CZ308334B6

CZ308334B6 - Způsob výroby fotoluminiscenčního prvku

Info

Publication number: CZ308334B6
Application number: CZ2019-441A
Authority: CZ
Inventors: Ladislav Raszka
Original assignee: EternaLight s.r.o.
Priority date: 2019-07-04
Filing date: 2019-07-04
Publication date: 2020-05-20
Also published as: EP3931285A4; US20220220369A1; EP3931285A1; EP3931285B1; CN114072480A; EP3931285C0; CN114072480B; CZ2019441A3; WO2021000972A1

Abstract

Způsob výroby fotoluminiscenčního prvku (1) spočívá v tom, že za okolní teploty od 15 do 55 °C je na desku (2) nebo do alespoň jedné formy (3) nanesena hustá transparentní vrstva (11), jejíž hustota je 1 až 1,5 t/m3, přičemž tato hustá transparentní vrstva (11) se nechá zavadnout po dobu 8 hodin až 10 minut, a poté se na ni nanese řídká transparentní vrstva (12), jejíž viskozita je 100 až 200 cPs, přičemž ihned je na tuto řídkou transparentní vrstvu (12) nanesen fotoluminiscenční prášek (131), který gravitačně propadne touto řídkou transparentní vrstvou (12) a ulpí na rozhraní transparentních vrstev (11) a (12), čímž vytvoří souvislou fotoluminiscenční vrstvu (13). Dosažené vrstvy (11), (12), (13) jsou poté spolu vytvrzeny.

Description

Oblast techniky

Technické řešení se týká způsobu výroby fotoluminiscenčního prvku.

Dosavadní stav techniky

Z dosavadního stavu techniky j sou známy metody a výroba fotoluminiscenčních materiálů, které jsou založeny na vmíchání fotoluminiscenčního prášku do základního materiálu. Nevýhoda uvedeného způsobu spočívá v poškození krystalků fotoluminiscenčního prášku a jejich rozptýlenost v základním materiálu, čímž je snížena finální svítivost získaného materiálu, přesněji svítivost rozptýlených krystalků je menší než svítivost homogenní vrstvy.

Je známo řešení dle patentového spisu č. US 20060162620 AI, jehož podstata spočívá na vytvoření zapouzdřených fotoluminiscenčních částic, jež jsou dále usazeny v základním materiálu, a to především pro použití ve vodním prostředí jako jsou bazény, lázně apod.

Dále je známo řešení dle patentového spisu US 20070022911 AI, jehož podstata je založena na způsobu výroby luminiscenční dlaždice pro použití ve vodním prostředí, které je založeno na smíchání luminiscenčního pigmentu schopného osvětlit vnějším světelným zdrojem, s tvářecím materiálem a katalyzátorem pro vytvoření luminiscenční směsi, kde dlaždice je vytvořena odléváním uvedené směsi do formy.

Jsou známy i způsoby nanášení jednotlivých vrstev, a to příkladně dle patentového spisu PL 173588 Bl, Způsob vytváření fotoluminiscenčních znaků a piktogramů, jehož podstata spočívá v nanesení barevné vrstvy na desku z mléčného skla a na tuto vrstvu se nanáší vrstva, tvořená směsí pryskyřice obsahující fotoluminiscenční prášek, který je do této pryskyřice vmíchán.

Dále je známo řešení dle patentu PL 200803, kde je popsán způsob výroby fotoluminiscenčního materiálu, který spočívá v míchání fotoluminiscenčního materiálu sestávajícího z vzácných kovů, barvicího činidla a fotoluminiscenčního prášku, kde míchací proces je realizován prostřednictvím strojů vyvíjejících malou rychlost.

Uvedené způsoby jsou založeny na vmíchání fotoluminiscenčního prášku do základního materiálů, příkladně pryskyřice či betonu, a jak je uvedeno, mechanickým mícháním dochází k poškození krystalků fotoluminiscenčního prášku, a tím ke snížení jeho svítivosti.

Dále je známo řešení dle patentového spisu PL 402969, způsob aplikace fotoluminiscenčního povlaku a fotoluminiscenční materiál vytvořený tímto způsobem, jehož podstata spočívá v tom, že na základní desku se nanese vrstva pryskyřice, na kterou se nanáší fotoluminiscenční prášek, který je aplikován do základní vrstvy pod tlakem od 3 do 8 barů. Uvedený postup nanášení základní vrstvy - pryskyřice spolu s tlakovým nanášením prášku se opakuje. Takto vytvořené vrstvy se opakovaně nanáší a pomocí tlaku je fotoluminiscenční prášek vpraven do základní vrstvy a na poslední vrstvu fotoluminiscenčního prášku se aplikuje tenká vrstva pojivového lepidla a poté se aplikuje horní ochranná vrstva. Nevýhodou uvedeného řešení je jednak nutnost použití tlaku a dále takto vytvořenou desku, a i desky vytvořené výše uvedenými způsoby je nutné řezat, či jinak mechanicky dělit pro získání konečného tvaru hotového výrobku. Na řezné hraně pak dochází jednak k poškození krystalků, jednak k jejich vydrolení v čase a taky k erozi vlhkostí, která zásadně snižuje svítivost krystalků. Tím je snížena svítivost výrobku v okrajových částech a časem kraje výrobku přestanou svítit úplně.

- 1 CZ 308334 B6

Je známo řešení z patentového spisu PL 399917, Fotoluminiscenční materiál a způsob výroby fotoluminiscenčního materiálu, kde fotoluminiscenční vrstva obsahující fotoluminiscenční prášek a průhledné pojivo a obsahující výhodně přísady, jako jsou barviva a prostředek pro posílení účinku luminiscence, je opatřena spodní a horní ochrannou vrstvou, přičemž způsob výroby fotoluminiscenčního materiálu je takový, že na spodní vrstvu se nanese pojivo a poté se posype vysokou vrstvou fotoluminiscenční prášku, výrazně vyšší než je vrstva pojivá, a dále se povrch válcuje a tím se fotoluminiscenční prášek zanese do této pojivové vrstvy. Přebytek fotoluminiscenčního prášku se odstraní odfukem a výsledný povlak se opatří horní ochrannou vrstvou, která se opět zaválcuje. Uvedený postup je možné opětovně opakovat.

Dále je známo řešení dle patentového spisu PU 41737 Způsob vytváření fotoluminiscenčních desek určených pro řezání, který spočívá v nalití vrstvy transparentních nízko viskózních pryskyřic pokrytých vrstvou syntetických separačních vosků na plochou tabuli a potom se šablonou s povrchem menším než hotový produkt, vytvoří vrstva koncentrovaných fotoluminiscenčních prášků. V dalším pořadí se skleněná rohož aplikuje na takto vytvořenou vrstvu a proniká celým povrchem desky nízkoviskózní transparentní pryskyřicí, takto získaný produkt je dále odvzdušněn a zakryt poslední vrstvou, což je bílá pryskyřice.

