CN219895617U - 基站和清洁机器人系统 - Google Patents

Abstract

本公开提供了一种基站和清洁机器人系统。基站包括：清水箱、与清水箱连接的主供水管路、以及连接主供水管路的至少两个出水管路；其中，出水管路中分别设置有水流调节结构，以使出水管路的局部内径变小。由此，能够提高至少两个出水管路的出水量的均匀性，使多个出水管路的出水量较为一致。

Description

基站和清洁机器人系统

技术领域

本公开涉及智能家居技术领域，尤其涉及一种基站和清洁机器人系统。

背景技术

随着技术的发展，出现了各种各样的自移动设备，比如自移清洁设备等。自移清洁设备在接收到清洁指令时，可以自动地执行该清洁指令，完成清理工作，这不仅解放了劳动力，还节约了人力成本。

另外，自移清洁设备在完成特定清扫任务后，会回到基站清洗清洁组件或进行充电等。

实用新型内容

在实用新型内容部分中引入了一系列简化形式的概念，这将在具体实施方式部分中进一步详细说明。本公开的此部分并不意味着要试图限定出所要求保护的技术方案的关键特征和必要技术特征，更不意味着试图确定所要求保护的技术方案的保护范围。

本公开第一方面的实施例，提供了一种基站，包括：清水箱、与清水箱连接的主供水管路、以及连接主供水管路的至少两个出水管路；其中，出水管路上分别设置有水流调节结构，以使出水管路的局部内径变小。

进一步地，出水管路包括可拆卸连接的出水管和出水接头，出水管连接主供水管路和出水接头，水流调节结构设置在出水接头内。

进一步地，出水接头包括第一流道和第二流道，第一流道和第二流道之间通过水流调节结构连接，水流调节结构的内径小于第一流道内径，第一流道远离第二流道的端部设置有与出水管连接的进水端口，第二流道远离第一流道的端部设置有出水端口。

进一步地，第一流道与第二流道垂直设置或倾斜设置；水流调节结构的延伸方向与第一流道的延伸方向重合。

进一步地，基站设置有用于容纳自移清洁设备的容纳腔，容纳腔的腔壁开设有出水口，出水接头与基站连接，并穿设于出水口。

进一步地，出水接头穿设于容纳腔的侧壁和/或顶壁。

进一步地，出水管路的数量为两个，两个出水管路对应的出水接头穿设于容纳腔的顶壁；基站还包括位于容纳腔的底壁上的清洗盘，清洗盘包括与出水接头对应的导水部，导水部的顶部开设有导水槽，导水槽位于出水端口的下方。

进一步地，清洗盘还包括清洁腔和设置于清洁腔内的清洗部，清洁腔用于容纳脏污，清洗部用于与自移清洁设备的清洁元件干涉以将清洁元件上的脏污去除；其中，清洗盘与基站可拆卸连接。

进一步地，基站还包括污水箱，清洁腔的底壁上设置有污水槽，污水槽和污水箱通过污水管相连通。

本公开第二方面的实施例，提供了一种清洁机器人系统，包括：自移清洁设备；以及第一方面中任一项的基站。

上述说明仅是本公开技术方案的概述，为了能够更清楚了解本公开的技术手段，而可依照说明书的内容予以实施，并且为了让本公开的上述和其它目的、特征和优点能够更明显易懂，以下特举本公开的具体实施方式。

附图说明

本公开的下列附图在此作为本公开实施例的一部分用于理解本公开。附图中示出了本公开的实施例及其描述，用来解释本公开的原理。

附图中：

图1为根据本公开的一个可选实施例的自移清洁设备的结构示意图；

图2为图1所示实施例的一个视角的结构示意图；

图3为根据本公开的一个可选实施例的基站的结构示意图；

图4为图3所示实施例的一个视角的部分结构示意图；

图5为根据本公开的一个可选实施例的基站和清洗盘的结构示意图；

图6为图5所示实施例的一个视角的结构示意图；

图7为根据本公开的一个可选实施例的清洗盘的结构示意图；

图8为根据本公开的一个可选实施例的基站的出水管路的结构示意图；

图9为根据本公开的一个可选实施例的基站的另一个部分的结构示意图；

图10为根据本公开的一个可选实施例的出水接头的结构示意图；

图11为图10所示实施例的剖视图。

附图标记说明

100自移清洁设备，110机器主体，111前向部分，112后向部分，120感知系统，121确定装置，122缓冲器，140驱动系统，141驱动轮模块，142从动轮，150清洁系统，151干式清洁系统，152边刷，170人机交互系统，183清洁元件；

