CZ2003820A3 - Nosič s fotokatalytickým povlakem - Google Patents
Nosič s fotokatalytickým povlakem Download PDFInfo
- Publication number
- CZ2003820A3 CZ2003820A3 CZ2003820A CZ2003820A CZ2003820A3 CZ 2003820 A3 CZ2003820 A3 CZ 2003820A3 CZ 2003820 A CZ2003820 A CZ 2003820A CZ 2003820 A CZ2003820 A CZ 2003820A CZ 2003820 A3 CZ2003820 A3 CZ 2003820A3
- Authority
- CZ
- Czechia
- Prior art keywords
- coating
- refractive index
- carrier
- layer
- glass
- Prior art date
Links
- 238000000576 coating method Methods 0.000 title claims abstract description 130
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 title claims abstract description 107
- 230000001699 photocatalysis Effects 0.000 title claims abstract description 77
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical group O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 65
- 239000011521 glass Substances 0.000 claims abstract description 47
- 238000000034 method Methods 0.000 claims abstract description 39
- 230000008569 process Effects 0.000 claims abstract description 7
- 239000004033 plastic Substances 0.000 claims abstract description 6
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 claims abstract description 4
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract 6
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 34
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 claims description 28
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 claims description 22
- 239000004408 titanium dioxide Substances 0.000 claims description 22
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 claims description 17
- 238000000137 annealing Methods 0.000 claims description 14
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims description 14
- 230000004888 barrier function Effects 0.000 claims description 12
- 238000005507 spraying Methods 0.000 claims description 12
- 229910052581 Si3N4 Inorganic materials 0.000 claims description 10
- OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N titanium oxide Inorganic materials [Ti]=O OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 10
- 230000003667 anti-reflective effect Effects 0.000 claims description 9
- 235000012239 silicon dioxide Nutrition 0.000 claims description 9
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims description 8
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N Zinc monoxide Chemical compound [Zn]=O XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims description 6
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 6
- 238000000197 pyrolysis Methods 0.000 claims description 6
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 claims description 6
- 239000010703 silicon Substances 0.000 claims description 6
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 239000002241 glass-ceramic Substances 0.000 claims description 5
- XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N tin dioxide Chemical compound O=[Sn]=O XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- 230000003197 catalytic effect Effects 0.000 claims description 4
- 239000013078 crystal Substances 0.000 claims description 4
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 claims description 4
- 239000003513 alkali Substances 0.000 claims description 3
- 230000006870 function Effects 0.000 claims description 3
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 claims description 3
- RVTZCBVAJQQJTK-UHFFFAOYSA-N oxygen(2-);zirconium(4+) Chemical compound [O-2].[O-2].[Zr+4] RVTZCBVAJQQJTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 229910001887 tin oxide Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 239000011787 zinc oxide Substances 0.000 claims description 3
- 229910001928 zirconium oxide Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 229910052774 Proactinium Inorganic materials 0.000 claims description 2
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 238000000889 atomisation Methods 0.000 claims description 2
- 229910052797 bismuth Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 238000004061 bleaching Methods 0.000 claims description 2
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims description 2
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 230000002209 hydrophobic effect Effects 0.000 claims description 2
- 239000005340 laminated glass Substances 0.000 claims description 2
- 238000011068 loading method Methods 0.000 claims description 2
- 229910052750 molybdenum Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 229910052758 niobium Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 150000004767 nitrides Chemical class 0.000 claims description 2
- HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N silicon nitride Chemical compound N12[Si]34N5[Si]62N3[Si]51N64 HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 238000005979 thermal decomposition reaction Methods 0.000 claims description 2
- MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N Zirconium dioxide Chemical compound O=[Zr]=O MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 2
- 239000002585 base Substances 0.000 claims 2
- HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N Zinc Chemical compound [Zn] HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoalumanyloxy)alumane Chemical compound O=[Al]O[Al]=O TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 230000009993 protective function Effects 0.000 claims 1
- 239000010409 thin film Substances 0.000 claims 1
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 claims 1
- 239000011701 zinc Substances 0.000 claims 1
- 230000008021 deposition Effects 0.000 abstract description 15
- 229910010413 TiO 2 Inorganic materials 0.000 abstract description 8
- 239000006117 anti-reflective coating Substances 0.000 abstract description 3
- 238000010298 pulverizing process Methods 0.000 abstract 3
- 238000005192 partition Methods 0.000 abstract 1
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 119
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 14
- 239000000969 carrier Substances 0.000 description 8
- IPCSVZSSVZVIGE-UHFFFAOYSA-N hexadecanoic acid Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCC(O)=O IPCSVZSSVZVIGE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 6
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 6
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 description 5
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 238000000429 assembly Methods 0.000 description 5
- 230000000712 assembly Effects 0.000 description 5
- 229910052681 coesite Inorganic materials 0.000 description 5
- 229910052906 cristobalite Inorganic materials 0.000 description 5
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 5
- 230000007935 neutral effect Effects 0.000 description 5
- 239000012071 phase Substances 0.000 description 5
- 229910052814 silicon oxide Inorganic materials 0.000 description 5
- 229910052682 stishovite Inorganic materials 0.000 description 5
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 5
- 229910052905 tridymite Inorganic materials 0.000 description 5
- 235000021314 Palmitic acid Nutrition 0.000 description 4
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 4
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 4
- WQEPLUUGTLDZJY-UHFFFAOYSA-N n-Pentadecanoic acid Natural products CCCCCCCCCCCCCCC(O)=O WQEPLUUGTLDZJY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 230000008859 change Effects 0.000 description 3
- 238000002425 crystallisation Methods 0.000 description 3
- 230000008025 crystallization Effects 0.000 description 3
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 3
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N nickel Substances [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 3
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 3
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 3
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 3
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 2
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000003086 colorant Substances 0.000 description 2
- 230000008034 disappearance Effects 0.000 description 2
- 239000000463 material Substances 0.000 description 2
- 239000000047 product Substances 0.000 description 2
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000004332 silver Substances 0.000 description 2
- 239000002356 single layer Substances 0.000 description 2
- 239000007921 spray Substances 0.000 description 2
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 2
- 101100313653 Caenorhabditis elegans kat-1 gene Proteins 0.000 description 1
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 241000124033 Salix Species 0.000 description 1
- ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N Tin Chemical compound [Sn] ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000006978 adaptation Effects 0.000 description 1
- 230000002353 algacidal effect Effects 0.000 description 1
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 1
- 230000000844 anti-bacterial effect Effects 0.000 description 1
- 230000009286 beneficial effect Effects 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 239000007844 bleaching agent Substances 0.000 description 1
- 238000004364 calculation method Methods 0.000 description 1
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011651 chromium Substances 0.000 description 1
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 1
- PMHQVHHXPFUNSP-UHFFFAOYSA-M copper(1+);methylsulfanylmethane;bromide Chemical compound Br[Cu].CSC PMHQVHHXPFUNSP-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 238000000354 decomposition reaction Methods 0.000 description 1
- 230000002542 deteriorative effect Effects 0.000 description 1
- 230000002708 enhancing effect Effects 0.000 description 1
- 230000007717 exclusion Effects 0.000 description 1
- 230000002349 favourable effect Effects 0.000 description 1
- 238000010348 incorporation Methods 0.000 description 1
- 229910052500 inorganic mineral Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000002452 interceptive effect Effects 0.000 description 1
- 239000004571 lime Substances 0.000 description 1
- 239000007791 liquid phase Substances 0.000 description 1
- ORUIBWPALBXDOA-UHFFFAOYSA-L magnesium fluoride Chemical compound [F-].[F-].[Mg+2] ORUIBWPALBXDOA-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 229910001635 magnesium fluoride Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 description 1
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 1
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 description 1
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 1
- 239000011707 mineral Substances 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 235000008935 nutritious Nutrition 0.000 description 1
- 230000001590 oxidative effect Effects 0.000 description 1
- 230000000803 paradoxical effect Effects 0.000 description 1
- 238000007146 photocatalysis Methods 0.000 description 1
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 1
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 1
- 230000002035 prolonged effect Effects 0.000 description 1
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 description 1
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 1
- 239000011265 semifinished product Substances 0.000 description 1
- 230000003746 surface roughness Effects 0.000 description 1
- 230000007704 transition Effects 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZVWKZXLXHLZXLS-UHFFFAOYSA-N zirconium nitride Chemical compound [Zr]#N ZVWKZXLXHLZXLS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B1/00—Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements
- G02B1/10—Optical coatings produced by application to, or surface treatment of, optical elements
- G02B1/18—Coatings for keeping optical surfaces clean, e.g. hydrophobic or photo-catalytic films
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/06—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the coating material
- C23C14/08—Oxides
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
- C03C17/22—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with other inorganic material
- C03C17/23—Oxides
- C03C17/245—Oxides by deposition from the vapour phase
- C03C17/2456—Coating containing TiO2
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
- C03C17/34—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions
- C03C17/3411—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions with at least two coatings of inorganic materials
- C03C17/3417—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions with at least two coatings of inorganic materials all coatings being oxide coatings
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
- C03C17/34—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions
- C03C17/3411—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions with at least two coatings of inorganic materials
- C03C17/3429—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions with at least two coatings of inorganic materials at least one of the coatings being a non-oxide coating
- C03C17/3435—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions with at least two coatings of inorganic materials at least one of the coatings being a non-oxide coating comprising a nitride, oxynitride, boronitride or carbonitride
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
- C03C17/34—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions
- C03C17/3411—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions with at least two coatings of inorganic materials
- C03C17/3429—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions with at least two coatings of inorganic materials at least one of the coatings being a non-oxide coating
- C03C17/3441—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions with at least two coatings of inorganic materials at least one of the coatings being a non-oxide coating comprising carbon, a carbide or oxycarbide
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/02—Pretreatment of the material to be coated
- C23C14/024—Deposition of sublayers, e.g. to promote adhesion of the coating
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/06—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the coating material
- C23C14/08—Oxides
- C23C14/083—Oxides of refractory metals or yttrium
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B1/00—Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements
- G02B1/10—Optical coatings produced by application to, or surface treatment of, optical elements
- G02B1/11—Anti-reflection coatings
- G02B1/113—Anti-reflection coatings using inorganic layer materials only
- G02B1/115—Multilayers
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B1/00—Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements
- G02B1/10—Optical coatings produced by application to, or surface treatment of, optical elements
- G02B1/16—Optical coatings produced by application to, or surface treatment of, optical elements having an anti-static effect, e.g. electrically conducting coatings
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B27/00—Optical systems or apparatus not provided for by any of the groups G02B1/00 - G02B26/00, G02B30/00
- G02B27/0006—Optical systems or apparatus not provided for by any of the groups G02B1/00 - G02B26/00, G02B30/00 with means to keep optical surfaces clean, e.g. by preventing or removing dirt, stains, contamination, condensation
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C2217/00—Coatings on glass
- C03C2217/20—Materials for coating a single layer on glass
- C03C2217/21—Oxides
- C03C2217/212—TiO2
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C2217/00—Coatings on glass
- C03C2217/20—Materials for coating a single layer on glass
- C03C2217/21—Oxides
- C03C2217/24—Doped oxides
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C2217/00—Coatings on glass
- C03C2217/70—Properties of coatings
- C03C2217/71—Photocatalytic coatings
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C2217/00—Coatings on glass
- C03C2217/70—Properties of coatings
- C03C2217/73—Anti-reflective coatings with specific characteristics
- C03C2217/734—Anti-reflective coatings with specific characteristics comprising an alternation of high and low refractive indexes
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C2218/00—Methods for coating glass
- C03C2218/10—Deposition methods
- C03C2218/15—Deposition methods from the vapour phase
- C03C2218/154—Deposition methods from the vapour phase by sputtering
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Geochemistry & Mineralogy (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Inorganic Chemistry (AREA)
- Surface Treatment Of Glass (AREA)
- Catalysts (AREA)
- Physical Vapour Deposition (AREA)
- Laminated Bodies (AREA)
Description
···· jMiMveevtfiKfr. advokát 1
tissniM 16 85699
Nosič s fotokatalytickým povlakem Oblast techniky ..Vynález se týká obecně transparentních nebo polotransparentnich nosičů, zejména ze skla, plastu ‘nebo ’ : sklokeramiky, které jsou opatřeny povlakem s fotokatalytickými · vlastnostmi, který nosiče činí nešpinivými nebo přesněji samočisticími. · , Důležitá aplikace těchto nosičů S!e týká skel, která mohou mít velmi rozličná použití, užitkových skel použitých v elektrických přístrojích pro domácnost!, skel pro vozidla a skel používaných ve stavebním průmyslu. .
