CZ294086B6 - Sklo s povlakem a násobný zasklívací dílec je obsahující - Google Patents
Sklo s povlakem a násobný zasklívací dílec je obsahující Download PDFInfo
- Publication number
- CZ294086B6 CZ294086B6 CZ1999831A CZ83199A CZ294086B6 CZ 294086 B6 CZ294086 B6 CZ 294086B6 CZ 1999831 A CZ1999831 A CZ 1999831A CZ 83199 A CZ83199 A CZ 83199A CZ 294086 B6 CZ294086 B6 CZ 294086B6
- Authority
- CZ
- Czechia
- Prior art keywords
- layer
- oxide
- coating
- sun
- heat
- Prior art date
Links
- 239000011521 glass Substances 0.000 title claims abstract description 72
- 238000000576 coating method Methods 0.000 claims abstract description 42
- QGLKJKCYBOYXKC-UHFFFAOYSA-N nonaoxidotritungsten Chemical compound O=[W]1(=O)O[W](=O)(=O)O[W](=O)(=O)O1 QGLKJKCYBOYXKC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 23
- 229910001930 tungsten oxide Inorganic materials 0.000 claims abstract description 23
- 229910001887 tin oxide Inorganic materials 0.000 claims abstract description 12
- XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N tin dioxide Chemical compound O=[Sn]=O XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 11
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 claims abstract description 7
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 claims abstract description 7
- IVMYJDGYRUAWML-UHFFFAOYSA-N cobalt(ii) oxide Chemical compound [Co]=O IVMYJDGYRUAWML-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 5
- 229910003437 indium oxide Inorganic materials 0.000 claims abstract description 5
- 150000002736 metal compounds Chemical class 0.000 claims abstract description 5
- 229910000428 cobalt oxide Inorganic materials 0.000 claims abstract description 4
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 claims abstract description 4
- WGLPBDUCMAPZCE-UHFFFAOYSA-N Trioxochromium Chemical compound O=[Cr](=O)=O WGLPBDUCMAPZCE-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 3
- XHCLAFWTIXFWPH-UHFFFAOYSA-N [O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[V+5].[V+5] Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[V+5].[V+5] XHCLAFWTIXFWPH-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 3
- 229910000423 chromium oxide Inorganic materials 0.000 claims abstract description 3
- PJXISJQVUVHSOJ-UHFFFAOYSA-N indium(iii) oxide Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[In+3].[In+3] PJXISJQVUVHSOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 3
- 229910001935 vanadium oxide Inorganic materials 0.000 claims abstract description 3
- UQSXHKLRYXJYBZ-UHFFFAOYSA-N Iron oxide Chemical compound [Fe]=O UQSXHKLRYXJYBZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract 4
- 239000010410 layer Substances 0.000 claims description 85
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 claims description 35
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 claims description 24
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 claims description 14
- 230000037072 sun protection Effects 0.000 claims description 14
- 239000005329 float glass Substances 0.000 claims description 11
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 8
- 230000000475 sunscreen effect Effects 0.000 claims description 7
- 239000000516 sunscreening agent Substances 0.000 claims description 7
- 239000011247 coating layer Substances 0.000 claims description 6
- 239000003086 colorant Substances 0.000 claims description 5
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims description 5
- URLJKFSTXLNXLG-UHFFFAOYSA-N niobium(5+);oxygen(2-) Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[Nb+5].[Nb+5] URLJKFSTXLNXLG-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 229910000484 niobium oxide Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 229910052783 alkali metal Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 150000001340 alkali metals Chemical class 0.000 claims description 2
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 229910000476 molybdenum oxide Inorganic materials 0.000 claims description 2
- PQQKPALAQIIWST-UHFFFAOYSA-N oxomolybdenum Chemical compound [Mo]=O PQQKPALAQIIWST-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 claims description 2
- 238000000034 method Methods 0.000 abstract description 11
- 238000005229 chemical vapour deposition Methods 0.000 abstract description 7
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 abstract description 7
- 238000000151 deposition Methods 0.000 abstract description 5
- 230000007935 neutral effect Effects 0.000 abstract description 5
- 230000008021 deposition Effects 0.000 abstract description 3
- 238000001755 magnetron sputter deposition Methods 0.000 description 9
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical compound [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 230000008569 process Effects 0.000 description 5
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 description 5
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 5
- 239000004332 silver Substances 0.000 description 5
- WHXSMMKQMYFTQS-UHFFFAOYSA-N Lithium Chemical compound [Li] WHXSMMKQMYFTQS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N Tin Chemical compound [Sn] ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- APFVFJFRJDLVQX-UHFFFAOYSA-N indium atom Chemical compound [In] APFVFJFRJDLVQX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- AMGQUBHHOARCQH-UHFFFAOYSA-N indium;oxotin Chemical compound [In].[Sn]=O AMGQUBHHOARCQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 4
- 229910052744 lithium Inorganic materials 0.000 description 4
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 4
- YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N Fluorine atom Chemical compound [F] YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 3
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 3
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 description 3
- RHZWSUVWRRXEJF-UHFFFAOYSA-N indium tin Chemical compound [In].[Sn] RHZWSUVWRRXEJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 230000035515 penetration Effects 0.000 description 3
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 3
- 229910052718 tin Inorganic materials 0.000 description 3
- WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N tungsten Chemical compound [W] WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000010937 tungsten Substances 0.000 description 3
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N Zinc monoxide Chemical compound [Zn]=O XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000002745 absorbent Effects 0.000 description 2
- 239000002250 absorbent Substances 0.000 description 2
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 2
- 230000008859 change Effects 0.000 description 2
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011651 chromium Substances 0.000 description 2
- -1 cobalt oxide Chemical class 0.000 description 2
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 2
- 230000001747 exhibiting effect Effects 0.000 description 2
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 2
- 229910052738 indium Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 2
- 230000035699 permeability Effects 0.000 description 2
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 2
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 2
- 230000001629 suppression Effects 0.000 description 2
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BUGBHKTXTAQXES-UHFFFAOYSA-N Selenium Chemical compound [Se] BUGBHKTXTAQXES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011358 absorbing material Substances 0.000 description 1
- 230000000996 additive effect Effects 0.000 description 1