Podstata vynálezu

Uvedené nevýhody odstraňuje způsob výroby fotoluminiscenčního prvku, podle tohoto vynálezu, jehož podstata spočívá v tom, že za okolní teploty od 15 až 55 °C je na desku nebo do formy nanesena hustá transparentní vrstva, jejíž hustota je 1 až 1,5 t/m³. Tato hustá transparentní vrstva se nechá zavadnout po dobu 10 min až 8 hod, a poté se na ni nanese řídká transparentní vrstva, jejíž viskozita je 100 až 200 cP.s, přičemž ihned je na tuto řídkou transparentní vrstvu nanesen fotoluminiscenční prášek. Fotoluminiscenční prášek za působení gravitační síly propadne touto řídkou transparentní vrstvou a ulpí na rozhraní obou transparentních vrstev, čímž vytvoří souvislou fotoluminiscenční vrstvu. Následně jsou tyto vrstvy vytvrzeny a po vytvrzení je fotoluminiscenční prvek z desky nebo formy odebrán.

Je výhodné, aby hustá transparentní vrstva byla nanášena tak, aby na svém profilu byla tvarována za účelem zvýšení povrchové plochy husté transparentní vrstvy a v nej výhodnějším provedení je hustá transparentní vrstva na desku nebo do formy nanášena ve tvaru pyramid, ve výhodném provedení jsou pyramidy nanášeny opakovaně za sebou a vedle sebe.

Dále je účelné, aby dno desky nebo formy bylo upraveno na svém profilu do tvaru několikabokého jehlanu, přičemž nanášená hustá transparentní vrstva kopíruje tvarované dno desky nebo formy. Po vytvrzení je fotoluminiscenční prvek z desky nebo formy odebrán.

Je výhodné, aby dno desky nebo formy bylo upraveno do tvaru pyramid, přičemž výška pyramidy je od 0,2 do 15 mm a úhel stěny je od 15 do 75°.

Dále je účelné, aby se fotoluminiscenční prvek, jež je vytvořen na tvarovaném dnu desky nebo formy, vyjmul z desky nebo formy, překlopil se na desku nebo formu s rovným dnem a tvarovaný povrch se opět zalil dorovnávací transparentní vrstvou.

Je výhodné, aby na desku byl posazen rám pro zamezení rozlití dorovnávací transparentní vrstvy.

Je výhodné, aby forma nebo rám pro vložení překlopeného fotoluminiscenčního prvku byla ve svém tvaru o 1 % až 10 % větší než fotoluminiscenční prvek pro umožnění obtékání bočních ploch fotoluminiscenčního prvku dorovnávací transparentní vrstvou a je rovněž výhodné, aby byla opatřena vrstva pro zajištění snadného odebrání či vyjmutí.

Je účelné, aby hustá transparentní vrstva byla nanášena pomocí způsobu 3D tisku.

-2 CZ 308334 B6

Dále je účelné, aby do husté transparentní vrstvy, jež je nanesena na rovném dnu desky nebo formy byl proveden vtlak vtlačovacím prostředkem, přičemž povrch vtlačovacího prostředku byl tvarovaný. Ve výhodném provedení je plocha vtlačovacího prostředku upravena do tvaru několikabokých jehlanů nebo pyramid.

Je výhodné, aby řídká transparentní vrstva přesahovala hustou transparentní vrstvu o 0,1 až 10 mm

Je výhodné, aby deska byla upravena jako hladká a je rovněž výhodné, aby deska byla opatřena vrstvou pro zajištění snadného odebrání fotoluminiscenčního prvku z desky. Je rovněž výhodné, aby forma byla opatřena vrstvou pro zajištění snadného vyjmutí fotoluminiscenčního prvku, v nej výhodnějším provedení je vrstva pro zajištění snadného vyjmutí upravena jako polyfólie, kde základní fólie plní roh teplem tvarovatelné formy a vrchní fólie plní roh vrstvy pro zajištění snadného vyjmutí fotoluminiscenčního prvku.

Je účelné, aby na vytvrzené vrstvy byla nanesena bílá vrstva, přičemž všechny vrstvy byly spolu vytvrzeny.

Je výhodné, aby tloušťka husté transparentní vrstvy byla 0,2 až 3 mm, tloušťka řídké transparentní vrstvy byla 0,1 až 10 mm.

Je účelné, aby fotoluminiscenční prášek byl nanášen pomocí síta.

Je dále účelné, aby řídká transparentní vrstva a/nebo bílá krycí vrstva byla opatřena skelnými nebo uhlíkovými vlákny pro zajištění zpevnění.

Výhody předloženého vynálezu lze spatřovat zejména ve zvýšení a prodloužení délky svítivosti fotoluminiscenčních prvků, a rovněž v délce jejich živostnosti. Další významným kritériem je rovněž dosažení ekonomické úspory při uvedeném způsobu výroby.

Objasnění výkresů

Na obr. 1 je zobrazeno nanášení fotoluminiscenčního prášku (131) na řídkou transparentní vrstvu (12) , kterou fotoluminiscenční prášek (131) propadá a ulpívá na rozhraní s hustou transparentní vrstvou (11), a vytváří fotoluminiscenční vrstvu (13), jak je vidět na obr. 2, přičemž deska (2) je opatřena vrstvou (21) pro zajištění snadného odebrání.

Obr. 3 a obr. 4 zobrazují nanášení fotoluminiscenčního prášku (131) a vytváření fotoluminiscenční vrstvy (13) při nanášení do formy (3), kde forma (3) je opatřena vrstvou (31) pro zajištění snadného vyjmutí.

Obr. 5 zobrazuje v řezu nanášení tvarované husté transparentní vrstvy (11) na desku (2,) tak že na profiluje hustá transparentní vrstva (11) prostorově upravena, výhodně do tvaru pyramid.

Na obr. 6 je zobrazena deska (2) s tvarovaným dnem a nanášení fotoluminiscenčního prášku (131) na řídkou transparentní vrstvu (12), kterou fotoluminiscenční prášek (131) propadá a ulpívá na rozhraní s hustou transparentní vrstvou (11), a vytváří tvarovanou fotoluminiscenční vrstvu (13) , jak je zobrazeno na obr. 7. Zde je zobrazena rovněž bílá krycí vrstva (14) obsahující skelná vlákna (15).

Obr. 8 zobrazuje v řezu desku (2') s uloženým překlopeným fotoluminiscenčním prvkem (1), kde tvarovaná plocha husté transparentní vrstvy (11) je zalita dorovnávací transparentní vrstvou (16).

-3 CZ 308334 B6

Dále je zde zobrazen způsob zaválcování fólie (6) pro zajištění lesklého povrchu do fotoluminiscenčního prvku (1.)

Na obr. 9 je zobrazena forma (3) s tvarovaným dnem a nanášení fotoluminiscenčního prášku (131) na řídkou transparentní vrstvu (12), kterou fotoluminiscenční prášek (131) propadá a ulpívá na rozhraní s hustou transparentní vrstvou (11), a vytváří prostorově tvarovanou fotoluminiscenční vrstvu (13). Zde je zobrazena rovněž bílá krycí vrstva (14) obsahující skelná vlákna (15).

Obr. 10 v řezu zobrazuje formu (3 ) s uloženým překlopeným fotoluminiscenčním prvkem (1,) kde prostorově tvarovaná plocha husté transparentní vrstvy (11) je zalita dorovnávací transparentní vrstvou (16). Dále je zde zobrazen způsob zaválcování fólie (6) pro zajištění lesklého povrchu do fotoluminiscenčního prvku (1).

Na obr. 11 je zobrazeno provedení vtlaku vtlačovacím prostředkem (5) do husté transparentní vrstvy (11), čímže je vytvořen prostorově tvarovaný povrch.

