im Falle des Einsatzes eines der Bruchprozesse, die in den Fig. 4A bis 4C gezeigt sind, möglich, da der Bruchabschnitt 21 konkav auf der Innenseite der äußeren Umfangslinie 4 der Lochmaske 2 ausgebildet wird, einfach die Lochmaske 2 herzustellen, mit welcher verhindert werden kann, daß ein Teil des Bruchabschnitts 21 ein anderes Teil berührt, so daß er nicht abgeschält wird und als Fremdkörper herunterfällt.
Schließlich wird unter Bezugnahme auf die Fig. 6 bis 8 die Lochmaske 2 erläutert.
Die Lochmaske 2 gemäß der vorliegenden Erfindung wird dadurch hergestellt, daß der äußere Gestellabschnitt 3 von dem Plattenteil 1 entfernt wird, welches mit dem Lochmaskenkörper (der Lochmaske) 2 versehen ist, bei welchem die äußere Umfangslinie 4 über den Ätzprozeß erzeugt wird, und mit dem äußeren Gestellabschnitt 3 versehen ist, um den Lochmaskenkörper durch die mehreren Verbindungsabschnitte 5 zu haltern. Als Plattenteil oder Lochmaske wird das Plattenteil 1 mit dem voranstehend geschilderten Aufbau verwendet, und als Verfahren zur Herstellung der Lochmaske 2 durch Entfernen des äußeren Gestellabschnitts 3 kann das voranstehend geschilderte, erläuterte Verfahren zur Herstellung einer Lochmaske eingesetzt werden.
Bei der Lochmaske 2, die durch das dargestellte Verfahren erhalten wird, wird der Bruchabschnitt 21, der bricht, wenn der entsprechende äußere Gestellabschnitt 3 von der Lochmaske 2 entfernt wird, konkav innerhalb der äußeren Umfangslinie 4 der Lochmaske 2 ausgebildet.
Im Vergleich zu dem Bruchabschnitt 21 gemäß der vorliegenden Erfindung wird in einem Bruchabschnitt 111 der herkömmlichen Lochmaske 102, wie dies in Fig. 10 gezeigt ist, deren Endabschnitt 112 konvex an der Außenseite der äußeren Umfangslinie 104 ausgebildet, so daß bei der Durchführung eines Prozesses mit der Lochmaske 2 nach dem Abbrechprozeß die Möglichkeit besteht, daß der Bruchabschnitt 111 abgerieben wird, und daher als Fremdkörper oder Teilchen herunterfällt.
Im Gegensatz hierzu besteht bei der Lochmaske gemäß der vorliegenden Erfindung, da der Bruchabschnitt 21 als Ausnehmung innerhalb der äußeren Umfangslinie 4 der Lochmaske 2 ausgebildet wird, keine Befürchtung, daß ein Teil des Bruchabschnitts 21 überhaupt als Fremdkörper herunterfällt.
Es ist wünschenswert, daß mit dem Bruchabschnitt 21 der Halbätzprozeß durchgeführt wird. Beim Entfernen des äußeren Gestellabschnitts von der herkömmlichen Lochmaske durch Abknicken des abzubrechenden Abschnitts werden nämlich, wie in Fig. 11 gezeigt, kleine Risse 121 an dem Bruchabschnitt 111 hervorgerufen, so daß die Möglichkeit besteht, daß die Risse 121 dazu führen, daß Fremdkörper von der Lochmaske herunterfallen.
Da bei der vorliegenden Erfindung jedoch die minimale Dicke T2 des Halbätzabschnitts, der auf dem Abschnitt 11 ausgebildet wird, und nahe an dessen Zentrumslinie Y liegt, auf einen geeigneten Wert eingestellt wird, wie dies in Fig. 2 gezeigt ist, konzentriert sich die Bruchbeanspruchung auf den abzubrechenden Abschnitt 11, mit welchem der Halbätzprozeß durchgeführt wurde, so daß er eine geringe Dicke aufweist, so daß der Bruchabschnitt 21 auf dem Abschnitt 11 ausgebildet wird. Daher treten kaum Risse bei dem Bruchabschnitt 21 auf, so daß während des vorbestimmten Prozesses zur Ausbildung der Lochmaske 2 keine Befürchtung besteht, daß sich ein Teil des Bruchabschnitts 21 an einem anderen Teil reibt, und als Fremdkörper herunterfällt.