- 230000003667 anti-reflective effect Effects 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 1
- UOUJSJZBMCDAEU-UHFFFAOYSA-N chromium(3+);oxygen(2-) Chemical class [O-2].[O-2].[O-2].[Cr+3].[Cr+3] UOUJSJZBMCDAEU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910017052 cobalt Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010941 cobalt Substances 0.000 description 1
- GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N cobalt atom Chemical compound [Co] GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000004040 coloring Methods 0.000 description 1
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 1
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 1
- PMHQVHHXPFUNSP-UHFFFAOYSA-M copper(1+);methylsulfanylmethane;bromide Chemical compound Br[Cu].CSC PMHQVHHXPFUNSP-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 239000002019 doping agent Substances 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 239000010408 film Substances 0.000 description 1
- XGDBOJRURXXJBF-UHFFFAOYSA-M fluoroindium Chemical compound [In]F XGDBOJRURXXJBF-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010931 gold Substances 0.000 description 1
- 125000004435 hydrogen atom Chemical class [H]* 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 1
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 1
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 1
- ZKATWMILCYLAPD-UHFFFAOYSA-N niobium pentoxide Inorganic materials O=[Nb](=O)O[Nb](=O)=O ZKATWMILCYLAPD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000004767 nitrides Chemical class 0.000 description 1
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 1
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 1
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 1
- TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoalumanyloxy)alumane Chemical compound O=[Al]O[Al]=O TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RVTZCBVAJQQJTK-UHFFFAOYSA-N oxygen(2-);zirconium(4+) Chemical compound [O-2].[O-2].[Zr+4] RVTZCBVAJQQJTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000007789 sealing Methods 0.000 description 1
- 229910052711 selenium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011669 selenium Substances 0.000 description 1
- 229910021332 silicide Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 1
- 125000006850 spacer group Chemical group 0.000 description 1
- 230000003595 spectral effect Effects 0.000 description 1
- 238000001228 spectrum Methods 0.000 description 1
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 1
- 239000005315 stained glass Substances 0.000 description 1
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 1
- OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N titanium oxide Inorganic materials [Ti]=O OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000314 transition metal oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011787 zinc oxide Substances 0.000 description 1
- 229910001928 zirconium oxide Inorganic materials 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
- C03C17/34—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions
- C03C17/3411—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions with at least two coatings of inorganic materials
- C03C17/3417—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions with at least two coatings of inorganic materials all coatings being oxide coatings
Abstract
Protisluneční sklo s vysokou ochrannou schopností s povlakem obsahuje tepelně absorpční vrstvu a vrstvu kovové sloučeniny s nízkou emisivitou@ Nejvýhodnější tepelně absorpční vrstvy absorbují přednostně vlnové délky nad @ nm a mohou být z nestechiometrického nebo dotovaného oxidu wolframu nebo z oxidu kobaltuŹ oxidu chromuŹ oxidu železa nebo oxidu vanadu@ Přednostní vrstvy s nízkou emisivitou jsou z polovodičového oxidu kovuŹ například z dotovaného oxidu cínu nebo dotovaného oxidu india@ Vzhledem k povaze vrstev mohou mít povlaky neutrální barvu a být vhodné pro nanášení na pás skla na výrobní lince během procesu výroby skla pyrolytickými postupyŹ například chemickým nanášením z plynné fáze@ Řešení se dále týká násobného zasklívacího dílceŹ obsahujícího výše uvedené povlečené sklo se souběžně uloženým druhým sklemŕ
Description
Oblast techniky
Vynález se týká skel s povlakem, zejména protislunečních skel s vysokou ochrannou schopností.
Dosavadní stav techniky
Existuje vzrůstající poptávka po protislunečních sklech (sklech pro ovládání průchodu slunečního záření, dále v celém textu: protislunečních sklech) s vysokou ochrannou schopností, zejména sklem majících neutrální barvu jak v odrazu, tak v prostupu. Pod pojmem protisluneční skla „s vysokou ochrannou schopností“ (high performace) se rozumí skla, která propouštějí výrazně vyšší procentní podíl dopadajícího světla, než je celková dopadající energie záření (celkové sluneční teplo). Skla, probarvená ve hmotě, obsahující přísadu železa, jsou schopná zajišťovat vysokou ochrannou schopnost, ale železo má sklon barvit sklo do zelena a zelenavý tón není vždy přijatelný. Přidávání dalších přísad, například kombinace selenu a oxidu kovu, jako je oxid kobaltu, může měnit zelený odstín do neutrálnější barvy, ale za cenu určité ztráty účinnosti, tj. zvýšení poměru mezi propustností dopadajícího tepla a dopadajícího světla.
V patentovém spisu GB 2 288 818 A je popsán zasklívací dílec s pyrolyticky naneseným povlakem, s nízkým slunečním faktorem a vysokou čistotou odražené barvy. Spis GB 2 288 818 A popisuje povlečené sklo, obsahující oxidy kobaltu, železa a chrómu a dielektrickou druhou vrstvu se specifickým indexem lomu, obsahující například nitrid hliníku, oxid hliníku, oxid cínu nebo oxid titanu, oxid zirkonia nebo oxid křemičitý. Kanadský patentový spis CA 1 117 383 popisuje způsob vytváření povlaku na substrát s barevnou vrstvou obsahující směs oxidů železa, chrómu a kobaltu a druhou vrstvu oxidu cínu, dotovaného chromém, v tloušťce od 30 nm do 80 nm.
Povlaky obsahující vrstvy stříbra v kombinaci s vhodnými dielektrickými vrstvami ve vícevrstvých souvrstvích mohou zajistit vytvoření výrobků s vysokou protisluneční ochrannou schopností, a barvu blízkou neutrální barvě jak v odrazu, tak v prostupu, ale mají významné nevýhody. Především nejsou vhodné vrstvy stříbra způsobilé nanášení na výrobní lince, kde se povlak nanáší na horký pás skla při jeho výrobě, tj. předtím, než se řeže a odebírá z výrobní linky, ale nanášejí se nízkotlakými postupy mimo linku, jako magnetronovým rozprašováním. Takové stříbrné povlaky mají dále omezenou fyzickou trvanlivost a vyžadují pečlivou ochranu a opatrnou manipulaci při zpracování, a rovněž ochranu skla s povlakem ve výsledném výrobku, například zasklíváním v násobných sklech s povlakem obráceným směrem do vzduchové mezery dílce mezi jednotlivými skly.
Bylo by žádoucí vytvořit povlak, který by mohl zajistit vytvoření protislunečních skel s vysokou ochrannou schopností bez výše uvedených nevýhod stříbrných povlaků, a která by s výhodou měla barvu blízkou neutrální barvě v odrazu a prostupu, nebo alespoň poskytoval alternativu k zelenému zbarvení protislunečních skel s vysokou ochrannou schopností, barvených ve hmotě, popisovaných výše.
Podstata vynálezu
Uvedeného cíle je dosaženo protislunečním sklem (=sklem pro ovládání průchodu slunečního záření) s vysokou ochrannou schopností, obsahujícím skleněný substrát s povlakem, který obsahuje tepelně absorpční vrstvu a vrstvu kovové sloučeniny s nízkou emisivitou, ležící na uvedené tepelně absorpční vrstvě, jehož podstatou je, že vrstva s nízkou emisivitou má tloušťku v rozmezí od 100 nm do 600 nm a povlečené sklo má emisivitu nižší než 0,4.
