JP2002536071A - 容器又は物体を滅菌する方法及び装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 例えば医学のアンプルのプラズマ滅菌が行われ、空間的及び又は時間的に選択的なプラズマの励起が容器（２）又は物体の壁に接触する種々の範囲内で行われる、容器又は物体を滅菌する方法が提案される。容器（２）の内部には、室（３）から遮へいされた供給導管（７）又は漏えい溝（５）を介して、プラズマの励起に適したガスが供給され、その際内部におけるガス圧力こう配が、ここで、あるいは引き続いて外面においても、プラズマが励起されかつ所定の時間維持されるように、調整されかつ保たれる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】 背景技術 本発明は、請求項１の上位概念に記載した形式の、有利には容器を滅菌する方
法及びこの方法を実施するための装置に関する。

【０００２】 医学あるいは食品テクノロジーにおける容器、例えばアンプル、はめ付け蓋を
有するガラス容器、シールゴム膜で閉鎖されるガラス容器あるいはいわゆるフラ
スコ内の有害な微生物あるいは細菌を除去するために、物理的あるいは化学的な
方法を使用することは既に以前から公知である。例えば水で前浄化する水蒸気法
においては、容器は所定の時間にわたって高熱の水蒸気にさらされる。このプロ
セスの継続時間は、処理ラインに組み込んで多数の容器を滅菌し得るようにする
ためには、大型の設備を要求する。滅菌は完全に、換言すればすべての細菌を死
滅させて、行わなければならない。この場合滅菌されたアンプルは充てんする前
に更に乾燥させなければならず、これによってこのために必要な乾燥ユニットが
設備を付加的に増大させる。しかしながらこの水蒸気滅菌は、いわゆる発熱性の
、換言すれば引火性に作用する死滅した細胞の代謝産物及び細胞残余部分を完全
に除去することができない。

【０００３】 EP 0 377 788 A1 から公知の方法においては、物体の滅菌のために、ほぼ２.
４５ＧＨｚの周波数の電磁的な放射を有するプラズマが使用される。物体はこの
ために完全に低圧プラズマにさらされ、拡大された方法では更に付加的な熱源で
放射される。

【０００４】 発明の利点 容器又は物体を滅菌する方法は、本発明によれば請求項１の特徴により有利な
形式で次のように構成される。すなわちプラズマ滅菌を、容器又は物体の壁に接
触する種々の範囲においてプラズマの空間的及び又は時間的に選択的な励起が行
われるように、実施する。

【０００５】 本発明により簡単な形式で、細菌死滅及び発熱性バクテリアの完全な除去を１
つの方法に組み入れることが可能であり、その際方法の確実性は高度に保証され
ている。本発明によるプラズマ滅菌は、方法を実施するプロセス時間が極めて短
くて、同時に、細菌の死滅と前述の発熱性バクテリアの完全な除去とを容器の内
部並びに外面において可能にする。この場合、容器の最後の乾燥は必要ではない
。

【０００６】 第１実施形においては、容器を、少なくともほぼ真空を生ぜしめることのでき
る室内に導く。容器の内部には簡単な形式で、室から遮へいされた供給導管を介
して、プラズマの励起に適当なガスを導くことができ、その際内部のガス圧力こ
う配を、ここでだけプラズマが励起されかつ所定の時間維持されるように、調整
しかつ保つ。容器の内部におけるガス圧力こう配及びプラズマはこの有利な実施
形では、室内の圧力値よりも充分に高い圧力値によって、容器から排ガスを室内
に所定量流出させかつ次いで室から吸出しながら、維持する。

【０００７】 ガスの部分的な圧力値を介してこの場合有利な形式でプラズマの励起を制御す
ることができる。圧力が過度にわずかである場合には、プラズマ放電を維持する
ために充分な素粒子を励起若しくはイオン化することができない。ガスの圧力が
過度に大きい場合には、素粒子の活性化又は励起を生ぜしめるために平均的な自
由距離長が過度にわずかである。

【０００８】 詳細に述べると、第１の方法ステップで室を排気し、かつ第２の方法ステップ
でガスを容器内に導入して、内部にプラズマを励起する。第３の方法ステップで
更に続いてプラズマを励起するためのガスを室内に導いて、室内に、ひいては容
器の外面に、プラズマを励起すると同時に、容器の内部のプラズマを消す。