Příklady uskutečnění vynálezu

Příklad 1

Způsob výroby fotoluminiscenčního prvku 1 podle předloženého vynálezu spočívá v tom, že za teploty v rozmezí 15 až 55 °C, výhodně o pokojové teplotě v rozmezí 20 až 23 °C je na desku 2, příkladně desku z tvrzeného plastu nebo skla, nanesena tenká vrstva 21 pro zajištění snadného odebrání z desky, výhodně je tato vrstva vytvořena naletím nebo nástřikem teplého tekutého vosku, který se rozprostře po ploše a při okolní teplotě ztuhne. Na takto připravenou podkladovou plochu se nanese hustá transparentní vrstva 11. jejíž hustota je 1 až 1,5 t/m³, příkladně 1,1 t/m³, a tato vrstva se rozprostře po připravené základní desce 2.

Transparentní vrstva 11 je ve výhodném provedení pojivová pryskyřice nebo její směs nebo polyuretanová směs, která je průhledná. Je možné použít pryskyřici matnou, příkladně polyesterovou pryskyřici nebo lesklou, příkladně přírodní směsi. V nejvýhodnější provedení je hustá transparentní vrstva 11 bezbarvá a vodoodpudivá. Hustá transparentní vrstva 11 se nalévá na desku 2, v nejvýhodnější provedení je nalévání provedeno pomocí automatického robota. Takto pňpravená vrstva 11 se nechá při uvedené teplotě po dobu 150 min relaxovat, a povrch této vrstvy 11 za uvedený čas zavadne. Tloušťka husté transparentní vrstvy 11 je v rozmezí 0,1 až 20 mm, výhodně 0,8 mm. Na hustou transparentní vrstvu 11 se nalije řídká transparentní vrstva 12, jejíž viskozita je 100 až 200 cP.s, příkladně 130 cP.s, a na řídkou transparentní vrstvu 12 je ihned nanesen fotoluminiscenční prášek 131, který gravitačně propadne touto řídkou transparentní vrstvou 12 a ulpí na rozhraní transparentních vrstev 11 a 12, čímž vytvoří souvislou fotoluminiscenční vrstvu 13. Tloušťka vrstvy 12 je v rozmezí 0,1 až 20 mm, v nej výhodnějším provedení je tloušťka 2 mm.

Fotoluminiscenční prášek 131 je představen jako oxid kovů, ve výhodném provedení je to oxid AI2O3 (korund) + Stroncium + Europium + Dysprozium + Kobalt, kde jednotlivé prvky se spolu spékají při teplotách nad 1000 °C a výsledný slitek se pak rozdrtí a pomele na prášek o různé zrnitosti, a to tak aby zůstala zachována maximální svítivost fotoluminiscenčního prášku 131. V nej výhodnějším provedení je použito fotoluminiscenčního prášku 131 s co největší zrnitostí, neboť míra svítivosti je přímo úměrná velikosti zrna - krystalku. Velikost zrn - krystalků je od 50 pm do 650 pm, v případě užití modře svíticích krystalků je velikost zma výhodně okolo 50 pm, u žlutozeleně svíticích krystalků je výhodně velikost zma od 150 až 200 pm.

Fotoluminiscenční prášek 131, obsahující velké krystalky, je pomocí stěrky nanášen - sypán na povrch řídké transparentní vrstvy 12. ve výhodném provedení je nanášen automatizovaně pomocí

-4 CZ 308334 B6 sítotisku, kde rychlost pohybu nože je konstantní. Tloušťka fotoluminiscenční vrstvy 13 ie závislá na velikosti krystalků a na jejich eventuálním překrytí, nejvýhodněji je tato vrstva 13 tvořena krystalky usazenými vedle sebe bez překrytí. Pokrytí povrchu husté transparentní vrstvy 11 fotoluminiscenční vrstvou 13 je 70 až 100 %.

Takto připravené vrstvy 11, 12 a 13, jsou spolu vytvrzeny za účelem kompletace fotoluminiscenčního prvku L Vytvrzení je ve výhodném provedení realizováno při teplotách 25 až 55 °C v čase 10 až 3 hodiny, dle konkrétního použitého materiálu transparentních vrstev.

Ve výhodném provedení je na vytvrzenou vrstvu 12 nanesena bílá krycí vrstva 14, za účelem zvýšení svítivosti. Vrstvy 11. 12 a 13. 14 jsou spolu opět vytvrzeny způsoben dle užitého materiálu. Bílá krycí vrstva 14 je ve výhodném provedení představena přírodní či umělou pryskyřicí obsahující příkladně titanovou bělobu. Tloušťka bílé krycí vrstvy 14 je 0,05 až 0,5 mm, nejvýhodněji 0,1 až 0,2 mm. Ve výhodném provedení bílá krycí vrstva 14 je opatřena skelnými nebo uhlíkovými vlákny 15 pro zajištění zpevnění.

Fotoluminiscenční prvek 1, ve tvaru desky, vyrobený způsobem uvedeným výše je připraven pro další zpracování, ve výhodném provedení jsou pomocí třískového obrábění nebo řezání vodním paprskem či jiným způsobem dělení vyhotoveny požadované tvary např. kulaté, čtvercové či trojúhelníkové prvky, písmena, číslice apod.

Příklad 2

Způsob výroby fotoluminiscenčního prvku 1 podle předloženého vynálezu spočívá v tom, že za teploty, výhodně za pokojové teplotě v rozmění 20 až 23 °C, je do formy_3, příkladně do formy z tvrzeného plastu, nanesena hustá transparentní vrstva 11. Tvar formy je vylisován dle požadavků na konkrétní tvar, příkladně má forma 3 tvar kruhový definovaného rozměru nebo oválný, nicméně tvar formy 3 může být jakýkoliv. Nejvýhodněji se jedná o soustavu obsahující několik vedle sebe vytvořených forem. Ve výhodném provedení je tato forma 3 opatřena tenkou polyuretanovou fólií 31 pro zajištění snadného vyjmutí fotoluminiscenčního prvku 1 z formy 3, přičemž forma 3 a polyuretanová fólie 31 spolu vytváří jeden celek. Příkladně může být jako vrstva 31 pro zajištění snadného vyjmutí fotoluminiscenčního prvku 1 z formy 3 použit vosk.

Na takto připravenou podkladovou plochu ve formě 3 se nanese hustá transparentní vrstva 11, jejíž hustota je 1 až 1,5 t/m³, příkladně 1,1 t/m³ a tato vrstva se rozprostře po připravené základní ploše formy 3. Hustá transparentní vrstva 11 je ve výhodném provedení pojivová pryskyřice nebo její směs nebo polyuretanová směs, která je průhledná. Je možné použít pryskyřici matnou, příkladně polyesterovou pryskyřici nebo lesklou, příkladně přírodní směsi. V nejvýhodnější provedení je hustá transparentní vrstva 11 bezbarvá a vodoodpudivá. Hustá transparentní vrstva 11 se nalévá na do formy 3, v nejvýhodnější provedení je nalévání provedeno pomocí automatického robota. Takto připravená vrstva 11 se nechá při uvedené teplotě po dobu 130 min relaxovat, a povrch této vrstvy 11 za uvedený čas zavadne.