- 1 CZ 294086 B6
Přehled obrázků na výkresech
Vynález je blíže vysvětlen v následujícím popisu na příkladech provedení s odvoláním na připojené výkresy, na kterých znázorňuje obr. 1 řez sklem s povlakem podle jednoho provedení vynálezu, obr. 2 řez sklem s povlakem podle druhého provedení vynálezu, obr. 3 řez dvousklem obsahujícím sklo s povlakem podle obr. 1.
Příklady provedení vynálezu
Obr. 1 znázorňuje protisluneční sklo 1 s vysokou ochrannou schopností opatřené povlakem, které obsahuje skleněný substrát 11, s výhodou z čirého skla float, a povlak 12 obsahující tepelně absorpční vrstvu 14 a vrstvu 13 s nízkou emisivitou z kovové sloučeniny.
Provedení z obr. 2 je podobné provedení z obr. 1, přičemž sklo 2 s povlakem obsahuje skleněný substrát 21, s výhodou z čirého skla float, a povlak 22. Povlak 22 se však liší od povlaku 12 tím, že obsahuje, kromě tepelně absorpční vrstvy 24 a vrstvy 23 s nízkou emisivitou, podkladní vrstvu 25 potlačující duhovitost (iridescenci), jak je popsáno níže.
Obr. 3 znázorňuje sklo 1 z obr. 1, sestávané paralelně s druhým sklem 31, v typickém případě čirým sklem float, přičemž skla jsou umístěna se vzájemným odstupem a jsou vůči sobě těsněna distančním a těsnicím systémem 32, pro vytváření dvouskla 3 s mezerou 33. Povlak 12 je obrácen směrem do mezery 33 dílce.
Pro zlepšení účinnosti je žádoucí, aby tepelně absorpční vrstva povlaku absorbovala přednostně při volných délkách nad 100 nm. S výhodou je v podstatě neabsorbující ve viditelné části spektra. Tepelně absorpční vrstva může být v podstatě transparentní vodivá oxidová vrstva, přičemž je dávána přednost oxidu wolframu vzhledem ktomu, že má charakteristický absorpční vrchol okolo 900 nm.
Oxid wolframu existuje jak ve vodivé, tak i dielektrické formě. Stechiometrický oxid wolframu, oxid wolframový WO3, je dielektrickém, a je v podstatě neabsorpční v infračerveném pásmu. Nestechiometrický oxid wolframu, WO3_X, kde xje v typickém případě okolo 0,03 (s výhodou v rozmezí od 0,005 do 0,025), a dotovaný oxid wolframu, obsahující vhodnou dotující přísadu odlišného mocenství, například vodík, fluor, alkalický kov, měď, stříbro nebo zlato, je vodivý a hodí se pro použití při provádění vynálezu.
V patentovém spisu US 5 034 246 je popsán způsob metaloorganického nanášení, který je použit pro tvorbu filmu oxidu wolframu nanášením alkylaminowolframové sloučeniny na skleněných substrátech, majících vodivou vrstvu například oxidu india a cínu, načež se povlečený substrát zahřívá.
Podle vynálezu může být vrstva oxidu wolframu, použitá tepelně absorpční vrstva, krystalická nebo amorfní. Je-li krystalická, je zpravidla dávána přednost tomu, aby se předešlo příliš velké velikosti krystalů, jelikož velké krystaly jsou náchylné vést ke vzhledu zamlžení.
Další tepelně absorpční materiály, které mohou být použity pro tvorbu tepelně absorpční vrstvy, obsahují další barevné oxidy přechodových kovů, jako oxid chrómu, oxid kobaltu, oxid molybdenu, oxid niobu a oxid vanadu, přičemž mohou být také použity směsi takových kovů.
Tepelně absorpční vrstva bude normálně mít tloušťku v rozmezí od 50 nm až 500 nm, zejména 80 nm až 200 nm.
Vrstva s nízkou emisivitou je vrstva kovové sloučeniny, normálně oxid kovu (jelikož jiné sloučeniny s nízkou emisivitou, jako jsou nitridy a silicidy kovů mají sklon k nižším propustnostem světla), a transparentní polovodič, například dotovaný oxid india, cínu nebo zinku. Přednostní materiály obsahují oxid india dotovaný cínem a oxid cínu dotovaný fluorem. Vrstva s nízkou emisivitou bude mít normálně tloušťku v rozmezí od 100 nm do 600 nm (jelikož použití tlustší vrstvy bude mít pravděpodobně za následek zbytečné snížení propustnosti světla bez dostatečného snížení emisivity pro jeho kompenzaci), zejména tloušťku v rozmezí od 200 nm do 500 nm. Vrstva s nízkou emisivitou může mít emisivitu nižší než 0,4 (číselné hodnoty emisivity, o nichž se hovoří v tomto popisu a v připojených výkresech, jsou hodnoty normální emisivity, měřené podle ISO 10292: 1994, dodatek A), i když je dávána přednost použití vrstvy s nízkou emisivitou, která zajišťuje emisivitu 0,2 nebo nižší.
Vrstva povlaku s nízkou emisivitou bude normálně uložena na tepelně absorpční vrstvě, přičemž strana protislunečního skla, opatřená povlakem, je obrácena směrem do zasklívaného vnitřního prostoru (obvykle, ale nikoli nezbytně) budovy.
Použití tenkých filmů, jako je tomu podle vynálezu, může vést k tomu, že dojde k interferenci barev nebo duhovitosti. Aby se zabránilo nežádoucím zbarvením vyplývajícím z interferenčních efektů, nebo alespoň snížilo, může být na sklo nanesena před nanášením tepelně absorpční vrstvy a vrstvy s nízkou emisivitou podkladní vrstva pro potlačování barev (která může být samotná kombinací podkladních vrstev). Složení a nanášení takových vrstev potlačujících duhovitost je popsáno ve starších patentech, jako GB 2 031 756 B, GB 2 115315BaEP0 275 662 B. Podle výhodného znaku vynálezu je tak pod povlak, obsahující tepelně absorpční vrstvu a vrstvu s nízkou emisivitou, uložena vrstva nebo vrstvy potlačující duhovitost.
Nad povlak může být uložena přídavná vrstva, například jako antireflexní vrstva, ale použití takových vrchních vrstev může vést ke ztrátě schopnosti nízké emisivity, tj. zvýšení emisivity, a není proto požadována za vhodnou.
Tepelně absorpční vrstva a vrstva s nízkou emisivitou podle vynálezu se může ukládat známými postupy, například rozprašováním, včetně reakčního rozprašování nebo chemického vylučování z plynné fáze (chemical vapour deposition). Významnou výhodou vynálezu je totiž to, že obě horní vrstvy jsou způsobilé postupů chemického vylučování z plynné fáze, které přinášejí možnost nanášení povlaku na horký skleněný pás během jeho výroby. Způsoby nanášení tepelně absorpčních vrstev chemickým vylučováním z plynné fáze jsou popsány například v patentovém spisu EP 0 523 877 Al a EP 0 546 669 Bl, zatímco způsoby nanášení vrstev s nízkou emisivitou z oxidů kovů pomocí chemického vylučování z plynné fáze jsou popsány například ve spisu GB 2 026 454 B, US 5 004 490 a EP 0 365 239 B.
