CZ20024276A3 - Etiketa a její výroba - Google Patents

Description

• · ·· • ♦ · · t · ♦ • t ·· • · fík <Γ V V*?.9 • · * · · · · • * · * · · · ·« ··♦ «· ··

ETIKETA A JEJÍ VÝROBA

Současný vynález se vztahuje na etiketu a její výrobu a zvláště, avšak ne výjimečně, na bezpečnostní samolepicí etiketu jako například etiketu holografickou.

Známé bezpečnostní etikety se stávají z takzvaných “void“/prázdných etiket, které jsou backprinted/tištěny zespodu, obecně po pokovení, aby se například vytvořily plochy různé přilnavosti k lepicí vrstvě. V jiném případě je nosná vrstva tištěna tak, aby měla diferenční výsledný tvar. To znamená, že v určitých místech je vazba na nosnou vrstvu větší než vazba na přilnavou vrstvu, takže po odstranění etikety hliník přilne k nosné vrstvě. V místech, kde nosná vrstva hliníku (nebo jiného kovu k pokovení, například mědi) je větší než vazba na nosnou vrstvu, části pokovení jsou ponechány na lepicí vrstvě a tak zůstanou na substrátu po odstranění nosné vrstvy. Tyto rozdílné plochy tržných důsledků mohou být užity k zobrazení zpráv po odstranění etikety při pokusu o padělání ponecháním zaměnitelného vzoru z kovu přilepeného na lepicí vrstvu na elementu a tudíž indikující pokusy o padělání etikety.

Stejně tak v procesu, jako typ tištěné prázdné/“void““ struktury, uvedené výše, může též být použit pro holograflcké nebo jiné difrakční bezpečnostní etikety k zabezpečení vzoru prázdného/“void“ typu navíc k difrakčnímu bezpečnostnímu typu obrazu tištěním holograflcké struktury nebo pokovené struktury s výsledným tvarem nebo přilnavou vrstvou zespodu.

Bude jistě oceněno, že k vytvoření prázdné/“void“ zprávy je třeba samostatné návazné tiskové fáze přidáním tištěné/“release““ vrstvy nebojí podobné struktury. Též stojí za povšimnutí ve výše uvedeném procesu, že například velké vystavení bodových matrixových pixelů sloužících k utváření difrakčního vzoru mikrostruktury může způsobit hluboké rýhy například v reliéfním laku, který se ničí v blízkosti nosné vrstvy zachycující hliníkovou vrstvu, která je odstraněna společně s vrstvou nosnou. Avšak zde jakýkoli kovový vzor ponechaný na povrchu zrcadlí grafické rozvržení bodové matrixové mikrostruktury, kde jakýkoli takovýto vzor je v každém případě utvářen nahodile a svévolně.

Také u jiných typů holografických bezpečnostních etiket může povaha optické mikrostruktury někdy ovlivnit adhezi kovu na etiketách uzpůsobených k odhalení pokusu o padělání, jako například reliéfní polypropylen, kde v určitých místech může být ovlivněn stupeň zřetelnosti evidence o padělání a kovové retence.

Uvedený vynález má zajistit etiketové a jí obdobným metodám utváření etiket mající výhody oproti známým etiketám a jejím metodám, a především zajistit jednodušší strukturu a způsob utváření.

Vzhledem kjednomu aspektu tohoto vynálezu je zde uvedena vrstvená etiketa, která má přinejmenším první a druhou vrstvu oddělenou vrstvou reflexního materiálu. První vrstva je uzpůsobena k zabezpečení etikety a povrch druhé vrstvy se dotýká vrstvy reflexního materiálu, který vykazuje mikrostrukturu mající takové povrchové vlastnosti, že při odstranění horní vrstvy se přinejmenším část reflexního materiálu v místech odpovídajících místům již popsané mikrostruktury odstraní společně s odstraněnou vrstvou a tak se ukáže viditelný vzor ve zbylé vrstvě etikety. Mělo by být oceněno, že etiketa může též obsahovat přídavné vrstvy, např. v případě reliéfního laku naneseným na polyester nebo jinou formu základu jako je známé v oboru, přestože vynález se zde vztahuje na meziplochu mezi reliéfním povrchem, reflekční vrstvou a lepicí vrstvou.

Použití povrchových reliéfních mikrostruktur v určitých místech, kde zabezpečují variabilní přilnavost kovu na pokovené etiketě vykazující znaky o pokusu padělání pro odkrytí skryté zprávy po odstranění slouží k zajištění výhod u známé struktury a postupů.