Tloušťka vrstvy 11 je v rozmezí 0,1 až 20 mm, výhodně 0,8 mm. Na vrstvu 11 se nalije řídká transparentní vrstva 12. jejíž viskozita je 100 až 200 cP.s, příkladně 110 cP.s, a na tuto vrstvu 12 je ihned nanesen fotoluminiscenční prášek 131. který gravitačně propadne touto řídkou transparentní vrstvou 12 a ulpí na rozhraní transparentních vrstev 11 a 12. čímž vytvoří souvislou fotoluminiscenční vrstvu 13. Tloušťka řídké transparentní vrstvy 12 je v rozmezí 0,1 až 20 mm, v nej výhodnějším provedení je tloušťka 2 mm. Fotoluminiscenční prášek 131 je představen jako oxid kovů, shodně dle příkladu 1. Tloušťka fotoluminiscenční vrstvy 13 je závislá na velikosti krystalků a na jejich eventuálním překrytí, nejvýhodněji je tato vrstva tvořena krystalky usazenými vedle sebe bez překrytí. Pokrytí povrchu husté transparentní vrstvy 11 fotoluminiscenční vrstvou 13 je 70 až 100%. Takto připravené vrstvy 11. 12 a 13 jsou spolu vytvrzeny na účelem kompletace fotoluminiscenčního prvku 1. Vytvrzení je ve výhodném

-5 CZ 308334 B6 provedení realizováno při teplotách 25 až 55 °C v čase 10 až 3 hodiny, dle konkrétního použitého materiálu transparentních vrstev.

Poté je na vytvrzenou vrstvu 12 nanesena bílá krycí vrstva 14, která je spolu s vrstvami 11, 12 a 13 opět vytvrzena způsoben dle užitého materiálu transparentních vrstev. Bílá krycí vrstva 14 je ve výhodném provedení představena přírodní či umělou pryskyřicí obsahující příkladně titanovou bělobu. Tloušťka bílé krycí vrstvy je 0,05 až 0,5 mm, nejvýhodněji 0,1 až 0,2 mm. Ve výhodném provedení bílá krycí vrstva 14 je opatřena skelnými nebo uhlíkovými vlákny 15 pro zajištění zpevnění.

Takto vyrobené fotoluminiscenční prvky se po vytvrzení jednoduše vyloupnou nebo vyklopí z pružné formy. Fotoluminiscenční prvek 1, ve tvaru dle negativu formy, je určen pro přímé použití. Uvedeným způsobem se dosahuje vysoce zářících výrobků, které mohou být jak v provedení 2D, tak 3D.

Příkladně je uvedený zářící výrobek opatřen samolepicí fólií a připevněn na další podklad, jako je polymetylmetakrylát, polykarbonát, kov apod.

Fotoluminiscenční prvek 1 může být na požadované místo přilepen či jinak uchycen. Uvedené výrobky jsou příkladně zapracovány do svodidel okolo silnic atd. Svítivost povrchu výrobku je 160 až 220 mcd/m² po dobu 1 hodiny od nasvícení lampou typu halogen o svítivosti 1000 luxů po dobu 10 minut, popř. lampou typu xenon o svítivosti 1000 luxů po dobu 5 minut. Xenon má více fialovou barvu světla, které dodá více energie pro fotoluminiscenční efekt.

Příklad 3

Způsob výroby fotoluminiscenčního prvku 1 podle předloženého vynálezu spočívá v tom, že za teploty v rozmezí 15 až 55 °C, výhodně o pokojové teplotě v rozmezí 20 až 23 °C je na desku 2, příkladně desku z tvrzeného plastu nebo skla, nanesena tenká vrstva 21 pro zajištění snadného odebrání desky, výhodně je tato vrstva vytvořena nalitím nebo nástřikem teplého tekutého vosku, který se rozprostře po ploše a při okolní teplotě ztuhne nebo do formy 3, příkladně do formy z tvrzeného plastu, nanesena hustá transparentní vrstva. Tvar formy 3 je vylisován dle požadavků na konkrétní tvar, příkladně má forma tvar kruhový definovaného rozměru nebo oválný, nicméně tvar formy 3 může být jakýkoliv, příkladně se obrazce formy mohou opakovat v řadách vedle se a/nebo za sebou.

Ve výhodné provedení je tato forma 3_opatřena tenkou polyuretanovou fólií 31 pro zajištění snadného vyjmutí fotoluminiscenčního prvku 1 z formy 3, příkladně je povrch formy 3 je kvalitativně uzpůsoben pro zajištění snadného vyjmutí fotoluminiscenčního prvku.

Na takto připravenou podkladovou plochu se nanese hustá transparentní vrstva 11, jejíž hustota je 1 až 1,5 t/m³, příkladně 1,4 t/m³, kde hustota vrstvy 11 umožňuje nanášení tak, aby hustá transparentní vrstva 11 byla na svém profilu tvarovaná, nejvýhodněji je ve tvaru pyramidek, které se v nej výhodnějším provedení nanášejí opakovaně vedle sebe a za sebou, čímž vytvoří řady a plocha transparentní vrstvy 11 je tak větší. Takto připravený povrch se nechá zavadnout.

Hustá transparentní vrstva 11 je ve výhodném provedení pojivová pryskyřice nebo její směs nebo polyuretanová směs, která je průhledná. Je možné použít pryskyřici matnou, příkladně polyesterovou pryskyřici nebo lesklou, příkladně přírodní směsi. V nejvýhodnější provedení je hustá transparentní vrstva 11 bezbarvá a vodoodpudivá. Hustá transparentní vrstva 11 se nanáší na desku 2 nebo do formy 3, v nejvýhodnější provedení je nanášení provedeno pomocí automatického robota.

Takto připravená vrstva 11 se nechá při uvedené teplotě po dobu 90 min. relaxovat, a povrch této vrstvy 11 za uvedený čas zavadne. Výška pyramidek je v rozmezí 0,2 až 12 mm. Na pyramidicky

-6 CZ 308334 B6 tvarovanou vrstvu 11 se nalije řídká transparentní vrstva 12. jejíž viskozita je 100 až 200 cP.s. Na tuto vrstvu 12 je ihned nanesen fotoluminiscenční prášek 131. který gravitačně propadne touto řídkou transparentní vrstvou 12 a ulpí na rozhraní transparentních vrstev 11 a 12, čímž vytvoří souvislou pyramidicky tvarovanou fotoluminiscenční vrstvu 13. Tloušťka vrstvy 12 je v rozmezí 0,4 až 20 mm, v nej výhodnějším provedení je tloušťka 4 mm. Tvarováním hustém transparentní vrstvy 11 je dosaženo větší plochy fotoluminiscenční vrstvy 13 a tím dochází k zajištění větší svítivosti fotoluminiscenčního prvku. Ve výhodném provedení je deska 2 opatřena rámem 22 pro zamezení roztečení řídké transparentní vrstvy 12.

