DD47530A - - Google Patents

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* Cited by examiner, † Cited by third party
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DE19548938A1 (de) * 1995-04-18 1996-10-24 Mitsubishi Electric Corp Herstellungsverfahren für eine Halbleitereinrichtung und Siliziumsubstrat-Kassette zum selektiven Ätzen

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE19548938A1 (de) * 1995-04-18 1996-10-24 Mitsubishi Electric Corp Herstellungsverfahren für eine Halbleitereinrichtung und Siliziumsubstrat-Kassette zum selektiven Ätzen
DE19548938C2 (de) * 1995-04-18 2002-09-12 Mitsubishi Electric Corp Verfahren zum selektiven Entfernen eines Ätzrestes

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