Aplikace uvedených skel se rovněž vztahuje na reflexní skla typu zrcadel (zrcadla pro pbydlí-nébo zpětná zrcátka vozidel) a na parapetová zakalená skla. -
Vynález se rovněž podobně týká netransparentních nosičů, jakými jsou keramické nosiče nebo libovolný jiný nosič, který může být zejména použit jako architektonický materiál (kov, dlažba...). Vynález se výhodně vztahuje bez ohledu na povahu nosiče na v podstatě rovné nebo mírně ;vyklenuté nosiče. i -i
Dosavadní stav techniky ·- " | [ ' . . ,
Fotokatalytické povlaky již byly předmětem studia, zejména fotokatalytické povlaky na bázi I oxidu titaničitého‘ v krystalické modifikaci anatas. Jejich schopnost rozkládat špínu organického původu nebo mikroorcfanismy za přítomnosti ultrafialového záření je velmi .zajímavá. Tyto povlaky mají 2 6 |
často hydrofilni charakter, což umózftuje odstraňováni špíny minerální povahy poskřikem vody nebo v případě vnějších skleněných povrchů působením deště. • Tento typ povlaku s nešpinivými, baktericidními a algicidními vlastnostmi již byl popsán, zejména v .mezinárodním patentovém dokumentu WO97/10186, který také popisuje několik způsobů získání takových povlaků. · Cílem vynálezu je takto zlepšit techniky nanášení povlaku tohoto typu, zejména pokud jde o jejich zjednodušení. Cílem vynálezu je rovněž zlepšit vzhled 'tohoto povlaku, zejména zlepšit optické vlastnosti nosiče, který je takovým povlakem opatřen. . j - · ' * i > i !
Podstata vynálezu . ! Předmětem vynálezu je především způsob nanesení katodovým rozprašováním povlaku s fo.tokatalytickýmivlastnostmi obsahujícího oxid titaničitý alespoň Částečně vykrystalizovaný ve formě anatasu na transparentní neb;o polbtrasparentní nosič.
I
Podstata vynálezu spočívá v provedení |rozprašování na nosič pod
I nanášecím tlakemalespoň rovným 2 Pa.i Tento nanášecí tlak je výhodně roven nejvýše 6,67 Pa a zejména alespoň 2,67 Pa.
Jak je to zřejmé z uvedeného patentového dokumentu WO97/10186, lze uvedený typ povlaku skutečně nanášet katodovým rozprašováním. Je to vakuová technika, která zejména umožňuje velmi jemně nastavit tloušťku a stechiometrii nanešených vrstev. Za účelem zvýšení účinnosti nanášení se tato technika rovněž provádí v přítomnosti magnetického pole. Muže jít také o reaktivní techniku: vychází se zde ž ý podstatě kovového terče/, který je v daném případě titan (případně slitina s jiným kovem nebo s křemíkem)' a rozprašování i se provádí v oxidační atmosféře, která je obecně tvořena směsí Ar/02. Rozprašování může být také nereaktivní, přičemž se vychází z tak zvaného keramického terče, který je již v' oxidované' formě titanu (případně slitiny).
Nicméně, vrstvy získané tímto"typem nanášecí technicky jsou obecně amorfní, zatímco funkčnost povlaku podle vynálezu je r i přímo spojena s požadavkem, že povlakj musí být významnou měrou j krystalický. To je důvodem toho, jak je to ostatně výslovně požadováné v uvedeném patentovém ' dójkumentu, že je- nezbytné povlak převést do krystalické formy |(neboli zvýšit jeho· míru krystalízace) tím, že se povlak podróbí tepelnému zpracování, například zahříváním na dobu asi 30 minut a několika hodin při teplotě alespoň 400 °C. · ' í í *
I V rámci vynálezu bylo prokázáno!, že také zvýšený tlak
I příznivě ovlivňuje krystalůzaci pévlaku. a jeho hustotu a hrubost, které mají významný vliv na fjotokatalytické vlastnosti povlaku. V některých případech může! být případně provedeno žíhání povlaku. Pro představu lze Uvést,· že obecně použité nanášecí tlaky pro oxidy kovů se obvykle pohybují v rozmezí od 0,27 do 1,07 Pa, z čehož plyne, jže v, rámci vynálezu se používají nanášecí tlaky, které 'jsou zcela neobvyklé v této i oblasti. i V rámci vynálezu bylo rovněž prokázáno, že je možné
I případně vynechat stupeň zpracování ; následující po nanešení nebo alespoň ho alespoň učinit případným (nebo/a omezit jeho dobu nebo jeho teplotu) tím, . že ,se povlak rozprašuje na teplý nosič a tedy nikoliv na nosič mající bkolní teplotu, a sice na nosič mající teplotu alespoň 100 °C. Toto zahřívání nosiče v průběhu nanášení může být prováděno alternativně nebo kumulativně s použitím výše uvedeného zvýšeného tlaku. ·. ' · ’ I’
Toto zahřívání má alespoň pět následujících výhod: energetický zisk dosažený při výrobě, "možnost použití nosičů neschopných snést tepelnér'zpra-cování při teplotách 400- nebo ;500 °C bez rozkladu, v případě, kdy žíhání vyžadujej uložit mezi nosič a fotokatalytický povlak bariérovou vrstvu zabraňující difúzi prvků nosiče (alkalickéjho typu v případě, že se jedná o sklo), je zde možnost ipoužít tenčí bariérovou vrstvu anebo tuto bariérovou Vrstvu zcela vypustit, poněvadž uvedené tepelné zpracování podle vynálezu je mnohem méně agresivní než žíhaní, mnohem kratší výrobní cyklus (Iprotože tepelné zpracování nosiče je mnohem kratší a provádí se při výrazně nižší teplotě), ! vypuštění skladování "polotovárů” před žíháním.
Nicméně i v tomto případě se dosáhne stupně fotokatalytické ; * i účinnosti povlaků, který je zcelá idéntický se stupněm ; fotokatalytické účinnosti nanešeného a· potom vyčíhaného povlaku. ! : 1
Zjištění učiněná' v rámci - výftálezu nebyla předem očekávatelná vzhledem k tomu, že bylo možné očekávat, že prolongované žíhání je nezbytné pro postupný růst krystalizačních zárodků v matrici amorfního oxidu. Tak tomu nebylo: nanášení za tepla příznivě ovlivňuje nanášení povlaku přímo alespoň částečně vykrystalizovaného.
Nebylo také očekávatelné, že povlak takto nanešený "za tepla" bude výhodně krystalizovat ve formě anatasu a nikoliv ve formě rutilu (forma anatasu je mnohem fotokatalytičtější než forma rutilu nebo broockitu oxidu titaničitého). Při provádění vynálezu existuje několik různých variant, zejména pokud jde o typ rozprašovacího zařízení, který je k dispozici. Takto lze nosič zahřát Ipřed : vlastním nanášením povlaku mimo vakuovou komoru. Rovněž; lze zahřívat nosič pří nanášení v případě, že je nanášecí komora vybavena zahřívacími prostředky. Zahřívání nosiče může být takto provedeno před nebo/a během rozprašování povlaku. Zahřívání může být rovněž i postupné v průběhu nanášení a může zasahovat jen. část tloušťky naneseného povlaku (například vrchní pást). Výhodně má nosič při nanášení poýlaku teplotu mezi 150 a j 350 °C, výhodně alespoň 200 ,°C a zejmjéna mezi 210 a 280 °C. S překvapením je možné takto získat dostjatečně krystalický povlak a to aniž by nosič musel být zahříván na teploty, které se obecně používají při žíhání, což jsou teploty alespoň 40.0 až 500 °C. ' !
Obecně, titaničitého rozprašováním když je povlak v podstatě na bázi oxidu (Ti02) a když se povlak nanáší katodovým ("za tepla" nebo při okolní teplotě), má tento povlak dosti vysoký inex lomu, tj. vyšší než 2 nebo až 2,1 nebo až 2,15 nebo 2,2. Obecně se tento index lomu pohybuje mezi 2,15 a 2,35 nebo mezi 2,35 a .2,50 (může být mírně substechiometrický), zejména mezi 2,40 a 2,45. To je dosti specifická charakteristika tohoto typu nanášení, neboť povlaky stejného charakteru nanesené různými technikami, například technikou sol-gel,' mají tendenci k mnohem větší poréznosti a k výrazně méně vysokému indexu lomu (nižšímu než 2 ‘a dokonce nižšímu než 1,8 nebo 1,7). Vynález umožňuje získat, povlaky katodovým'' .-.rozprašováním, které mají Tporézňóst nebo/a hrubbst (zejména hrubost RMS mezi 2,5' a jlO nm) zesilující jeho fotokatalytické vlastnosti. V důsledku toho může mít povlak index lomu asi 2,15 nebo 2,35, což |je index lomu nižší než index lomu, kterého je obvykle jdosaženo při katodovém rozprašování, což je zároveň nepřímý důkaz poréznosti povlaku. To je výhoda v optickém smyslu, protožje povlak s nižším indexem lomu má při dané tloušťce méně reflexrií charakter.
Bylo pozorováno, že krystalografická struktura povlaků je ovlivněna tím, že jsou naneseny,, za Studeria a potom vyžíhány nebo že jsou naneseny za teplá. Takto 'mají povlaky nanesené "za tepla" nebo/a při zvýšeném .tlaku· podle vynálezu zcela neočekávatelně střední velikost krystalitů oxidu titaničitého nižší nebo rovnou 50 nm' nebo 40 nm nebo 30 nm nebo mezi 20 a 40 nm. Povlaky nanesené standardním způscjbem, zejména "za studená" a následně žíháné, mají spíše velikojst krystalitů vyšší, ' tj.'. alespoň 30 nm nebo 40 nm a obecně v rozmezí mezi 40 a 50 nm v případě, že se použijí standardní nanašecí tlaky.
Na rozdíl od toho, jestliže še v rámci jedné varianty podle vynálezu povlak nanáší při· okolní teplotě ale při zvýšeném tlaku a když se potom provede žíhání povlaku, dosáhne se'menší velikosti krystalitů (20 až 40 nm) , která je a srovnatelná s 7 • · velikostí krystalitů povlaků nanesených za tepla,- ať již při vysokém nebo nízkém tlaku.