Navíc, dvě mikrostruktury jsou přítomny, přinejmenším však druhá, která obsahuje difrakční povrchovou reliéfní mikrostrukturu. Takovéto dvě mikrostruktury se mohou překrývat, ale jsou obsaženy v různých a oddělených interlokujících pixelech nebo pečlivých lineárních vzorech. Mikrostruktury mohou být užity ve struktuře etiketách vykazujících znaky o pokusu padělání pro zavedení místa s rozdílnou přilnavostí mezi nosnou vrstvou a vrstvou kovu, takže při pokusu o odstranění etikety, rozdílný výsledný tvar kovové reflekční vrstvy utvoří viditelnou zprávu {t.j. vzor “voiď‘/prázdného” typu), který se objeví po odstranění.

Navíc, jedna mikrostruktura představuje holografický nebo difrakční bezpečností obraz, zatímco jiná mikrostruktura je neviditelná nondifřakční struktura, která kontroluje diferenční výsledný tvar reflekční nebo semireflekční vrstvy, aby vykázala samostatnou viditelnou zprávu po odstranění etikety úmyslným poškozením. V jiném případě obě mikrostruktury mohou vykazovat holografický nebo difrakční obraz.

Zvláštním přínosem oproti předcházejícímu ustanovenému postupuje skutečnost, že difrakční zpráva i zpráva vykazující známky úmyslného poškození jsou zakódovány uvnitř mikrostruktury, a to bez jakékoli potřeby dalšího překrytí vrstvou nebo tištěných vrstev. Především, holografický bezpečnostní vynález vykazující znaky o pokusu padělání představuje první difrakční vizuální bezpečnostní obraz, jakožto displayový hologram. Tento obraz je prostorově omezený, a to první jemnou linií nebo pixelovou strukturou na povrchu. Jak již bylo uvedeno, vynález též ukazuje viditelný obraz umístěný v reflekční vrstvě (např. hliníkové) nebo semireflekčním materiálu, který zůstal na povrchu po odstranění. Tento viditelný kód je vytvořen druhým zdrsněním nebo prohlubní nebo velmi jemnou difrakční mřížkovou strukturou (tato struktura je neviditelná a nondifřakční), ohraničenou druhou jemnou linií nebo bodovou strukturou na povrchu etikety. Účelem druhé struktury je ovlivnit přilnavost kovu nosného povrchu/carrier surface/ a tím produkovat mechanismus diferenčního výsledku. Obě tyto struktury jemných linií se mohou v malé míře prostorově propojovat za účelem zřejmého překrývání makroskopicky bez překrývání v mikroskopickém měřítku, a to šířkou linie a rozměrů velikosti pixelu, což je velikost menší než obvyklá hranice rozlišitelnosti lidského oka a proto interlokující linie nebo bodový vzor není pozorovatelem viditelný. Nondifřakční vzor produkuje prázdný/“void“ typ holografické etikety vykazující znaky o pokusu padělání bez potřeby jakékoli další tiskové fáze závěrečného laku a dovoluje prázdnému/“void“ vzoru přesný soutisk s holografickým obrazem.

Vzhledem k dalšímu aspektu současného vynálezu, je zde též prezentována vrstva, která zastává funkci vrstvené etikety, tedy tato vrstva má povrch uzpůsobený pro kontakt s vrstvou reflekčního materiálu etikety a již zmíněný povrch obsahuje mikrostrukturu takové formy, která nezajišťuje difrakční obraz a vykazující povrchové vlastnosti pro kontrolu selektivního odstranění reflekčního materiálu od nejmenších částí reflexního materiálu na korespondujících místech až po místa popsané mikrostruktury.

Vzhledem k ještě dalšímu aspektu vynálezu, je zde prezentována metoda utváření vrstvené etikety, která má přinejmenším první a druhou vrstvu oddělenou vrstvou reflekčního materiálu, kde první vrstva je uzpůsobena pro zajištění etikety na povrchu, obsahující kroky vytváření mikrostruktury formy, která nezajišťuje difrakční obraz v povrchu druhé vrstvy utvořené pro kontakt s vrstvou reflekčního materiálu, mikrostruktura představuje povrchové vlastnosti takové, že v případě odstranění vrchní vrstvy jsou přinejmenším části reflekčního materiálu na místech korespondujících s místy již popsané mikrostruktury odstraněny společně s odstraněnou vrstvou a tím se ukáže viditelný vzor ve vrstvě, která v etiketě zůstane. Mělo by být oceněno, že termín difrakční optické mikrostruktury je určen k tomu, aby se vztahoval na bezpečnostní hologramy, bezpečnostní difrakční zařízení založená na difrakčních mřížkách jako zařízení známá jako ‘kinegramy’ nebo ‘Exelegramy’ atd., které jsou založeny mechanickými nebo elektronovými paprsky, nebo takzvanými bodovými matricovými vzory.