200基站，211容纳腔，2111安装槽，2112出水口，2113充电接触极片，2114补水接头，213清水箱，214污水箱，220清洗盘，2211清洁腔，2212污水槽，2213缺口，2214集水区，2215导向面，2216排污通道，222清洗部，223第一清洗凸起，2227连接端，2228自由端，223污水管，224导水部，2241导水槽，2242漏液口，2243第二清洁凸起，240出水管路，241出水管，242出水接头，2421第一流道，2422第二流道，2423进水端口，2424出水端口，2425安装孔，243水流调节结构，244三通阀。

具体实施方式

在下文的描述中，给出了大量具体的细节以便提供对本公开所提供的技术方案更为彻底的理解。然而，对于本领域技术人员而言显而易见的是，本公开所提供的技术方案可以无需一个或多个这些细节而得以实施。

应予以注意的是，这里所使用的术语仅是为了描述具体实施例，而非意图限制根据本公开的示例性实施例。如在这里所使用的，除非上下文另外明确指出，否则单数形式也意图包括复数形式。此外，还应当理解的是，当在本说明书中使用术语“包含”和/或“包括”时，其指明存在所述特征、整体、步骤、操作、元件和/或组件，但不排除存在或附加一个或多个其他特征、整体、步骤、操作、元件、组件和/或它们的组合。

现在，将参照附图更详细地描述根据本公开的示例性实施例。然而，这些示例性实施例可以多种不同的形式来实施，并且不应当被解释为只限于这里所阐述的实施例。应当理解的是，提供这些实施例是为了使得本公开的公开彻底且完整，并且将这些示例性实施例的构思充分传达给本领域普通技术人员。

如1图至图11所示，本公开的实施例提供了一种清洗盘220、基站200和清洁机器人系统，其中，清洁机器人系统包括自移清洁设备100和基站200，即基站200与自移清洁设备100配合使用。

进一步地，如图1和图2所示，自移清洁设备100可以包括机器主体110、感知系统120、控制模块、驱动系统140、清洁系统150、能源系统和人机交互系统170。可以理解的是，自移清洁设备100可以为自动清洁设备或满足要求的其他自移清洁设备100。自移清洁设备100是在无使用者操作的情况下，在某一待清洁区域自动进行清洁操作的设备。其中，当自移清洁设备100开始工作时，自移清洁设备100从基站200出发进行清洁任务。当自移清洁设备100完成清洁任务或其他需要中止清洁任务的情况时，自移清洁设备100可以返回基站200进行充电、和/或补水、和/或清洗、和/或集尘等操作。

如1图所示，机器主体110包括前向部分111和后向部分112，具有近似圆形形状(前后都为圆形)，也可具有其他形状，包括但不限于前方后圆的近似D形形状及前方后方的矩形或正方形形状。

如1图所示，感知系统120包括位于机器主体110上的位置确定装置121、设置于机器主体110的前向部分111的缓冲器122上的碰撞传感器、近距离传感器，设置于机器主体110下部的悬崖传感器，以及设置于机器主体110内部的磁力计、加速度计、陀螺仪、里程计等传感装置，用于向控制模块提供机器的各种位置信息和运动状态信息。位置确定装置121包括但不限于摄像头、激光测距装置(LDS，全称Laser Distance Sensor)。

如1图所示，机器主体110的前向部分111可承载缓冲器122，在清洁过程中驱动轮模块141推进自移清洁设备100在地面行走时，缓冲器122经由设置在其上的传感器系统，例如红外传感器，检测自移清洁设备100的行驶路径中的一个或多个事件，自移清洁设备100可通过由缓冲器122检测到的事件，例如障碍物、墙壁，而控制驱动轮模块141使自移清洁设备100来对事件做出响应，例如远离障碍物。