Fotokatalytická účinnost povlaků :· nanesených při okolní teplotě a vysokém tlaku a potom žíhaných je mnohem lepší než fotokatalytická účinnost povlaků nanešených při okolní teplotě a nízkém tlaku a potom žíhaných. Nicméně je jisté, že nanášecí tlak ovlivňuje kvalitu naneseného povlaku, zejména, v případě nanáše "za 'siiudena" a to výrazným způsjobem. · ráf
Současné zahřívání při narůstání' 'povlaku způsobuje tvorbu mikrostruktury příznivé pro hrubost j nebo/a porézhos.t, která i zase příznivě ovlivňuje fótokatalyťické vlastnosti. To je poněkud stejný případ, jako když se ;póužije zvýšený nanášecí tlak (například při nanášení " za| studená" následovaném žíháním). · ; Díky způsobu podle vynálezu (nanášení za tepla nebo/a při zvýšeném tlaku) je možné získat poýlaky mající hrubost RMS (Root Mean Square) měřenou mikroskopem s rozlišovací schopnost v atomové oblasti při provádění měření na stejném povrchu za použití 2 mikrometrových kroků: r alespoň 2 nm, zejména alespoň 2,5 nm, výhodně mezi 2,8 nm a 4,6, v případě nanášení při. OkOlníi teplotě a zvýšeném tlaku podle vynálezu (2 až 5 Pa) a| následného žíhání, . " alespoň 4 nm, zejména alespoň 5 nm, výhodně mezi 5,5 á*6,0 nm, v případě nanášení za tepla (ajsi 250 °C) a bez. žíhání, ať již při vysokém nebo nízkém tlaku. 8 ··· «· ··· · ♦ · · • · · • · ·
Pro srovnáni lze uvést, že hrubost povlaků nanesených při okolní teplotě a standardním tlaku (zejména tlaku 0,2 Pa) a potom žíhaných činí v nejlepším případě pouze 2 nm: to dokazuje, že použití zvýšeného tlaku umožňuje dosáhnout překvapivě vysoké hrubosti povlaků nánešených katodovým x rozprašováním, což má za následek zlepšení fotokatalytických vlastností povlaku. Výhodně mé-- povlak geometrickou tloušťku nižší než 150, nm,s přičemž zejména má tloušťku mezi 80 a1120 nm nebo mezi 10'a 25 nm. Ukázalo se, že i dokonce velmi tenký povlak může mít postačující fotokatalytické vlastnosti (alespoň pro některé aplikace) a k tomu ještě optickou výhodu spočívající v tom, že povlak je málo reflexní. j
Jak již bylo uvedeno výše, může být katodové rozprašování povlaku reaktivní nebo nereaktivni. ý jednom i druhém případě lze dopovat rozprašovací terčík,, zéjmena alespoň jedním kovem. Může se jednat o jeden nebo několik kovů zvolených z množiny zahrnující Nb, Ta, Fe, Bi, Co, Ni, Cu,: Ru, Ce, Mo a· AI. Před provedením nanášení podle vynálezu nebo/a po tomto provedení nanášení podle vynálezu může být1 proveden jeden nebo nebo provedeno několik stupňů nanešení jiné tenké vrstvy nebo jiných tenkých vrstev, zejména vrstev majících optické, antistatické, antireflexní, hydrofilni nebo ochranné vlastnosti anebo stupeň zvětšující hrubost povlaku s fotokatalytickými vlastnostmi. Bylo takto pozorováné, že může být výhodné nanést (alespoň) jednu vrstvu takovým způsobem, aby byla obzvláště hrubá, například pyrolýzou nebo technikou sol-gel a teprve potom nanést fotokatalytický povlak l Fotjokatalytický povlak bude mít v tomto případě tendenci "sledovat" hrubost podkladové vrstvy, v důsledku čehož bude, mít i tento fotokatalytický 9:ι ·· ····
• · · ♦ · ·· ·· ···· .
povlak výraznou hrubost,' zatímco povlaky nanesené katodovým rozprašováním mají spíše malou hrubost. Takto lze například prvotně vytvořit podkladovou vrstvu (s hrubostí RMS například alespoň 5: nebo 10 nm) typu SI02, SiOC nebo SiON nanešenou pyrolýzou v plynné fázi (CDV) a na tuto vrstvu potom sekundárně nanést katodovým rozprašováním fotokatalytický povlak.
Vynález tedy zahrnuje jakoukoliv :kombinaci mezi nanesením katodovým rozprašování jedné nebo několika vrstev (a · tedy-alespoň fotokatalytického povlaku) j a nanešením podkladové vrstvy nebo vrstev technikou' zahrnující tepelný rozklad, zejména pyrolýzu (v kapalné fázi., v plynné fázi nebo' v práškové fázi), a techniku sol-gel.. . ; mají povlaky na bázi zvýšený index lomu. To
Jak již bylo uvedeno výše, 1 fotokatalytického oxidu titaničitého znamená, že jsou reflexní a že tedy nosiči udělují také reflexní vzhled, což je mnohdy považjováno. za málo estetické. Kromě toho barva projevujicí'se při odrazu může být sama o sobě i při akceptování lesku nežádoucí. Njení vůbec snadné zlepšit tento aspekt odrazu, neboť fotokatalýtická. funkce předpokládá' i obligatorní požadavek: fotokatalytický povlak musí být. obecně ve styku s vnější atmosférou’, aby mohl absorbovat ultrafialové záření a rozkládat vnější špínu. 1 Není tedy možné tento fotokatalytický povlak překrýt vrstvou s nízkým indexem lomu (ledaže by byla velmi tenká nebo/a porézní). Fotokatalytický i. ’ ! povlak také musí mít minimální' tloušťku nezbytnou k tomu, aby byl dostatečně účinný.
I
Dalším cíl vynálezu tedy spočíval ve zlepšení reflexního vzhledu nosiče, aniž by přitom došlojk rušení fotokatalytické účinnosti povlaku, a to pokud možno snížením jeho světelné 10 ·· ♦··· ·· ···« • · ♦ · · · '· · · · · ·· ·· * reflexe nebo/a ovlivnění barvy odrazu nosiče tak, aby byla pokud možno neutrální. Předmětem vynálezu je tedy ; také1 výše definovaný transparentní nebo polotransparentní nosič, který je alespoň na části alespoň jedné z jeho stran jopatřěn fotokatálytickým povlakem tvořeným oxidem titaničitým alespoň z části v krystalické formě anatasu, přičemž tenfto povlak má vysoký index lomu rovný alespoň 2 nebo 2,1 nebo 2,2. Podlé vynálezu je tento fotokatalytický povlak považován za součást seskupení tenkých antiref lexních vrstev, přičemž fotjokatalytický povlak· je poslední vrstvou (tj. vrstvou, která! je nejvíce vzdálena' od nosiče). Uvedené antireflexní seskupení je tvořeno střídáním· vrstev s vysokým a nízkým indexem : lomu a je v daném případě ukončeno fotokatalytickou vrstvou s vysokým indexem lomu. Výraz i "anireflexní" je zde použit v rámci zjednodušení: obecně se tento výraz používá v případě, kdy je snaha dosáhnout světelné i reflexe nižší než je světelná reflejxe, kterou by. měl nosič samotný. V rámci vynálezu se však jspíše jedná o omezení zvětšení světelné reflexe (nebo/a modifikování nebo zeslabení barvy odrazu) způsobené použitím fotokatalyťického povlaku obsahujícího oxid titaničitý. 1 V rámci vynálezu se poď pojmem' "vrstva" rozumí jediná vrstva nebo několik vrstev uspořádaných ná sobě. Jestliže se ί ' ' jedná o několik na sobě uspořádanýchjvrstev, potom je celková tloušťka tohoto uspořádání' rovna součtu tlouštěk jednotlivých vrstev a celkový index lomu . je roven i průměrné hodnotě množiny indexů lomu jednotlivých , vrstev. To se rovněž týká fotokatalytického povlaku. Tento fotokatalytický povlak může být sdružen s nějákou jinou vrstvou s ivysokým indexem lomu. * .'‘I 11 i •'•••I ·! ·· ·« ···· • · * ·. · · • · · • · · ' · ·· ·· ·· ··♦· • · · • ♦ · • · · • · · · ·· ··
h J V rámci vynálezu a jak již to bylb uvedeno výše, se pod ’ pojmem "antireflexní" rozumí funkce, která umožňuje snížit -hodnotu světelné reflexe povlečeného1 nosiče nebo/a zeslabit reflexní barvu zejména s cílem učinit tuto barvu pokud možno co V. nejbledší, co nejneutrálnější a co nej estetičtější (mluví se v této souvislosti také od "odbarvovacím" účinku.
Jde o dosti volnou a neočekávatelnou adaptaci konvenčních antireflexních sestav. Ve skutečnosti se v 'těchto sestavách známým způsobem střídají vrstvy s vysokým a nízkým indexem lomu a tyto sestavy jsou ukončeny vrstvami|s nízkým indexem lomu (s indexem lomu pokud možno co nejbližším indexu lomu vzduchu, který je roven 1), přičemž tyto sestavy jsou tvořeny vrstvami na bázi například oxidu křemičitého Si02 nebo. fluoridu 1 hořečnatého. Nicméně v daném přípajdě jě sestava ukončena vrstvou s vysokým indexem lomu, což je dosti paradoxní. Přesto lze vhodnou volbou charakteristik jednotlivých vrstev pomocí takové specifické antireflexní sestavy dosáhnout významného zeslabení reflexního charakteru, který je vlastní . oxidu titaničitému s vysokým indexem lomu, a! dodat nosiči přijatelnou reflexní barvu (neutrální 1 barvu v bledých odstínech neobsahujících červenou a další teplé barvy, které jsou považovány za málo estetické, zejména neutrální barvu v šedém, modrém nebo obzvláště zeleném odstínuji. Výhodně má fotokatalytický povlak index lomu vyšší něž ; 2,30, zejména mezi 2,35 a 2,50.nebo mezi 2,40 a 2,45 '(jak již ; bylo uvedeno výše, lze fotokatalytický povlak nanést· takovým ř způsobem, že má index lomu .pouze 2,10 až 2,30). Tento fotokatalytický povlak se výhoidně nanáší katodovým rozprašováním. Jeho optická tloušťka i se společně s tloušťkami I . ostatních vrstev sestavy volí tak,' aby bylo dosaženo snížení světelné reflexe nosiče. ' Ukázalo se, že optimální optická i tloušťka se výhodně pohybuje okolo λ/2, kde λ je rovna 580 nrn. ’ 12 12 -·♦ ···· ·· • ·· · • · • ♦ · • • · • • · • • · • · • · • • · • · •. · • · ·· ·· ·· • · ···· *· l • -· ··.!
To odpovídá optické tloušťce mezi 250 a 350 nm, zejména mezi 270 a 310 nm; a geometrické tloušťce mezi 80 a 120 nm, zejména mezi 90 a 110 nm. Toto rozmezí geometrické tloušťky se ukázalo být dostatečné také pro dosaženi fótokatalytické účinnosti, která je považována za dostatečnou (fotokatalytická účinnost ve skutečnosti závisí na četných parametrech, mezi které patří zejména hrubost povrchu, krystalická morfologie vrstvy a poréznost vrstvy). Rovněž je možné použít vrstvy výrazně tenčí, které mají zejména geometrickou tloušťku mezi 10 a 25 nm.
Podle toho, zda je fotokatalyticky povlak nanešen katodovým rozprašováním "za tepla" nebo při okolní teplotě a potom žíhán,
I obsahuje krystality různé velikosti, i jak to již bylo uvedeno výše ( obecně krystality menší než '30 nm při nanášení "za tepla" a 'krystality veliké asi 30 áž 50 nm nebo více při i ’ · nanášení při okolní teplotě a za standardního tlaku).
Antireflexní sestava podle vynálezu ve svém nej jednodušším j provedení obsahuje tří vrstvy a je póstupně tvořena vrstvou s vysokým indexem lomu, vrstvou s nízkým indexem lomu a potom fotokatalytickým povlakem s vysokým- irídexem lomu.
Vrstva nebo vrstvy této sestavyj s vysokým indexem lomu kromě fotokatalytického povlaku mají bbecně index lomu alespoň rovný 1,9, zejména mezi 1,9 a 2,3 nebb mezi 1,9 a 2,2. Může se jednat o oxid zinečnatý; oxidf cínuf, oxid zirkoničitý nebo nitrid hliníku nebo nitrid křemíku. Muže se také jednat o směs alespoň dvou z těchto sloučenin. '
Optickou tloušťku těchto vrstev s vysokým indexem lomu je třeba zvolit vhodným způsobem. Jejich výhodná optická tloušťka se výhodně pohybuje okolo λ/10 při λ zjovném 580 nm. To odpovídá 13 ···· ·* »··» Β· II·· • · · • · « • · · < ·· ·· optické tloušťce mezi 48 a 68 nm, zejitiéna mezi 53 a 63 nm, a geometrické tloušťce mezi 20 a 40 nm, i zejména mezi 25 a 35 nm. Rovněž je možné zvolit menši tloušťku,, zejména tloušťku mezi 20 a 48 nm.