Další nový element v současném vynálezu je k užití optického původu mikrostruktury v holografické laboratoři anebo v přímém zápisném litografickém procesu elektronového paprsku anebo v bodovém matricovém procesu, aby se na etiketě vykazující znaky o pokusu padělání mohl zobrazit jeden difrakční nebo holografický bezpečnostní obraz, ale též rozdílný ( úplně odlišná grafika) prázdný/“void“ bezpečnostní obraz, a to zakódováním specifických míst mikrostruktury určitými typy povrchových reliéfních vzorů a vlastnostmi danými během vzniku. Tento doplňkový bezpečnostní obraz prázdného/“void“ typu je výhodně uložen záznamem nondifrakčních rýh nebo zdrsněním mikrostruktury během první fáze vzniku, a to buď optickým záznamem nebo přímým zápisem na master. Toto místo zůstane kovovým po odtržení nosiče pokusu o padělání zacházením jako zipová struktura. Užitečnou část techniky vytváření hologramů je možné vidět na bezpečnostních holografických etiketách na současných £20 bankovkách, jež jsou produktem Bank of England Printing Works. Zde je holografický obraz rozdělen na 2 soubory interlokujících, do sebe zapadajících, lineárních struktur, jejichž velikost je za mezí rozlišitelnosti lidského oka. V místě interlokující linie, která obsahuje jeden grafický holografický obraz (např. Britannia) a další místo obsahující jinou holografickou strukturu, která opakuje druhý holografický obraz (Číslovku 20). Tyto dvě struktury jsou prostorově izolovány do nezávislých míst, aby se snížilo překrývání obrazů a zhoršování aplikací na horkou folii, avšak velmi jemné neviditelné interlokující linie, které jsou popsány v WO99/59086. Podobně tak difrakční etiketa užívaná na American Express Travellers šecích (pod obchodní značkou ‘Exelgram’) obsahuje velmi podobnou jemně drážkovanou strukturu používanou pro vytvoření difrakční etikety reprodukující dva záměnné (switching) obrazy které byly vytvořeny elektronovým paprskem zapisujícím ze struktury. Toto je popsáno v WO95/04948.

Obdobná optická holografická nebo elektronová paprsková koncepce vzniku může být použita pro tvorbu optické mikrostruktury kopírující vizuální holografický obraz v jednom vzoru a obsahující druhou mikrostrukturu obsahující vlnitou nondifrakční mikrostrukturu schopnou vytvářet obraz prázdného/“void“ typu, jak je popsáno detailně výše při užití u etikety vykazující znaky o pokusu padělání. Tyto dva rozdílné typy struktur jsou kombinovány ve dvou překrývajících se místech etikety a rozděleny buď do interlokujících jemných linií nebo struktur pixelového typu. Klíčový momentem zde představuje skutečnost, že rozměry těchto spletených struktur jsou za mezí rozlišitelnosti lidským okem. V jedné z těchto zvláštních linií u holografických nebo difrakčních obrazů se užívají standardní bezpečnostní holografické techniky. V druhém, interlokujícím avšak prostorově odděleném místě jiná optická expozice - obecně na bodový vzor nebo zdrsněný vzor - zaznamená několik nonholografických zdrsněných míst nebo rýh do grafických míst, která nejsou pokryta předchozím holografickým obrazem, aby zaznamenala graficky rozdílný prázdný/“void“ vzor, který se zobrazuje pouze po odstranění etikety při pokusu o padělání. Výhodná technika by byla zaznamenat všechny elementy bezpečnostního hologramu a prázdných/“void“ obrazů do rejstříku v multi-elementu hologramu H1 (jako příklad pro diskuzi 'Practical Holography’, Graham Saxby, prentice Halí publisher nebo např. US5483363 a US5694229). Při fázi holografického transferu do fotorezistenčního prostředí pro vytvoření povrchového reliéfního hologramu v prvním stádiu by holografická laboratoř poprvé zaznamenala elementy korespondující s bezpečnostním hologramem ( s referenčním paprskem) k vytvoření tohoto elementu, poté by byl zaznamenán obraz prázdného/“void“ vzoru exponováním fotorezistenčního media pouze na cílový paprsek prázdného/“void“ vzoru k výrobě d.c. leptu tohoto vzoru do fotorezistenčního prostředí při vývoji. Tyto dva vzory se uvedou na nejlepší úroveň vhodným vyvážením jejich expozičních stupňů. Jinou možností expozice druhého prázdného/“void“ vzoru je vytvoření prvního difrakčního obrazu standardní dvoupaprskovou bodovou matricovou expozicí k zajištění vizuálního obměnného difrakčního bodového matricového obrazu a poté vykonání druhé expoziční fáze jednobodového paprsku matricového typu "stopped and repeated"/ zastav a opakuj, avšak s vysokou expozicí, za účelem vytvoření vzoru prázdného/“void“ obrazu, kde hliník je zadržen při odstranění v nondifrakčním zhrublém vzoru. Dalším způsobem vytvoření vhodného difrakčního masteru je vytvoření litografie elektronového paprsku k přímému ukládání struktur, zapisování difrakčních informací do jistých pixelů nebo řádků a psaním nondifrakčních informací pro kontrolu přilnavosti reflexní vrstvy do jiných pixelů nebo řádků.