Um zu verhindern, daß sich die Metallform an dem Bruchabschnitt 21 reibt, und so perfekt das Auftreten eines Fremdkörpers zu verhindern, ist es vorzuziehen, daß der Endabschnitt 22 des Bruchabschnitts 21 nach innen in Bezug auf die äußere Umfangslinie 4 der Lochmaske 2 ausgebildet wird, so daß die Entfernung zwischen dem Endabschnitt 22 des Bruchabschnitts 21 und der äußeren Umfangslinie 4 auf 10 µm oder mehr eingestellt wird.
Wenn die Tiefe des ausgenommenen Bruchabschnitts 21, also die Entfernung zwischen der äußeren Umfangslinie 4 und dem Endabschnitt 22 des Bruchabschnitts 21, also Y, kleiner ist als 10 µm, ist während des Bearbeitungsprozesses für die Lochmaske 2 nach dem Bruchprozeß die Möglichkeit vorhanden, daß sich die Metallform oder dergleichen an dem Bruchabschnitt 21 reibt, so daß ein Fremdkörper entsteht. Wenn andererseits die Tiefe des Endabschnitts 22 des ausgenommenen Bruchabschnitts 21 auf 100 µm oder mehr eingestellt wird, besteht die Befürchtung, daß eine Welligkeit der Form um den Bruchabschnitt 21 während des Bearbeitungsprozesses für die Lochmaske 2 nach dem Abbrechprozeß hervorgerufen wird, so daß es vorzuziehen ist, daß die Tiefe des Endabschnitts 22 des Bruchabschnitts 21 auf 100 µm oder weniger eingestellt wird.
Bei der Lochmaske gemäß der vorliegenden Erfindung nimmt der Bruchabschnitt 21 irgendeine der Bruchformen ein, entsprechend dem Abbrechen durch Biegen, dem Abbrechen durch Ziehen, und dem Abbrechen durch Abreißen. Jede der Bruchformen wird durch Verwendung eines der in Fig. 4 gezeigten Verfahren erhalten, und der Bruchabschnitt 21 wird innerhalb der äußeren Umfangslinie 4 der Lochmaske 2 ausgebildet. Es ist daher möglich, das Ausmaß der Freiheit in Bezug auf die Auswahl eines der Verfahren zum Entfernen des äußeren Gestellabschnitts 3 zu erhöhen, wodurch die Herstellung der Lochmaske 2 effizient wird.
Es ist insbesondere effizient, das Biegebruchverfahren (Abknickbruchverfahren) einzusetzen, das in der japanischen offengelegten Patentveröffentlichung Nr. HEI 4-71138 beschrieben wird, mit welchem mehreren Plattenteile gleichzeitig bearbeitet werden können, bei welchem jedoch infolge des Biegeprozesses leicht Risse bei dem Bruchabschnitt hervorgerufen werden. Bei dem Ausformprozeß für die Lochmaske reibt sich daher die Metallform, die bei dem Ausformprozeß verwendet wird, an dem Bruchabschnitt, so daß infolge der Risse die Metallteilchen leicht von der Lochmaske herunterfallen. Da bei der vorliegenden Erfindung der Bruchabschnitt 21 konkav ausgebildet wird, und mit ihm der Halbätzprozeß durchgeführt wird, so daß seine verbleibende Dicke klein wird, ist es möglich, das Auftreten der Risse zu kontrollieren, und zu verhindern, daß der Bruchabschnitt 21 ein anderes Teil wie beispielsweise die Metallform oder dergleichen berührt, und auch das Auftreten des Metallteilchens zu verhindern. Bei der vorliegenden Erfindung ist es daher möglich, das Bruchverfahren unter Verwendung des Biege- oder Abknickprozesses auszuwählen, welches beispielsweise in der japanischen offengelegten Patentveröffentlichung Nr. HEI 4-71138 beschrieben wird, als das effektivste Verfahren.
