CS207285B1 - Způsob výroby polykrystalického scintilátoru - Google Patents

Způsob výroby polykrystalického scintilátoru Download PDF

Info

Publication number
CS207285B1
CS207285B1 CS384779A CS384779A CS207285B1 CS 207285 B1 CS207285 B1 CS 207285B1 CS 384779 A CS384779 A CS 384779A CS 384779 A CS384779 A CS 384779A CS 207285 B1 CS207285 B1 CS 207285B1
Authority
CS
Czechoslovakia
Prior art keywords
temperature
cylinder
polycrystalline
scintillator
blank
Prior art date
Application number
CS384779A
Other languages
English (en)
Inventor
Otakar Richter
Ladislav Fojtik
Tibor Vasek
Original Assignee
Otakar Richter
Ladislav Fojtik
Tibor Vasek
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Otakar Richter, Ladislav Fojtik, Tibor Vasek filed Critical Otakar Richter
Priority to CS384779A priority Critical patent/CS207285B1/cs
Publication of CS207285B1 publication Critical patent/CS207285B1/cs

Links

Landscapes

  • Crystals, And After-Treatments Of Crystals (AREA)
  • Measurement Of Radiation (AREA)

Description

Vynález se týká způsobu výroby polykrystalického scintilátoru pomocí programovaného tepelného zpracování, které následuje po plastické deformaci monokrystalu.
Jsou známy způsoby kultivace scintilačních krystalů alkalických halogenidů tažením na zárodku nebo kelímkovými metodami. Při těchto způsobech se vychází z orientovaného zárodku a požadovaným výsledkem je poměrně homogenní monokrystal. Metody kultivace jsou zvláště u velkorozměrových krystalů náročné časově i pokud jde o technické vybavení. Největší dosažitelné rozměry takto získaných scintilačních krystalů jsou omezeny rozměry kelímků a pecí a ztráty materiálu při obrábění na požadovaný tvar jsou značné. Monokrystalické velkorozměrové scintilátory jsou kromě toho velmi citlivé na mechanické i tepelné rázy a snadno praskají podle ploch dokonalé štěpnosti.
Je však známo, že vyhovující optické vlastnosti má i polykrystalický materiál složený z množství náhodně krystalograficky orientovaných bloků, při zachování dokonalého optického kontaktu mezi jednotlivými bloky, pokud jde o látku opticky izotropní.
Krystaly alkalických halogenidů po ohřevu na teplotu blízkou bodu tání lze plasticky deformovat. Po ochlazení však takto deformované krystaly v důsledku značného mechanického pnutí zpravidla praskají, eventuálně se rozpadnou na jednotlivé části. Luminiscenční vlastnosti scintilačních krystalů alkalických halogenidů se již po mírné plastické deformaci prudce zhoršují.
Tyto nedostatky odstraňuje způsob výroby polykrystalického scintilátoru podle vynálezu. Výchozím scintilačním materiálem rozumíme aktivovaný alkalický halogeňid, který byl získán krystalizací z taveniny ve formě libovolného geometrického tvaru — ingotu — s vnitřní monokrystalickou nebo polykrystalickou texturou. Tento ingot je plasticky deformován. Podstatou vynálezu je způsob převedení výchozího plasticky deformovaného polotovaru programovým tepelným zpracováním na polykrystalický agregát zhruba izometrických, angulámích krystalových bloků, které spolu těsně souvisejí. Plasticky deformovaný polotovar se žíhá při konstantní teplotě nižší než je bod tání a vyšší než je teplota tváření daného materiálu, přičemž dochází v objemu plasticky přetvořeného polotovaru k rekrystalizaci a rovnoměrnému uvolnění mechanického pnutí. Následuje postupné pozvolné snižování teploty vyžíhaného polotovaru. Původně homogenní materiál se přemění na soudržný agregát i náhodně orientovaných, vzájemně těsně souvisejících bloků. Velikost těchto bloků a tím i vlastnosti scintilátoru lze přitom ovlivňovat dobou trvání
ného tepelného zpracování.
Takto vzniklý polykrystalický agregát je opticky t.j. ekvivalentní monokrystalu, má srovnatelné scintilační vlastnosti a předčí monokrystal odolností proti nárazům, vibracím a tepelným šokům.
Způsob výroby polykrystalického scintilátoru podle vynálezu umožňuje s výhodou vyrobit polykrystalické scintilátory v podobě desek, tyčí i jiných libovolných geometrických tvarů, jejichž rozměry přesahují rozměry krystalů připravovaných ostatními známými metodami. Zároveň při tomto způsobu výroby jsou podstatně menší ztráty materiálu při opracování, protože při tváření lze polotovar zhotovit přesně podle požadovaných rozměrů s minimálním přídavkem na obrobení.
Luminiscenční vlastnosti scintilátorů tvořených polykrystalickým agregátem jsou stejné nebo lepší než u výchozího scintilaěního materiálu.
Způsob výroby polykrystalického scintilátoru