Další součástí tohoto objevu je, že vzor pro vizuální difrakční obraz i vzor pro vykazující znaky o pokusu padělání mohou být difrakční. V tomto případě oba vzory přispějí difrakčnímu obrazu, ale pouze vybraná část difrakčního vzoru kontroluje přilnavost ke zprávám vykazujících pokus o padělání kontrolujícím přilnavost reflekční vrstvy. Toto vybrané místo difrakčního vzoru je utvářeno jako difrakční avšak zároveň bude vykazovat rozdílné topologické vlastnosti vzhledem k jiným difrakčním místům přispívajícím přímo na vizuální obraz, obecně mající daleko hlubší stranový poměr k difrakční drážkové struktuře. Toto znatelně nezmění vlastnosti difrakčního obrazu v porovnání s jinými místy, ale významně změní mikroskopický povrch topografie a stupeň vazby reflekční vrstvy.

Vynález je popisován níže na bází příkladů, s odkazy na přiložené výkresy, ve kterých:

Obr. 1 ilustruje etiketu a různé okrajové obrazy prezentované na etiketě před i hned po záměrném pokusu o padělání;

Obr. 2A a 2B jsou schematické zvětšeniny etikety na Obr. 1;

Obr. 3A a 3B ilustrují způsob, kterým etiketa vzhledem k tomuto vynálezu může sloužit jako bezpečnostní etiketa připevněná k vybranému produktu;

Obr. 4A a 4B ukazují typické řezy etiketou jako je zobrazeno s odkazem na obr.l;

Obr. 5 A a 5B jsou zvětšené Části typických řezů obr. 4A a 4B; a

Obr. 6A a 6B zobrazují zvětšené pohledy typických řezů etikety vzhledem k jinému začlenění tohoto vynálezu.

Obr. 1 zobrazuje holografíckou bezpečnostní etiketu vykazující znaky o pokusu padělání 1 plné metalizovanou hliníkovou reflekční vrstvou 2 nebo potencionálně částečně reflekční například s bodovým demetalizačním procesem 2 a zobrazující vizuální holografícký bezpečnostní obraz 3 listu Ά'. Druhá nondifrakční mikrostruktura 4 je neviditelná na nepoškozené etiketě. Šipka 5 ukazuje odstranění nosné vrstvy pokusem o padělání, která odkryje kód listu 'B' 8, který zobrazuje pokus o padělání na kovové reflekční vrstvě, který zbyl přilepený na přilnavé vrstvě 7.

Obr.2 vyobrazuje zvětšeniny místa označeném 9 a 15 na obr.l, ukazuje zde mikroskopický vzor. Obr,2A ukazuje difrakční 11 a struktury indikující pokus o padělání 12 zaznamenané do jednotlivých interlokujících lineárních vzorů typické velikosti měřítka 25 - 150 mikronů, přestože mohou být užity vzory větší velikosti až do 300 mikronů. Obr. 2B zobrazuje jiné uspořádání interlokujících pixelových vzorů.

Obr.3A vyobrazuje pozorovatele ověřujícího poukazující bezpečnostní etiketu vykazující pokus o padělání 17 ukazující vizuální difrakční bezpečnostní obraz 18, přilepený na produkt, který má být zabezpečen 16. Obr.3B vyobrazuje situaci po záměrném odtržení bezpečnostní etikety, kde pokusu o padělání vykazující kód listu 'B' 24 je ponechán ve zbývající vrstvě 21 na produktu poté, co nosná vrstva 22 obsahující mikrostrukturu je odstraněna.