Vynález je popsán neomezujícím způsobem v následujících příkladech. V těchto příkladech, jakož i ve zbývající části popisu a nárocích, se propustnosti viditelného světla měří při použití světla C. Celkové naměřené propustnosti slunečního ozáření (solar spectral irradience - ASTM E87-891), která reprezentuje přímé kolmé záření, dopadající na povrch v poloze 37° severní šířky (vzduchová masa 1,5).
Příklad 1
Na pás 3 mm tlustého čirého skla float se nanesla vrstva potlačující duhovitost, obsahující křemík, uhlík a kyslík, o tloušťce 65 nm a s indexem lomu okolo 1,7, a to postupem podle EP 0 275 662 B. Skleněná tabule, odříznutá z pásu, byla opatřena na tepelně pohltivé vrstvě, pomocí reaktivního magnetronového rozprašování pomocí stejnoměrného proudu, povlakem vrstvy wolframu o tloušťce okolo 100 nm, dotované vodíkem, pro zajištění vrcholu 70 % pohltivosti při vlnové délce 910 nm (při měření na 3 mm tlustém skle float bez podkladní vrstvy). Na vrstvu z oxidu wolframu se nanesla vrstva oxidu india a cínu o tloušťce 265 nm, sloužící jako
-3 CZ 294086 B6 vrstva s nízkou emisivitou a vykazující elektrický měrný odpor 4xlO-4Q.cm, a to běžným reaktivním magnetronovým rozprašováním pomocí stejnosměrného proudu při použití indiumcínového terče obsahujícího 10 atomových procent cínu. Taková vrstva oxidu india a cínu měla emisivitu okolo 0,08.
Výsledná tabule skla s povlakem měla propustnost viditelného světla 70,4 % a celkovou propustnost slunečního tepla 55,9 %.
Po zabudování tabule s povlakem do dvouskla s tabulí čirého nepovlečeného skla o tloušťce 3 mm a vzduchovou mezerou 12 mm a s povlakem obráceným směrem do vzduchové mezery se získá výsledný dílec s propustností viditelného světla 64 % a celkovou propustností slunečního tepla 44 % a vykazující následující barvy v odrazu a prostupu při osvětlení světlem C:
a* | b* | L* | |
Odraz | -5,2 | -5,1 | 46 |
Prostup | -2,9 | 1,2 | 84 |
Příklad 2
Na pás čirého skla float o tloušťce 3 mm se naneslo podkladní souvrství potlačující duhovitost, obsahující počáteční vrstvu nedotovaného oxidu cínu o tloušťce 25 nm a vrstvu oxidu křemičitého o tloušťce 25 nm. Na skleněnou tabuli odříznutou z pásu byl nanesen obvyklým reaktivním magnetronovým rozprašováním pomocí stejnosměrného proudu další povlak tepelně absorpční vrstvy oxidu wolframu, dotovaného lithiem, o tloušťce okolo 420 nm, pro zajištění vrcholu absorpce 70 % při vlnové délce 910 nm (při měření na čirém skle float v nepřítomnosti podkladní vrstvy). Na vrstvu z oxidu wolframu se nanesla vrstva oxidu india a cínu o tloušťce 85 nm, sloužící jako vrstva s nízkou emisivitou a vykazující elektrický měrný odpor 4 x 10“4 Ω-cm, a to běžným reaktivním magnetronovým rozprašováním pomocí stejnosměrného proudu, při použití indium-cínového terče obsahujícího 10 atomových procent cínu.
Výsledná tabule skla s povlakem měla propustnost viditelného světla 69 % a celkovou propustnost slunečního tepla 54 %.
Po zabudování tabule s povlakem do dvouskla s tabulí čirého nepovlečeného skla o tloušťce 3 mm a vzduchovou mezerou 12 mm a s povlakem obráceným směrem do vzduchové mezery se získá výsledný dílec s propustností viditelného světla 63 % a celkovou propustností slunečního tepla 41 % a vykazující následující barvy v odrazu a prostupu při osvětlení světlem C:
a* b*
L*
Odraz
Prostup
-3,6
-3,3
-9,3
5,1
Příklad 3
Na pás čirého skla float o tloušťce 3 mm se naneslo podkladní souvrství potlačující duhovitost, jaké je popsáno v příkladě 2. Na skleněnou tabuli, odříznutou z pásu, byl nanesen povlak tepelně absorpční vrstvy nestechiometrického oxidu wolframu o tloušťce 104 nm magnetronovým rozprašováním pomocí stejnosměrného proudu z oxidového terče. Oxidační stav wolframu v oxidu wolframu byl určen tak, aby odpovídal oxidu wolframu vzorce WO? ^. Na vrstvu z oxidu wolframu se nanesla vrstva oxidu india a cínu o tloušťce okolo 270 nm, sloužící jako vrstva s nízkou emisivitou, a to běžným reaktivním magnetronovým stejnosměrným rozprašováním pomocí stejnosměrného proudu při použití indium-cínového terče obsahujícího 10 atomových procent cínu.
-4CZ 294086 B6
Po zabudování tabule s povlakem do dvouskla s tabulí čirého nepovlečeného skla o tloušťce 3 mm a vzduchovou mezerou 12,5 mm a s povlakem obráceným směrem do vzduchové mezery se získá výsledný dílec s propustností viditelného světla 66 % a celkovou propustností slunečního tepla 46 % a vykazující následující barvy v odrazu a prostupu při osvětlení světlem C:
a* | b* | L* | |
Odraz | -7,7 | -2,25 | 49 |
Prostup | 1,9 | 0,61 | 85 |
Příklady 4-9
V každém z této série příkladů byly vypočítány optické vlastnosti povlečeného čirého skla float tloušťky 3 mm, dvouskla obsahujícího tabuli skla s povlakem, tabuli čirého skla tloušťky 3 mm bez povlaku a vzduchovou mezeru 12,5 mm, přičemž povlak byl obrácen směrem do vzduchové mezery, a to ze známých vlastností povlečených skel, přičemž výsledky jsou uvedeny v tab. 1 a 2.