Fotoluminiscenční prášek 131 je představen jako oxid kovů, shodně dle příkladu 1. Fotoluminiscenční prášek 131. obsahující velké krystalky, je pomocí stěrky nanášen - sypán na povrch řídké transparentní vrstvy 12. ve výhodném provedení je nanášen automatizovaně pomocí sítotisku, kde rychlost pohybu nože je konstantní. Tloušťka fotoluminiscenční vrstvy 13 je závislá na velikosti krystalků a na jejich eventuálním překrytí, nej výhodněji je tato vrstva tvořena krystalky usazenými vedle sebe bez překrytí. Pokrytí povrchu husté transparentní vrstvy 11 fotoluminiscenční vrstvou 13 je 70 až 100 %. Takto připravená vrstva 11. 12 a 13. jsou spolu vytvrzeny na účelem kompletace fotoluminiscenčního prvku 1. Vytvrzení je ve výhodném provedení realizováno při teplotách 25 až 55 °C v čase 10 až 3 hodiny, dle konkrétního použitého materiálu transparentních vrstev. Poté je ve výhodném provedení na vytvrzenou vrstvu 12 nanesena bílá krycí vrstva 14, za účelem zvýšení svítivosti. Vrstvy 11, 12, 13 a 14 jsou spolu opět vytvrzeny způsoben dle užitého materiálu vrstev. Bílá krycí vrstva 14 je ve výhodném provedení představena přírodní či umělou pryskyřicí obsahující příkladně titanovou bělobu. Tloušťka bílé krycí vrstvy 14 je 0,05 až 0,5 mm, nejvýhodněji 0,1 až 0,2 mm. Ve výhodném provedení bílá krycí vrstva 14 je opatřena skelnými nebo uhlíkovými vlákny 15 pro zajištění zpevnění.

Fotoluminiscenční prvek j_, ve tvaru desky, vyrobený způsobem uvedeným výše je připraven pro další zpracování, ve výhodném provedení jsou pomocí třískového obrábění či jiného způsobu dělení materiálu vyhotoveny požadované tvary např. kulaté, čtvercové či trojúhelníkové prvky, fotoluminiscenční prvek j. vyroben ve formě 3 se po vytvrzení jednoduše vyloupne nebo vyklopí z pružné formy. Fotoluminiscenční prvek ve tvaru dle negativu formy, je určen pro přímé použití.

Příklad 4

Způsob výroby fotoluminiscenčního prvku 1 podle předloženého vynálezu spočívá v tom, že za teploty, výhodně za pokojové teplotě v rozmění 20 až 23 °C, je na desku 2 , nanesena hustá transparentní vrstva 11. Dno desky 2 upraveno ve tvaru několikabokého jehlanu, příkladně vedle sebe se opakujících několikabokých jehlanů, v nej výhodnějším provedení je několikaboký jehlan představen jako pyramidka, přičemž výška pyramidy je od 0,2 do 15 mm a úhel stěny je od 15°do 75°, nejvýhodněji je výška 6 až 12 mm, s úhlem stěny 45°. Deska 2 je příkladně vyrobena z tvrzeného plastu nebo skla, na níž je nanesena tenká vrstva 21 pro zajištění snadného odebrání desky, výhodně je tato vrstva vytvořena naletím nebo nástřikem teplého tekutého vosku, který se rozprostře po ploše a při okolní teplotě ztuhne. Dále je výhodné, aby deska 2 byla opatřena rámem 22 pro zamezení stékání vrstvy 12 na okrajích.

Na takto připravenou tvarovanou podkladovou plochu na desce 2 se nanese hustá transparentní vrstva 11, jejíž hustota je 1 až 1,5 t/m³, příkladně 1,4 t/m³ a tato vrstva se rozprostře po připravené tvarované ploše desky 2, přičemž vzhledem k fyzikálním vlastnostem transparentní vrstvy 11 bude tato vrstva kopírovat tvar dna a zavadne v kopírovaném tvaru. Transparentní vrstva 11 je ve výhodném provedení pojivová pryskyřice nebo její směs nebo polyuretanová směs, která je průhledná. Je možné použít pryskyřici matnou, příkladně polyesterovou pryskyřici nebo lesklou, příkladně přírodní směsi. V nejvýhodnější provedení je hustá transparentní vrstva 11 bezbarvá a vodoodpudivá. Hustá transparentní vrstva 11 se nalévá na desku 2, v nej výhodnější provedení je nalévání provedeno pomocí automatického robota. Tloušťka vrstvy 11 je v rozmezí 0,1 až 20 mm, výhodně 0,8 mm. Na vrstvu 11 se nalije řídká transparentní vrstva 12. jejíž

-7 CZ 308334 B6 viskozita je 100 až 200 cP.s. Výška vrstvy 12 je výhodně o 0,1 až 3 mm vyšší něž výška pyramidky. Na vrstvu 12 je ihned nanesen fotoluminiscenční prášek 131. který gravitačně propadne touto řídkou transparentní vrstvou 12 a ulpí na rozhraní transparentních vrstev 11 a 12, čímž vytvoří souvislou tvarovanou fotoluminiscenční vrstvu 13. Tloušťka vrstvy 12 je v rozmezí 0,1 až 20 mm, v nej výhodnějším provedení je tloušťka 2 mm.

Vytvořením větší reálné plochy fotoluminiscenční vrstvy 13 dojde výraznému nárůstu svítivosti fotoluminiscenčního prvku 1.

Fotoluminiscenční prášek 131 je představen jako oxid kovů, shodně jak je uvedeno výše. Tloušťka fotoluminiscenční vrstvy 13 je závislá na velikosti krystalků a na jejich eventuálním překrytí, nejvýhodněji je tato vrstva tvořena krystalky usazenými vedle sebe bez překrytí. Pokrytí povrchu husté transparentní vrstvy 11 fotoluminiscenční vrstvou 13je70až 100%.

Takto připravené vrstvy 11. 12 a 13 jsou spolu vytvrzeny za účelem kompletace fotoluminiscenčního prvku 1. Vytvrzení je ve výhodném provedení realizováno při teplotách 25 až 55 °C v čase 10 až 3 hodiny, dle konkrétního použitého materiálu transparentních vrstev. Poté je na vytvrzenou vrstvu 12 nanesena bílá krycí vrstva 14, která je spolu s vrstvami 11. 12, 13 opět vytvrzena způsoben dle užitého materiálu vrstev. Bílá krycí vrstva 14 je ve výhodném provedení představena přírodní či umělou pryskyřicí obsahující příkladně titanovou bělobu. Tloušťka bílé krycí vrstvy 14 je 0,05 až 0,5 mm, nejvýhodněji 0,1 až 0,2 mm. Ve výhodném provedení bílá krycí vrstva 14 je opatřena skelnými nebo uhlíkovými vlákny 15 pro zajištění zpevnění. Fotoluminiscenční prvek j_, ve tvaru desky, vyrobený způsobem uvedeným výše je připraven pro další zpracování, ve výhodném provedení jsou pomocí třískového obrábění či jiného způsobu dělení materiálu vyhotoveny požadované tvary např. kulaté, čtvercové či trojúhelníkové prvky.

Pro zajištění dlouhodobé svítivosti tvarované fotoluminiscenční vrstvy 13 se fotoluminiscenční prvek j. se vyjme z desky 2, otočí se a vloží na desku Zaopatřenou rámem 22', přičemž rám 22' je výhodně o 6 % větší než fotoluminiscenční prvek j_, a tvarovaný povrch se zalije dorovnávací transparentní vrstvou 16. Dorovnávací vrstva 16 obteče celý fotoluminiscenční prvek j_ a tím je zabráněno narušení a degradaci svíticí vrstvy fotoluminiscenčního prvku 1. Příkladně je deska 2' opatřena vrstvou 21' pro zajištění snadného odebrání. Dále ve výhodném provedení je dorovnávací transparentní vrstva 16 opatřena fólií 6 pro zajištění hladkého a lesklého povrchu, jež je do povrchu fotoluminiscenčního prvku 1 zapracována válcovacím zařízením 7.