【０００９】 本発明による方法の第２の有利な実施形では、プラズマを励起するのに適した
ガスが導かれる室内に容器を導く。今や容器の内部において、室から遮へいされ
ている供給導管を介して、少なくとも部分的な排気を生ぜしめることができ、そ
の際内部のガス圧力こう配を、ここでプラズマが励起されかつ所定の時間維持さ
れるように、調整しかつ保つ。

【００１０】 方法の第１の実施形とは逆のこのプロセスにおいては、したがって、容器の内
部におけるガス圧力こう配及びプラズマを、室内の圧力値よりも充分に低い圧力
値によって、室からガスを容器内に所定量流入させかつ次いで容器から吸出しな
がら、維持する。

【００１１】 詳細に述べるとこの場合、第１の方法ステップで室にガスを供給し、かつ第２
の方法ステップで容器を、室からのガスの流入を介してプラズマの励起が内部で
行われるまで、排気する。第３の方法ステップでこの場合においても、既に述べ
たのと類似した形式で、室内へのガス供給をストップして、プラズマを室内で、
ひいては容器の外面において励起すると同時に、容器の内部のプラズマを消す。

【００１２】 ここに述べたこのいわゆる逆原理は次のような利点を有している。すなわち、
より小さな体積、つまり滅菌すべき容器の内部だけを吸出すればよく、これに対
し室内では最初粗い真空で充分なことである。第２の方法ステップにおいて初め
て、室が吸出される。

【００１３】 本発明による方法を実施するための特に有利な装置においては、容器が室内で
、容器保持部として役立つ、内部が開いている円すい部上に座着している。円す
い部は、容器が座着している範囲において外面に漏えい溝を有しており、かつ内
部において供給導管を介して室の外方に位置しているガス供給部あるいはポンプ
と接続可能である。室には排気のためのポンプ及び又は励起すべきガスのための
ガス供給部が接続可能である。室の外部には、有利にはマイクロ波エネルギの放
射のためのプラズマ源が取り付けられている。マイクロ波放射の周波数はこの場
合有利には４.９ＧＨｚの範囲内であることもできる。

【００１４】 多数の容器を滅菌し得るようにするために、有利な形式で、容器は室内への搬
送のための鎖のリンクに取り付けることができる。容器保持部としてこの場合、
吸出レール又はガス供給レールとして役立つ四角プロフィールが存在しており、
この四角プロフィール上で容器がほとんど圧力密に所定の漏えい量をもって案内
される。四角プロフィールはこの場合前述のように、室の外方に位置するガス供
給部又はポンプと接続可能である。

【００１５】 別の自動化可能な装置においては、多数の容器が、場合により自動取り扱い装
置あるいはロボットによって、室内への搬送のための搬送ボックスの穴内に取り
付けられている。容器はその開口をもってほとんど圧力密に所定の漏えい量をも
って穴内に座着している。搬送ボックスは底フランジを介して室の外方に位置し
ている前述のガス供給部又はポンプに接続することができる。

【００１６】 本発明によれば、滅菌法を実施するための装置を含めて、有利な形式で、単位
時間当たりの滅菌される個数が大きい状態で設備の体積を小さく保つことができ
る。装置の設備費は従来の解決策に比較してわずかであり、その際特に方法の実
施の際の連続的な処理ラインを実現することができる。

【００１７】 本発明によれば、滅菌のほとんど確実なコントロールを簡単な形式で実施する
ことができる。滅菌に関する確実な証拠を得るためには、プラズマの輝きを簡単
な光学的手段により監視するだけでよい。適当なガスにより低温プラズマを使用
することによって、プラスチックの容器又は物体を本発明による方法で滅菌する
ことも可能である。それはこの場合生ずる温度は一般に１５０℃よりも低いから
である。

【００１８】 本発明の有利な展開のこれらの及び別の特徴は従属請求項を含めた請求項から
だけでなしに、明細書及び図面からも明らかであり、その際個々の特徴は単独で
あるいは複数組み合わせて、本発明の実施形において及び他の分野において実現
されることができ、かつ有利な保護可能な構造をなすことができる。