Vrstva nebo vrstvy s nízkým indexem lomu mají obecně index lomu mezi 1,4 a 1,75, zejména mezi 1,45 a 1/65. Tyto vrstvy mohou být například tvořeny oxidem křemičitým, oxidem hlinitým nebo směsí těchto dvou oxidů. Rovněž optickou tloušťku těchto vrstev s nízkým indexem lomu je třeba vhodně zvolit: jejich optimální optická tloušťka se výhodně ;pohybuje okolo λ/20 při λ rovné 580 nm. To odpovídá optické tloušťce mezi 20 a 79 nm, zejména mezi 19 a 39 nm,. obzvláště mezi 25 a 35 ňm, a geometrické tloušťce mezi 12 a 50 nm,1 zejména mezi 15 a 30 nm, například mezi 20 a 28 nm. V rámci další varianty lze ve! výše uvedené třívrstvé sestavě nahradit sekvenci vrstva s vyjsokým indexem lomu/vrstva s nízkým indexem lomu vrstvou s "mezilehlým" indexem lomu, tj. výhodně s indexem lomu vyšším než- !1,65 a nižším než 1,9. Výhodným rozmezím indexu lomu je rozmezí mezi 1,75 a 1,85. Tato vrstva může být na bázi oxynitridu křémíku nebo/a hliníku. Tato | vrstva může být rovněž na bázi směsi oxidu s nízkým indexem lomu, jakým je například oxid1: křemičitý, a alespoň jednoho i oxidu s vyšším indexem lomu, jakým je; například oxid ciničitý, oxid zinečnatý, oxid zirkoničitýma óxid titaničitý (vzájemný poměr mezi jednotlivými oxidy umožňuje regulovat index lomu vrstvy). -
Tuto vrstvu s mezilehlým indexem lomu lze rovněž použít jako náhradu první sekvence vrsiva š vysokým indexem lomu/vrstva s nízkým indexem lomu sestavy neobsahující jen tří vrstvy, nýbrž například pět nebo sedm vrstev. 14 ·* ···· »t ···· ♦ · ♦ * i · .· « · · · * * ·
Volbu optické tloušťky této vrstvy s: mezilehlým indexem lomu je třeba· zvolit vhodným, způslobem. i Optimální optická tloušťka se pohybuje okolo λ/4 při λ blízké 580 nm. To odpovídá optické tloušťce mezi 120 a 150 nm, zejména mezi 125 a 135 nm, a geometrické tloušťce mezi 65 a 80 hm, zejména mezi 68 a 76
I nm.
Jak již to bylo uvedeno výše, berou tyto různé volby optických tlouštšk v 'úvahu celkový reflexní vzhled nosiče: je zde nejem snaha snížit hodnotu světelného odrazu (reflexe) RL, nýbrž také snaha udělit nosiči odstín,' který je v současné době ! považován za estetický (což znamená jspíšé studené barvy než žlutou nebo červenou barvu) a který je pokud možno co. nejméně i intenzivní. Je tedy třeba nalézt nej lepší kompomis k dosažení , i 1 ' . < toho, aby celkový reflexní vzhled nosiče byl co nejlepší. V ' závislosti na použití nosiče může být výhodné spíše snížení hodnoty RL nebo spíše volba specifického reflexního zbarvení (například kvantifikovaného hodnotami:a* a b* kolorimetrického systému L, a*, b* nebo hodnotou idominantní vlnové délky přidružené k barevné čistotě) ·. ! Výhodně může být soubor vrstev antireflěxní sestavy nanesen 1 postupně po vrstvách katodovým, rozprašováním na jedné a téže výrobní lince. | V rámci případné varianty vynálezu může být mezi nosič a antireflexní sestavu vložena bariétoVá vrstva zabraňující difúzi složek z nosiče. Jedná se zejména o alkálie v případě, že nosičem je sklo. Tato bariérová vrstva může být například na i bázi oxidu (nebo oxykarbidu) křemíku;j oxid křemičitý může být nanesen katodovým rozprašováním', zatímco oxykarbid křemíku SiOC může být nanešen o sobě známým způsobem spočívajícím v pyrolýze v plynné fázi (CVD). Tato bariérová vrstva může mít
I 15 I 15 ·· ···· t « 4 . · ύ · · · « « · · • Ml . « ·· ···· • ··' · · » »' | · · · • * · · · · • 0. · · · · * ··· ·· ·« výhodně tloušťku alespoň 50 nra, nápřiklad v rozmezí mezi 80 a 200 nm. Zvolena z tohoto typu mateiiálu s relativně nízkým indexem lomu (blízkým 1,45 až 1,55) je tato vrstva obecně v optickém smyslu "neutrální" . Oxid křemičirý může obsahovat minoritní prvky, které jsou zvoleny zejména z množiny zahrnující AI, C a N. Předmětem vynálezu je rovněž sklo, zejména jednoduché sklo !. (tuhý nosič), vrstvené'sůklo, vícečlenné sklo typů . dvojitého skla, které obsahuje alespoň, jedeh nosič povlečený výše •uvedeným způsobem. 1 s ' *
Uvedené sklo má výhodně díky anťireflexnímu účinku.. podle 1 vynálezu světelnou reflexi RL, která, zůstává nejvýše rovría 20 %, zejména nejvýše rovna 18 %,.Výhodně má tato světelná reflexe příjemný modrý nebo zelený odstín s’ riegativními hodnotami a* a i í ; . : b* v kolorimetrickém systému (L,‘a*-,b*) a zejména nižšími než 3 nebo 2,5 v absolutních hodnotách. ^Uvedehý odstín má takto i bledé, oku příjemné a málo intenzivníjzbarvení. .
Uvedené sklo může obsahovat také jeden nebo několik dalších funkčních povlaků (nanesených katodovým rozprašováním nebo parolýzou nebo technikou sol^gel) ' aj to buď na téže straně nosiče, na které je nanesen fotokatálytičký povlak, nebo na druhé straně nosiče nebo na straně jdruhého nosiče spojené s prvním nosičem (dvojité .sklo nebo vřstvenné sklo). Rovněž je i možné mít dvojité sklo. typů sklb/plynová mezera/sklo s j fotokatalytickým povlakem na 'vnějších stranách skel a se -sestavou jedné nebo dvou stříbrných vrstev.· na vnitřních
I stranách skel (přivrácených k plynjové mezeře) . Stejný typ i konfigurace se vztahuje k vrstvennému sklu.
Dalším funkčním povlakem nebo 'dalšími funkčními· povlaky mohou být zejména nešpinivý povlak;, protisluneční povlak, nízkoemisní povlak, vyhřívající povlak, hydrofobní povlak, hydřofilní povlak, antireflexní povlak antistatický povlak a další fotokatalytický povlak. Lze uvést zejména protislunční nebo nízkoemisní sestavy . s jednou nebo několika stříbrnými vrstvami nebo niklo/chromovými vrstvami nebo s vrstvami nitridu titanu nebo zirkonia. V případě vrstev na bázi kovového nitridu lze použít techniku CVD. V následující části popisu bude vynález:biíže popsán pomocí příkladů jeho konkrétního provedení, pjřičemž tyto příklady mají * i pouze ilustrační charakter a nikterak neomezují rozsah vynálezu, který je jednoznačně vymezen definicí patentových nároků a obsahem popisné části. j | i j - ! Příklad 1 a srovnávací příklad, 1 se týkají nanášení za tepla fotokatalytických vrstev oxidů titaničitého katodovým rozprašováním. . ! Příklady provedení vynálezu j Příklad 1
Na křemičitosodnovápenaté sklo o i tloušťce 4 mm se nanese první vrstva SiOC technikou CVD v tloušťce 80 nm, potom druhá vrstva fotokatalytického oxidu titanjičitého v tloušče 90 nm (vrstva SiOC může být rovněž nahrazená vrstvou Si02:Al získanou reaktivním katodovým rozprašováním z křemíkového terčíku dopovaného Ά1). ·«·· *« ♦♦·♦ ·· ·« 17 i t · · « . í ♦ « · · « | í « ’·' I * ' ♦-> .
• · · · «V é« ·♦ ·· « . nanesena ' katodovým Jedná ' se o reaktivní
Vrstva oxidu titaničitého naprašováním v magnetickém poli. rozprašováni titanového terčíku v přítomnosti kyslíku. Sklo,je předehřáto na teplotu asi 220 až 250 °Č·. Tato teplota se udržuje konstantní v průběhu naprašování vrstvy pomocí ohřívacího zařízení umístěného vedle terčíku. Získaná vrstva oxidu titaničitého má index lomu '2,44.. Je vykrystalizována ve formě cffifktasu (může také. obsahovat' amorfní' zóny) se střední velikostí krystalitů 'menší než 25 nm.
Její fotokatalytická účinnost byla kvantifikována · pomocí testu používajího kyselinu palmitovoú; při tomto testu se na fotokatalytický povrch nanese kyselina palmitová v :dané tloušťce a fotokatalytický povrch se exponuje ultrafialovým zářením, jehož vlnová délka leží okjolo 365 nm, v povrchové intenzitě asi 50 W/m2 v průběhu celé:doby trvání testu, načež se stanoví rychlost zmizení kyseliny palmitové podle následujícího vztahu: i i V(nm.h 1)=[ tloušťka kyseliny palmitové (nm)] /[ 2 x t1/2 zmizení (h)] . ' . i .
Pro vrstvu podle .vynálezu ! se výpočtem stanoví fotokatalytická účinnost alespoň '/rovna 10 nm.h 1, zejména katalytická účinnost mezi 20 a 100 ňmih 1, a to v závislosti na volbě tlakových a teplotních parametrů nanášení.
Takto dvěma vrstvami ovrstvené sklo má ^odle iluminanty Dg5 světelnou reflexi rovnou 23 % a reflexní hodnoty a* a b* podle kolorimetrického systému (L,a*,b*) rovné asi 17 respektive 28. rfí ··· ' ···» M · • · é · • • · • i · * ě · • V • « • ¥ · · • 9 · • * · ··· «* ’ ' 9m ι . · · ϋ ♦ · · · ' I · • Γ · ! * f ·'« 18
Fotokatalytická účinnost uvedeného povlaku je ^ tedy uspokojivá, avšak její optický vzhled má ještě čistě reflexní charakter a příliš intenzivní reflexní zbarvení.
Je třeba uvést, že je možné zvýšit fotokatalytickou účinnost povlaku tím, že se po nanesení povlaku tento povlak podrobí konvenčnímu žíhání (po dobu jedné nebo několika hodin při teplotě alespoň rovné 400 °C) . / :
Srovnávací příklad 1 | *.·, í i - ! - - .
Opakuje se postup podle příkladu 1, ale tentokrát se vrstva oxidu titaničitého nanese na heohřivaný nosič a potom se zpracuje několikahodinovým žíháním při teplotě 500 až· 550 °C. Kromě toho má podkladová vrstva oxidu křemičitého tloušťku pouze až 100 nm. Morfologie vrstvy je poněkud odlišná a obsahuje krystality s velikostí spíše jvětší než 30 nm.
Fotokatalytická účinnost povlaku je stejná jako ] fotokatalytická účinnost vrstvy z příkladu -1 bez žíhání, avšak je nižší, jestliže se zvolí menší tloušťka podkladové vrstvy oxidu křemičitého.
Tato skutečnost tedy potvrzuje to, žé nanášení za tepla podle vynálezu umožňující "ušetřit" ináslednou mnohdy dlouhou žíhací operaci se neděje na úkor fotokatalytické účinnosti povlaku. To rovněž potvrzuje druhotnou výhodu dosaženou vynálezem: při nanášení za tepla a za vyloučení následného žíhání je možné při dosažení stejné katalytické účinnosti použít tenší bariérovou vrstvu (čímž se zkrátí doba výroby a sníží náklady spojené s výrobou uvedeného produktu). 19 * * • · · · • 1 • ·· · • é· 9 · · • · > ·' • t # 1 4 é • · • · ' t A> » • · ·· · • ♦ ♦ . >9 ·> ftj» «-·# Příklad 2 a následující příklady se týkají zabudování fotokatalytické vrstvy oxidu titaničítého s vysokým indexem lomu, zejména nanesené katodovým rozprašováním, do antireflexní sestavy za účelem zlepšení optických vlastností. Příklad 2 (realizace) . ·
Na křemičitosodnovápenaté-^s-klo o 1 tloušťce 4 mm se nanese sestava následujících vrstev: ; sklo/ Si3N4(1)/ SÍ02(2)/ 30 nm 22 nm
TiO (3> 104 nm (geometrická tloušťka).