Tabulka 1
Přiklad | 4 | 5 | 6 |
1. vrstva povlaku | 380 nm oxidu wolframu 1 | 240 nm oxidu wolframu 1 | 126 nm oxidu wolframu |
2. vrstva povlaku | 320 nm oxidu cínu dotovaného fluorem2 | 260 nm ITO’ | 300 nm ITO’ |
VLT tabule s povlakem | 74,4 % | 70,1 % | 60,1 % |
TSHT tabule s povlakem | 53,5 % | 51,2% | 49,3 % |
Emisivita tabule s povlakem | 0,12-0,2 | 0,08 | 0,07 |
VLT dvouskla | 66,6 % | 63,6 % | 55,0 % |
TSHT dvouskla | 41,8% | 41,2 | 41,0% |
Odraz barvy dvouskla | a* -8,3 | a* 0,5 | a* -2,3 |
b* 5,9 | b* 1,4 | b* 3,2 | |
L* 44 | L* 53 | L* 56 | |
Propustnost dvouskla | a* -6,3 | a* -6,8 | a* -6,4 |
b* 7,9 | b* 8,2 | b* 7,6 | |
L* 86 | L* 83 | L* 72 |
Kde značí:
VLT - propustnost viditelného světla,
TSHT - celková propustnost slunečního tepla, 've výpočtu použity vlastnosti nestechiometrického oxidu wolframu, nanášeného magnetronovým rozprašováním pomocí stejnoměrného proudu, 2ve výpočtu použity vlastnosti povlaku z oxidu cínu, dotovaného fluorem, nanášeného chemickým vylučováním z plynné fáze, 3ve výpočtu použity vlastnosti povlaku oxidu india dotovaného cílem, nanášeného magnetronovým rozprašováním pomocí stejnosměrného proudu, s elektrickým měrným odporem 1,8 x 103 4Q.cm, 4ve výpočtu použity vlastnosti oxidu niobičného, nanášené magnetronovým rozprašováním pomocí stejnosměrného proudu, dotovaného 30 atom. % lithia.
-5CZ 294086 B6
Tabulka 2
Příklad | 7 | 8 | 9 |
1. vrstva povlaku | 96 nm oxidu wolframu ' | 380 nmNbzO? | 240 nm Nb2O· |
2. vrstva povlaku | 320 nm ITO1 | 320 nm oxidu cínu dotovaného fluorem2 | 260 nm ITO3 |
VLT tabule s povlakem | 56,3 % | 71,3% | 68,2 % |
TSHT tabule s povlakem | 45,6 % | 54,6 % | 53,1 % |
Emisivita tabule s povlakem | 0,07 | 0,12-0,2 | 0,08 |
VLT dvouskla | 51,3% | 64,1 % | 61,0% |
TSHT dvouskla | 35,2 % | 42,7 % | 42,5 % |
Odraz barvy dvouskla | a* -4,3 | a* -8,0 | a* 0,6 |
b* 2,1 | b* 6,1 | b* 1,1 | |
L* 59 | L* 43 | L* 54 | |
Propustnost dvouskla | a*-5,3 | a* -6,4 | a* -7,2 |
b* 6,1 | b* 7,3 | b* 7,9 | |
L* 68 | L* 87 | L* 85 |
Kde značí:
VLT - propustnost viditelného světla,
TSHT - celková propustnost slunečního tepla, ’ve výpočtu použity vlastnosti nestechiometrického oxidu wolframu, nanášeného magnetronovým rozprašováním pomocí stejnosměrného proudu, 2ve výpočtu použity vlastnosti povlaku z oxidu cínu, dotovaného fluorem, nanášeného chemickým vylučováním z plynné fáze, 3ve výpočtu použity vlastnosti povlaku oxidu india dotovaného cílem, nanášeného magnetronovým rozprašováním pomocí stejnosměrného proudu, s elektrickým měrným odporem 1,8 x 104 Q.cm, 4ve výpočtu použity vlastnosti oxidu niobičného, nanášené magnetronovým rozprašováním pomocí stejnosměrného proudu, dotovaného 30 atom. % lithia.
Povlaky podle vynálezu poskytují významné výhody vůči stavu techniky. Protože se hodí pro pyrolytické způsoby (které jsou výhodné proto, že se hodí pro provádění na výrobní lince), mohou být získány ve vysoce trvanlivé formě, čímž se sníží potřeba zvláštního ošetřování při manipulaci a zpracování, a otevře se možnost používat povlaky na volně stojícím zasklení bez potřeby je chránit ve vícenásobných zasklívacích dílcích (dvousklech atd.). Ve srovnání se skly probarvenými ve hmotě poskytují výhody v tom, že se hodí pro výrobu flexibilnějším postupem (vytvářením povlaku), která je použitelná bez potřeby měnit složení sklářské taviči vany (s průvodní ztrátou produkce, když se provádí přestavování) a vyloučení silných zelených zbarvení, k nimž dochází u účinnějších probarvení ve hmotě.
Kromě toho se může dosáhnout účinnějších parametrů u skel, majících propustnost světla přes 67 %, při zajišťování propustnosti tepla nižší než 57 %. Protisluneční skla podle vynálezu budou obecně zajišťovat celkovou propustnost slunečního tepla o nejméně 10 % nižší, než je propustnost viditelného světla, přičemž se snadno dají získat skla zajišťující celkovou propustnost slunečního tepla o nejméně 12 % nižší (a nejméně o 15 % nižší, použije-li se sklo s povlakem s tabulí z čirého skla float v dvouskle), která se přednostně použijí.
-6CZ 294086 B6
Nejvýhodnější skla podle vynálezu jsou skla, jejichž povlak je takový, že vykazuje barvy v odkazu (při pohledu z povlečené strany) a v postupu (když je nanesen na čiré sklo float) takové, že (a*2 + b*2)I/2 je nižší než 12, zejména nižší než 10. Ve zvlášť výhodných provedeních nejméně jedna z barvy v odrazu a/nebo prostupu (s výhodou obě) je taková, že (a*2 + b*2)1/2 je menší než 7.
Claims (20)
- PATENTOVÉ NÁROKY1. Protisluneční sklo s vysokou ochrannou schopností, obsahující skleněný substrát s povlakem, obsahujícím tepelně absorpční vrstvu a vrstvu kovové sloučeniny s nízkou emisivitou, ležící na uvedené tepelně absorpční vrstvě, vyznačené tím, že vrstva s nízkou emisivitou má tloušťku v rozmezí od 100 nm do 600 nm a sklo s povlakem má emisivitu nižší než 0,4.
- 2. Protisluneční sklo podle nároku 1,vyznačené tím, že tepelně absorpční vrstva povlaku absorbuje přednostně vlnové délky nad 700 nm.
- 3. Protisluneční sklo podle nároku 1,vyznačené tím, že tepelně absorpční vrstva povlaku je vrstva oxidu kovu.
- 4. Protisluneční sklo podle nároku 1,vyznačené tím, že tepelně absorpční vrstva povlaku je vrstva oxidu wolframu obsahujícího méně než stechiometrické množství kyslíku.
- 5. Protisluneční sklo podle nároků 1 až 4, vyznačené tím, že tepelně absorpční vrstva povlaku je vrstva oxidu wolframu dotovaného vodíkem.
- 6. Protisluneční sklo podle nejméně jednoho z nároků 1 až 5, vyznačené tím, že tepelně absorpční vrstva povlaku je vrstva oxidu wolframu dotovaného alkalickým kovem.