Fotoluminiscenční prvek j_, ve tvaru desky, vyrobený způsobem uvedeným výše je připraven pro další zpracování, ve výhodném provedení jsou pomocí třískového obrábění nebo řezání vodním paprskem či jiným způsobem dělení vyhotoveny požadované tvary např. kulaté, čtvercové či trojúhelníkové prvky, písmena, číslice apod. Příkladně je uvedený zářící výrobek opatřen samolepicí fólií a připevněn na další podklad, jako je polymetylmetakrylát, polykarbonát, kov, apod. Upevnění fotoluminiscenčního prvku 1 je možné také lepidlem, tmelem či jinými dalšími známými způsoby přichycení.

Uvedené výrobky jsou příkladně zapracovány do svodidel okolo silnic atd. Svítivost povrchu výrobku je 160 až 220 mcd/m² po dobu 1 hodiny od nasvícení lampou typu halogen o svítivosti 1000 luxů po dobu 10 minut, popř. lampou typu xenon o svítivosti 1000 luxů po dobu 5 minut. Xenon má více fialovou barvu světla, které dodá více energie pro fotoluminiscenční efekt.

Příklad 5

Způsob výroby fotoluminiscenčního prvku 1 podle předloženého vynálezu spočívá v tom, že za teploty, výhodně za pokojové teplotě v rozmění 20 až 23 °C, je do formy 3, nanesena hustá transparentní vrstva 11. Dno formy 3_je upraveno ve tvaru několikabokého jehlanu, příkladně vedle sebe se opakujících několikabokých jehlanů, v nej výhodnějším provedení je několikaboký jehlan představen jako pyramidka, přičemž výška pyramidy je od 0,2 do 15 mm a úhel stěny je

-8 CZ 308334 B6 od 15 do 75°, nejvýhodněji je výška 6 až 12 mm, s úhlem stěny 45°. Forma 3 je výhodně vyhotovena z tvrzeného plastu a tvar formy je vylisován dle požadavků na konkrétní tvar, příkladně má forma tvar kruhový definovaného rozměru nebo oválný, nicméně tvar formy 3 může být jakýkoliv. V nej výhodnější provedení je to soustava v řadách vedle sebe a/nebo za sebou vyhotoveno několik forem. Ve výhodné provedení je tato forma 3 opatřena tenkou polyuretanovou fólií 31 pro zajištění snadného vyjmutí fotoluminiscenčního prvku 1 z formy 3.

Na takto připravenou tvarovanou podkladovou plochu ve formě 3 se nanese hustá transparentní vrstva 11. jejíž hustota je 1 až 1,5 t/m³, a tato vrstva se rozprostře po připravené tvarované ploše dna formy 3, přičemž vzhledem k fyzikálním vlastnostem transparentní vrstvy 11 bude tato vrstva kopírovat tvar dna a zavadne v kopírovaném tvaru. Transparentní vrstva 11 je ve výhodném provedení pojivová pryskyřice nebo její směs nebo polyuretanová směs, která je průhledná. Je možné použít pryskyřici matnou, příkladně polyesterovou pryskyřici nebo lesklou, příkladně přírodní směsi. V nejvýhodnější provedení je hustá transparentní vrstva 11 bezbarvá a vodoodpudivá. Hustá transparentní vrstva 11 se nalévá do formy 3, v nej výhodnější provedení je nalévání provedeno pomocí automatického robota. Tloušťka vrstvy 11 je v rozmezí 0,1 až 20 mm, výhodně 0,8 mm. Na vrstvu 11 se nalije řídká transparentní vrstva 12, jejíž viskozita je 100 až 200 cP.s. Výška vrstvy 12 je výhodně o 0,1 až 3 mm vyšší něž výška pyramidky. Na vrstvu 12 je ihned nanesen fotoluminiscenční prášek 131. který gravitačně propadne touto řídkou transparentní vrstvou 12 a ulpí na rozhraní transparentních vrstev 11 a 12, čímž vytvoří souvislou tvarovanou fotoluminiscenční vrstvu 13. Tloušťka vrstvy 12 je v rozmezí 0,1 až 20 mm, v nej výhodnějším provedení je tloušťka 2 mm.

Fotoluminiscenční prášek 131 je představen jako oxid kovů, jak je uvedeno výše včetně hustoty pokrytí.

Takto připravené vrstvy 11, 12 a 13 jsou spolu vytvrzeny na účelem kompletace fotoluminiscenčního prvku L Vytvrzení je ve výhodném provedení realizováno při teplotách 25 až 55 °C v čase 10 až 3 hodiny, dle konkrétního použitého materiálu transparentních vrstev. Poté je na vytvrzenou vrstvu 12 nanesena bílá krycí vrstva 14, která je spolu s vrstvami 11, 12, 13 opět vytvrzena způsoben dle užitého materiálu vrstev. Bílá krycí vrstva 14 je ve výhodném provedení představena přírodní či umělou pryskyřicí obsahující příkladně titanovou bělobu. Tloušťka bílé krycí vrstvy 14 je 0,05 až 0,5 mm, nejvýhodněji 0,1 až 0,2 mm. Ve výhodném provedení bílá krycí vrstva 14 je opatřena skelnými nebo uhlíkovými vlákny 15 pro zajištění zpevnění. Fotoluminiscenční prvky 1 vytvořené ve formách 3 se po vytvrzení jednoduše vyloupnou nebo vyklopí z pružné formy a jsou připraveny pro přímé použití.

Pro zajištění dlouhodobé svítivosti tvarované fotoluminiscenční vrstvy 13 se fotoluminiscenční prvek 1 se vyjme nebo z formy 3, otočí se a vloží do formy 3/, přičemž je výhodné, aby forma 3' byla o 7 procent větší než fotoluminiscenční prvek 1, a tvarovaný povrch se zalije dorovnávací transparentní vrstvou 16. Dorovnávací vrstva 16 obteče celý fotoluminiscenční prvek j_ a tím je zabráněno narušení a degradaci svíticí vrstvy fotoluminiscenčního prvku 1. Příkladně je forma 3' opatřena vrstvou 3Γ pro zajištění snadného vyjmutí, ve výhodném provedení je dorovnávací transparentní vrstva 16 opatřena fólií 6 pro zajištění hladkého a lesklého povrchu, jež je do povrchu fotoluminiscenčního prvku 1 zapracována válcovacím zařízením 7.

Příkladně je uvedený zářící výrobek opatřen samolepicí fólií a připevněn na další podklad, jako je polymetylmetakrylát, polykarbonát, kov apod. Upevnění fotoluminiscenčního prvku 1 je možné také lepidlem, tmelem či jinými dalšími známými způsoby přichycení.

Uvedené výrobky jsou příkladně zapracovány do svodidel okolo silnic atd. Svítivost povrchu výrobku je 160 až 220 mcd/m² po dobu 1 hodiny od nasvícení lampou typu halogen o svítivosti

-9 CZ 308334 B6

1000 luxů po dobu 10 minut, popř. lampou typu xenon o svítivosti 1000 luxů po dobu 5 minut. Xenon má více fialovou barvu světla, které dodá více energie pro fotoluminiscenční efekt.

