CN220183367U - 一种镀膜加工装置 - Google Patents
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Abstract
本实用新型涉及镀膜加工装置技术领域，一种镀膜加工装置，包括一个具有箱门的工作箱，所述工作箱上设置有与抽真空装置连接的管道，所述工作箱的内部设置有用于对基片进行固定的安装架和用于对被镀材料进行蒸发的蒸发源，所述蒸发源与安装架之间设置有旋转封堵门用于将工作箱的内部分隔成两个空间，通过在对基片进行镀膜前，使用旋转封堵门将工作箱的内部蒸发源与安装架上的基片分离，使得蒸发源上的被镀材料自由蒸发一段时间进行释气后在进行镀膜，同时在镀膜前能够使用第一加热管对工作箱内壁进行烘烤，使得内壁上吸附的气体解吸出来从管道排出，达到减少残余气体的目的。
Description
技术领域
本实用新型涉及镀膜加工装置技术领域，具体为一种镀膜加工装置。
背景技术
真空镀膜是将被镀材料置于真空镀膜室内，通过蒸发源使其加热蒸发，当蒸发分子的平均自由程大于蒸发源与基片间的线尺寸后，蒸发的粒子从蒸发源表面上逸出，凝结于基片的表面形成镀膜，现有技术存在的问题是：被镀材料在进行蒸发时溢出时由于受到真空镀膜室内部的残余气体的影响，导致从蒸发源表面逸出的蒸发粒子与残余气体碰撞发生反应，影响镀膜的质量和镀膜效率，其中大部分的残余气体为水，残余气体的主要来源与真空室内壁解吸的吸附气体分子和蒸发源在对被镀材料进行蒸发时的释气。
实用新型内容
针对以上问题，本实用新型的目的在于：通过在对基片进行镀膜前，使用旋转封堵门将工作箱的内部蒸发源与安装架上的基片分离，使得蒸发源上的被镀材料自由蒸发一段时间进行释气后在进行镀膜，同时在镀膜前能够使用第一加热管对工作箱内壁进行烘烤，使得内壁上吸附的气体解吸出来从管道排出，达到减少残余气体的目的。
为实现以上目的，本实用新型采用的技术方案：一种镀膜加工装置，包括一个具有箱门的工作箱，所述工作箱上设置有与抽真空装置连接的管道，所述工作箱的内部设置有用于对基片进行固定的安装架和用于对被镀材料进行蒸发的蒸发源，所述蒸发源与安装架之间设置有旋转封堵门用于将工作箱的内部分隔成两个空间。
本实用新型的有益效果为：通过旋转封堵门能够将工作箱内部的分隔成两部分，在进行镀膜前吗，蒸发源初始对被镀材料进行蒸发时，被镀材料中的释气能够排出，通过管道连接的抽真空装置排出，进行一段时间的自由蒸发后，旋转封堵门打开进行镀膜，从而提高镀膜的质量。
为了使得旋转封堵门便于控制。
作为上述技术方案的进一步改进，所述旋转封堵门为两个，所述工作箱上设置有用于带动旋转封堵门转动的电机。
本改进的有益效果为：工作箱上设置有电机能够控制旋转封堵门的开合。
为了使得工作箱内部的残余气体能够进一步的减少。
作为上述技术方案的进一步改进，所述工作箱的侧壁上设置有安装腔室，所述安装腔室的内部设置有第一加热管。
本改进的有益效果：在进行镀膜前，第一加热管能够对工作箱的侧壁进行烘烤，使得工作箱内壁上吸附气体解吸出来，通过抽真空装置排出，进一步的减少工作箱内部的残余气体。
为了使得安装架吸附的气体也能够解吸出来。
作为上述技术方案的进一步改进，所述安装架上设置有第二加热管。
本改进的有益效果为：第二加热管能够对安装架进行烘烤，进一步的减少工作箱内部的残余气体。
为了能够便于基片上的蒸发粒子凝结，形成镀膜。
作为上述方案的进一步改进，所述安装架上设置有半导体制冷片。
本改进的有益效果，半导体制冷片能够在镀膜时对安装架进行制冷，从而使得基片处于较低的温度，便于蒸发粒子的凝结。
为了使得被镀材料便于蒸发。
作为上述方案的进一步改进，所述蒸发源为存放有被镀材料的坩埚和设置在坩埚下方的加热装置。
本改进的有益效果，加热装置对坩埚内部的被镀材料进行加热，实现蒸发粒子的逸散。
为了使得蒸发粒子能够快速的凝结在基片上。
作为上述方案的进一步改进，所述蒸发源处于安装架的正下方。
本改进的有益效果，正下方能够使得蒸发的粒子在最短路程凝结在基片上。
附图说明
图1为本实用新型的结构示意图；
图2为本实用新型图1的等轴侧示意图；
图3为本实用新型的后视图等轴侧示意图；
图4为本实用新型的剖视图。
图中：1、工作箱；101、安装腔室；102、第一加热管；2、管道；3、安装架；301、第二加热管；302、半导体制冷片；4、基片；5、坩埚；6、箱门；7、旋转封堵门；8、电机；9、加热装置。
具体实施方式
为了使本领域技术人员更好地理解本实用新型的技术方案，下面结合附图对本实用新型进行详细描述，本部分的描述仅是示范性和解释性，不应对本实用新型的保护范围有任何的限制作用。