- 7. Protisluneční sklo podle nejméně jednoho z nároků 1 až 5, vyznačené tím, že tepelně absorpční vrstva povlaku je vrstva oxidu chrómu, oxidu kobaltu, oxidu železa, oxidu molybdenu, oxidu niobu, oxidu vanadu nebo jejich směsi.
- 8. Protisluneční sklo podle nejméně jednoho z nároků 1 až 7, vyznačené tím, že tepelně absorpční vrstva povlaku má tloušťku v rozmezí od 50 do 500 nm.
- 9. Protisluneční sklo podle nejméně jednoho z nároků 1 až 8, vyznačené tím, že tepelně absorpční vrstva povlaku má tloušťku v rozmezí od 80 do 200 nm.
- 10. Protisluneční sklo podle nároku 9, vyznačené tím, že má emisivitu nižší než 0,2.
- 11. Protisluneční sklo podle nejméně jednoho z nároků 1 až 10, vyznačené tím, že vrstva s nízkou emisivitou je vrstva polovodičového oxidu kovu.
- 12. Protisluneční sklo podle nároku 11,vyznačené tím, že vrstva polovodičového oxidu kovu je z dotovaného oxidu cínu nebo dotovaného oxidu india.
- 13. Protisluneční sklo podle nejméně jednoho z nároků 1 až 12, vyznačené tím, že vrstva s nízkou emisivitou v povlaku má tloušťku v rozmezí od 200 do 500 nm.-7CZ 294086 B6
- 14. Protisluneční sklo podle nejméně jednoho z nároků 1 až 13, vy z n a č e n é tím, že povlak přídavně obsahuje pod tepelně absorpční vrstvou vrstvu nebo vrstvy potlačující duhovitost.
- 15. Protisluneční sklo podle nejméně jednoho z nároků 1 až 14, vyznačené tím, že celková propustnost slunečního teplaje nejméně o 10% nižší než je propustnost viditelného světla.
- 16. Protisluneční sklo podle nároku 15, vyznačené tím, že propustnost viditelného světla je nad 67 % a celková propustnost slunečního teplaje nižší než 57 %.
- 17. Protisluneční sklo podle nejméně jednoho z nároků 1 až 16, vyznačené tím, že povlak je takový, že vykazuje barvy v odrazu (při pohledu z povlečené strany) a/nebo v prostupu (když je nanesen na čiré sklo float), které jsou takové, že (a*2 + b*2)1/2 je nižší než 12.
- 18. Protisluneční sklo podle nároku 17, vyznačené tím, že povlak je takový, že vykazuje barvu v odrazu (při pohledu z povlečené strany) a/nebo v prostupu (když je nanesen na čiré sklo float), která je taková, že (2*2 + b*2)1/2 je nižší než 7.
- 19. Násobný zasklívací dílec obsahující povlečené sklo podle nejméně jednoho z nároků 1 až 18 se souběžně uloženým druhým sklem.
- 20. Násobný zasklívací dílec podle nároku 19, vykazující celkovou propustnost slunečního tepla o nejméně 15 % nižší, než je propustnost viditelného světla.
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US2607996P | 1996-09-13 | 1996-09-13 | |
GBGB9619134.1A GB9619134D0 (en) | 1996-09-13 | 1996-09-13 | Improvements in or related to coated glass |
US08/926,714 US6048621A (en) | 1996-09-13 | 1997-09-10 | Coated glass |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
CZ83199A3 CZ83199A3 (cs) | 1999-11-17 |
CZ294086B6 true CZ294086B6 (cs) | 2004-10-13 |
Family
ID=27268475
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
CZ1999831A CZ294086B6 (cs) | 1996-09-13 | 1997-09-10 | Sklo s povlakem a násobný zasklívací dílec je obsahující |
Country Status (10)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US6048621A (cs) |
EP (1) | EP0925260B1 (cs) |
CN (1) | CN1108997C (cs) |
AU (1) | AU718586B2 (cs) |
BR (1) | BR9711778A (cs) |
CZ (1) | CZ294086B6 (cs) |
DE (1) | DE69701403T2 (cs) |
ES (1) | ES2144877T3 (cs) |
GB (1) | GB9619134D0 (cs) |
WO (1) | WO1998011031A1 (cs) |
Families Citing this family (62)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5900275A (en) * | 1992-07-15 | 1999-05-04 | Donnelly Corporation | Method for reducing haze in tin oxide transparent conductive coatings |
GB2335201A (en) * | 1998-03-10 | 1999-09-15 | Pilkington Plc | Glass coated with two doped oxide layers |
US6218018B1 (en) * | 1998-08-21 | 2001-04-17 | Atofina Chemicals, Inc. | Solar control coated glass |
US6596398B1 (en) | 1998-08-21 | 2003-07-22 | Atofina Chemicals, Inc. | Solar control coated glass |
GB9822338D0 (en) * | 1998-10-13 | 1998-12-09 | Glaverbel | Solar control coated glass |
JP2001036103A (ja) | 1999-07-15 | 2001-02-09 | Kanegafuchi Chem Ind Co Ltd | アモルファスシリコン系薄膜光電変換装置 |
FR2809388B1 (fr) * | 2000-05-23 | 2002-12-20 | Saint Gobain Vitrage | Vitrage comprenant au moins une couche a proprietes thermochromes |
CN1101352C (zh) * | 2000-07-15 | 2003-02-12 | 昆明理工大学 | 铟锡氧化物薄膜溶胶—凝胶制备方法 |
US6869644B2 (en) * | 2000-10-24 | 2005-03-22 | Ppg Industries Ohio, Inc. | Method of making coated articles and coated articles made thereby |
EP1394130A4 (en) * | 2001-05-15 | 2007-07-11 | Nippon Sheet Glass Co Ltd | GLASS PANEL FOR PROTECTION AND THERMAL INSULATION |
CN100352971C (zh) * | 2002-04-12 | 2007-12-05 | 新日本制铁株式会社 | 具有优异吸热性的发热体覆盖物、用于此的经表面处理的金属板以及其应用 |
US7067195B2 (en) * | 2002-04-29 | 2006-06-27 | Cardinal Cg Company | Coatings having low emissivity and low solar reflectance |
US6733889B2 (en) * | 2002-05-14 | 2004-05-11 | Pilkington North America, Inc. | Reflective, solar control coated glass article |
US7122252B2 (en) | 2002-05-16 | 2006-10-17 | Cardinal Cg Company | High shading performance coatings |
AU2003268049A1 (en) | 2002-07-31 | 2004-02-16 | Cardinal Cg Compagny | Temperable high shading performance coatings |
US7258923B2 (en) | 2003-10-31 | 2007-08-21 | General Electric Company | Multilayered articles and method of manufacture thereof |
US20050196623A1 (en) * | 2004-03-03 | 2005-09-08 | Mckown Clem S.Jr. | Solar control coated glass composition |
GB0423085D0 (en) * | 2004-10-18 | 2004-11-17 | Pilkington Automotive Ltd | Solar control glazing |
US20060141265A1 (en) * | 2004-12-28 | 2006-06-29 | Russo David A | Solar control coated glass composition with reduced haze |
EP1876151A4 (en) * | 2005-04-05 | 2009-04-29 | Panasonic Corp | GLASS PLATE AND TELEVISION SUPPORT |