【００１９】 実施例の説明 以下においては、容器を滅菌する本発明による方法を実施する装置の実施例を
図面によって説明する。

【００２０】 図１においては、容器２をプラズマ滅菌するための装置１の第１実施例が示さ
れている。周囲の雰囲気に対して閉鎖可能な室３（ここでは真空室）内で滅菌プ
ロセスが行われ、その際容器２は容器保持部としての円すい部４上に保持される
。円すい部４は外面に漏えい溝５を有しており、この漏えい溝はしたがって載着
している容器２の開口の内縁と円すい部４の外面との間に位置しており、たとえ
わずかではあっても、室３と容器２の内部との間のガス流動を可能にする。内部
が開いている円すい部４によって、供給導管７を介して室３の外部から、流量調
節器６により制御されて、ガスを容器２内に供給可能である。室３の外部には、
様式化されて、例えば電磁的な交番フィールドを生ぜしめるためのプラズマ源８
が示されており、更にガスを室３から吸出するためのポンプ９が存在している。

【００２１】 ここで使用される滅菌法は自体公知の物理的なプロセスに基づくものであって
、永久ガスからプラズマを生ぜしめ、その際ガスの原子が適当なエネルギ供給に
よって電子とイオンとの混合物に変換される。エネルギ供給はこの場合好ましく
は素粒子、特に電子、の電荷担体の、外部からプラズマ源８によりプラズマに供
給される電気的なフィールド内での加速によって、行われる。

【００２２】 図１による本発明の実施例及び後述する図２に示した実施例では、この場合選
択的なプラズマの励起が行われる。少なくとも一時的に方法ステップ中に生ぜし
められる容器２の内部及びそれを取り囲む室３内の互いに異なった圧力によって
、プラズマを意図的に内部か外部において励起することができる。圧力が過度に
わずかな場合には、プラズマ放電を維持するために充分な素粒子を励起若しくは
イオン化することができない。ガスの圧力が過度に大きい場合には、平均的な距
離長が過度にわずかであって、素粒子に２つの衝撃の間で充分に加速区間あるい
は加速時間を活性化あるいは励起ひいてはイオン化のために与えることができな
い。

【００２３】 図１に示した第１実施例においては、室３はポンプ９により、室３の内部のガ
ス圧力がプラズマの励起のために過度にわずかであるように、吸出される。室３
内においては、滅菌すべき容器２は、それが直接にその開口をもって形状結合で
円すい部４上に座着するように、保持されている。供給導管７を介して室３の外
部から、流量調節器６によって制御されて、例えば酸素、フィルタを通された空
気、水蒸気、過酸化水素蒸気、アルゴン、窒素、テトラフルオルメタン、六弗化
硫黄などから成る規定されたガス流が円すい部４の内部を通して容器２内に流れ
る。このガス流は、容器２内の圧力が大きくて、プラズマを励起することができ
るように、調整されている。

【００２４】 所望の圧力こう配を得るため、若しくは特定の圧力において規定されたガス交
換を図１の容器２内で得るために、円すい部４の外面の漏えい溝５を介してガス
若しくはプラズマの廃ガスが容器２から室３内に吸出される。円すい部４によっ
て流入するガス量及び漏えい溝５のコンダクタンスに関連して、この場合容器２
内のガスの圧力が調整可能である。この場合例えば弁により制御される漏えい溝
も可能である。室３内に漏えい溝５を通って流入する廃ガスは次いでポンプ９に
より、圧力比を維持するために、室３から吸出され、これによってプラズマは選
択的に、滅菌すべき容器２の内部においてだけ、生ぜしめられる。

【００２５】 この選択的な滅菌プロセスの特に有利な展開せしめられた構成においては、図
１に示した室３は、容器２内にガスを流入させることなしに、あるいは室３にガ
スを流入させることなしに、まず完全に吸出される。次いで流量調節器６が規定
されたガス流を生ぜしめるために開かれ、ガス流は滅菌すべき容器２内に流入し
て、有利にはプラズマ源８のマイクロ波放射によって、容器２の内部にプラズマ
を点じる。

【００２６】 所望の滅菌作用が容器２の内部において達成されると、必要に応じて、供給導
管７を通って流れるのと同一のガス若しくはガス混合物の規定されたガス流を、
あるいは場合によっては付加的な図示していない入口を通してガス流を、室３内
に入れることによって、なお室３内の圧力を増大させることができ、したがって
プラズマをここでも励起することができる。プラズマはこの場合容器２の内部に
おいて消え、容器外部の室３内で励起される。この方法ステップにより、容器２
は室３に面した外壁も滅菌することができる。