Beispiele, die im Zusammenhang mit der Ausführungsform der vorliegenden Erfindung durchgeführt wurden, werden nachstehend erläutert, um die vorliegende Erfindung genauer zu beschreiben.
Erstes Beispiel 1
Zuerst wurde eine dünne Metallplatte hergestellt, die aus einem Invar-Material mit einer Dicke von 120 µm bestand. Mit der dünnen Metallplatte wurde dann ein Ätzprozeß durchgeführt, so daß ein Plattenteil in Bezug auf die vorliegende Erfindung hergestellt wurde. Das Plattenteil 1 wurde mit der Lochmaske (Lochmaskenkörper) 2 versehen, welche die äußere Umfangslinie 4 aufweist, den Abschnitt 6 mit den Schlitzen und die Durchdringungsabschnitte 7, den äußeren Gestellabschnitt 3 und die Verbindungsabschnitte 5.
Darüber hinaus wurde das Plattenteil 1 mit dem abzubrechenden Abschnitt 11 versehen, und wurden die Abmessungen um den Abschnitt 11 so festgelegt, daß die Länge L' des Verbindungsabschnitts 10 mm beträgt, die Länge L des Halbätzabschnitts als abzubrechendem Abschnitt 10 mm beträgt, dessen Breite W 125 µm, die minimale Dicke T2 35 µm, und die Breite T5 des Durchdringungsabschnitts 7 der äußeren Umfangslinie 4 der Lochmaske 2 400 µm beträgt.
Mit der Materialplatte 1 wurde dann der Biegebruchprozeß durchgeführt, der in der japanischen offengelegten Patentveröffentlichung Nr. HEI 4-71138 beschrieben ist, welcher gleich dem in Fig. 4B gezeigten Bruchverfahren ist, so daß der äußere Gestellabschnitt 3 von dem Plattenteil 1 entfernt wurde, um den übrigbleibenden Körperabschnitt als die Lochmaske 2 zu erhalten.
Bei der so erhaltenen Lochmaske 2 wurde, wie in Fig. 7 gezeigt ist, der Bruchabschnitt 21 so ausgebildet, daß er nach innen in Bezug auf die äußere Umfangslinie 4 der Lochmaske 2 ausgenommen ist. Dann wurde die Tiefe des ausgenommenen Bruchabschnitts 21, also die Länge D zwischen der äußeren Umfangslinie 4 und dem Endabschnitt 22 des Bruchabschnitts 21, auf 27 µm eingestellt.
Dann wurde eine andere dünne Metallplatte aus Invar-Material mit einer Dicke von 120 µm hergestellt. Mit der dünnen Metallplatte wurde dann ein Ätzprozeß durchgeführt, so daß eine herkömmliche Art eines Plattenteils erzeugt wurde. Die herkömmliche Materialplatte wurde mit der Lochmaske (Lochmaskenkörper) 102 versehen, der die äußere Umfangslinie 104 aufwies, den Abschnitt 106 mit den Schlitzen und den Durchdringungsabschnitten 107, den äußeren Gestellabschnitt 103 und die Verbindungsabschnitte 105.
Weiterhin wurde bei dem Plattenteil der abzubrechende Abschnitt 111 erzeugt, und wurden die Abmessungen um den abzubrechenden Abschnitt 111 so festgelegt, daß die Länge L' des Verbindungsabschnitts 105 10 mm betrugt, dessen minimale Dicke T2 80 µm, und dessen Breite T5, also die Breite des Durchdringungsabschnitts 107 der äußeren Umfangslinie 104 der Lochmaske 2 200 µm betrug.
Mit der so erhaltenen Materialplatte wurde dann der Biegebruchprozeß durchgeführt, der in der japanischen offengelegten Patentveröffentlichung Nr. HEI 4-71138 beschrieben ist, und welcher dem in Fig. 4B gezeigten Bruchverfahren gleicht, so daß der äußere Gestellabschnitt 103 von dem Plattenteil 1 entfernt wurde, so daß man den übrigbleibenden Körperabschnitt als Lochmaske 102 erhielt.