控制模块设置在机器主体110内的电路主板上，包括与非暂时性存储器，例如硬盘、快闪存储器、随机存取存储器，通信的计算处理器，例如中央处理单元、应用处理器，应用处理器根据激光测距装置反馈的障碍物信息利用定位算法，例如即时定位与地图构建(SLAM，全称Simultaneous Localization And Mapping)，绘制自移清洁设备100所在环境中的即时地图。并且结合缓冲器122上所设置传感器、悬崖传感器、磁力计、加速度计、陀螺仪、里程计等传感装置反馈的距离信息、速度信息综合判断自移清洁设备100当前处于何种工作状态、位于何位置，以及自移清洁设备100当前位姿等，如过门槛，上地毯，位于悬崖处，上方或者下方被卡住，尘盒满，被拿起等等，还会针对不同情况给出具体的下一步动作策略，使得自移清洁设备100有更好的清扫性能和用户体验。

如图2所示，驱动系统140可基于具有距离和角度信息例如x、y及θ分量的驱动命令而操纵机器主体110跨越地面行驶。驱动系统140包含驱动轮模块141，驱动轮模块141可以同时控制左轮和右轮，为了更为精确地控制机器的运动，优选驱动轮模块141分别包括左驱动轮模块和右驱动轮模块。左、右驱动轮模块沿着由机器主体110界定的横向轴设置。为了自移清洁设备100能够在地面上更为稳定地运动或者更强的运动能力，自移清洁设备100可以包括一个或者多个从动轮142，从动轮142包括但不限于万向轮。驱动轮模块141包括行走轮和驱动马达以及控制驱动马达的控制电路，驱动轮模块141还可以连接测量驱动电流的电路和里程计。驱动轮可具有偏置下落式悬挂系统，以可移动方式紧固，例如以可旋转方式附接到机器主体110，且接收向下及远离机器主体110偏置的弹簧偏置。弹簧偏置允许驱动轮以一定的着地力维持与地面的接触及牵引，同时自移清洁设备100的清洁元件183也以一定的压力接触地面。

能源系统包括充电电池，例如镍氢电池和锂电池。充电电池可以连接有充电控制电路、电池组充电温度检测电路和电池欠压监测电路，充电控制电路、电池组充电温度检测电路、电池欠压监测电路再与单片机控制电路相连。主机通过设置在机身侧方或者下方的充电电极与基站200连接进行充电。

人机交互系统170包括主机面板上的按键，按键供用户进行功能选择；还可以包括显示屏和/或指示灯和/或喇叭，显示屏、指示灯和喇叭向用户展示当前机器所处状态或者功能选择项；还可以包括手机客户端程序。对于路径导航型自移清洁设备100，在手机客户端可以向用户展示设备所在环境的地图，以及机器所处位置，可以向用户提供更为丰富和人性化的功能项。

清洁系统150包括湿式清洁系统，即自移清洁设备100可以为拖地机，或者，清洁系统150包括湿式清洁系统和干式清洁系统151，即自移清洁设备100可以为扫拖一体机。

如图2所示，本公开实施例所提供的干式清洁系统151可以包括滚刷、尘盒、风机、出风口。与地面具有一定干涉的滚刷将地面上的垃圾扫起并卷带到滚刷与尘盒之间的吸尘口前方，然后被风机产生并经过尘盒的有吸力的气体吸入尘盒。干式清洁系统151还可包括具有旋转轴的边刷152，旋转轴相对于地面成一定角度，以用于将碎屑移动到清洁系统150的滚刷区域中。

其中，湿式清洁系统可以包括：清洁组件、送水机构、储液箱等。其中，清洁组件可以设置于储液箱下方，储液箱内部的清洁液通过送水机构传输至清洁组件，以使清洁组件对待清洁平面进行湿式清洁。在本公开其他实施例中，储液箱内部的清洁液也可以直接喷洒至待清洁平面，清洁组件通过将清洁液涂抹均匀实现对平面的清洁。可以理解的是，自移清洁设备100设置有与储液箱连通的注水口，利用注水口，能够将自移清洁设备100外部的液体补充至储液箱中，以实现对储液箱的补水操作。