【００２７】 プラズマ形成が外方に飛び移るこの過程は次のことによって生ずる。すなわち
プラズマが外方に向かって遮へいされ、換言すれば放射されるエネルギを吸収し
、エネルギがこのプラズマの外方では、別のプラズマを励起するのに充分でなく
なることによって、生ずる。室３内の外部のプラズマは滅菌すべき容器２の内部
の分離されたガス雰囲気に対して遮へいされており、容器内部のプラズマの励起
を阻止する。しかしプラズマ源８のエネルギは最初室３内に放射され、次いで初
めて滅菌すべき容器２の壁を通して、場合により緩衝されて、容器２の内部に達
するので、室３内においてガス圧力がそのために充分である場合には、別の場合
に、プラズマが直ちに容器２の外面において生ずる。

【００２８】 図２に示した第２実施例においては、図１によって説明した原理が逆にされる
。しかしながら大体において作用が同じである構成部分には図１の場合と同じ符
号が付けられている。滅菌すべき容器２はこの場合直接に円すい部４を介してポ
ンプ１０により吸出されて、容器２内に真空が形成される。この実施例による滅
菌法の実施はところで次のようにして行われる。すなわち室３が滅菌ガス若しく
は滅菌ガス混合物をガス供給部１１によって満たされた後に、滅菌すべき容器２
が吸出されて、プラズマが電磁的なフィールド、有利にはマイクロ波フィールド
、の放射によって容器２の内部に励起されるのに対し、滅菌すべき容器２の外方
の室３内における圧力はプラズマのために過度に大きい（前述の説明を参照され
たい）。ガスはこの場合容器保持部の円すい部４における漏えい溝５を通って容
器２内に流入する。容器２内の廃ガスは今や円すい部４及び供給導管７を通して
ポンプ１０により吸出することができる。

【００２９】 引き続く方法ステップにおいおて、室３は容器２の外面の滅菌のために吸出さ
れて、プラズマが外部の室３内で点じる。このことは次のことによって行うこと
ができる。すなわち、新鮮ガス供給がガス供給部１１の流量調節器によりストッ
プされ、ガスが室３から円すい部４における漏えい溝５を介して次第に吸出され
て、室３内において相応する圧力が達成されることによって、行うことができる
。代替的にこのことは、ここには図示されていないポンプにより行うこともでき
、このポンプにより室３を付加的に排気することができる。

【００３０】 以上述べた実施例によって、比較的に簡単な装置における個々の容器の滅菌を
説明した。本発明による方法はしかしながら、少なくとも部分的に自動化された
経過の中に組み込むこともでき、その場合多数の容器が並んで連続的に、あるい
はバッチ方式で順次に、しかしその都度の処理ラインにより定められたサイクル
で、気密状態を維持しながら室３内に走入せしめられ、かつ室３から走出せしめ
られる。

【００３１】 図３及び４に示したこのような方法を実施する実施例の場合、容器２のための
若干の気密状態維持技術が記載され、これらの気密状態維持技術は周囲の雰囲気
と比較的に大きな容積の室３内の真空との間の大きな圧力飛躍を可能にする。こ
れは一般に、ドアあるいはスライダのような機械的な気密状態維持装置であるか
、あるいは区別して吸出される設備構成であることができ、後者の場合には永久
的に存在している開口を通して容器２が気密状態を維持して入れられ、その際開
口は、漏えいを最低限にするために、通すべき容器の輪郭に可及的に一致させて
おく。ポンプ構造はこの場合、真空設備の内部においてこの場合室３の一層大き
な容積内で必要な真空を達成するために、極端に強く構成しておかなければなら
ないが、その際図２に示した方法変化形との組み合わせの場合には、著しくわず
かなポンプ出力で充分である。それは容器２の小さな容積を吸出するだけでよい
からである。

【００３２】 図３に示した実施例においては、滅菌すべき容器２はラインから１つずつ鎖２
１のリンク２０に取り付けられ、鎖は転向ローラ２２を回って容器を室３（図１
及び２参照）内に搬送し、かつ室３から受け取る。更にリンク２０は、それが容
器２を圧力段（粗真空/高度真空）に対してシールするように、構成されている
。

【００３３】 明らかにするために、図３の右側部分には、鎖２１若しくはリンク２０内の容
器２の断面が示されている。鎖２１は、その幅を滅菌すべき容器２の直径に適合
せしめられている四角プロフィール２３の縦スリット内で案内され、この四角プ
ロフィールは個々の容器２の共通の吸出導管として役立ち、かつやはり圧力段に
対してシールを行う。この場合両方のシールエレメント、すなわち鎖２１及び四
角プロフィール２３は漏えい箇所を有しているので、ポンプ２４は充分なポンプ
出力を有していなければならない。本来の装置は粗真空で、あるいはそれどころ
か大気圧で運転することができる。

