DD206924A3 - Verfahren zum herstellen einer freitragenden abstandsmaske - Google Patents

Verfahren zum herstellen einer freitragenden abstandsmaske Download PDF

Info

Publication number
DD206924A3
DD206924A3 DD81233773A DD23377381A DD206924A3 DD 206924 A3 DD206924 A3 DD 206924A3 DD 81233773 A DD81233773 A DD 81233773A DD 23377381 A DD23377381 A DD 23377381A DD 206924 A3 DD206924 A3 DD 206924A3
Authority
DD
German Democratic Republic
Prior art keywords
layer
substrate
mask
template
nickel
Prior art date
Application number
DD81233773A
Other languages
German (de)
English (en)
Inventor
Frank Schmidt
Horst Tyrroff
Original Assignee
Mikroelektronik Zt Forsch Tech
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Mikroelektronik Zt Forsch Tech filed Critical Mikroelektronik Zt Forsch Tech
Priority to DD81233773A priority Critical patent/DD206924A3/de
Priority to DE19823232174 priority patent/DE3232174A1/de
Priority to SU827772638A priority patent/SU1352445A1/ru
Priority to US06/421,542 priority patent/US4497884A/en
Priority to FR8216521A priority patent/FR2515373A1/fr
Priority to GB08229703A priority patent/GB2107618B/en
Priority to JP57171084A priority patent/JPS5875837A/ja
Priority to CS827076A priority patent/CS245264B1/cs
Publication of DD206924A3 publication Critical patent/DD206924A3/de

Links

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J9/00Apparatus or processes specially adapted for the manufacture, installation, removal, maintenance of electric discharge tubes, discharge lamps, or parts thereof; Recovery of material from discharge tubes or lamps
    • H01J9/02Manufacture of electrodes or electrode systems
    • H01J9/14Manufacture of electrodes or electrode systems of non-emitting electrodes

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
  • Electron Beam Exposure (AREA)
  • Crystals, And After-Treatments Of Crystals (AREA)
DD81233773A 1981-10-01 1981-10-01 Verfahren zum herstellen einer freitragenden abstandsmaske DD206924A3 (de)

Priority Applications (8)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DD81233773A DD206924A3 (de) 1981-10-01 1981-10-01 Verfahren zum herstellen einer freitragenden abstandsmaske
DE19823232174 DE3232174A1 (de) 1981-10-01 1982-08-30 Verfahren zum herstellen einer freitragenden abstandsmaske
SU827772638A SU1352445A1 (ru) 1981-10-01 1982-09-13 Способ изготовлени свободной маски дл проекционных электронно-и ионно-лучевых систем
US06/421,542 US4497884A (en) 1981-10-01 1982-09-22 Method for the production of a self-supporting mask
FR8216521A FR2515373A1 (fr) 1981-10-01 1982-10-01 Procede de fabrication d'un cache maintenu a distance non soutenu
GB08229703A GB2107618B (en) 1981-10-01 1982-10-01 Mask for a particle beam protector
JP57171084A JPS5875837A (ja) 1981-10-01 1982-10-01 支持基板を持たない投影マスクの製造方法
CS827076A CS245264B1 (en) 1981-10-01 1982-10-05 Method of freely carried distance mask making for diminishing projection systems

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DD81233773A DD206924A3 (de) 1981-10-01 1981-10-01 Verfahren zum herstellen einer freitragenden abstandsmaske

Publications (1)

Publication Number Publication Date
DD206924A3 true DD206924A3 (de) 1984-02-08

Family

ID=5533888

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
DD81233773A DD206924A3 (de) 1981-10-01 1981-10-01 Verfahren zum herstellen einer freitragenden abstandsmaske

Country Status (8)

Country Link
US (1) US4497884A (zh)
JP (1) JPS5875837A (zh)
CS (1) CS245264B1 (zh)
DD (1) DD206924A3 (zh)
DE (1) DE3232174A1 (zh)
FR (1) FR2515373A1 (zh)
GB (1) GB2107618B (zh)
SU (1) SU1352445A1 (zh)