Obr. 4A a 4B vyobrazují zvětšené typické řezy struktury, která vykazuje před 4A i po pokusu o padělání 4B např. odstranění polypropylenu a krycí vrstvy. Etiketa obsahuje reliéfní nosnou vrstvu 29, nesoucí povrchový reliéf 28 stávající se z difrakčního vizuálního vzoru 31 a nondifrakční na pokus o padělání poukazující vzor 30 umístěný na hliníkové nebo podobné reflekční vrstvě 27, a která je přilepená na element 25 přilnavou vrstvou 26. Povrchový reliéf může být nesen reliéfní vrstvou laku 35, což je popsáno níže v referencích k obr.6. Obr.4B vyobrazuje jakým způsobem, po odstranění nosné vrstvy 29 při pokusu o padělání, části 32 reflekční vrstvy 27 zůstanou s nosnou vrstvou 29, přilepenou v nondifrakčním vzoru utvářející místa 30 ponechaná na reflekční vrstvě 32 a zatímco jiné části 33 zůstávají přilepená k přilnavé vrstvě 26. Toto ilustruje způsob, jakým nondifrakční vrstva vytvoří diferenční výsledný vzor změnou kovové přilnavosti.

Obr.5A a 5B zobrazují zvětšeniny struktury míst na obr.4A a 4B. 34 vyobrazuje zvětšené mikroskopické měřítko, mechanismus diferenčního výsledku prostřednictvím různých přilnavostí kovů k různým typům mikrostruktury po odstranění etikety. Je zřetelné, jak kov 27 se může zachytit v hlubších místech mikrostruktury.

Obr,6A a 6B vyobrazují zvětšeniny podobné obr.5A a 5B, ale zde je diferenční výsledný mechanismus reliéfu ve střední reliéfní vrstvě laku 31, může též být slabě vázán na nosnou vrstvu etikety slabou přídavnou výslednou vrstvou 35.

Bude jistě oceněno, že vynález zajišťuje etiketu nabízející difrakční vizuální bezpečnostní obraz, jako například displayový hologram nebo difrakční mřížkové bezpečnostní zařízení, kde tento obraz je prostorově umístěn do první jemné linie nebo bodové struktury na povrchu zařízení. To je schopno po odstranění z produktu vykazovat vizuální zprávu umístěnou v reflekčním materiálu, který zůstane na produktu, tato vizuální zpráva je vytvořena diferenčním výsledným/“release“ efektem kontrolovaným výběrovou mikrošablonou nondifrakční mikrostruktury. Místo prvního vzoru obsahuje difrakční nebo holografický povrchový reliéf, k zajištění souvisle vizuálně pozorovatelného difrakčního bezpečnostního obrazu jako například bezpečnostního hologramu, stávající se z jedné skupiny rozeznatelných grafických obrazů k vytvoření vizuální difrakční bezpečnostní etikety zajišťující bezpečný důkaz pravosti přilepené etikety. Druhé místo nebo druhá mikrostruktura obsahuje místo nondifrakčního zdrsnění (jako mikroskopické prohlubně v povrchu nebo jiné zdrsněné nebo ztvárněné struktury) navrženého pro zadržení a ponechání hliníku nebo jiného pokovení po odstranění etikety. Tyto plochy mikroskopického zdrsnění jsou utvářeny v jiném grafickém vzoru přesně vymezujícím oddělené prostorové regiony na malém měřítku, na nepoškozené etiketě uzpůsobené vykazování znaků o pokusu padělání obyčejně okem neviditelných, Odstranění této etikety obecně zapříčiní zlom na nosné vrstvě v reliéfní vazbě laku (a hliníku) u etiket skládajících se z krycí vrstvy a reliéfního laku, a též zlom na slabé nosné vrstvě u hliníkové vazebné meziplochy pro etiketu polypropylenového typu, což v obou případech způsobuje, že Čistá krycí vrstva je odstraněna a kov ponechán na produktu. Kov je držen spíše rýhovanými plochami druhé mikrostruktury, a proto více přilne k nosné vrstvě v místech, kde byla mikrostruktura rýhována nebo zdrsněna, a v těchto místech vykazuje rozdílný výsledek při trhání a vzorování. Toto vede k vytvoření etikety, kde u většiny těchto etiket vytvořených z hliníku, kromě vzorovaných míst mikrostruktury definovaných ve druhé mikrostruktuře, kde kov zůstane přilepený v mikrorýhách nosné vrstvy a je odstraněn tak, že ponechá rubovou stranu obrazu prázdného/“void“ typu v kovu ponechaném přilepeném na povrchu produktu odpovídající místům, kde kov byl ponechán na produktu a tak poukazující na vykazující znaky o pokusu padělání. (Viz obr. a popisy níže)