【００３４】 図４に示した多数の容器２を滅菌するための第２実施例においては、容器２の
プラズマ滅菌は、搬送ボックス３０に挿入されている容器群に対して行われる。
個々の容器２は例えば自動取り扱い装置により搬送ボックス３０内に差し込まれ
、搬送ボックスは例えば特殊鋼から成る直方体状の容器であることができ、その
カバー板には穴３１が打ち抜かれている。これらの穴３１の直径はこの場合次の
ように選ばれている。すなわち、穴３１内に差し込まれる円すい状の容器２（例
えばガラス又はプラスチックのアンプル）が穴をほぼシールするように、選ばれ
ている。

【００３５】 搬送ボックス３０の特殊鋼容器の底板はこの場合フランジ３２を有しており、
このフランジを介して、図１の構成に相応するガス供給部あるいは図２の構成に
よるポンプフランジとの連結が行われる。このように容器を装着された搬送ボッ
クス３０はところで、ここでは図示していないドア又は板弁を介して、室３をも
有している真空設備の前室内に気密状態を維持して、入れられ、ドアが閉じられ
、前室が吸出される。次いで真空設備内で前室から室３内への、あるいは吸出が
行われる相応する室範囲内への移送が行われる。吸出は、プラズマが点じること
ができる圧力範囲が達成されるまで、実施される。容器２を気密状態を維持して
出すことは、この場合、気密状態を維持して入れることと同じ形式で行われる。

【図面の簡単な説明】

【図１】 真空が生ぜしめられる室内に配置された容器を有する装置を概略的に示す。

【図２】 室内に配置され、その中に真空が生ぜしめられる容器を有する装置を概略的に
示す。

【図３】 滅菌すべき容器のための搬送装置の１実施例を概略的に示す。

【図４】 滅菌すべき容器のための搬送ボックスを有する搬送装置を概略的に示す。

【符号の説明】

１ 装置、 ２ 容器、 ３ 室、 ４ 円すい部、 ５ 漏えい溝、 ６ 流
量調節器、 ７ 供給導管、 ８ プラズマ源、 ９ ポンプ、 １０ ポンプ
、 １１ ガス供給部、 ２０ リンク、 ２１ 鎖、 ２２ 転向ローラ、
２３ 四角プロフィール、 ２４ ポンプ、 ３０ 搬送ボックス、 ３１ 穴
、 ３２ フランジ

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 ヨハネス ラウシュナーベル ドイツ連邦共和国 シュツツトガルト ア ウグステンシュトラーセ 97 (72)発明者 サーシャ ヘンケ ドイツ連邦共和国 ヴァイル デア シュ タット オーベレ タールシュトラーセ ５／２ (72)発明者 ヨハネス フォイクト ドイツ連邦共和国 レオンベルク シュテ ックホーフシュトラーセ 47 Ｆターム(参考） 4C058 AA25 BB06 EE22 EE23 EE26 KK06 KK27