Bei der so erhaltenen, herkömmlichen Lochmaske 102 wurde, wie in Fig. 10 gezeigt ist, der Bruchabschnitt 111 ausgebildet, der eine konvexe Form nach außen in Bezug auf die äußere Umfangslinie 104 der Lochmaske 102 aufwies. Hierbei wurde die Tiefe des konvexen Bruchabschnitts 111, also die Länge d zwischen der äußeren Umfangslinie 104 und dem Endabschnitt 112 des Bruchabschnitts 111, auf 80 µm eingestellt.
Diese Endabschnitte und deren Umgebung bei den erhaltenen Lochmasken 2 und 102 wurden von den Erfindern mit einem Elektronenmikroskop betrachtet, und es wurde bestätigt, daß bei der Lochmaske 2 gemäß der vorliegenden Erfindung das Ausmaß des Auftretens von Rissen extrem verringert war, verglichen mit der herkömmlichen Lochmaske 102.
Beim Vergleich der herkömmlichen Lochmaske 102 mit der Lochmaske 2 der vorliegenden Erfindung dadurch, daß ein Anstoßen gegen eine Formplatte aus Stahl durchgeführt wurde, wurde der äußere Endabschnitt 112 des Bruchabschnitts 111 der herkömmlichen Lochmaske 102 verformt, und wurde andererseits bestätigt, daß sich die Lochmaske 2 gemäß der vorliegenden Erfindung nicht verformte, und daß der Bruchabschnitt 21 nicht in Berührung mit der Formplatte gelangte.
Zweites Beispiel 2
Zuerst wurde eine dünne Metallplatte aus einem Invar-Material mit einer Dicke von 120 µm erzeugt. Mit der dünnen Metallplatte wurde dann ein Ätzprozeß durchgeführt, so daß ein Plattenteil in Bezug auf die vorliegende Erfindung hergestellt wurde. Die Materialplatte 1 wurde mit der Lochmaske (Lochmaskenkörper) 2 versehen, welcher die äußere Umfangslinie 4 aufwies, den Abschnitt 6 mit den Schlitzen und den Durchdringungsabschnitten 7, den äußeren Gestellabschnitt 3 und die Verbindungsabschnitte 5.
Weiterhin wurde bei der Materialplatte der abzubrechende Abschnitt 11 ausgebildet, und wurden die Abmessungen um den Abschnitt 11 herum so festgelegt, daß die Länge L' des Verbindungsabschnitts 5 10 mm betrug, die Länge L des Halbätzabschnitts als abzubrechender Abschnitt 10 mm betrug, dessen Breite W 115 µm, die Länge T3 zwischen der äußeren Umfangslinie 4 und der Zentrumslinie Y des Halbätzabschnitts 30 µm, die minimale Dicke T2 des Halbätzabschnitts 28 µm, und die Breite T5 des Durchdringungsabschnitts 7 der äußeren Umfangslinie 4 400 µm.
Mit der Materialplatte 1 wurde dann der in Fig. 4C gezeigte Abreißbruchprozeß durchgeführt, so daß der äußere Gestellabschnitt 3 von dem Plattenteil 1 entfernt wurde, um den übrigbleibenden Körperabschnitt als Lochmaske 2 zu erhalten.
Beim Abreißen des äußeren Gestellabschnitts 3, während der Lochmaskenkörper 2 an seiner Oberseite durch eine Halteplatte gehalten wurde, um so den Lochmaskenkörper 2 zu befestigen, wurde nur der äußere Gestellabschnitt 3 schräg nach oben zur Außenseite der Lochmaske 2 gezogen, so daß der abzubrechende Abschnitt 11 abbrach, und der äußere Gestellabschnitt 3 von der Lochmaske 2 entfernt wurde.