Termínem nondifrakční vzor popisujeme mikroskopický povrchový refiéfní vzor, který neutváří difrakční obraz iluminací a proto je při normálním pohledu na kompletní etiketu neviditelný. Takový vzor může být mikroskopické nahodilé zdrsnění povrchu (např. vystavením difuznímu laserovému paprsku nebo zapsáním namátkového vzoru litografií elektronového paprsku), může to být nondifrakční rýhový vzor z malých bodů (velikost měřítka od 25 do 300 um), může to být sada malých bodů vytvořených vystavením zaměřeného světla ze sestavy malých čoček.

Ti, kteří jsou znalí optických a difrakčních postupů, uvidí další užití, např. mechanickým překombinováním na vrchu 'prázdné/“void“ děravé struktury vizuálního hologramu, které jsou zahrnuty v rámci tohoto vynálezu.

Po výrobě fotorezistenční, je známé v oboru, že difrakční reliéfní podložky se mohou vyrábět způsobem sekvenčního vrstveného procesu a vzory reliéfu vtištěny do materiálu vykazujících znaky o pokusu padělání, obecně polypropylenu. Tento může být poté metalizován, pokryt přilnavou vrstvou a řezán, jak známo v oboru, vytvořit etiketu vykazující znaky o pokusu padělání. Při použití, když je přilepená na produkt, může holografická bezpečnostní struktura způsobovat difrakci a zajistit vizuální zabezpečení, zatímco struktura prázdné/“voiď‘ zprávy ( s odlišnou grafikou) je nondifrakční a je neviditelná dokud je etiketa falšována. V tomto bodě odstranění krycí vrstvy vykazující pokus o padělání, kov v holografickém místě zůstane na přilnavé vrstvě, zatímco kov v rýhovaných místech prázdného/“void“ obrazu je odstraněn na nosné vrstvě, a tak odhaluje oddělenou, nezávislou prázdnou/“void“ zprávu rubem ke zbylé přilnavé vrstvě. Tohoto prázdného/“void“ efektu lze dosáhnout bez jakýchkoli následných krycích nebo tiskových fází v holografickém produktu, ale užitím nondifrakční mikrostruktury kombinované v původní fázi a proto reliéfní vrstva vytváří tento efekt. Tento efekt též dovoluje, aby prázdná/“void“ struktura byla umístěná přesně okolo nebo poblíž struktury vizuálního obrazu, aby zajistila přídavný rejstřík a možné kombinace vzorů v návrhu.

Specificky, grafické obrazy v místě vykazujícím znaky o pokusu padělám a grafické obrazy, geometrické tvary, písmena a číslice v diírakční bezpečnostní struktuře mohou, vzhledem k tomuto objevu, být ponechány naprosto rozdílné od obou zpráv, které jsou definovány makroskopickým grafickým vzorem jejich odpovídající mikrostruktury samostatně v tomto případě, kde prázdná/“void“ mikrostruktura je vytvořená k přilnutí kovové reflekční vrstvy na krycí vrstvu určenou k vykazování znaků o pokusu padělání v místech s texturou, zatímco holografická struktura dovolí uvolnění kovu.

Zatímco je tvořen zápis na etiketě, mělo by být oceněno, že etiketa nemusí být odděleným elementem od např. obalu produktu, ale sama o sobě tvoří přinejmenším část, např. produktu nebo jeho obalu. -prohlášení-—& Π i/€ k- Y'— 1. Vrstvená etiketa mající alespoň první a druhou vrstvu oddělenou vrstvou reflek$níno materiálu, kde první vrstva je zajištěná pro bezpečnost etikety a povrch druhé vrstýy je v kontaktu s vrstvou reflexního materiálu vykazující mikrostrukturu, která mi povrchové vlastnosti takové, že v případě, že svrchní vrstva etikety je odstraněna,' přinejmenším část reflekčního materiálu v místech odpovídající místům již popsané mikrostruktury jsou odstraněny společně s odstraněnou vrstvou, odhalí se viditelfliý vzor ve zbylé vrstvě etikety. 2. Etiketa jakožto popsaná v bodě 1, ve kteréž mikrostruktura obsahující reliéfní povrch popsané druhé vrstvy. 3. Etiketa jakožto popsaná v bodec difrakční obraz. 4. Etiketa jakožto popsapď v bodech 1 nebo 2, ve které je mikrostruktura obsahuje druhou ze dvou nezávislých mjkrostruktur, při nejmenším je první mikrostruktura uspořádána tak, že nabízí difrakční obraz v případě umístění na vrstvu reflekčního materiálu. 5. Etiketa jakožto popsaná v bodě 4, ve které je obě mikrostruktury jsou uspořádány k vytvoření cHírakčního obrazu. 6. Etil^éta jakožto popsaná v bodech 4 nebo 5, ve které popsané první a druhá mikrostruktury vytvářejí nezávislé mikrostrukturové vzory. 7/Etiketa jakožto popsaná v bodě 6, kde se nezávislé vzory skládají z nezávislých jemných lineárních vzorů. 8. Etiketa jakožto popsaná v bodě 6, kde se nezávislé vzory skládají z nezávislých jemných pixelových vzorů. \ nebo 2, ve které je mikrostruktura tvaru nevytvářejícím 9. Etiketa jakožto popsaná v bodech 6,7 nebo 8, kde nezávislé vzory jsou uspořádány tak, aby