Claims (14)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 電磁的な振動によって容器内あるいは物体にプラズマを励起
   する形式の容器又は物体を滅菌する方法において、 −プラズマ滅菌を次のように、すなわち容器（２）又は物体の壁に接触する種々
   の範囲においてプラズマの空間的及び又は時間的に選択的な励起が行われるよう
   に、実施する、 ことを特徴とする、容器又は物体を滅菌する方法。
2. 【請求項２】 −容器（２）を、少なくともほぼ真空を生ぜしめることのできる室（３）内に導
   き、 −容器（２）の内部に、室（３）から遮へいされた供給導管（７）を介して、プ
   ラズマの励起に適当なガスを導き、その際内部のガス圧力こう配を、ここでプラ
   ズマが励起されかつ所定の時間維持されるように、調整しかつ保つ、 ことを特徴とする、請求項１記載の方法。
3. 【請求項３】 −容器（２）の内部におけるガス圧力こう配及びプラズマを、室（３）内の圧力
   値よりも充分に高い圧力値によって、容器（２）から排ガスを室（３）内に所定
   量流出させかつ次いで室（３）から吸出しながら、維持する、 ことを特徴とする、請求項２記載の方法。
4. 【請求項４】 −第１の方法ステップで室（３）を排気し、かつ、 −第２の方法ステップでガスを容器（２）内に導入して、内部にプラズマを励起
   する、 ことを特徴とする、請求項２又は３記載の方法。
5. 【請求項５】 −第３の方法ステップでプラズマを励起するためのガスを室（３）内に導いて、
   室（３）内に、ひいては容器（２）の外面に、プラズマを励起すると同時に、容
   器（２）の内部のプラズマを消す、 ことを特徴とする、請求項４記載の方法。
6. 【請求項６】 −プラズマを励起するのに適したガスが導かれる室（３）内に容器（２）を導き
   、かつ、 −容器（２）の内部において、室（３）から遮へいされている供給導管（７）を
   介して、少なくとも部分的な排気を生ぜしめることができ、その際内部のガス圧
   力こう配を、ここでプラズマが励起されかつ所定の時間維持されるように、調整
   しかつ保つ、 ことを特徴とする、請求項１記載の方法。
7. 【請求項７】 −容器（２）の内部におけるガス圧力こう配及びプラズマを、室（３）内の圧力
   値よりも充分に低い圧力値によって、室（３）からガスを容器（２）内に所定量
   流入させかつ次いで容器（２）から吸出しながら、維持する、 ことを特徴とする、請求項６記載の方法。
8. 【請求項８】 −第１の方法ステップで室（３）にガスを供給し、かつ、 −第２の方法ステップで容器（２）を、室（３）からのガスの流入を介してプラ
   ズマの励起が内部で行われるまで、排気する、 ことを特徴とする、請求項６又は７記載の方法。
9. 【請求項９】 −第３の方法ステップで室（３）内へのガス供給をストップして、プラズマを室
   （３）内で、ひいては容器（２）の外面において励起すると同時に、容器（２）
   の内部のプラズマを消す、 ことを特徴とする、請求項８記載の方法。
10. 【請求項１０】 −容器（２）が室（３）内で、容器保持部として役立つ、内部が開いている円す
    い部（４）上に座着しており、その際円すい部（４）は、容器（２）が座着して
    いる範囲において外面に漏えい溝（５）を有しており、かつ内部において供給導
    管（７）を介して室（３）の外方に位置しているガス供給部（６）あるいはポン
    プ（１９）と接続可能であり、 −室（３）にポンプ（９）及び又はガス供給部（１１）が接続可能であり、かつ
    、 −室（３）の外部にプラズマ源（８）が取り付けられている、 ことを特徴とする、請求項１から９までのいずれか１項記載の方法を実施する装
    置。
11. 【請求項１１】 −漏えい溝（５）がガス流量に関して制御可能である、 ことを特徴とする、請求項１０記載の装置。
12. 【請求項１２】 −多数の容器（２）が、室（３）内への搬送のための鎖（２１）のリンク（２０
    ）に取り付け可能であり、その際容器保持部として、吸出レール又はガス供給レ
    ールとして役立つ四角プロフィール（２３）が配置されており、この四角プロフ
    ィール上で容器（２）がほとんど圧力密に所定の漏えい量をもって案内され、か
    つこの四角プロフィール（２３）は室（３）の外方に位置するガス供給部（６）
    又はポンプ（１０）と接続可能であり、 −室（３）にはポンプ（９）及び又はガス供給部（１１）が接続可能であり、か
    つ、 −室（３）の外部にプラズマ源（８）が取り付けられている、 ことを特徴とする、請求項１から９までのいずれか１項記載の方法を実施する装
    置。
13. 【請求項１３】 −多数の容器（２）が、室（３）内への搬送のための搬送ボックス（３０）の穴
    （３１）内に取り付け可能であり、その際容器（２）はその開口をもってほとん
    ど圧力密に所定の漏えい量をもって穴内に座着しており、かつ搬送ボックス（３
    ０）は底フランジ（３２）を介して室（３）の外方に位置しているガス供給部（
    ６）又はポンプ（１０）に接続可能であり、 −室（３）にはポンプ（９）及び又はガス供給部（１１）が接続可能であり、か
    つ、 −室（３）の外部にプラズマ源（８）が取り付けられている、 ことを特徴とする、請求項１から９までのいずれか１項記載の方法を実施する装
    置。
14. 【請求項１４】 −滅菌すべき容器（２）又は物体がガラス又はプラスチックから作られているこ
    とを特徴とする、請求項１から９までのいずれか１項記載の方法を実施するため
    の装置、あるいは請求項１０から１３までのいずれか１項記載の装置。