Claims (1)

  1. PŘEDMĚT
    Způsob výroby polykrystalického scintilátoru z aktivovaných alkalických halogenidů ve tvaru ingotu připraveného krystalizaci z taveniny a plasticky deformovaného, vyznačený tím, že žíháním polotovaru při konstantní teplotě, která je nižší než bod tání a vyšší než teplota tváření daného materiábyl experimentálně vyzkoušen. Jako výchozího polotovaru bylo použito válcového monokrystalu NaJ(Tl) vypěstovaného z taveniny v kelímku, jehož poměr průměru válce k výšce válce byl 1:1. Tento válec byl působením krystalograficky obecně orientovaného tlaku řádově 1 až 10 MPa přetvořen do tvaru kruhové desky, jejíž průměr k výšce byl v poměru 10:1. Tváření monokrystalu probíhalo při teplotě 600 °C a ihned poté byl polotovar přenesen do žíhací pece, kde byl po dobu , 12 hodin udržován při teplotě nejméně o 10 °C nižší, než je odpovídající bod tání materiálu NaJ(Tl). Po uplynutí této doby byla teplota snižována průměrnou rychlostí 5 °C/h až na teplotu okolí. Vzniklý polykrystalický scintilátor byl i dokonale soudržný, průhledný a byl tvořen náhod- í ně orientovanými, většinou izometrickými a angu- ! lámími zrny o rozměrech 5 až 10 mm. Jeho scintilační vlastnosti byly vyhovující.
    VYNÁLEZU i lu, a následujícím postupným pozvolným snižováním teploty na teplotu okolí, se vytvoří soudržný polykrystalický agregát s náhodně orientovanými angulámími krystalovými bloky, navzájem těsně souvisejícími.
CS384779A 1979-06-04 1979-06-04 Způsob výroby polykrystalického scintilátoru CS207285B1 (cs)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CS384779A CS207285B1 (cs) 1979-06-04 1979-06-04 Způsob výroby polykrystalického scintilátoru

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CS384779A CS207285B1 (cs) 1979-06-04 1979-06-04 Způsob výroby polykrystalického scintilátoru

Publications (1)

Publication Number Publication Date
CS207285B1 true CS207285B1 (cs) 1981-07-31

Family

ID=5379771

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CS384779A CS207285B1 (cs) 1979-06-04 1979-06-04 Způsob výroby polykrystalického scintilátoru

Country Status (1)

Country Link
CS (1) CS207285B1 (cs)

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP5633732B2 (ja) サファイア単結晶の製造方法およびサファイア単結晶の製造装置
US20090120351A1 (en) Method for Growing Single Crystals of Metals
CN103952759B (zh) 加热体内置的坩埚下降法制备氟化钙晶体的方法及装置
US4096025A (en) Method of orienting seed crystals in a melt, and product obtained thereby
US4840699A (en) Gallium arsenide crystal growth
CS207285B1 (cs) Způsob výroby polykrystalického scintilátoru
CN110453283A (zh) 一种封盖式引晶的导模法生长封口蓝宝石管的模具和方法
US5322591A (en) Hydrothermal growth on non-linear optical crystals
KR101530349B1 (ko) 사파이어 초고온 단결정 성장로 단열 구조
CN209890761U (zh) 掺铈溴化镧的制备装置
CN1283852C (zh) 硅酸钆闪烁晶体的生长方法
CN110468451A (zh) 一种用于导模法生长末端封口蓝宝石管的模具和方法
JP3128173B2 (ja) ゲルマニウム酸ビスマス単結晶の製造方法およびその製造装置
CN106757353A (zh) 锗酸铋单晶体的生长方法
CN101377014A (zh) 一种大尺寸四硼酸锂压电晶体的制备方法
RU168533U1 (ru) Установка для выращивания монокристаллов
CN111549376A (zh) 一种掺铈溴化镧闪烁晶体及其生长方法
KR20190075411A (ko) 리니지 결함을 제거할 수 있는 도가니부재, 이를 이용한 고품질 사파이어 단결정 성장장치 및 그 방법
RU1503355C (ru) Способ затравления при выращивании профилированных монокристаллов корунда методом степанова
RU2555901C1 (ru) Способ получения сцинтилляционных монокристаллов на основе бромида лантана
CN101831712A (zh) 一种生长炉内晶体退火装置
CN110685013A (zh) 一种锑化物晶体生长装置及生长方法
CN103695994B (zh) 一种锗酸铋单晶体的生长方法
Jin et al. Growth of undoped GaAs single crystal by pulling-down method
RU2015154711A (ru) Способ выращивания монокристаллов Cd1-xZnxTe, где 0≤x≤1, на затравку при высоком давлении инертного газа