Bei der so erhaltenen Lochmaske 2 wurde, wie dies in Fig. 7 gezeigt ist, der Bruchabschnitt 21 so ausgebildet, daß er nach innen in Bezug auf die äußere Umfangslinie 4 der Lochmaske 2 ausgenommen ausgebildet ist. Dann wurde die konkave Länge D zwischen der äußeren Umfangslinie 4 und dem Endabschnitt 22 des Bruchabschnitts 21 auf 28 µm eingestellt. Daraufhin wurde eine andere dünne Metallplatte aus einem Invar-Material mit einer Dicke von 120 µm hergestellt. Mit der dünnen Metallplatte wurde dann ein Ätzprozeß durchgeführt, um ein Plattenteil für Vergleichszwecke zu erzeugen. Das Plattenteil für den Vergleich wurde mit der Lochmaske 2 versehen, welche die äußere Umfangslinie 4 aufwies, den Abschnitt 6 mit den Schlitzen und den Durchdringungsabschnitten 7, den äußeren Gestellabschnitt 3 und den Verbindungsabschnitten 5. ähnlich dem Plattenteil 1.
Weiterhin wurde bei dem Plattenteil der abzubrechende Abschnitt 11 ausgebildet, und wurden die Abmessungen um den abzubrechenden Abschnitt herum so festgelegt, daß die Länge L' des Verbindungsabschnitts 5 10 mm betrug, die Länge L des Halbätzabschnitts als Abschnitt 11 10 mm, die Breite W dieses Abschnitts 100 µm, die Länge T3 zwischen der äußeren Umfangslinie 4 und der Zentrumslinie Y des Halbätzabschnitts 30 µm, die minimale Breite T2 des Halbätzabschnitts 50 µm, und die Breite T5 des Durchdringungsabschnitts 7 der äußeren Umfangslinie 4 400 µm.
Mit dem Plattenteil für Vergleichszwecke wurde dann der in Fig. 4C gezeigte Abreißbruchprozeß durchgeführt, um den äußeren Gestellabschnitt 3 von dem Plattenteil 1 zu entfernen, und hierdurch den übrigbleibenden Körperabschnitt als Lochmaske 2 zu erhalten.
Beim Abreißen des äußeren Gestellabschnitts 3, während der Lochmaskenkörper 2 an seiner Oberseite durch eine Halteplatte gehaltert wurde, um den Lochmaskenkörper 2 zu befestigen, wurde nur der äußere Gestellabschnitt 3 schräg nach oben zur Außenseite der Lochmaske 2 gezogen, so daß der abzubrechende Abschnitt 11 brach, und der äußere Gestellabschnitt 3 von der Lochmaske 2 entfernt wurde.
Bei der so erhaltenen Lochmaske 2 für Vergleichszwecke wurde der Bruchabschnitt 21 so ausgebildet, daß er nach innen in Bezug auf die äußere Umfangslinie 4 der Lochmaske 2 ausgenommen ausgebildet wurde. Dann wurde die konkave Länge D zwischen der äußeren Umfangslinie 4 und dem Endabschnitt 22 des Bruchabschnitts 21 auf 40 µm eingestellt, jedoch war ein Teil der äußeren Umfangslinie 4 wellenförmig verformt.
Drittes Beispiel 3
Zuerst wurde eine dünne Metallplatte aus einem Invar-Material mit einer Dicke von 120 µm erzeugt. Mit der dünnen Metallplatte wurde dann ein Ätzprozeß durchgeführt, so daß ein Plattenteil gemäß der vorliegenden Erfindung erzeugt wurde. Bei dem Plattenteil 1 wurde die Lochmaske (Lochmaskenkörper) 2 ausgebildet, welche die äußere Umfangslinie 4 aufwies, den Abschnitt 6 mit den Schlitzen und den Durchdringungsabschnitten 7, den äußeren Gestellabschnitt 3 und die Verbindungsabschnitte 5.
Weiterhin wurde bei dem Plattenteil 1 der abzubrechende Abschnitt 11 ausgebildet, und wurden die Abmessungen um den Abschnitt 11 herum so festgelegt, daß die Länge L' des Verbindungsabschnitts 5 10 mm betrug, die Länge L des Halbätzabschnitts als Abschnitt 11 10 mm, dessen Breite W 115 µm, die Länge T3 zwischen der äußeren Umfangslinie 4 und der Zentrumslinie Y des Halbätzabschnitts 30 µm, die minimale Breite T2 des Halbätzabschnitts 28 µm, und die Breite T5 des Durchdringungsabschnitts 7 der äußeren Umfangslinie 4 400 µm.