Claims (28)

1. .... ^reutouejurtc^ 1. Vrstvená etiketa mající alespoň první a druhou vrstvu oddělenou vrstvou reflekčního materiálu, kde první vrstva je zajištěná pro bezpečnost etikety a povrch druhé vrstvy je v kontaktu s vrstvou reflexního materiálu vykazující mikrostrukturu, která má povrchové vlastnosti takové, že v případě, že svrchní vrstva etikety je odstraněna, přinejmenším část reflekčního materiálu v místech odpovídající místům již popsané mikrostruktury jsou odstraněny společně s odstraněnou vrstvou, odhalí se viditelný vzor ve zbylé vrstvě etikety.
2. 2. Etiketa jakožto popsaná v bodě 1, ve které je mikrostruktura obsahující reliéfní povrch popsané druhé vrstvy,
3. 3. Etiketa jakožto popsaná v bodech 1 nebo 2, ve které je mikrostruktura tvaru nevytvářejícím difrakční obraz.
4. 4. Etiketa jakožto popsaná v bodech 1 nebo 2, ve které je mikrostruktura obsahuje druhou ze dvou nezávislých mikrostruktur, při nejmenším je první mikrostruktura uspořádána tak, že nabízí difrakční obraz v případě umístění na vrstvu reflekčního materiálu.
5. 5. Etiketa jakožto popsaná v bodě 4, ve které je obě mikrostruktury jsou uspořádány k vytvoření difrakčního obrazu.
6. 6. Etiketa jakožto popsaná v bodech 4 nebo 5, ve které popsané první a druhá mikrostruktury vytvářejí nezávislé mikrostrukturové vzory.
7. 7. Etiketa jakožto popsaná v bodě 6, kde se nezávislé vzory skládají z nezávislých jemných lineárních vzorů.
8. 8. Etiketa jakožto popsaná v bodě 6, kde se nezávislé vzory skládají z nezávislých jemných pixelových vzorů.
9. 9. Etiketa jakožto popsaná v bodech 6,7 nebo 8, kde nezávislé vzory jsou uspořádány tak, aby se překrývaly na makroskopické úrovni, ale ne na mikroskopické úrovni. • « • t • · ♦ ♦♦ • · • • · • · • • 9 • 9 *· • · lt • · « · # • · · * ·· *·
10. 10. Etiketa jakožto popsaná v bodech 6,7,8 nebo 9, kde rozměry každého z elementů nezávislých vzorů jsou právě za hranicí rozlišitelnosti lidského oka a jsou ve velikosti 25 -300 mikronů.
11. 11. Etiketa jakožto popsaná v jakémkoliv předchozím bodě, kde vrstva utvořená k odstranění z etikety obsahuje popsanou druhou vrstvu takovou, že její odstranění slouží k odstranění přinejmenším části reflekčního materiálu ležícího pod popsanou mikrostrukturou.
12. 12. Etiketa jakožto popsaná v jakémkoli bodě z 1 - 9, kde popsaná vrstva lakuje uspořádána tak, aby byla odstranitelně připevněná na popsanou třetí vrstvu, a to relativně slabou výslednou/“release“ vrstvou.
13. 14. Vrstva k vytváření částí vrstvené etikety, mající povrch upravený pro kontakt s vrstvou reflekčního materiálu etikety, popsaný povrch vykazující mikrostrukturu formy, která nezajišťuje difřakční obraz a vykazující povrchové vlastnosti pro kontrolu výběrového odstranění reflekčního materiálu z nejmenších částí reflexního materiálu v místech odpovídajících místům popsané mikrostruktury.
14. 15. Vrstva jakožto popsaná v bodě 14, kde mikrostruktra obsahuje reliéfní povrch popsané vrstvy.
15. 16. Vrstva jakožto popsaná v bodech 14 nebo 15, kde popsaná mikrostruktura obsahuje druhou ze dvou nezávislých mikrostruktur, kde první mikrostruktura je uspořádaná tak, aby umožňovala difřakční obraz v případě umístění na vrstvu reflekčního materiálu.