如图1-4所示，一种镀膜加工装置，包括一个具有箱门6的工作箱1，所述工作箱1上设置有与抽真空装置连接的管道2，所述工作箱1的内部设置有用于对基片4进行固定的安装架3和用于对被镀材料进行蒸发的蒸发源，所述蒸发源与安装架3之间设置有旋转封堵门7用于将工作箱1的内部分隔成两个空间，通过旋转封堵门7能够将工作箱1内部的分隔成两部分，在进行镀膜前吗，蒸发源初始对被镀材料进行蒸发时，被镀材料中的释气能够排出，通过管道2连接的抽真空装置排出，进行一段时间的自由蒸发后，旋转封堵门7打开进行镀膜，从而提高镀膜的质量，所述旋转封堵门7为两个，所述箱体上设置有用于带动旋转封堵门7转动的电机8，工作箱1上设置有电机8能够控制旋转封堵门7的开合，所述工作箱1的侧壁上设置有安装腔室101，所述安装腔室101的内部设置有第一加热管102，在进行镀膜前，第一加热管102能够对工作箱1的侧壁进行烘烤，使得工作箱1内壁上吸附气体解吸出来，通过抽真空装置排出，进一步的减少工作箱1内部的残余气体，所述安装架3上设置有第二加热管301，第二加热管301能够对安装架3进行烘烤，进一步的减少工作箱1内部的残余气体，所述安装架3上设置有半导体制冷片302，半导体制冷片302能够在镀膜时对安装架3进行制冷，从而使得基片4处于较低的温度，便于蒸发粒子的凝结，所述蒸发源为存放有被镀材料的坩埚5和设置在坩埚5下方的加热装置9，加热装置9对坩埚5内部的被镀材料进行加热，实现蒸发粒子的逸散，所述蒸发源处于安装架3的正下方，正下方能够使得蒸发的粒子在最短路程凝结在基片4上。
本实用新型的工作原理为：首先将被镀材料放置在坩埚5中，将基片4通过夹具(图中未画出)固定在安装架3上，然后关闭箱门6，使得工作箱1的内部处于密封状态，将管道2与抽真空装置进行连接，对工作箱1的内部进行抽真空，在抽真空时，旋转封堵门7处于打开的状态，即工作箱1的内部只有一个空间，同时第一加热管102对工作箱1的内壁进行烘烤，第二加热管301对安装架3进行烘烤，使得安装架3和工作箱1内壁上吸附的气体解吸出来通过抽真空装置排出，减少工作箱1内部的残余气体，随后电机8带动旋转封堵门7关闭，使得工作箱1的内部被分隔成两个独立的空间，此时加热装置9对坩埚5内部的被镀材料进行加热使其蒸发，被镀材料在加热的过程中释气，通过抽真空装置进行排出，在释气的过程中，半导体制冷片302对安装架3进行制冷，使得基片4处于较低的温度，自由蒸发一定时间后，电机8带动旋转封堵门7开启，此时从蒸发源逸出的蒸发粒子，与较低温度的基片4接触后凝结形成镀膜。
需要说明的是，在本文中，术语“包括”、“包含”或者其任何其他变体意在涵盖非排他性的包含，从而使得包括一系列要素的过程、方法、物品或者设备不仅包括那些要素，而且还包括没有明确列出的其他要素，或者是还包括为这种过程、方法、物品或者设备所固有的要素。
本文中应用了具体个例对本实用新型的原理及实施方式进行了阐述，以上实例的说明只是用于帮助理解本实用新型的方法及其核心思想。以上仅是本实用新型的优选实施方式，应当指出，由于文字表达的有限性，客观上存在无限的具体结构，对于本技术领域的普通技术人员来说，在不脱离本实用新型原理的前提下，还可以做出若干改进、润饰或变化，也可以将上述技术特征以适当的方式进行组合；这些改进润饰、变化或组合，或未经改进将实用新型的构思和技术方案之间应用于其它场合的，均应视为本实用新型的保护范围。
Claims (7)
1.一种镀膜加工装置，包括一个具有箱门(6)的工作箱(1)，所述工作箱(1)上设置有与抽真空装置连接的管道(2)，所述工作箱(1)的内部设置有用于对基片(4)进行固定的安装架(3)和用于对被镀材料进行蒸发的蒸发源，其特征在于：所述蒸发源与安装架(3)之间设置有旋转封堵门(7)用于将工作箱(1)的内部分隔成两个空间。
2.根据权利要求1所述的一种镀膜加工装置，其特征在于：所述旋转封堵门(7)为两个，所述工作箱(1)上设置有用于带动旋转封堵门(7)转动的电机(8)。
3.根据权利要求1所述的一种镀膜加工装置，其特征在于：所述工作箱(1)的侧壁上设置有安装腔室(101)，所述安装腔室(101)的内部设置有第一加热管(102)。
4.根据权利要求1所述的一种镀膜加工装置，其特征在于：所述安装架(3)上设置有第二加热管(301)。
5.根据权利要求1或4所述的一种镀膜加工装置，其特征在于：所述安装架(3)上设置有半导体制冷片(302)。
6.根据权利要求1所述的一种镀膜加工装置，其特征在于：所述蒸发源为存放有被镀材料的坩埚(5)和设置在坩埚(5)下方的加热装置(9)。
7.根据权利要求1所述的一种镀膜加工装置，其特征在于：所述蒸发源处于安装架(3)的正下方。
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2023
- 2023-06-20 CN CN202321580538.5U patent/CN220183367U/zh active Active
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