Mit der Materialplatte 1 wurde der Zugbruchprozeß durchgeführt, der in Fig. 4A gezeigt ist, so daß der äußere Gestellabschnitt 3 von der Materialplatte 1 entfernt wurde, um den übrigbleibenden Körperabschnitt als Lochmaske 2 zu erhalten.
Beim Ziehen des äußeren Gestellabschnitts 3, während beide Oberflächen des Lochmaskenkörpers 2 durch eine ortsfeste Platte eingeklemmt wurden, um so den Lochmaskenkörper 2 zu befestigen, wurde nur der äußere Gestellabschnitt 3 in Horizontalrichtung zur Außenseite der Lochmaske 2 gezogen, so daß der abzubrechende Abschnitt 11 brach, und der äußere Gestellabschnitt 3 von der Lochmaske 2 entfernt wurde.
Bei der so erhaltenen Lochmaske 2 wurde, wie dies in Fig. 7 gezeigt ist, der Bruchabschnitt 21 so erhalten, daß er nach innen in Bezug auf die äußere Umfangslinie 4 der Lochmaske 2 ausgenommen ausgebildet war. Dann wurde die konkave Länge D zwischen der äußeren Umfangslinie 4 und dem Endabschnitt 22 des Bruchabschnitts 21 auf 20 µm eingestellt. Der Grund dafür, daß die konkave Länge D kleiner ist als bei dem ersten und dem zweiten Beispiel besteht darin, daß der Endabschnitt 22 des Bruchabschnitts 21 verlängert ist, wie dies in Fig. 5A gezeigt ist.
Im übrigen ist darauf hinzuweisen, daß die vorliegende Erfindung nicht auf die geschilderten Ausführungsformen oder Beispiele beschränkt ist, und daß sich zahlreiche weitere Änderungen und Modifikationen vornehmen lassen, ohne vom Umfang der beigefügten Patentansprüche abzuweichen.

Claims (13)

1. Lochmaske, die aus einem Plattenteil ausgebildet ist, welches einen äußeren Gestellabschnitt aufweist, einen Körperabschnitt einer Lochmaske, bei welchem eine äußere Umfangslinie über einen Ätzprozeß ausgebildet wird, und mehrere Verbindungsabschnitte, durch welche der Körperabschnitt der Lochmaske durch den äußeren Gestellabschnitt gehaltert wird, wobei die Lochmaske durch Entfernen des äußeren Gestellabschnitts von dem Körperabschnitt der Lochmaske ausgebildet wird, und ein Bruchabschnitt bei der Lochmaske durch Entfernen des äußeren Gestells so ausgebildet wird, daß er gegenüber der äußeren Umfangslinie der Lochmaske nach innen ausgenommen ausgebildet ist.
2. Lochmaske nach Anspruch 1, bei welcher der Bruchabschnitt durch Einsatz eines Halbätzprozesses bei einem vorbestimmten Abschnitt des Körperabschnitts der Lochmaske ausgebildet ist.
3. Lochmaske nach Anspruch 1, bei welcher der Bruchabschnitt durch einen von Bruchprozessen ausgebildet ist, welche zumindest einen Abknickprozeß, einen Zugprozeß und einen Abreißprozeß umfassen.
4. Lochmaske nach Anspruch 1, bei welcher der Bruchabschnitt einen Endabschnitt aufweist, der so ausgebildet ist, daß er gegenüber der äußeren Umfangslinie nach innen ausgenommen ist, mit einer Entfernung, die auf einem Bereich von 10 bis 100 µm eingestellt ist.
5. Plattenteil für eine Lochmaske, welches aufweist:
eine Lochmaske, die eine äußere Umfangslinie aufweist, welche ihre Außenkontur festlegt, wobei die äußere Umfangslinie durch einen Ätzprozeß ausgebildet ist;
einen äußeren Gestellabschnitt zum Haltern der Lochmaske;
mehrere Verbindungsabschnitte, durch welche die Lochmaske durch den äußeren Gestellabschnitt gehaltert wird; und
einen abzubrechenden Abschnitt, der auf der Seite einer Lochmaske an einem Abschnitt innerhalb der äußeren Umfangslinie der Lochmaske vorgesehen ist.