Vrstva (1) rozprašováním v dopovaného AI.
Si3N4 se' nanesei reaktivním katodovým přítomnosti dusíkuj z křemíkového terčíku reaktivním katodovým z křemíkového terčíku
Vrstva (2) Si02 se nanese1 rozprašováním v přítomnosti kyslíku dopovaného Al.
Vrstva (3) Ti02 je fotokatalytická a byla nanesena za tepla způsobem, popsaným v příkladu.!.
Mezi sklo a vrstvu Si3N4 je možné případně vložit vřstvu oxidu křemičitého o tloušťce asi 100 nm získanou stejným způsobem jako výše popsaná vrstva (2) oxidu křemičitého. Tato vrstva nemá téměř žádný vliv na optické vlastnosti nosiče a může sloužit jako bariérová vrstva bránicí přechodů alkálií ze skla. Tato vrstva je případná tím spíše, že vrstvy antireflexního povlaku pod fotokatalytjickou vrstvou, t j . vrstvy
20 (1) a. (2), samy o sobě představuji zcela dostatečné bariérové, vrstvy kromě jejich optických vlastnosti; tyto dvě vrstvy tvoři již 100 nm bariéru pro složky schopné (difundovat ze skla.
Fotokatalytická účinnost vrstvy (3) čini 80 nm.h
Alternativně je možné použit vrstvu Ti02 nanesenou za studená a' potom žíhanou způsobem popsaným ve srovnávacím ; příkladu 1.
Na reflexní straně vrstev je dosaženo pro takovou sestavu i následujícího výsledku: i
Rl (podle iluminanty Dg5) : a* (Rl) = b* (Rl) = λά (nm) = pe (%) = 17,3 %, -2, i -2,8, ; 494 nm| (dominantní vlnová délka ; světelné reflexe), 2,5 % čistota reflexní barvy).
Je patrné, že vzhledem k příkladu 1 se zde při nižší hodnotě RT získá spíše bledší modrozelená reflexnmí barva. Celkově má tedy sklo estetický výrazně zlepšený vzhled. Příklad 3
Tento příklad je velmi blízký přjíkladíl 2, přičemž jediná změna spočívá v málo změněné tloušťce vrstvy· Ti02. V tomto případě jde o sestavu: ! sklo/ Si3N4(1)/ Sí02(2)/, ·;ΤίΟ.(3)' 30 nm 22 nm ' 99 nm ((geometrická tloušťka). 21 ···· « . » %· -» · *· «.· ·· «··· ·* · 1 · ♦ · . ♦ · • ♦ * * · • · · · · · • · · · · · * '· «· « · «-# . Získá se následující výsledek světelné reflexe (se stejnými významy uvedených veličin): ' rl = a* = b* = λά (nm) = pe (%) = 17,9 %, -0,8, 0,7, 494 nm, 0,8 %.
Je zde tedy dosaženo poněkud odlišného kompromisu při mírně vyšší hodnotě RL a nižších absolutních hodnotách a* a b* . .. Příklad 4 (modelizace)
Tento příklad je velmi blízký příklad 2 s jedinou změnou . - * : I týkající se změny tloušťky první vrstvy Si3N4: sklo/ SÍ3N4 25 nm (i) / sío2 (2>/ ‘ : TiO (3> 22 nm 104 nm; (geometrická tloušťka) Získá se následující výsledek ’ světelné reflexe .(se stejnými významy uvedených veličin): . v i rl = b* . = λά (nm) = pe (%) = 15,8 %, ° , ' -9, ; 475 nm, 4,9, %» V tomto případě je. výrazně· snížena hodnota,/hodnota RL, přičemž reflexní barva změnila .odstín.1 j / , Příklad 5 (modelizace/srovnáváčí) ‘ V tomto případě jsou' oproti 'příkladu 2 změněny všechny * ·' ' ' i tloušťky vrstev. Jde o sestavu: ' ΒΠ ··«· - ·· ···· .-·· .···· • «· * · · · ♦ · · • · · · * . J'· ♦v · «< · ·» ♦ * · ·γ· · ♦ . · ·. ' ♦ c ..· · - · » ··. ^.· . * ♦•éWi · ·-· ··· ·· - 22 " ·" * \ j‘ sklo/ Sx3N4(1)/ Si02 (2>/ TiO(3) 28 nm 30 nm 75 nra ‘(geometrická tloušťka) . | Získá se následující výsledek světelné reflexe (se stejnými i Významy uvedených veličin): . ; 25,8 %, -0,8, 0,7, 492 nm, 0,5 rl = a* = b* = λά (nm) = pe (%) =
Jestliže má nosič uspokojivou- teflexní barvu, má- zase naproti tomu hodnotu RL výrazně Vyšší než 20 %, což,, je hodnota příliš vysoká; změněné tloušťky tedy nejsou optimální. \ Příklad 6 (modelizace/srovnávací) V tomto příkladu se tloušťky vrbtev ještě více liší. od j tlouštěk stanovených vynálezem, , přjičemž se zde' jedná o I následující sestavu: , ! : sklo/ Si3N4(1)/ · Si02(2)/ TiO(3) 20 nm 20 nm 60. nm !(geometrická tloušťka) . Získá se následující výsledek .světelné reflexe (se stejnými i významy uvedených veličin) : 1 ·ί a* = b* = Xd(nm) = pe (%) = 30.%, . “2,3,.. 7,2, 587 nm, 14 %'. V tomto případě je hodnota RLpříliš vysoká a i reflexní barva je málo žádoucí a příliš;· intenzivní . Vzhled nosiče tedy' není uspokojivý. . 23 0 · ·'· 4· ·· " • · c · " 9 9 • ·· · • ♦ ♦ • '9 • • • · 0- 0 '· .. · ; ·'· * f • 0 0 0 * · · • · ·.. 9 . 0 9 * 0 0Λ0 *· „ · ♦ Příklad 7 (realizace)
Tentokrát' jde o následující sestavju: j sklo/ Sn02(1)/ Sí02(2)/ Ti02 (3> | 30 nm 27 nm 105 nm; (geometrické tloušťky): V tomto případě byla vrstva Si3N4 nahrazena vrstvou ;.Sn02 1 nanesenou reaktivním katodovým rozprašováním v přítomnosti kyslíku z cínového terčíku. . · ·';?/ Získá se následující výsledek významy uvedených veličin): světelné reflexe se stejnými 17/4 %, a* = b* = λά (nm) pe (%) -2>y;.. -2,-7, 496 .nm, 2,8 %;
Reflexní vzhled nosiče je blízký reflexnímu vzhledu nosiče dosaženého v příkladu 2. j * * Příklad 8 (modelizace) V tomto případě se dvě první· vrstvy nahradí jedinou vrstvou oxynitridu křemičitého SiON mající index lomu 1,84. Jde-/·tedy o, sestavu: . j · ‘ sklo/ SiON/ 72 nm
Ti°2 : j 101 nm (geometrické tloušťky). Získá se následující výsledek světelné rěflexe (se. stejnými významy uvedených veličin):’. ·: . i ' , i RL = · 17/4%, a* = 0, í • ! b* -1>8, :
D 9Φ99 ι· ·♦ ··*· 999* • · · ♦ ♦ · · · · ' 4 ·♦'..# .· ♦ · · · · .„*·..· * ♦ ‘ · · ·· · .9 · ' 9 · · · · · Λ 99·' ···', ' ♦· ♦♦ ·· · 99 24 λά (nm) = pe (%) = 480 nra, 1 %.
Reflexní vzhled' nosiče , je. tedy uspbkojivý. Příklad 9 (modelizace) - \ V tomto případě se opakuj e_pří klad 8 s tím rozdílem, že index lomu vrstvy SiON činí 1,86. Dosáhne se trochu obměněného· reflexního vzhledu: - 1 ' · rl = a* = b* = λά (nm) = pe (%) = 17,'8 %, -1,.1, -1,5, 494 nm, 1,3 %. Příklad 10 (realizace) V tomto případě se jedná o sestavu sklo/ sí3n4/ sío2/ 24 nm 17,5 nm 24 nm tiO. (3) 92l, 5 nm (geometrické tloušťky) lomu je tedy superpozici·'.!
Poslední vrstva s vysokým * indexem vrstvy Si3N4 a Ti02. Světelná refíex4 RL na straně vrstev se · pohybuje mezi 16,5 a 17,5 '%. Fotokatalytická účinnost -Se . pohybuje okolo 8 0 nm.h λ.· ' j Příklad 11 (realizace) ···« ._t·' ·· ·#·· ♦· ···· 25
Tento příklad se vrací k typu sestavy uvedené v příkladu 3, ve které se však používají odlišně tloušťky jednotlivých vrstev. Jedná se o sestavu: sklo/ Si3N4(1)/ Si02(2)/ . TiO(3) 14,5 nm 43 nra 14,4 nm.
Světelná reflexe na straně vrstev se pohybuje mezi 13 a Γ6 %. Změny optických vlastností v případě, že se změní každá z vrstev sestavy o 3 %, jsou následující^ I - - ' . ARl: 0,8 %,
Aa* : 0,3, ! .
Ab* : 1,3. I . ‘ i , · V tomto příkladu se dosahuje fotokatalytické aktivity' asi 15 až 20 nm.h 1. !
Tento příklad je zajímavý z několika důvodů: sestava je málo citlivá na změny tloušťky vrstev a sestava tedy 'bude . · I . * snadno průmyslově vyrobitelná. Sestava zůstává dostatečně fotokatalytická, i kdy je vrstva oxidu titaničitého velmi tentá. Tato sestava . je uspokojivé! i z kolorimetrického hlediska. ! V závěru lze uvést, že . vynález poskytuje nový způsob
I nanášení za vakua vrstev obsahujících fotokatalýtický Ti02. Vynález rovněž poskytuje nový typ antireflexnl/odbarvovací sestavy, která je ukončena vrstvou !s vysokým .indexem lomu, i sestavu, která se snadnou průmyslově vyrábí a výrazně zeslabuje reflexní . vzhled Ti02, aniž by přitom došlo ke zhoršení fotokatalytických vlastností|. Vynález umožňuje získat skla s bleděmodrou nebo bledězelenou reflexí a to při zachování
I tlouštěk fotokatalytické vrstvy řádový rovné stovce nanometrů. Rovněž je možná volba výrazně tenčí fotokatalytické vrstvy, tj. vrstvy mající tloušťku 12 až 30 nm. • ’ i „ r L. > ···.· ·· ···· i · • · • · • · · · t "· · • ♦ · ♦ ♦ · • • - • « · · • · ♦ ♦ • m • • · * · · · • . ·· • · • · · • · • · ♦♦ 26
Oba předměty vynálezu (výrobek a způsob) mohou být stejným způsobem použity pro fotokatalytické 1 povlaky, které obsahují pouze Ti02.
Vynález tedy navrhuje nanášení "za tepla" těchto povlaků a alternativně nanášení těchto povlaků při okolní teplotě a jejich příslušné následné tepelné izpracóvání, výhodně při specifické kontrole nanášecího tlaku, k získání., vrstev nanesených za vakua' majících zcela neobvyklé charakteristiky, i . . které se projevují pozoruhodnými nešpinivými vlastnostmi uvedených vrstev.