本公开实施例提供的清洁组件，包括设置于机器主体110上的运动机构(图中未示出)和清洁元件183，即整个清洁组件可以通过运动机构安装在机器主体110上，清洁组件随着机器主体110的移动而移动，以实现拖地功能。其中，运动机构用于驱动清洁元件183动作，如运动机构可以驱动清洁元件183升降、运动机构也可以驱动清洁元件183旋转，由此，可以根据清洁元件183是否与待清洁表面接触的需求，通过运动机构，即可实现清洁元件183的升降和旋转操作，以满足清洁元件183的不同功能需求，即能够实现清洁元件183的区分策略的处理，提高了自清洁设备的清洁性能，提高了清洁效率和使用体验。

其中，在自移清洁设备100的前进方向上，清洁元件183可以位于干式清洁系统151的后部，清洁元件183通常可以是织物、海绵等具有吸水性的柔性物质。在本方案中，清洁元件183可以为至少一个旋转的转盘，自移机器人储液箱中的水引导至清洁元件183，浸湿的清洁元件183通过旋转运动将地面上的污渍清除。

进一步地，当在自移清洁设备100移动的过程中，在一些不需要拖地的场景，如往返基站200、或者进行地毯清洁的情况下，可以利用控制模块控制运动机构181驱动清洁元件183升起，可以理解的是，清洁元件183升起可以为清洁元件183的最低下表面高于驱动轮的最低下表面，使得在该种情况下，驱动轮带动自移清洁设备100移动的过程中，清洁元件183不会与待清洁表面接触，由此可以避免在不需要拖地的场景下，清洁元件183与待清洁表面接触而使待清洁表面二次污染的情况，有利于提高自移清洁设备100的清洁性，提高清洁效率和使用体验。

进一步地，当在自移清洁设备100移动的过程中，在一些不需要拖地的场景，如往返基站200、或者进行地毯清洁的情况下，可以利用控制模块控制运动机构驱动清洁元件183升起，可以理解的是，清洁元件183升起可以为清洁元件183的最低下表面高于驱动轮的最低下表面，使得在该种情况下，驱动轮带动自移清洁设备100移动的过程中，清洁元件183不会与待清洁表面接触，由此可以避免在不需要拖地的场景下，清洁元件183与待清洁表面接触而使待清洁表面二次污染的情况，有利于提高自移清洁设备100的清洁性，提高清洁效率和使用体验。

当在自移清洁设备100移动的过程中，在一些需要拖地的场景，如对地面进行湿式处理的情况下，可以利用控制模块控制运动机构驱动清洁元件183下降，使清洁元件183的最低下表面与待清洁表面干涉接触，同时，利用控制模块控制运动机构驱动清洁元件183旋转，由此，使得驱动轮带动自移清洁设备100移动的过程中，清洁元件183会与待清洁表面接触干涉，以实现对待清洁表面的拖地操作。

如图3和图4所示，本公开提供的基站200，包括清洗盘220，清洗盘220用于对自移清洁设备100的清洁元件183进行清洁，因此，当自移清洁设备100利用清洁元件183完成拖地操作后，可以将自移清洁设备100停靠在基站200上，利用清洗盘220对脏污的清洁元件183进行清洁操作。

如图5、图6和图7所示，在本公开提供的一些可能实现的实施例中，清洗盘220与基站200可拆卸连接，由此，可以将清洗盘220整体上从基站200上拆卸下来，对清洗盘220进行清洗，有利于提高清洗盘220清洗的彻底性，避免清洗盘220清洗不彻底、或不方便清洗而使脏污长时间残留在清洗盘220上存在产生异味的可能性，有利于提高清洗盘220的清洗体验，提高用户使用的满意度。同时，清洗盘220与基站200可拆卸连接，有利于提高维修效率。

其中，如图5、图6、图7和图8所示，清洗盘220包括清洁腔2211、以及设置于清洁腔2211内部的清洗部222，清洗部222用于与自移清洁设备100的清洁元件183干涉以将清洁元件183上的脏污去除，由此实现对清洁元件183的清洁操作，如当清洁元件183为拖盘时，通过拖盘与清洁腔2211内的清洗部222干涉实现对拖盘的清洗操作。由于清洁腔2211用于容纳脏污，使得清洗部222将清洁元件183上的脏污去除后可以聚集在清洁腔2211内。