6. Plattenteil nach Anspruch 5, bei welchem der abzubrechende Abschnitt so angeordnet ist, daß er dem Verbindungsabschnitt gegenüberliegt.
7. Plattenteil nach Anspruch 6, bei welchem der abzubrechende Abschnitt eine vorbestimmte Länge in Richtung entlang der äußeren Umfangslinie aufweist, und die vorbestimmte Länge des abzubrechenden Abschnitts im wesentlichen gleich groß ist wie jene des gegenüberliegenden Verbindungsabschnitts in der Richtung entlang der äußeren Umfangslinie.
8. Plattenteil nach Anspruch 5, bei welchem mit dem abzubrechenden Abschnitt ein Halbätzprozeß durchgeführt wird.
9. Plattenteil nach Anspruch 8, bei welchem der abzubrechende Abschnitt mit einem mittleren Abschnitt versehen ist, der eine im wesentlichen konkave Form aufweist.
10. Plattenteil nach Anspruch 8, bei welchem der Abschnitt, mit welchem der Halbätzprozeß durchgeführt wird, eine Breite in Richtung orthogonal zur Richtung der äußeren Umfangslinie aufweist, und eine Zentrumslinie der Breite innerhalb der äußeren Umfangslinie liegt, so daß die Entfernung zwischen der äußeren Umfangslinie und der Zentrumslinie größer als 25 µm und nicht größer als 100 µ ist.
11. Plattenteil nach Anspruch 5, bei welchem der abzubrechende Abschnitt ein Abschnitt ist, der einen Bruchabschnitt der Lochmaske bildet, von welchem der äußere Gestellabschnitt entfernt wird.
12. Verfahren zur Herstellung einer Lochmaske mit folgenden Schritten:
Bereitstellung eines Plattenteils, welches eine Lochmaske aufweist, bei welcher eine äußere Umfangslinie durch einen Ätzprozeß ausgebildet wird, einen äußeren Gestellabschnitt zum Haltern der Lochmaske, mehrere Verbindungsabschnitte, durch welche die Lochmaske durch den äußeren Gestellabschnitt gehaltert wird, und einen abzubrechenden Abschnitt, der auf der Seite der Lochmaske an einem Abschnitt innerhalb der äußeren Umfangslinie der Lochmaske vorgesehen ist;
Entfernen des äußeren Gestellabschnitts von dem Plattenteil durch einen Bruchprozeß, der zumindest einen Abknickprozeß, einen Zugprozeß und einen Abreißprozeß umfaßt, und bei dem abzubrechenden Abschnitt eingesetzt wird.
13. Verfahren zur Herstellung einer Lochmaske nach Anspruch 12, bei welchem das Plattenteil aus einer dünnen Metallplatte dadurch hergestellt wird, daß bei dieser ein Ätzprozeß eingesetzt wird.
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Families Citing this family (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2006122736A (ja) * 2004-10-26 2006-05-18 Dainippon Screen Mfg Co Ltd 流路構造体およびその製造方法
US9939037B2 (en) 2013-06-14 2018-04-10 Dai Nippon Printing Co., Ltd. Leaf spring frame member
JP6255727B2 (ja) * 2013-06-14 2018-01-10 大日本印刷株式会社 板バネフレーム部材
KR101600265B1 (ko) * 2014-09-01 2016-03-08 엘지디스플레이 주식회사 화학기상증착장치

Family Cites Families (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
NL8100730A (nl) * 1981-02-16 1982-09-16 Philips Nv Werkwijze voor het vervaardigen van een kleurselektie-elektrode voor een kleurenbeeldbuis.
JPH0731982B2 (ja) * 1986-07-04 1995-04-10 株式会社東芝 シャドウマスク
JP3531879B2 (ja) * 1994-02-08 2004-05-31 株式会社 日立ディスプレイズ シャドウマスク形カラー陰極線管
KR970051769A (ko) * 1995-12-20 1997-07-29 구자홍 칼라음극선관의 새도우마스크 구조

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