DE10025863A1 - Chargiergut und Halterungssystem für das Chargiergut - Google Patents
Chargiergut und Halterungssystem für das ChargiergutInfo
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Abstract
Die Erfindung bezieht sich auf Chargiergut aus Halbleitermaterial zum Chargieren oder Nachchargieren eines Schmelztiegels während des Tiegelziehverfahrens nach Czochralski, gekennzeichnet durch einen polykristallinen Halbleiterstab, der an einem Ende als Nut ausgebildet ist und einen monokristallinen Halbleiterstab, der an einem Ende als Feder ausgebildet ist, die mittels einer Nut und Feder-Verbindung gekoppelt sind. Die Erfindung bezieht sich auch auf ein Halterungssystem zur Halterung eines polykristallinen Siliciumstabes während des Tiegelziehverfahrens nach Czochralski oder dem Floatingzoneverfahren, gekennzeichnet durch eine Nut- und Feder-Verbindung zwischen dem polykristallinen Halbleiterstab, der an einem Ende als Nut ausgebildet ist und einem monokristallinen Halbleiterstab, der an einem Ende als Feder ausgebildet ist.
Description
Gegenstand der Erfindung ist ein Chargiergut aus Halbleiterma
terial zum Chargieren oder Nachchargieren eines Schmelztiegels
während des Tiegelziehverfahrens nach Czochralski. Gegenstand
der Erfindung ist auch ein Halterungssystem für das Chargier
gut. Gegenstand der Erfindung ist auch ein Halterungssystem
zwischen zwei Halbleiterstäben.
Bei der Herstellung von Einkristallen nach dem Tiegelziehver
fahren nach Czochralski werden Siliciumbruchstücke oder Silici
umgranulat in einen Tiegel eingerichtet und aufgeschmolzen. Da
die spezifische Schüttdichte der Bruchstücke oder des Granulats
geringer ist als die theoretische spezifische Dichte von Sili
cium, senkt sich während des Aufschmelzens der Füllgrad des
Tiegels. Um jedoch eine hohe Ausbringung zu erhalten, werden
polykristallines Siliciumgranulat oder polykristalline Silici
umstäbe in die Siliciumschmelze nachgeführt und ebenfalls
erschmolzen.
Ausführlich ist das Tiegelziehverfahren nach Czochralski z. B.
in W. Zulehner und D. Huber, Czochralski-Grown Silicon, Crys
tals 8, Springer Verlag, Berlin-Heidelberg, 1982, und der dort
zitierten Literatur, unter besonderer Berücksichtigung des der
zeit wichtigsten Anwendungsgebietes, nämlich des Tiegelziehens
von Siliciumeinkristallen, erläutert. In vielen Fällen ist man
dazu übergegangen, den Füllungsgrad der Tiegel dadurch zu ver
bessern, daß nach dem Aufschmelzen zu der gebildeten Schmelze
des vorgelegten stückigen Materials weiteres festes Schmelzgut
in Form von Halbleiterstäbenzugegeben wird. Dazu werden, in der
Regel vor Beginn des eigentlichen Ziehvorgangs, mittels
geeigneter Halterungen oder Halterungssystemen polykristalline
Stabstücke als Chagiergut oder Nachchargiergut in die freie
Schmelzenoberfläche eingetaucht und nach und nach abgeschmol
zen, bis das gewünschte Schmelzenniveau erreicht ist.
Bei der Herstellung von Einkristallen nach dem Floatzonever
fahren werden polykristalline Siliciumstäbe mittels einer
Hochfrequenzspule zonal aufgeschmolzen (H. Hadamovsky, Werk
stoffe der Halbleitertechnik, Kapitel 6, VEB-Verlag, Leipzig,
1985).
Beiden Verfahren ist gemein, daß die polykristallinen Silicium
stäbe in den Ziehanlagen auf sich drehenden Wellen gehaltert
werden müssen.
Die US 5,888,293 offenbart ein Nachchargiergut und ein Hal
terungssystem für das Nachchargiergut. Das Nachchargiergut
besteht aus einer Vielzahl von polykristallinen Siliciumstäben,
die über Verbindungsstücke miteinander verknüpft sind. Das Hal
terungssystem besteht aus einer außen am Stabmantel des polyk
ristallinen Siliciumstabs angebrachten umlaufenden Rille und
einem Greifsystem aus verschiedenen Materialien, wie beispiel
sweise aus Quarz, Tantal oder Molybdän. Der Nachteil dieses
Halterungssystems liegt an der Verunreinigung der hochreinen
Siliciumschmelze durch die im Greifsystem verwendeten Materi
alien.