I 1
Claims (39)
- 27 wn -3¾ • · · · ···· «· ···· ^ • • 1 · · • ' , t · / · • · · · · · « • • # · · • · · · · • ' · • · · • · ' ' * · · · ♦ · % *· *· ·♦ Ι®.ΜΒ§Ι¥|&ΪΤΙ» ntfvoKóí tittttmft%HefeM‘iB PATENTOVÉ NÁROKY N 1. Způsob naneseni katodovým rozprašováním povlaku ' s fotokatalytickými vlastnostmi obsahujícího alespoň částečně vykrystalizovaný oxid titaničitý, zejména vykrystalizovaný ve formě anatasu, na transparentní’ nebo] polotransparentni nosič typu skla, sklokeramiky a plastu, vyjznačený tím, že se katodové rozprašování provede za nánášecího tlaku P rovného alespoň 2 Pa. j . i . I . i
- 2. Způsob podle nároku 1, v· y = z n ta č e n ý t i m, že nanášecí tlak P je roven nejvýše 6,67 Pa a zejména roven alespoň 2,67 Pa. .1 !
- 3. Způsob podle některého z předcházejících nároků, vyzná- ·. ! č e n ý tím, že se katodové rozprašování provádí na nosič zahřátý na teplotu alespoň 100 °C.
- 4. Způsob podle nároku 3, v y z n a! č e n ý t í m, že se substrát zahřívá před nebo/a v průběhju katodového rozprašování nebo/a v průběhu alespoň části katodového rozprašování.
- 5. Způsob podle nároku 3 nebo nároku 4, vyznačený tím, že nosič má při katodovém rozprašování teplotu mezi 150 a 350 °C, výhodně teplotu, alespoň 20oj °C, zejména teplotu mezi ·· ·'# ···· . ..· ' ·> ···· ··· ··· # ·· «>. Φ-- . · c- ·ν·; 4 ;* • « # · ♦ · · · • » # · · . · · ·- ·' „ # _ . . · · . · · ·.., · % · · · 28 1
- 6. Způsob podle nároku 1 nebo nároku 2,.vyznačen £ tím, že se katodové rozprašování provádí při okolní teplotě, přičemž po nanesení povlaku se případně provede tepelné 1 zpracováni žíhacího typu. . '^ -s ' *-i
- 7. Způsob podle některého z předcházejících nároků, vyznačený t í m, že povlak má index lomu vyšší než 2, zejména vyšší než 2,1, výhodně mezi 2,15 a 2,3j5 nebo mezi 2,35 a 2,50. i i
- 8. Způsob podle některého z předcházejících nároků,vy značený t í m, že povlak obsahuje krystality oxidu titaničitého mající velikost menší nebo rovnou 50.nebo 40 hm, výhodně mezi 15 a 30 nm nebo mezi 20 a| 40 nm.
- 9. Způsob podle některého, z předcházejících nároků,v y z n a -č e n ý t í m, že povlak má hrubost! rms alespoň rovnou 2 nm, zejména nejvýše rovnou 10 nm, výhodně mezi 2,5 a 7 nm nebo mezi I 2,8 a 5 nm. 1 i
- 10. Způsob podle některého z předcházejjících nároků, v y ž n á -č e n ý tím, povlak má geometrickou tloušťku menší než 150 nm, zejména mezi 80 a 120 nm nebo mezij 10 a 25 nm.
- 11. Způsob podle některého z předcházejících nároků,v y z n a -č e n ý tím, že se provede reaktijvní katodové rozprašování z v podstatě kovového terčíku nebo nereaktivní katodové rozprašování z keramického terčíku.
- 12. Způsob podle nároku 11, vyznačený tím, se terčík, ze kterého se provádí katodové rozprašování,dopuje ·'· · #··· .· ·# ··#· • ·Φ ·. · }4 · · • · · * · · · • · ' · · · *·' ··· · « , « « · f · · # · · ··. .··· ·· · · ·· ' 29 kovem, zejména zvoleným z množiny zahrnujicí Nb, Ta, Fe, Bi, Co, Ni, Cu, Ru, Ce, Mo a AI.
- 13. Způsob podle některého z předcházejících nároků,v y z n a -č e n ý t í m, že před ním nebo | nebo/a po něm následuje alespoň nanesení alespoň jedné tenké Ivrstvy, mající optickou,, antistatickou, odbarvovací, antireflexní, hydrofilni ' nebo ochrannou funkci nebo funkci spočívající ve zvětšení hrubosti povlaku s fotokatalytickými vlastnostmi, technikou katodového rozprašování nebo technikou1 zahrnující tepelný rozklad pyrolyžního typu nebo technikou sol-gel.
- 14. Způsob podle nároku 13, v„ y z nač e h ý tím, že; sě před ním provede nanesení alespoň jedné tenké vrstvy pyrolýzou, zejména technikou CVD, přičemž:, tato; vrstva má hrubost RMS alespoň rovnou 5 hm, zejména alespoň rjovnou 10 nm.
- 15. Transparentní nebo polotransparéntní nosič typu skla, sklokeramiky nebo plastu, opatřený n'a alespoň části jedné z jeho stran povlakem s fotokatalytickými vlastnostmi obsahujícím alespoň částečně vykrystalizovaný cjxid titaničitý, zejména vykrystalizovaný ve formě anatasu, a- získaným,podle některého z předcházejících nároků. ‘ !
- 16. Transparentní nebo polotransparéntní nosič typu skla, sklokeramiky nebo plastu, opatřený ha alespoň části jedné z jeho stran povlakem s fotokatalytickýiťii vlastnostmi obsahujícím alespoň částečně vykrystalizovaný dxid titaničitý, zejména vykrystalizovaný ve formě anatasu, získaným katodovým rozprášením a majícím hrubost RMS alespoň rovnou 2 nm, zejména alespoň rovnou 2,5 až 2,8 nm, výhodně Lejvýše rovnou 1 nm. ···· * • ·· φΦ ···· ·· ···;· • *·' ¢-9 9 · • ·. · · · ·· · · · • · · φ Φ '9 9 Φ 9 9 . '9 · .· · · * · ·''>'·"·* ;· ; ’ φ·φ ΦΦΦ ΦΦΦΦ 99. ··; 30 \ . ‘ :
- 17. Transparentní nebo polotrahsparentní nosič typu skla, sklokeramiky nebo plastu, opatřený . na alespoň části jedné z jeho stran povlakem s fotokatalytickými vlastnostmi obsahujícím* . alespoň částečně vykrystalizovaný oxid titaničitý, zejména š i vykrystalizovaný ve formě anatasu, vyznačený tím, že uvedený povlak má index lomu alespoň rovný 2 a zejména alespoň rovný 2,1 a nejvýše rovný 2,Í45 nebo 2,35", a tím, že tvoří poslední vrstvu sestavy tenkýčh antireflexních vrstev . i tvořené střídajícími se vrstvami s vysokým a nízkým indexem l' lomu. i " ···’' ' I I I · * f
- 18. Nosič podle nároku 17, v y z'n á čje n ý t i m,. že povlak s fotokatalytickými vlastnostmi má index lomu vyšší nebo rovný 2,30, zejména mezi 2,35 a .'2,50 neboj nižší nebo rovný 2,30, , zejména mezi 2,15 a 2,25. j t ; ’ j
- 19. Nosič podle nároku 17 nebo nárokuíl.8, vyznačený í . ; tím, že povlak s fotokatalytickými] vlastnostmi má optickou i · tloušťku mezi 200 a 350 nm, zejména mejzi 210 a 310 nm.
- 20. Nosič podle nároku 17 nebo 18, vyznačený tím, že povlak s fotokatalytickými^vlastnostmi má optickou tloušťku menší než 50 nm, zejména mezi 25 a 45 |nm. ’ z * i
- 21. Nosič podle některého z nároků 17 Inebo 18, v yzna čený ; ' í tím, že povlak s katalytickými vlastnostmi má geometrickou tloušťku mezi 80 a 120 nm, výhodně mezi 90 a 110·.nm-nebo! mezi 10 a 25 nm. Ί 1 . . • ' · 1 '
- 22. Nosič podle některého z nároků 17 |až 20,, vyznačený tím, že povlak s fotokatalytickými vlastnostmi je' nanesen 31 31 • · · · ·♦_ • · • · ' • ·· • ·· .· · • ' • 1 • • . · • • '' · • • • • ·* · • · • · • · • • · • · • · • · ·« • · é ·· ·· ·-· ·· ' '·· 1 . * i . katodovým rozprašováním provedeným způsobem podle některého z nároků 1 až 14. '
- 23. Nosič podle některého z nároků 17 jaž 22, vy značený tím, že povlak s fotokatalytickymi vlastnostmi obsahuje krystality oxidu titaničitého, jejichž velikost je menší nebo rovna 50 nebo 40 nm, zejména mezi 15 a 30 nm nebo mezi 20 až 40 nm, nebo krystality oxidu titaničitého, jejichž velikost , je alespoň rovna 30 nm, zejména mezi 30 aj 50 nm. " «"
- 24. Nosič podle některého z-nároků 17- až 23, v y z n a č e n ý, tím, že antireflexní sestava1 obsahuje alespoň tři vrstvy., kterými postupně jsou první vrstva |s vysokým indexem lomu, druhá vrstva s nízkým indexem lomu a povlak1 s fot©katalytickými vlastnostmi, který je případně sdružen s alespoň .jednou- další vrstvou s vysokým indexem lomu. I
- 25. Nosič podle některého z nároků 17 jaž 24, vyznačený t i m, že vrstva nebo vrstvy s vysokým indexem lomu maji index lomu alespoň 1,9, zejména mezi 1,9 a 2,3 nebo mezi 1,9 a 2,2, a jsou například na bázi oxidu cínu, joxidu zinečnatého, oxidu zirkoničitého, nitridu, hlinitého nebol nitridu křemičitého nebo i na bázi směsi alespoň dvou z těchto sloučenin. vyzná cený
- 26. Nosič podle nároku 24 nebo nároku 25, tím, že první vrstva -s vysokým indexem lomu má optickou tloušťku mezi 48 a 68 nm, zejména mezi 53 a 63 nm, nebo mezi 20 a 48 nm.
- 27. Nosič podle některého z nároků 24|až 25, vyznačený . i tím, že první vrstva s vysokým indexem lomu má geometrickou l ί· ···· '· • ·· . · , · · « · · · · • · ·« I·#· ···· • ·- · · • · · · · • ··.-·, · · · ·· ·· ·· · 32 tloušťku mezi 20 a 40 nm nebo mezi 25 já 35 nm nebo mezi 10 a 20 nm.
- 28. Nosič podle některého z nároků 17 až 27, vy z na č.en ý‘ t i m, že vrstva nebo vrstvy s nízkým indexem lomu mají index lomu mezi 1,40 a 1.,75, zejména mezi 1,^5. a 1,55, a jsou například na bázi oxidu křemičitého, ; oxidu hlinitého nebo na bázi směsi obou těchto oxidů. i ! -v
- 29. Nosič podle některého z nároků 12 jaž’ 17, v y z n a č,e'n ý t í m, že vrstva s nízkým indexem l'omu má optickou- tloušťku mezi 20 a 79 nm. ] ' až 29, v y z n a č e n ý < , i má geometrickou tloušťku
- 30. Nosič podle některého z nároků 17 tím, že vrstva s nízkým indexem lomu mezi 12 a 50 nm, zejména mezi 15.a 30 nm.
- 31. Nosič podle nároku 24, vyznačený tím, že vrstva s vysokým indexem lomu- a: vrstjva s nízkým indexem lomu indexem lomu vyšším· než 75 a 1,85. jsou nahrazeny vrstvou s mezilehlým 1,55 a nižším než 1,9, zejména, mezi 1,
- 32. Nosič podle nároku 31, v y z n a č| e n ý t í m, že vrstva s mezilehlým indexem lomu je .na bázji oxynitridu křemičitého nebo/a hlinitého nebo na bázi směsi oxidu křemičitého a alespoň jednoho dalšího oxidu zvoleného z množiny zahrnující 'oxid-činu, oxid zirkoničitý, oxid titaničitý a'oxid zinečnatý.