US7399571B2 (en) | 2005-05-06 | 2008-07-15 | General Electric Company | Multilayered articles and method of manufacture thereof |
US8900693B2 (en) | 2005-07-13 | 2014-12-02 | Sabic Global Technologies B.V. | Polycarbonate compositions having infrared absorbance, method of manufacture, and articles prepared therefrom |
US7317566B2 (en) * | 2005-08-29 | 2008-01-08 | Teledyne Licensing, Llc | Electrode with transparent series resistance for uniform switching of optical modulation devices |
FI20060288A0 (fi) * | 2006-03-27 | 2006-03-27 | Abr Innova Oy | Pinnoitusmenetelmä |
US7721844B1 (en) * | 2006-10-13 | 2010-05-25 | Damping Technologies, Inc. | Vibration damping apparatus for windows using viscoelastic damping materials |
US20080105299A1 (en) * | 2006-11-02 | 2008-05-08 | Guardian Industries Corp. | Front electrode with thin metal film layer and high work-function buffer layer for use in photovoltaic device and method of making same |
US8076571B2 (en) * | 2006-11-02 | 2011-12-13 | Guardian Industries Corp. | Front electrode for use in photovoltaic device and method of making same |
US20080105293A1 (en) * | 2006-11-02 | 2008-05-08 | Guardian Industries Corp. | Front electrode for use in photovoltaic device and method of making same |
US20080178932A1 (en) * | 2006-11-02 | 2008-07-31 | Guardian Industries Corp. | Front electrode including transparent conductive coating on patterned glass substrate for use in photovoltaic device and method of making same |
US20080105298A1 (en) * | 2006-11-02 | 2008-05-08 | Guardian Industries Corp. | Front electrode for use in photovoltaic device and method of making same |
US8203073B2 (en) * | 2006-11-02 | 2012-06-19 | Guardian Industries Corp. | Front electrode for use in photovoltaic device and method of making same |
US8012317B2 (en) * | 2006-11-02 | 2011-09-06 | Guardian Industries Corp. | Front electrode including transparent conductive coating on patterned glass substrate for use in photovoltaic device and method of making same |
US7964788B2 (en) * | 2006-11-02 | 2011-06-21 | Guardian Industries Corp. | Front electrode for use in photovoltaic device and method of making same |
US8334452B2 (en) | 2007-01-08 | 2012-12-18 | Guardian Industries Corp. | Zinc oxide based front electrode doped with yttrium for use in photovoltaic device or the like |
US20080169021A1 (en) * | 2007-01-16 | 2008-07-17 | Guardian Industries Corp. | Method of making TCO front electrode for use in photovoltaic device or the like |
US20080223430A1 (en) * | 2007-03-14 | 2008-09-18 | Guardian Industries Corp. | Buffer layer for front electrode structure in photovoltaic device or the like |
US20080308145A1 (en) * | 2007-06-12 | 2008-12-18 | Guardian Industries Corp | Front electrode including transparent conductive coating on etched glass substrate for use in photovoltaic device and method of making same |
US20080308146A1 (en) * | 2007-06-14 | 2008-12-18 | Guardian Industries Corp. | Front electrode including pyrolytic transparent conductive coating on textured glass substrate for use in photovoltaic device and method of making same |
US7888594B2 (en) * | 2007-11-20 | 2011-02-15 | Guardian Industries Corp. | Photovoltaic device including front electrode having titanium oxide inclusive layer with high refractive index |
US20090194157A1 (en) * | 2008-02-01 | 2009-08-06 | Guardian Industries Corp. | Front electrode having etched surface for use in photovoltaic device and method of making same |
US20090194155A1 (en) * | 2008-02-01 | 2009-08-06 | Guardian Industries Corp. | Front electrode having etched surface for use in photovoltaic device and method of making same |
US8197940B2 (en) * | 2008-07-25 | 2012-06-12 | Ppg Industries Ohio, Inc. | Aqueous suspension for pyrolytic spray coating |
US8022291B2 (en) * | 2008-10-15 | 2011-09-20 | Guardian Industries Corp. | Method of making front electrode of photovoltaic device having etched surface and corresponding photovoltaic device |
CN101898871B (zh) * | 2009-05-25 | 2012-05-30 | 天津南玻节能玻璃有限公司 | 低反射镀膜玻璃及其制备方法 |
US20110186120A1 (en) * | 2009-11-05 | 2011-08-04 | Guardian Industries Corp. | Textured coating with various feature sizes made by using multiple-agent etchant for thin-film solar cells and/or methods of making the same |
US8502066B2 (en) * | 2009-11-05 | 2013-08-06 | Guardian Industries Corp. | High haze transparent contact including insertion layer for solar cells, and/or method of making the same |
US9289079B2 (en) | 2009-11-05 | 2016-03-22 | Hussmann Corporation | Door for a refrigerated merchandiser |
US20110168252A1 (en) * | 2009-11-05 | 2011-07-14 | Guardian Industries Corp. | Textured coating with etching-blocking layer for thin-film solar cells and/or methods of making the same |
US8551609B2 (en) | 2010-04-27 | 2013-10-08 | Ppg Industries Ohio, Inc. | Method of depositing niobium doped titania film on a substrate and the coated substrate made thereby |
KR101399899B1 (ko) | 2012-06-15 | 2014-05-29 | 코닝정밀소재 주식회사 | 써모크로믹 윈도우 |
CN103864314A (zh) * | 2012-12-11 | 2014-06-18 | 中国南玻集团股份有限公司 | 低辐射电致变色玻璃 |
DE102013103679A1 (de) * | 2013-04-11 | 2014-10-30 | Heraeus Materials Technology Gmbh & Co. Kg | Licht absorbierende Schicht und die Schicht enthaltendes Schichtsystem, Verfahren zur dessen Herstellung und dafür geeignetes Sputtertarget |
WO2015031831A1 (en) * | 2013-08-29 | 2015-03-05 | Konica Minolta Laboratory U.S.A., Inc. | Fabricating highly durable nanostructured coatings on polymer substrate |
US10930442B2 (en) * | 2014-09-02 | 2021-02-23 | University Of Tokyo | Light-transmitting electrode having carbon nanotube film, solar cell, method for producing light-transmitting electrode having carbon nanotube film, and method for manufacturing solar cell |