Příklad 6

Způsob výroby fotoluminiscenčního prvku 1 podle předloženého vynálezu spočívá v tom, že za teploty v rozmezí 15 až 55 °C, výhodně o pokojové teplotě v rozmezí 20 až 23 °C je na desku 2, příkladně desku z tvrzeného plastu nebo skla, nanesena tenká vrstva 21 pro zajištění snadného odebrání z desky, výhodně je tato vrstva vytvořena naletím nebo nástřikem teplého tekutého vosku, který se rozprostře po ploše a při okolní teplotě ztuhne. Na takto připravenou podkladovou plochu se nanese hustá transparentní vrstva 11. jejíž hustota je 1 až 1,5 t/m³, a tato vrstva se rozprostře po připravené základní desce 2. Hustá transparentní vrstva 11 je ve výhodném provedení pojivová pryskyřice nebo její směs nebo polyuretanová směs, která je průhledná shodně jak je uvedeno výše. V nej výhodnější provedení je hustá transparentní vrstva 11 bezbarvá a vodoodpudivá. Hustá transparentní vrstva 11 se nalévá na desku 2, v nej výhodnější provedení je nalévání provedeno pomocí automatického robota. Takto připravená vrstva 11 se nechá pň uvedené teplotě po dobu 80 až 350 min relaxovat, a povrch této vrstvy 11 za uvedený čas zavadne. Tloušťka husté transparentní vrstvy 11 je v rozmezí 0,1 až 20 mm, výhodně 0,8 mm.

Do této husté transparentní vrstvy 11 je pomocí vtlačovacího prostředku provedeni vtlak, přičemž vtlačovací prostředek 5 má tvarovanou plochu. Tím je hustá transparentní vrstva 11 vytvarována a její plocha je větší. Nejvýhodněji je tvarovaná plocha pyramidická. Na hustou transparentní vrstvu 11 se nalije řídká transparentní vrstva 12, jejíž viskozita je 100 až 200 cP.s, a na řídkou transparentní vrstvu 12 je ihned nanesen fotoluminiscenční prášek 131, který gravitačně propadne touto řídkou transparentní vrstvou 12 a ulpí na rozhraní transparentních vrstev 11 a 12. čímž vytvoří souvislou fotoluminiscenční vrstvu 13.

Dosažená fotoluminiscenční vrstva 13 má výrazně větší plochu a tím je dosaženo vyšší svítivosti. Tloušťka řídké transparentní vrstvy 12 je v rozmezí 0,1 až 20 mm, v nej výhodnějším provedení je tloušťka 2 mm.

Fotoluminiscenční prášek 131 je představen jako oxid kovů, jak je uvedeno výše, včetně jeho procentuálního pokrytí.

Takto připravené vrstvy 11. 12 a 13. jsou spolu vytvrzeny na účelem kompletace fotoluminiscenčního prvku 1. Vytvrzení je ve výhodném provedení realizováno při teplotách 25 až 55 °C v čase 10 až 3 hodiny, dle konkrétního použitého materiálu transparentních vrstev.

Ve výhodném provedení je na vytvrzenou vrstvu 12 nanesena bílá krycí vrstva 14, za účelem zvýšení svítivosti. Vrstvy 11, 12 a 13, 14 jsou spolu opět vytvrzeny způsoben dle užitého materiálu. Bílá krycí vrstva 14 je ve výhodném provedení představena přírodní či umělou pryskyřicí obsahující příkladně titanovou bělobu. Tloušťka bílé krycí vrstvy 14 je 0,05 až 0,5 mm, nejvýhodněji 0,1 až 0,2 mm. Ve výhodném provedení bílá krycí vrstva 14 je opatřena skelnými nebo uhlíkovými vlákny 15 pro zajištění zpevnění.

Fotoluminiscenční prvek j_, ve tvaru desky, vyrobený způsobem uvedeným výše je připraven pro další zpracování, ve výhodném provedení jsou pomocí třískového obrábění nebo řezání vodním paprskem či jiným způsobem dělení vyhotoveny požadované tvary např. kulaté, čtvercové či trojúhelníkové prvky, písmena, číslice apod.

Příklad 7

Způsob výroby fotoluminiscenčního prvku 1 podle předloženého vynálezu spočívá v tom, že za teploty, výhodně za pokojové teplotě v rozmění 20 až 23 °C, je do formy 3, příkladně do formy z tvrzeného plastu, nanesena hustá transparentní vrstva 11. Tvar formy je vylisován dle

- 10CZ 308334 B6 požadavků na konkrétní tvar, příkladně má forma tvar kruhový definovaného rozměru nebo oválný, nicméně tvar formy 3 může být jakýkoliv. Nejvýhodněji se jedná o desku obsahující několik vedle sebe vytvořených forem. Ve výhodném provedení je tato forma 3 opatřena tenkou polyuretanovou fólií 31 pro zajištění snadného vyjmutí fotoluminiscenčního prvku 1 z formy 3, přičemž forma 3 a polyuretanová fólie 31 spolu vytváří jeden celek. Příkladně může být jako vrstva 31 pro zajištění snadného vyjmutí fotoluminiscenčního prvku 1 z formy 3 použit vosk.

Na takto připravenou podkladovou plochu ve formě 3 se nanese hustá transparentní vrstva 11. jejíž hustota je 1 až 1,5 t/m³, a tato vrstva se rozprostře po připravené základní ploše formy 3. Transparentní vrstva 11 je ve výhodném provedení pojivová pryskyřice nebo její směs nebo polyuretanová směs, která je průhledná. Je možné použít pryskyřici matnou, příkladně polyesterovou pryskyřici nebo lesklou, příkladně přírodní směsi. V nejvýhodnější provedení je hustá transparentní vrstva 11 bezbarvá a vodoodpudivá. Hustá transparentní vrstva 11 se nalévá do formy 3, v nejvýhodnější provedení je nalévání provedeno pomocí automatického robota. Takto připravená vrstva 11 se nechá při uvedené teplotě po dobu 80 až 150 min relaxovat, a povrch této vrstvy 11 za uvedený čas zavadne. Tloušťka vrstvy 11 je v rozmezí 0,1 až 20 mm, výhodně 0,8 mm. Do této husté transparentní vrstvy 11 je pomocí vtlačovacího prostředku provedeni vtlak, přičemž vtlačovací prostředek 5 má tvarovanou plochu. Tím je hustá transparentní vrstva 11 vytvarována a její plocha je větší. Nejvýhodněji je tvarovaná plocha pyramidická.

Na vrstvu 11 se nalije řídká transparentní vrstva 12, jejíž viskozita je 100 až 200 cP.s, a na tuto vrstvu 12 je ihned nanesen fotoluminiscenční prášek 131, který gravitačně propadne touto řídkou transparentní vrstvou 12 a ulpí na rozhraní transparentních vrstev 11 a 12, čímž vytvoří souvislou fotoluminiscenční vrstvu 13. Tloušťka vrstvy 12 je v rozmezí 0,1 až 20 mm, v nej výhodnějším provedení je tloušťka 2 mm. Fotoluminiscenční prášek 131 je představen jako oxid kovů, shodně jak je uvedeno výše. Takto připravené vrstvy 11, 12 a 13 jsou spolu vytvrzeny na účelem kompletace fotoluminiscenčního prvku 1. Vytvrzení je ve výhodném provedení realizováno při teplotách 25 až 55 °C v čase 10 až 3 hodiny, dle konkrétního použitého materiálu transparentních vrstev.