- 33. Nosič podle nároku 31 nebo nároku 32, vyznačený tím, že vrstva s mezilehlým indexem ilomu má optickou tloušťku 33 • · · · 4 ·« • · · · 44 4444 • ·· 4 4 * · • · '· • . • é * • • · · • 4 4 4 · • m • · 4 • · • 4 4 • .,· · · • ’ · · 4 ·· ·«· ·· ·· • · · ♦ mezi 120 a 150 nm, zejména mezi 125 a 135 nm, a výhodně geometrickou tloušťku mezi 65 a 80 nm,; zejména mezi 68 a 76 nmv
- 34. Nosič podle některého z nároků 17 až 33, vyznačený tím, že mezi uvedený nosič a antireflexní sestavu je vložena bariérová vrstva bránici difúzi složek; z nosiče,‘ zejména difúzi alkálii. v
- 35. Nosič podle nároku 34, vyznačený- t - i m, že bariérová vrstva je vrstva na. bázi oxijdu křemičitého obsahující případně AI, C nebo N a mající zejména tloušťku rovnou alespoň 50 nm, například mezi 60 nebo 80 nm a 200 nm. '
- 36. Sklo, zejména jednoduché sklo; vrstvenné sklo nebo j vícečlenné sklo typu dvojitého skla, vjyznačené tím, ; že obsahuje alespoň jeden nosič podlejněkterého z nároků 16 až 34. , !
- 37. Sklo podle nároku 36, v yznačené t i m, že má na straně vrstev světelnou reflexi RL rovjnou nejvýše 20 %, zejména nejvýše 18 %.
- 38. Sklo podle nároku 36 nebo nároku 3^7, vyznačené tím, že má na straně vrstev světelnou, reflexi v modrém nebo zeleném odstínu s negativními hodnotami a* a b* v kolorimetrickém systému (L, a*, b*) , výhodně nižšími v absolutních hodnotách než 3.nebo.2,5. j
- 39. Sklo podle nároku 36, obsahuje alespoň jeden vyzná další e n e funkční tím, povlak, že rovněž zejména, nešpinivý, protislunečni, nízkoémisivní, vyhřívající, hydrofobní, hydrofilnl, antireflexníjnebo antistatický povlak nebo druhý povlak s fotokatalytickými ‘vlastnostmi. S Zastupuje:
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| FR0011959A FR2814094B1 (fr) | 2000-09-20 | 2000-09-20 | Substrat a revetement photocatalytique et son procede de fabrication |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| CZ2003820A3 true CZ2003820A3 (cs) | 2003-10-15 |
| CZ305963B6 CZ305963B6 (cs) | 2016-05-25 |
Family
ID=8854477
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| CZ2003-820A CZ305963B6 (cs) | 2000-09-20 | 2001-09-19 | Nosič s fotokatalytickým povlakem |
Country Status (19)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US6875319B2 (cs) |
| EP (2) | EP1679389B1 (cs) |
| JP (1) | JP5752867B2 (cs) |
| KR (3) | KR100822777B1 (cs) |
| CN (4) | CN100465117C (cs) |
| AT (1) | ATE331052T1 (cs) |
| AU (2) | AU2001291953B2 (cs) |
| BR (1) | BR0113962A (cs) |
| CA (2) | CA2676574A1 (cs) |
| CZ (1) | CZ305963B6 (cs) |
| DE (1) | DE60121007T3 (cs) |
| DK (1) | DK1319092T3 (cs) |
| ES (1) | ES2266264T3 (cs) |
| FR (1) | FR2814094B1 (cs) |
| MX (1) | MXPA03002512A (cs) |
| PL (1) | PL200159B1 (cs) |
| PT (1) | PT1319092E (cs) |
| WO (1) | WO2002024971A1 (cs) |
| ZA (1) | ZA200301893B (cs) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CZ300814B6 (cs) * | 2008-06-02 | 2009-08-12 | Preciosa, A. S. | Dekoracní substrát, zejména bižuterní kámen, s barevným efektem a zpusob dosažení barevného efektu u dekoracního transparentního substrátu |
Families Citing this family (70)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| FR2814094B1 (fr) † | 2000-09-20 | 2003-08-15 | Saint Gobain | Substrat a revetement photocatalytique et son procede de fabrication |
| EP1291331A3 (de) * | 2001-09-10 | 2004-02-25 | Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V. | Beschichtung mit photoinduzierter Hydrophilie |
| CN1332763C (zh) | 2001-09-28 | 2007-08-22 | 芝浦机械电子装置股份有限公司 | 光催化剂体、光催化剂体的制造方法和光催化剂体的制造装置 |
| FR2838734B1 (fr) * | 2002-04-17 | 2005-04-15 | Saint Gobain | Substrat a revetement auto-nettoyant |
| US8679580B2 (en) * | 2003-07-18 | 2014-03-25 | Ppg Industries Ohio, Inc. | Nanostructured coatings and related methods |
| US20050031876A1 (en) * | 2003-07-18 | 2005-02-10 | Songwei Lu | Nanostructured coatings and related methods |
| CN1767777A (zh) * | 2003-05-14 | 2006-05-03 | 株式会社村上开明堂 | 防雾镜 |
| CN1839035B (zh) * | 2003-06-20 | 2010-09-08 | 日本板硝子株式会社 | 具有光催化功能的构件及多层玻璃 |
| CN100370280C (zh) * | 2003-06-30 | 2008-02-20 | 柯尼卡美能达精密光学株式会社 | 光学元件和光拾取装置 |
| FR2861386B1 (fr) * | 2003-10-23 | 2006-02-17 | Saint Gobain | Substrat, notamment substrat verrier, portant une couche a propriete photocatalytique revetue d'une couche mince protectrice. |
| FR2861385B1 (fr) * | 2003-10-23 | 2006-02-17 | Saint Gobain | Substrat, notamment substrat verrier, portant au moins un empilement couche a propriete photocatalytique sous couche de croissance heteroepitaxiale de ladite couche |
| US7294404B2 (en) | 2003-12-22 | 2007-11-13 | Cardinal Cg Company | Graded photocatalytic coatings |
| FR2864844B1 (fr) * | 2004-01-07 | 2015-01-16 | Saint Gobain | Dispositif d'eclairage autonettoyant |
| KR100831650B1 (ko) * | 2004-03-11 | 2008-05-22 | 학교법인 포항공과대학교 | 산화물계 나노 소재를 포함하는 광촉매 |
| FR2868770B1 (fr) | 2004-04-09 | 2006-06-02 | Saint Gobain | Substrat, notamment substrat verrier, portant une couche a propriete photocatalytique modifiee pour pouvoir absorber des photons du visible |
| FR2869897B1 (fr) * | 2004-05-10 | 2006-10-27 | Saint Gobain | Substrat a revetement photocatalytique |
| KR100579204B1 (ko) * | 2004-05-14 | 2006-05-11 | 한국산업기술대학교 | 금속중간층을 갖는 이산화티탄 광촉매 코팅재 및 그제조방법 |
| DE602005003228T2 (de) | 2004-07-12 | 2008-08-28 | Cardinal Cg Co., Eden Prairie | Wartungsarme beschichtungen |
| KR100582959B1 (ko) * | 2004-09-13 | 2006-05-25 | 이중희 | 대전방지 및 자동세척 기능을 갖는 다층 시트 |
| US20060070869A1 (en) * | 2004-10-04 | 2006-04-06 | Krisko Annette J | Thin film coating and temporary protection technology, insulating glazing units, and associated methods |
| US8092660B2 (en) | 2004-12-03 | 2012-01-10 | Cardinal Cg Company | Methods and equipment for depositing hydrophilic coatings, and deposition technologies for thin films |
| US7923114B2 (en) | 2004-12-03 | 2011-04-12 | Cardinal Cg Company | Hydrophilic coatings, methods for depositing hydrophilic coatings, and improved deposition technology for thin films |
| FI117728B (fi) | 2004-12-21 | 2007-01-31 | Planar Systems Oy | Monikerrosmateriaali ja menetelmä sen valmistamiseksi |
| JP4619811B2 (ja) * | 2005-02-16 | 2011-01-26 | 株式会社東芝 | スパッタリングターゲット、高屈折率膜とその製造方法、およびそれを用いた反射防止膜とディスプレイ装置 |
| FR2889182B1 (fr) * | 2005-07-29 | 2007-10-26 | Saint Gobain | Vitrage muni d'un empilement de couches minces agissant sur le rayonnement solaire |
| BRPI0600312A (pt) * | 2006-01-20 | 2007-10-30 | Opto Eletronica S A | método e processo para produzir filme fino nanoestruturado e autolimpante sobre a superfìcie de lentes e dispositivos ópticos |
| GB0602933D0 (en) | 2006-02-14 | 2006-03-22 | Pilkington Automotive Ltd | Vehicle glazing |
| WO2007121215A1 (en) * | 2006-04-11 | 2007-10-25 | Cardinal Cg Company | Photocatalytic coatings having improved low-maintenance properties |
| JP2009534563A (ja) | 2006-04-19 | 2009-09-24 | 日本板硝子株式会社 | 同等の単独の表面反射率を有する対向機能コーティング |
| US20080011599A1 (en) | 2006-07-12 | 2008-01-17 | Brabender Dennis M | Sputtering apparatus including novel target mounting and/or control |
| TWI353388B (en) * | 2007-09-12 | 2011-12-01 | Taiwan Textile Res Inst | Method for preparing titanium dioxide |
| WO2009036284A1 (en) * | 2007-09-14 | 2009-03-19 | Cardinal Cg Company | Low-maintenance coatings, and methods for producing low-maintenance coatings |
| US20090101209A1 (en) * | 2007-10-19 | 2009-04-23 | Guardian Industries Corp. | Method of making an antireflective silica coating, resulting product, and photovoltaic device comprising same |
| US8197940B2 (en) * | 2008-07-25 | 2012-06-12 | Ppg Industries Ohio, Inc. | Aqueous suspension for pyrolytic spray coating |
| US8202820B2 (en) * | 2008-08-26 | 2012-06-19 | Northwestern University | Non-stoichiometric mixed-phase titania photocatalyst |
| ES2683895T3 (es) | 2008-09-17 | 2018-09-28 | Agc Glass Europe | Acristalamiento con reflexión elevada |
| KR20100069799A (ko) * | 2008-12-17 | 2010-06-25 | 삼성코닝정밀소재 주식회사 | 모아레 무늬 저감 및 공기 오염물질 제거가 가능한 디스플레이 장치용 필터 |
| FR2948037B1 (fr) * | 2009-07-17 | 2012-12-28 | Saint Gobain | Materiau photocatalytique |
| FR2950878B1 (fr) * | 2009-10-01 | 2011-10-21 | Saint Gobain | Procede de depot de couche mince |
| DE102009051439A1 (de) | 2009-10-30 | 2011-05-05 | Gottfried Wilhelm Leibniz Universität Hannover | Metallisch beschichtetes oder teilbeschichtetes Substrat und Verfahren zu dessen Herstellung |
| US8617641B2 (en) | 2009-11-12 | 2013-12-31 | Guardian Industries Corp. | Coated article comprising colloidal silica inclusive anti-reflective coating, and method of making the same |
| FR2967996B1 (fr) * | 2010-11-29 | 2015-10-16 | Saint Gobain | Substrat verrier anti-corrosion et anti-salissure en atmosphere humide |
| CN102603209A (zh) * | 2011-01-25 | 2012-07-25 | 鸿富锦精密工业（深圳）有限公司 | 镀膜玻璃及其制备方法 |
| FR2979910B1 (fr) * | 2011-09-13 | 2014-01-03 | Saint Gobain | Materiau photocatalytique et vitrage ou cellule photovoltaique comprenant ce materiau |
| CN102444228B (zh) * | 2011-09-20 | 2015-01-14 | 饶淳 | 一种主、次全幕墙结构及构造 |