通过清洗盘220设置为与基站200可拆卸连接，使得清洗盘220作为一个整体能够与基站200进行可拆卸连接，由此用户可以根据需求将清洗盘220安装在基站200上，或者从基站200上拆卸下来。如用户可以将整个清洗盘220从基站200上拆卸下来，便于对清洗盘220进行清洗，提高清洗盘220清洗的便利性，并能够提高清洗盘220清洗的彻底性，能够避免脏污长时间聚集或残留在清洁腔2211内而产生异味，有利于提高用户使用的满意度。

而相关技术中的基站，由于清洗后的脏污会聚集在基站的污水槽内后排出，即使污水槽内的脏污排出，基站的污水槽内仍会残留脏污流痕和残渣，长时间后仍会产生异味，同时，由于污水槽是开设在基站上的，不方便清洗，由此，异味会长时间存在，影响用户的使用体验。

而本公开中，由于能够将整个清洗盘220从基站200上拆卸下来，由此，可以对整个清洗盘220进行清洗，使得清洗部222、清洁腔2211都较为清洁，大大提高了清洗盘220清洁的彻底性，进而能够避免脏污长时间聚集或残留在清洁腔2211内而产生异味的情况，能够提升用户的使用体验，同时，本公开提供的清洗盘220在对清洁元件183进行清洗的过程中，不会有脏污残留在基站200上，确保了基站200的清洁性，因此，避免了脏污长时间残留在基站200上使基站200产生异味的可能性。

可以理解的是，当需要对自移清洁设备100的清洁元件183进行清洗操作时，可以将清洗盘220安装在基站200上即可。

进一步地，可以通过卡接结构、限位结构、螺纹结构、榫卯结构、磁吸结构等实现清洗盘220与基站200的可拆卸连接。其中，清洗部222可以通过粘结、焊接、或其他结构连接在清洗盘220的清洁腔2211内，或者，清洗部222可以与清洁腔2211的腔壁一体成型，如清洗部222可以与清洗盘220一体成型。其中，清洗部222去除的清洁元件183上的脏污可以包括污液、毛发、固体残渣等。

在本公开提供的一些可能实现的实施例中，基站200包括用于容纳自移清洁设备100的容纳腔211，当自移清洁设备100的清洁元件183脏污需要清洗时，至少部分自移清洁设备100可以停靠在基站200的容纳腔211内，以利用清洗盘220对清洁元件183进行清洗操作。

其中，清洗盘220安装在容纳腔211的底壁上，使得自移清洁设备100容纳在基站200的容纳腔211内时，位于容纳腔211底部的清洗盘220可以对位于机器主体110底部的清洁元件183进行清洗操作。

其中，如图5所示，容纳腔211的底壁上设置有安装槽2111，清洗盘220的外缘形状与安装槽2111的形状相匹配，清洗盘220可受限于安装槽2111内以对清洗盘220相对于基站200在水平方向的运动进行限位。由此，通过合理设置安装槽2111的形状和清洗盘220外缘的形状，使得清洗盘220放置在安装槽2111内，如清洗盘220由安装槽2111的上方插入安装槽2111，即可实现整个清洗盘220与基站200的安装，当清洗盘220由安装槽2111的上方取出，即可实现整个清洗盘220与基站200的拆卸，操作简单，使用方便，且简化了卡接结构、限位结构、螺纹结构、榫卯结构、磁吸结构等连接清洗盘220和基站200的结构的设置，有利于降低成本。