Der Nachteil des Chargierguts ist, daß Chargieren an Hal
bleitermaterial und Ziehen eines Einkristalls aus der Schmelz
nicht in einem Schritt erfolgen kann, da zunächst das Chargier
gut aufgeschmolzen werden muß und erst anschließend ein
Impfkristall an die Schmelzenoberfläche herangeführt werden
kann. Wünschenswert ist aber Chargieren und Ziehen eines Eink
ristalls in einem Schritt durchzuführen. Dazu muß Chargiergut
und monokristalliner Impfkristall miteinander in Verbindung
stehen. Demnach kann ein anschließender Einsatz eines monok
ristallinen Stabhalters als Impfling bei dieser Technik nicht
erfolgen.
Im Stand der Technik sind verschiedene Verfahren zur Halterung
von polykristallinen Stäben in Ziehanlagen offenbart. Beispiel
sweise sind Halterungssysteme durch die Verbindung mittels
einer Schweißstelle zwischen einem monokristallinen Hal
terungsstab und dem polykristallinen Siliciumstab aus der
DE 39 22 135 bekannt. Diese Verbindungstechnik ist sehr auf
wendig. Der polykristalline Siliciumstab muß zunächst mit einer
Rille und einem Konus versehen werden. Anschließend wird der
polykristalline Siliciumstab an der Rille, beispielsweise in
eine Floatzone-Ziehanlage eingebaut. Am anderen Ende, am Konus,
wird dann der monokristalline Stabhalter mit dem polykristal
linen Siliciumstab zusammengeschweißt. Erst dann ist eine der
artige Halterung zu verwenden. Der angeschmolzene monokristal
line Stabhalter kann nur nach aufwendiger Nacharbeit wiederver
wendet werden.
Die Aufgabe der Erfindung bestand daher darin, ein Halterung
ssystem, insbesondere für Chargiergut bereitzustellen, das sich
durch hohe Festigkeit auszeichnet, und das ohne aufwendige
thermische Behandlung der Halbleiterstäbe und ohne Verwendung
anderer Materialien gefertigt werden kann. Aufgabe der Er
findung war es auch ein Chargiergut zur Verfügung zu stellen,
das die Nachteile des Stand der Technik vermeidet und zum Char
gieren und Ziehen eines Einkristalls aus der Schmelze geeignet
ist.
Gelöst wird die Aufgabe durch ein Chargiergut aus Halbleiterma
terial zum Chargieren oder Nachchargieren eines Schmelztiegels
während des Tiegelziehverfahrens nach Czochralski, das gekenn
zeichnet ist durch einen polykristallinen Halbleiterstab, der
an einem Ende als Nut ausgebildet ist und einen monokristalli
nen Halbleiterstab, der an einem Ende als Feder ausgebildet
ist, die mittels einer Nut und Feder Verbindung gekoppelt sind.
Überraschenderweise wurde gefunden, daß eine Nut und Feder Ver
bindung zwischen sprödharten Materialien, wie beispielsweise
einem polykristallinen Halbleiterstab und einem monokristalli
nen Halbleiterstab, bevorzugt einem monokristallinen Impfkris
tall mit hoher Festigkeit hergestellt werden kann. Überraschend
war auch, daß diese Verbindung zwischen dem im Verhältnis zu
dem monokristallinen Halbleiterstab kleinen und bruchgefährde
ten Impfkristall, Biegebeanspruchung, die durch eine nicht
stabachsenmittige Aufhängung zustande kommen, standhält.
Erfindungsgemäß werden durch das Halterungssystem aufwendige
Prozeßschritte, wie das Impflingaufschmelzen, die Verwendung
von Fremdstoffen in der Halterung oder dem Halterungssystem und
somit Verunreinigung des Produkts vermieden. Darüber hinaus
wird der Einbau der Stäbe in die Ziehanlagen vereinfacht und
der Transport der polykristallinen Halbleiterstäbe und der mo
nokristallinen Halbleiterstäbe, insbesondere der monokristalli
nen Impfkristalle getrennt voneinander möglich. Auch ist die
grundsätzliche Wiederverwendbarkeit und eine hohe Festigkeit
der Verbindungsstelle gewährleistet.
Gegenstand der Erfindung ist demnach auch ein Halterungssystem,
das es ermöglicht, polykristalline Siliciumstäbe in allen
Floatingzone- und Tiegelziehverfahren, ohne aufwendige Tempera
turbehandlung der Verbindungsstelle und ohne Fremdstoffe an der
Verbindungstelle zu befestigen. Das erfindungsgemäße Halterung
ssystem ist gekennzeichnet durch eine Nut und Feder Verbindung
zwischen einem polykristallinen Halbleiterstab, der an einem
Ende als Nut ausgebildet ist und einem monokristallinen Halb
leiterstab, beispielsweise einem Impfkristall, der an einem En
de als Feder ausgebildet ist.
Das Halterungssystem wird bevorzugt zur Halterung von polykri
stallinen Siliciumstäben, die während des Tiegelziehverfahrens
nach Czochralski in die Siliciumschmelze nachgeführt werden,
verwendet. Das Halterungssystem wird bevorzugt zur Halterung
von polykristallinen Siliciumstäben, die während des Floating
zoneverfahrens zonal aufgeschmolzen werden, verwendet.