| US10077207B2 (en) | 2011-11-30 | 2018-09-18 | Corning Incorporated | Optical coating method, apparatus and product |
| US20130135741A1 (en) | 2011-11-30 | 2013-05-30 | Christopher Morton Lee | Optical coating method, apparatus and product |
| US9957609B2 (en) | 2011-11-30 | 2018-05-01 | Corning Incorporated | Process for making of glass articles with optical and easy-to-clean coatings |
| DE102012107440A1 (de) * | 2012-08-14 | 2014-05-15 | Hella Kgaa Hueck & Co. | Verfahren zur Erzeugung einer nicht-vollkeramischen Oberfläche . |
| CN102836704B (zh) * | 2012-09-20 | 2014-09-03 | 复旦大学 | 一种三层结构的掺钼TiO2光催化薄膜及其制备方法 |
| CN102931281A (zh) * | 2012-11-14 | 2013-02-13 | 东方电气集团(宜兴)迈吉太阳能科技有限公司 | 一种晶体硅太阳能电池三层减反射膜的制备方法 |
| US9110230B2 (en) * | 2013-05-07 | 2015-08-18 | Corning Incorporated | Scratch-resistant articles with retained optical properties |
| US10478802B2 (en) * | 2013-05-09 | 2019-11-19 | Massachusetts Institute Of Technology | Anti-fingerprint photocatalytic nanostructure for transparent surfaces |
| CN103274697A (zh) * | 2013-06-04 | 2013-09-04 | 哈尔滨工业大学 | 一种隔热透波SiO2-Si3N4复合材料的制备方法 |
| US10391482B2 (en) * | 2013-07-05 | 2019-08-27 | Nitto Denko Corporation | Transparent photocatalyst coating and methods of manufacturing the same |
| US10377664B2 (en) * | 2014-11-12 | 2019-08-13 | Pilkington Group Limited | Coated glass article, display assembly made therewith and method of making a display assembly |
| CN106191795A (zh) * | 2016-07-01 | 2016-12-07 | 嘉兴学院 | 一种基于掺铕氮化铝的光致发光薄膜的制备方法 |
| EP3541762B1 (en) | 2016-11-17 | 2022-03-02 | Cardinal CG Company | Static-dissipative coating technology |
| KR20180116566A (ko) * | 2017-04-17 | 2018-10-25 | 주식회사 케이씨씨 | 적층 시스템 |
| FR3083228B1 (fr) * | 2018-06-27 | 2020-06-26 | Saint-Gobain Glass France | Vitrage muni d'un empilement de couches minces agissant sur le rayonnement solaire et d'une couche barriere |
| CN109207954B (zh) * | 2018-10-19 | 2021-04-20 | 布勒莱宝光学设备（北京）有限公司 | 多色膜玻璃及其生产方法与设备 |
| CN109534692B (zh) * | 2019-01-24 | 2022-01-04 | 福建工程学院 | 一种抗划伤除污光催化玻璃及其制备方法 |
| CN110642528A (zh) * | 2019-10-08 | 2020-01-03 | 太仓耀华玻璃有限公司 | 一种杀菌自洁玻璃及其生产工艺 |
| EP3978453B1 (en) * | 2020-09-30 | 2023-08-16 | Saint-Gobain Glass France | Solar control glazing for automobile and its manufacture |
| US11458220B2 (en) | 2020-11-12 | 2022-10-04 | Singletto Inc. | Microbial disinfection for personal protection equipment |
| WO2022115424A1 (en) * | 2020-11-24 | 2022-06-02 | Applied Materials, Inc. | Planarized crystalline films for diffractive optics |
| CN112251720B (zh) * | 2020-12-21 | 2021-04-09 | 上海米蜂激光科技有限公司 | 一种塑料基底硬质减反射膜及其镀膜方法 |
| CN114507086A (zh) * | 2022-03-01 | 2022-05-17 | 清远市简一陶瓷有限公司 | 一种中、低光泽的陶瓷砖制备工艺及陶瓷砖 |
| CN115220134B (zh) * | 2022-06-13 | 2023-06-09 | 电子科技大学 | 一种疏水红外低发射镜面低反射材料及其制备方法 |
| US12359369B2 (en) | 2022-08-11 | 2025-07-15 | Singletto Inc. | Skin protection against microbial particles |
Family Cites Families (23)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5332618A (en) * | 1992-02-07 | 1994-07-26 | Tru Vue, Inc. | Antireflection layer system with integral UV blocking properties |
| JPH08309202A (ja) * | 1995-05-22 | 1996-11-26 | Bridgestone Corp | 光触媒体 |
| AU6992796A (en) * | 1995-09-15 | 1997-04-01 | Rhodia Chimie | Titanium dioxide-based photocatalytic coating substrate, and titanium dioxide-based organic dispersions |
| FR2738813B1 (fr) * | 1995-09-15 | 1997-10-17 | Saint Gobain Vitrage | Substrat a revetement photo-catalytique |
| FR2748743B1 (fr) * | 1996-05-14 | 1998-06-19 | Saint Gobain Vitrage | Vitrage a revetement antireflet |
| JP2901550B2 (ja) * | 1996-07-26 | 1999-06-07 | 株式会社村上開明堂 | 防曇素子 |
| JPH10196229A (ja) * | 1997-01-16 | 1998-07-28 | Dainippon Printing Co Ltd | 窓 |
| US6027766A (en) * | 1997-03-14 | 2000-02-22 | Ppg Industries Ohio, Inc. | Photocatalytically-activated self-cleaning article and method of making same |
| JP3518240B2 (ja) * | 1997-04-08 | 2004-04-12 | 旭硝子株式会社 | 積層体の製造方法 |
| JPH1192176A (ja) * | 1997-07-22 | 1999-04-06 | Bridgestone Corp | 光触媒膜及びその作製方法 |
| JPH1179788A (ja) * | 1997-08-29 | 1999-03-23 | Central Glass Co Ltd | 被膜形成ガラスおよびその製法 |
| FR2779751B1 (fr) * | 1998-06-10 | 2003-11-14 | Saint Gobain Isover | Substrat a revetement photocatalytique |
| JP3190984B2 (ja) † | 1998-06-24 | 2001-07-23 | 経済産業省産業技術総合研究所長 | 二酸化珪素を含有する二酸化チタン薄膜及びその製造方法 |
| JP3647269B2 (ja) * | 1998-06-30 | 2005-05-11 | 積水樹脂株式会社 | 自浄式透光性遮音壁 |
| FR2781062B1 (fr) * | 1998-07-09 | 2002-07-12 | Saint Gobain Vitrage | Vitrage a proprietes optiques et/ou energetiques electrocommandables |
| JP2000093807A (ja) * | 1998-09-25 | 2000-04-04 | Sharp Corp | 光触媒体及びそれを用いた熱交換器並びに浄化装置 |
| JP3911355B2 (ja) * | 1998-10-22 | 2007-05-09 | シャープ株式会社 | 光触媒体の作製方法 |
| AU758267B2 (en) * | 1998-11-09 | 2003-03-20 | Ppg Industries Ohio, Inc. | Solar control coatings and coated articles |
| JP3887499B2 (ja) * | 1998-11-10 | 2007-02-28 | シャープ株式会社 | 光触媒体の形成方法 |
| JP2000173778A (ja) * | 1998-12-01 | 2000-06-23 | Tdk Corp | 有機ｅｌ表示装置 |
| JP2000192226A (ja) * | 1998-12-22 | 2000-07-11 | Asahi Glass Co Ltd | 酸化チタン膜の成膜方法 |
| JP2000203885A (ja) * | 1999-01-11 | 2000-07-25 | Ulvac Japan Ltd | 機能性薄膜、機能性基板、及び酸化チタン薄膜製造方法。 |
| FR2814094B1 (fr) † | 2000-09-20 | 2003-08-15 | Saint Gobain | Substrat a revetement photocatalytique et son procede de fabrication |
-
2000
- 2000-09-20 FR FR0011959A patent/FR2814094B1/fr not_active Expired - Fee Related
-
2001
- 2001-09-19 CN CNB2005100917100A patent/CN100465117C/zh not_active Expired - Fee Related
- 2001-09-19 BR BR0113962-2A patent/BR0113962A/pt not_active IP Right Cessation
- 2001-09-19 CZ CZ2003-820A patent/CZ305963B6/cs not_active IP Right Cessation
- 2001-09-19 MX MXPA03002512A patent/MXPA03002512A/es active IP Right Grant
- 2001-09-19 EP EP06112782.5A patent/EP1679389B1/fr not_active Expired - Lifetime
- 2001-09-19 DK DK01972163T patent/DK1319092T3/da active
- 2001-09-19 US US10/380,170 patent/US6875319B2/en not_active Expired - Fee Related
- 2001-09-19 CA CA002676574A patent/CA2676574A1/fr not_active Abandoned
- 2001-09-19 JP JP2002529561A patent/JP5752867B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 2001-09-19 EP EP01972163.8A patent/EP1319092B2/fr not_active Expired - Lifetime
- 2001-09-19 AU AU2001291953A patent/AU2001291953B2/en not_active Ceased
- 2001-09-19 CN CNB2005100917098A patent/CN100363288C/zh not_active Expired - Fee Related
- 2001-09-19 KR KR1020037003888A patent/KR100822777B1/ko not_active Expired - Fee Related
- 2001-09-19 ES ES01972163T patent/ES2266264T3/es not_active Expired - Lifetime
- 2001-09-19 PT PT01972163T patent/PT1319092E/pt unknown
- 2001-09-19 AT AT01972163T patent/ATE331052T1/de active
- 2001-09-19 CN CN01819172XA patent/CN1474881B/zh not_active Expired - Fee Related
- 2001-09-19 CA CA2422783A patent/CA2422783C/fr not_active Expired - Fee Related
- 2001-09-19 WO PCT/FR2001/002906 patent/WO2002024971A1/fr active IP Right Grant
- 2001-09-19 KR KR1020077028430A patent/KR100841270B1/ko not_active Expired - Fee Related
- 2001-09-19 KR KR1020077028429A patent/KR100847313B1/ko not_active Expired - Fee Related
- 2001-09-19 AU AU9195301A patent/AU9195301A/xx active Pending
- 2001-09-19 PL PL360573A patent/PL200159B1/pl unknown
- 2001-09-19 CN CNB2005100917115A patent/CN100415669C/zh not_active Expired - Fee Related
- 2001-09-19 DE DE60121007T patent/DE60121007T3/de not_active Expired - Lifetime
-
2003
- 2003-03-07 ZA ZA200301893A patent/ZA200301893B/en unknown
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CZ300814B6 (cs) * | 2008-06-02 | 2009-08-12 | Preciosa, A. S. | Dekoracní substrát, zejména bižuterní kámen, s barevným efektem a zpusob dosažení barevného efektu u dekoracního transparentního substrátu |
Also Published As
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| CZ2003820A3 (cs) | Nosič s fotokatalytickým povlakem | |
| JP5101789B2 (ja) | 可視光応答性の光活性の被膜、被覆物品およびその製法 | |
| CN104995151B (zh) | 防阳光装配玻璃 | |
| JP5043266B2 (ja) | 太陽輻射に作用する薄層の積層を有するガラス | |
| EP1315682B1 (en) | Methods of obtaining photoactive coatings and/or anatase crystalline phase of titanium oxides and articles made thereby | |
| CN105008299B (zh) | 太阳能控制装配玻璃 | |
| JP4976126B2 (ja) | グレージングの熱処理に組み込まれた光触媒コーティングの調製法 | |
| JP2005507974A6 (ja) | 可視光応答性の光活性の被膜、被覆物品およびその製法 | |
| CN106458725B (zh) | 带有用于日光防护的薄层叠层的窗玻璃 | |
| EP3004013B2 (en) | Solar control glazing | |
| JP3889454B2 (ja) | 金属窒化物層を備えた透明基材とその製法 | |
| US20110146172A1 (en) | Glazing provided with a stack of thin layers | |
| CN105339321A (zh) | 遮阳玻璃 | |
| AU2002318321A1 (en) | Visible-light responsive photoactive coating, coated article, and method of making same | |
| WO2014191484A2 (en) | Low-emissivity and anti-solar glazing | |
| KR20170016891A (ko) | 박막 코팅이 제공된 태양 보호 글레이징 | |
| US20100279077A1 (en) | Glass or glass-ceramic pane reflecting infrared radiation | |
| KR102042587B1 (ko) | 높은 광-투과 계수를 갖는 절연 창유리 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| MM4A | Patent lapsed due to non-payment of fee |
Effective date: 20010919 |