Families Citing this family (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5272081A (en) * 1982-05-10 1993-12-21 Bar-Ilan University System and methods for cell selection
US5310674A (en) * 1982-05-10 1994-05-10 Bar-Ilan University Apertured cell carrier
US4772540A (en) * 1985-08-30 1988-09-20 Bar Ilan University Manufacture of microsieves and the resulting microsieves
ATA331285A (de) * 1985-11-13 1988-11-15 Ims Ionen Mikrofab Syst Verfahren zur herstellung einer transmissionsmaske
DE10137493A1 (de) * 2001-07-31 2003-04-10 Heidenhain Gmbh Dr Johannes Verfahren zur Herstellung einer selbsttragenden elektronenoptisch durchstrahlbaren Struktur und nach dem Verfahren hergestellte Struktur
FR2936361B1 (fr) * 2008-09-25 2011-04-01 Saint Gobain Procede de fabrication d'une grille submillimetrique electroconductrice, grille submillimetrique electroconductrice

Family Cites Families (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
GB1305777A (zh) * 1969-05-05 1973-02-07
DE2512086C3 (de) * 1975-03-19 1978-11-30 Siemens Ag, 1000 Berlin Und 8000 Muenchen Verfahren zur Herstellung freitragender, dünner Metallstrukturen

Also Published As

Publication number Publication date
SU1352445A1 (ru) 1987-11-15
GB2107618B (en) 1985-07-10
FR2515373B1 (zh) 1985-04-12
GB2107618A (en) 1983-05-05
DE3232174A1 (de) 1983-04-21
US4497884A (en) 1985-02-05
JPS5875837A (ja) 1983-05-07
FR2515373A1 (fr) 1983-04-29
CS707682A1 (en) 1985-06-13
CS245264B1 (en) 1986-09-18

Similar Documents

Publication Publication Date Title
EP0078336B1 (de) Schattenwurfmaske für die Ionenimplantation und die Ionenstrahllithographie
EP0019779A2 (de) Schattenwurfmaske zum Strukturieren von Oberflächenbereichen und Verfahren zu ihrer Herstellung
EP0283546B1 (de) Verfahren zum Herstellen beliebig geformter mikromechanischer Bauteile aus planparallelen Platten aus Polymermaterial oder beliebig geformter Duchführungsöffnungen in denselben
DE2953117A1 (en) Fabrication of integrated circuits utilizing thick high-resolution patterns
DE2754396A1 (de) Verfahren zum herstellen von duennfilmmustern
DE3140890C2 (de) Photolithographisches Verfahren zum Herstellen einer integrierten Schaltungsvorrichtung
EP0369053B1 (de) Verfahren zur Herstellung von Masken mit Strukturen im Submikrometerbereich
EP0057254B1 (de) Verfahren zur Erzeugung von extremen Feinstrukturen
EP0286708A1 (de) Verfahren zur Herstellung von Kontaktöffnungen in einer Doppellagenisolation
EP0203215A1 (de) Verfahren zur Reparatur von Transmissionsmasken
DE3706127A1 (de) Diskontinuierliches aetzverfahren
EP0222738A2 (de) Verfahren zur Herstellung einer Transmissionsmaske
EP0168509A1 (de) Herstellung von Verbindungslöchern in Kunstoffplatten und Anwendung des Verfahrens
DE2636971A1 (de) Verfahren zum herstellen einer isolierenden schicht mit ebener oberflaeche auf einem substrat
DE1639263B1 (de) Photolithographisches verfahren zum herstellen von halbleiter bauelementen oder integrierten schaltungen
DD206924A3 (de) Verfahren zum herstellen einer freitragenden abstandsmaske
CH621890A5 (zh)
EP0218039B1 (de) Verfahren zur Übertragung feinster Fotolackstrukturen
EP1456870A2 (de) Resistloses lithographieverfahren zur herstellung feiner strukturen
DE3152307A1 (de) Use of metallic glasses for fabrication of structures with submicron dimensions
DE102009046756A1 (de) Verfahren zur Herstellung von regelmäßigen Nanostrukturen auf Festkörperoberflächen
EP0104684B1 (de) Maske für die Mustererzeugung in Lackschichten mittels Röntgenstrahllithographie und Verfahren zu ihrer Herstellung
DE2703473C2 (zh)
DE4408507A1 (de) Lithografisches Verfahren
DE19922759A1 (de) Verfahren zur Herstellung einer leitenden Struktur

Legal Events

Date Code Title Description
ENJ Ceased due to non-payment of renewal fee