Poté je na vytvrzenou vrstvu 12 nanesena bílá krycí vrstva 14, která je spolu s vrstvami 11. 12 a 13 opět vytvrzena způsoben dle užitého materiálu transparentních vrstev. Bílá krycí vrstva 14 je ve výhodném provedení představena přírodní či umělou pryskyřicí obsahující příkladně titanovou bělobu. Tloušťka bílé krycí vrstvy 14 je 0,05 až 0,5 mm, nejvýhodněji 0,1 až 0,2 mm. Ve výhodném provedení je bílá krycí vrstva 14 opatřena skelnými nebo uhlíkovými vlákny 15 pro zajištění zpevnění.

Příkladně je uvedený zářící výrobek opatřen samolepicí fólií a připevněn na další podklad, jako je polymetylmetakrylát, polykarbonát, kov apod. Fotoluminiscenční prvek 1 může být na požadované místo přilepen či jinak uchycen. Uvedené výrobky jsou příkladně zapracovány do svodidel okolo silnic atd. Svítivost povrchu výrobku je 160 až 220 mcd/m² po dobu 1 hodiny od nasvícení lampou typu halogen o svítivosti 1000 luxů po dobu 10 minut, popř. lampou typu xenon o svítivosti 1000 luxů po dobu 5 minut.

Claims

PATENTOVÉ NÁROKY

1. Způsob výroby fotoluminiscenčního prvku (1), vyznačující se tím, že za okolní teploty od 15 až 55 °C je na desku (2) nebo do alespoň jedné formy (3) nanesena hustá transparentní vrstva (11) , jejíž hustota je 1 až 1,5 t/m³, kdy tato hustá transparentní vrstva (11) se nechá zavadnout po dobu 10 minut až 8 hodin, a poté se na ni nanese řídká transparentní vrstva (12), jejíž viskozita je 100 až 200 cP.s, přičemž ihned je na tuto řídkou transparentní vrstvu (12) nanesen fotoluminiscenční prášek (131), který gravitačně propadne touto řídkou transparentní vrstvou (12) a ulpí na rozhraní transparentních vrstev (11) a (12), čímž vytvoří souvislou fotoluminiscenční vrstvu (13), a dále jsou tyto vrstvy (11), (12), (13) vytvrzeny.
2. Způsob výroby fotoluminiscenčního prvku (1) podle nároku 1, vyznačující se tím, že hustá transparentní vrstva je nanášena tak, aby byla na svém profilu tvarována za účelem zvýšení povrchové plochy husté transparentní vrstvy (11).
3. Způsob výroby fotoluminiscenčního prvku (1) podle nároku 1, vyznačující se tím, že dno desky (2) nebo formy (3) je upraveno do tvaru několikabokých jehlanů, přičemž nanášená hustá transparentní vrstva (11) kopíruje tvarované dno desky (2) nebo formy (3).
4. Způsob výroby fotoluminiscenčního prvku (1) podle nároku 3, vyznačující se tím, že dno desky (2) nebo formy (3) je upraveno do tvaru pyramid, přičemž výška pyramidy je od 0,2 do 15 mm a úhel stěny je od 15 do 75°.
5. Způsob výroby fotoluminiscenčního prvku (1) podle některého z nároků 3 nebo 4, vyznačující se tím, že fotoluminiscenční prvek (1) se vyjme z desky (2), překlopí se a uloží na desku (2') s rovným dnem a tvarovaný povrch se zaleje dorovnávací transparentní vrstvou (16).
6. Způsob výroby fotoluminiscenčního prvku (1) podle nároku 5, vyznačující se tím, že deska (2, 2') je opatřena rámem (22, 22'), přičemž rám (22') je ve svém tvaru o 1 % až 10 % větší než fotoluminiscenční prvek (1) pro umožnění obtékání bočních ploch fotoluminiscenčního prvku dorovnávací transparentní vrstvou (16).
7. Způsob výroby fotoluminiscenčního prvku (1) podle některého z nároků 3 nebo 4, vyznačující se tím, že fotoluminiscenční prvek (1) se vyjme z formy (3), otočí se a vloží se do formy (3') s rovným dnem, kdy tvarovaný povrch se zaleje dorovnávací transparentní vrstvou (16).
8. Způsob výroby fotoluminiscenčního prvku (1) podle nároku 7, vyznačující se tím, že forma (3') ve svém tvaru o 1 % až 10 % větší než fotoluminiscenční prvek (1) pro umožnění obtékání bočních ploch fotoluminiscenčního prvku dorovnávací transparentní vrstvou (16).
9. Způsob výroby fotoluminiscenčního prvku (1) podle některého z nároků 1 až 7, vyznačující se tím, že hustá transparentní vrstva (11) je nanášena pomocí způsobu 3D tisku.
10. Způsob výroby fotoluminiscenčního prvku (1) podle nároku 1, vyznačující se tím, že do husté transparentní vrstvy (11) se provede vtlak vtlačovacím prostředkem (5), přičemž povrch vtlačovacího prostředku (5) je tvarovaný.
11. Způsob výroby fotoluminiscenčního prvku (1) podle nároku 10, vyznačující se tím, že vtlačovací plocha vtlačovacího prostředku (5) je upravena do tvaru několikabokých jehlanů nebo pyramid.

- 12CZ 308334 B6
12. Způsob výroby fotoluminiscenčního prvku (1) podle některého z nároků 1 až 11, vyznačující se tím, že řídká transparentní vrstva (12) přesahuje hustou transparentní vrstvu (11) na jejím vrcholu o 0,1 až 20 mm.
13. Způsob výroby fotoluminiscenčního prvku (1) podle některého z nároků 1 až 6, 8, 9, 10, 11, vyznačující se tím, že dno desky (2) je upraveno jako hladké.
14. Způsob výroby fotoluminiscenčního prvku (1) podle nároku 12, vyznačující se tím, že deska (2, 2') je opatřena vrstvou (21) pro zajištění snadného odebrání desky (2) od fotoluminiscenčního prvku (1).
15. Způsob výroby fotoluminiscenčního prvku (1) podle některého z nároků 1 až 4, 7, 8, 9, 10,

11, vyznačující se tím, že forma (3, 3') je opatřena vrstvou (31) pro zajištění snadného vyjmutí fotoluminiscenčního prvku (1).
16. Způsob výroby fotoluminiscenčního prvku (1) podle nároku 15, vyznačující se tím, že vrstva (31) pro upravena jako polyfólie.
17. Způsob výroby fotoluminiscenčního prvku (1) podle některé z nároků 1 až 16, vyznačující se tím, že na vytvrzené vrstvy (11, 12, 13) je nanesena bílá krycí vrstva (14), přičemž vrstvy (11,

12, 13, 14) jsou spolu vytvrzeny.
18. Způsob výroby fotoluminiscenčního prvku (1) podle některého z nároků 1 až 17, vyznačující se tím, že tloušťka bílé krycí vrstvy (14) je 0,1 až 10 mm.
19. Způsob výroby fotoluminiscenčního prvku (1) podle některého z nároků 1 až 18, vyznačující se tím, že fotoluminiscenční prášek (131) je nanášen na řídkou transparentní vrstvu (12) pomocí síta (4).
20. Způsob výroby fotoluminiscenčního prvku (1) podle některého z nároků 1 až 19, vyznačující se tím, že řídká transparentní vrstva (12) a/nebo bílá krycí (14) je opatřena skelnými nebo uhlíkovými vlákny (15) pro zajištění zpevnění.