US20170362119A1 (en) | 2016-06-17 | 2017-12-21 | Corning Incorporated | Transparent, near infrared-shielding glass ceramic |
US10464840B2 (en) | 2016-10-05 | 2019-11-05 | Corning Incorporated | Near infrared shielding and laser-resistant window |
GB2562115B (en) | 2017-05-05 | 2022-02-16 | William Blythe Ltd | Tungsten oxide |
US10450220B2 (en) | 2017-12-13 | 2019-10-22 | Corning Incorporated | Glass-ceramics and glasses |
US10246371B1 (en) | 2017-12-13 | 2019-04-02 | Corning Incorporated | Articles including glass and/or glass-ceramics and methods of making the same |
KR20200091448A (ko) | 2017-12-04 | 2020-07-30 | 코닝 인코포레이티드 | 자외선- 및 근적외선-차단 특징을 갖는 유리-세라믹 및 유리-세라믹 물품 |
WO2019118664A1 (en) | 2017-12-15 | 2019-06-20 | Corning Incorporated | Laminate glass ceramic articles with uv-and nir-blocking characteristics and methods of making the same |
CN109987855B (zh) * | 2017-12-29 | 2022-08-12 | 法国圣戈班玻璃公司 | 隔热玻璃、制备方法及隔热玻璃产品 |
Family Cites Families (19)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4017661A (en) * | 1974-08-09 | 1977-04-12 | Ppg Industries, Inc. | Electrically conductive transparent laminated window |
US4187336A (en) * | 1977-04-04 | 1980-02-05 | Gordon Roy G | Non-iridescent glass structures |
GB2026454B (en) * | 1978-07-20 | 1982-07-21 | Bfg Glassgroup | Coating glass with tin oxide |
CA1117383A (en) * | 1978-08-14 | 1982-02-02 | William E. Wagner | Abrasion resistant coated window |
GB2031756B (en) * | 1978-10-20 | 1983-03-09 | Gordon Roy Gerald | Non-iridescent glass structures and processes for their production |
JPS5632352A (en) * | 1979-08-28 | 1981-04-01 | Honda Motor Co Ltd | Heat ray reflecting laminated glass for car |
US4308115A (en) * | 1980-08-15 | 1981-12-29 | Aluminum Company Of America | Method of producing aluminum using graphite cathode coated with refractory hard metal |
US4377613A (en) * | 1981-09-14 | 1983-03-22 | Gordon Roy G | Non-iridescent glass structures |
JPS597043A (ja) * | 1982-07-06 | 1984-01-14 | 株式会社豊田中央研究所 | 熱線遮蔽積層体 |
US4595634A (en) * | 1983-08-01 | 1986-06-17 | Gordon Roy G | Coating process for making non-iridescent glass |
GB8630918D0 (en) * | 1986-12-24 | 1987-02-04 | Pilkington Brothers Plc | Coatings on glass |
US5004490A (en) * | 1987-08-10 | 1991-04-02 | Ford Motor Company | Method of making glass substrate coated with tin oxide |
GB8824104D0 (en) * | 1988-10-14 | 1988-11-23 | Pilkington Plc | Process for coating glass |
US5034246A (en) * | 1990-08-15 | 1991-07-23 | General Motors Corporation | Method for forming tungsten oxide films |
US5168003A (en) * | 1991-06-24 | 1992-12-01 | Ford Motor Company | Step gradient anti-iridescent coatings |
US5268208A (en) * | 1991-07-01 | 1993-12-07 | Ford Motor Company | Plasma enhanced chemical vapor deposition of oxide film stack |
US5286520A (en) * | 1991-12-13 | 1994-02-15 | Ford Motor Company | Preparation of fluorine-doped tungstic oxide |
GB9408359D0 (en) * | 1994-04-27 | 1994-06-15 | Glaverbel | Glazing panel and process for forming the same |
JPH08268732A (ja) * | 1995-03-30 | 1996-10-15 | Central Glass Co Ltd | 熱線反射ガラス |
-
1996
- 1996-09-13 GB GBGB9619134.1A patent/GB9619134D0/en active Pending
-
1997
- 1997-09-10 DE DE69701403T patent/DE69701403T2/de not_active Expired - Lifetime
- 1997-09-10 US US08/926,714 patent/US6048621A/en not_active Expired - Lifetime
- 1997-09-10 ES ES97939077T patent/ES2144877T3/es not_active Expired - Lifetime
- 1997-09-10 EP EP97939077A patent/EP0925260B1/en not_active Expired - Lifetime
- 1997-09-10 CN CN97197885A patent/CN1108997C/zh not_active Expired - Fee Related
- 1997-09-10 BR BR9711778A patent/BR9711778A/pt not_active Application Discontinuation
- 1997-09-10 CZ CZ1999831A patent/CZ294086B6/cs not_active IP Right Cessation
- 1997-09-10 WO PCT/GB1997/002433 patent/WO1998011031A1/en active IP Right Grant
- 1997-09-10 AU AU41298/97A patent/AU718586B2/en not_active Ceased
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
DE69701403D1 (de) | 2000-04-13 |
CN1108997C (zh) | 2003-05-21 |
AU4129897A (en) | 1998-04-02 |
EP0925260A1 (en) | 1999-06-30 |
DE69701403T2 (de) | 2000-07-13 |
WO1998011031A1 (en) | 1998-03-19 |
GB9619134D0 (en) | 1996-10-23 |
US6048621A (en) | 2000-04-11 |
BR9711778A (pt) | 1999-08-24 |
EP0925260B1 (en) | 2000-03-08 |
CZ83199A3 (cs) | 1999-11-17 |
ES2144877T3 (es) | 2000-06-16 |
CN1230163A (zh) | 1999-09-29 |
AU718586B2 (en) | 2000-04-13 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
CZ294086B6 (cs) | Sklo s povlakem a násobný zasklívací dílec je obsahující | |
JP5705963B2 (ja) | 不連続金属層を備えた日射制御コーティング | |
AU2014217832B2 (en) | Heat-absorbing glazing | |
AU2003220438B2 (en) | Reflective, solar control coated glass article | |
CZ20012219A3 (cs) | Zasklívací tabule a způsob její výroby | |
KR20180048917A (ko) | 강화된 태양광 제어 성능을 갖는 태양광 제어 코팅 | |
KR20100123875A (ko) | 열적 특성을 갖는 스택을 구비한 기판 | |
SK285983B6 (sk) | Zasklievacia tabuľa a spôsob jej výroby | |
WO2014191474A2 (en) | Low-emissivity and anti-solar glazing | |
EP2969993B1 (en) | Method to generate high lsg low-emissivity coating with same color after heat treatment | |
JP5325100B2 (ja) | 酸化亜鉛コーティングを有するガラス物品及びその製造方法 | |
JP5192299B2 (ja) | 改良被覆ガラス | |
SK8372001A3 (en) | Glazing panel | |
JP2001500464A5 (cs) | ||
US20200317565A1 (en) | Solar-control glazing | |
MXPA99002368A (en) | Coated glass | |
CZ20012218A3 (cs) | Zasklívací tabule a způsob její výroby |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
PD00 | Pending as of 2000-06-30 in czech republic | ||
MM4A | Patent lapsed due to non-payment of fee |
Effective date: 20140910 |