16. 17. Vrstva jakožto popsaná v bodě 16, kde popsané první a druhá mikrostruktura obsahují nezávislé mikrostrukturové vzory.
17. 18. Vrstva jakožto popsaná v bodě 17, kde nezávislé vzory obsahují nezávislé nezávislé jemné lineární vzory.
18. 19. Vrstva jakožto popsaná v bodě 17, kde se nezávislé vzory obsahují nezávislé pixelové vzory.
19. 20. Vrstva jakožto popsaná v bodě 17, 18 nebo 19, kde nezávislé vzory jsou uspořádány tak, že se překrývají na makroskopické, ale nikoli na mikroskopické úrovni.
20. 21. Vrstva jakožto popsaná v bodech 17,18,19 nebo 20, kde rozměry každého z elementů nezávislých vzorů jsou právě za hranicí rozlišitelnosti lidského oka a jsou ve velikosti 25 -300 mikronů.
21. 22. Metoda vytváření vrstvené etikety, a etiketa mající alespoň první a druhou vrstvu oddělenou vrstvou reflekčního materiálu, kde první vrstva je vytvořena pro zajištění etikety na povrchu, obsahující kroky utváření mikrostruktury v povrchu druhé vrstvy, která je uzpůsobená pro kontakt s vrstvou reflexního materiálu vykazující mikrostrukturu, která má povrchové vlastnosti takové, že v případě, že svrchní vrstva etikety je odstraněna, nebo přinejmenším část reflekčního materiálu v místech odpovídající místům již popsané mikrostruktury je odstraněna společně s odstraněnou vrstvou, odhalí se viditelný vzor ve zbylé vrstvě etikety. • * ·· • · % 9 9 9 9 9 • · · · 9 9 9 · 9 9 • · • · 9 • · 9 99 ♦ · 99 999 99 99 *
22. 23. Metoda jakožto popsaná v bodě 22, kde mikrostruktura je utvářena vytlačením popsaného povrchu popsané druhé vrstvy,
23. 24. Metoda jakožto popsaná v bodě 22 nebo 23, kde popsaná mikrostruktura je utvářena jako druhá ze dvou nezávislých mikrostruktur, kde přinejmenším první mikrostruktura je vytvářena pro difrakční obraz v případě umístění na vrstvu reflekčního materiálu.
24. 25. Metoda jakožto popsaná v bodech 22,23 nebo 24, kde vzor mikrostruktury je původně utvářen prostředky holografíckého procesu.
25. 26. Metoda utváření mikrostruktury v povrchu vrstvy pro užití v postupu v jakémkoli z bodů 22 - 25, užívající jakýkoli difúzní laserový paprsek, litografii elektronového paprsku nebo dvou stupňovou optickou metodu.
26. 27. Vrstvená etiketa jakožto popsána výše a jakožto zobrazena na přiložených výkresech.
27. 28. Vrstva pro vytvoření části vrstvené etikety jakožto popsána výše a jakožto zobrazena na přiložených výkresech,
28. 29. Metoda vytváření vrstvené etikety jakožto popsána výše a jakožto zobrazena na přiložených výkresech. VY-TA1T ETIKETA A ZFŮSDBTEJfVÝROBY Vynález zajišťuje--pro-etrketu-jako například holografickou nebo diijakčm bezpečnostní etiketu vykazující znaky o pokusu padělání, která^obsaKuje přinejmenším dvě oddělené mikrostruktury (30,31), kde jedjia---^rýkázuje holografický nebo difrakční bezpečnostní obraz a druhá neviditelnou nondifrakční strukturu, která kontroluje rozdílný výsledek rcflekčňí nebo semireflekční vrstvy (27) za účelem akcidence oddělené vizuijliM zprávy po odstranění etikety při pokusu falšování. Výhodou oproti předchozírrf typům etiket je, že difrakční zprávy i zprávy vykazující znaky o pokusu padělání jsou zakódovány v rámci mikrostruktury bez jakékoli potřeby dalších přídavných nebo tištěných vrstev. ....................... .......