Das Halterungssystem ist eine wiederlösbare mechanische Ver
bindung zwischen einem polykristallinen Halbleiterstab, insbe
sondere einem Siliciumstab, und einem monokristallinen Halblei
terstab, insbesondere einem Siliciumstab, bevorzugt einem mono
kristallinen Siliciumimpfkristall, die ohne zusätzliche
Werkzeuge oder Materialien erhältlich ist.
Das Halterungssystem zeichnet sich durch die vollständige
Wiederverwendbarkeit, gegebenenfalls nach einer Reinigung des
Halterungsstabes aus monokristallinem Silicium, in Prozessen,
in denen der monokristalline Halbleiterstab nicht als
Impfkristall verwendet wird, aus.
Vorteilhaft an dem erfindungsgemäßen Halterungssystem ist auch
eine getrennt voneinander transportierbare Halterung aus Rein
stsilicium, insbesondere aus monokristallinem Reinstsilicium,
die erst beim Einbau des polykristallinen Halbleiterstabes in
Floatingzone- oder Tiegelziehvorrichtungen, montiert werden
muß.
Fig. 1 zeigt schematisch die Halterung bei der ein polykristal
liner Siliciumstab 1 mit einer Nut 3 an einem monokristallinem
Stab 2 mit einem konischen Ansatz 4 aufgehängt ist.
Weiterer Vorteil ist die leicht automatisierbare Fertigung der
Nut, bei der eine Vielzahl von Polysiliciumstäben in einem
Maschinenschritt verarbeitet werden können.
Der abgelängte Polysiliciumstab wird senkrecht zu seiner Stirn
seite mit einem Sägeblatt über den gesamten Stabdurchmesser in
der Mitte eingeschnitten. Dies soll verhindern, daß bei der
Herstellung der eingentlichen Schwalbenschwanznut eine inhomo
gene Spannungsverteilung im Polysiliciumstab entsteht. Diese
inhomogene Spannungsverteilung würde zum Zerreißen des Poly
siliciumstabes führen (Fig. 2a). Nach diesem Entspannung
sschnitt wird mit einem Kegelfräßkopf die Nut gefertigt (Fig.
2b). Weiterer Vorteil des Vorschneidens mit dem Sägeblatt ist
die wesentlich höhere Vorschubgeschwindigkeit des Fräskopfes,
da weniger Material zerspant werden muß. Die beiden Werkzeuge
Sägeblatt und Fräskopf können unmittelbar hintereinander den
Stab bearbeiten.
Ein monokristalliner Impfkristall wird an einer Stirnseite mit
zwei Winkelfräsungen am Druchmesser versehen. (Fig. 3)
Um die Verbindung zwischen Mono- und Polysiliciumstab zu schaf
fen, werden Nut und Feder ineinandergeschoben. Der Monostab
sollte dabei vorzugsweise bis zur Stabachse des Polysilicium
stabes eingeschoben werden. Der Polysiliciumstab wird abgesenkt
und über die Flächenpressung zwischen Nut und Feder sicher ge
haltert. (Fig. 1)
Das erfindungsgemäße Halterungssystem entspricht demnach einer
mechanischen Verbindung zwischen einem monokristallinen Hal
terungsstab und einem polykristallinen Siliciumstab, die ohne
Verwendung thermischer Fertigungsschritte und anderen Ver
bindungsmaterialien erhältlich ist, und vorzugsweise als Char
giergut zum Chargieren oder Nachchargieren eines Schmelztiegels
bei der Herstellung von Halbleitermaterialien eingesetzt wird.
Claims (4)
1. Chargiergut aus Halbleitermaterial zum Chargieren oder
Nachchargieren eines Schmelztiegels während des Tiegelziehver
fahrens nach Czochralski, gekennzeichnet durch einen polykri
stallinen Halbleiterstab, der an einem Ende als Nut ausgebildet
ist und einen monokristallinen Halbleiterstab, der an einem En
de als Feder ausgebildet ist, die mittels einer Nut und Feder
Verbindung gekoppelt sind.
2. Chargiergut nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß
der monokristalline Halbleiterstab als Impfkristall ausgebildet
ist.
3. Halterungssystem zur Halterung eines polykristallinen
Siliciumstabes während des Tiegelziehverfahrens nach Czoch
ralski oder dem Floatingzoneverfahren, gekenzeichnet durch eine
Nut und Feder Verbindung zwischen dem polykristallinen Halblei
terstab, der an einem Ende als Nut ausgebildet ist und einem
monokristallinen Halbleiterstab, der an einem Ende als Feder
ausgebildet ist.
4. Halterungssystem nach Anspruch 3, dadurch gekennzeichnet,
daß der monokristalline Halbleiterstab als Impfkristall ausge
bildet ist.
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