如图5和图6所示，在本公开提供的一些可能实现的实施例中，清洁腔2211的底壁上设置有位于清洁腔2211内部的污水槽2212，污水槽2212的槽底可以低于清洁腔2211的底壁的上表面，使得清洗部222将清洁元件183上的脏污去除后，脏污在重力的作用下会聚集在污水槽2212内。其中，基站200还包括污水管223，污水管223的一端延伸至该污水槽2212内，具体地，污水管223的第一端与污水槽2212连通，污水管223的第二端延伸至清洁腔2211的外部。由此，利用污水管223能够将污水槽2212内的脏污排出，进而能够及时将清洁腔2211内的脏污排出，使得清洁腔2211可以继续容纳脏污，以实现对清洁元件183的继续清洗，有利于提高清洗效果。同时，能够避免清洁腔2211内的脏污未及时排出而溢出造成二次污染，有利于提高用户使用的满意度。在本公开实施例中，污水管223可由弹性材质构成，便于清洗盘220的拆卸。

如图6所示，在上述实施例中，清洁腔2211的侧壁开设有缺口2213，即缺口2213开设在清洗盘220上，污水管223的第二端通过缺口2213延伸至清洁腔2211的外部。其中，基站200包括污水箱214，污水管223的第二端与污水箱214连通，可以将脏污收集在污水箱214内。可以理解的是，连通污水管223和污水箱214的管路上可以设置水泵，以实现污水的收集。

其中，如图3所示，基站200的污水箱214可以位于容纳腔211的上方，利用污水管223的第二端可以便利地将污水管223与污水箱214连通，进而通过污水管223将污水槽2212与位于容纳腔211上方的污水箱214连通，由此，可以将清洗盘220的清洁腔2211内的污水及时收集在污水箱214内。可以理解的是，在另一些可能实现的实施例中，污水管223的第二端也可以延伸至基站200的外部，直接与排污管道连通。具体地，污水管223设置为弯折结构，与污水管223的第二端连接的部分向上弯折，以使污水管223能够可靠与污水箱214连通。

其中，污水管223可以通过粘结剂粘结在清洗盘220的缺口2213处，或者，污水管223可以通过焊接的方式焊接在清洗盘220的缺口2213处，或者，污水管223可以与清洗盘220一体成型。

如图5、图7和图7所示，在本公开提供的一些可能实现的实施例中，清洗部222设置于清洁腔2211的底壁上，并凸出于清洁腔2211的表面，清洗部222包括连接端2227和自由端2228，连接端2227与清洁腔2211的侧壁连接，自由端2228延伸至污水槽2212的周侧，即清洗部222可以理解为清洗筋。清洗部222的顶部设置有第一清洗凸起2223，由此，利用清洗部222顶部的第一清洗凸起2223与自移清洁设备100的清洁元件183干涉，能够将清洁元件183上的脏污去除。

由于清洗部222的连接端2227与清洁腔2211的侧壁连接，清洗部222的自由端2228延伸至污水槽2212的周侧，使得清洗部222同时起到了良好的引导作用，利用清洗部222能够将脏污引导至污水槽2212内，进而有利于提高清洗盘220排污效率，提高清洗盘220的清洗效率。其中，清洗部222凸出于清洁腔2211的表面，使得清洗部222上的第一清洗凸起2223能够可靠与清洁元件183干涉，以确保良好的清洁效果。

其中，清洗部222的数量为至少两个，如清洗部222的数量为两个、三个、四个或多个，通过合理设置清洗部222的数量，能够确保清洗部222的第一清洗凸起2223与清洁元件183具有足够的接触面积，以确保良好的清洁效果，同时，能够确保清洁腔2211内具有足够的空间供脏污顺畅流通至污水槽2212，以确保良好的清洗效率。

可以理解的是，在对清洁元件183进行清洗过程中，清洁元件183与第一清洗凸起2223干涉，同时，自移清洁设备100的运动机构驱动清洁元件183旋转，使得整个清洁元件183做旋转运动，以循环与第一清洗凸起2223干涉，进而实现对清洁元件183的清洗操作。

如图5、图6和图7所示，在本公开提供的一些可能实现的实施例中，清洗盘220还包括：导水部224，导水部224设置于清洁腔2211的内底壁上并凸出于清洁腔2211的表面，即导水部224可以理解为导水筋，导水部224的顶部开设有导水槽2241，导水槽2241与基站200上的出水口2112连通，导水槽2241用于容纳清洁液并能够与清洁元件183干涉。由此，清洁液从基站200的出水口2112流入导水槽2241，当清洁元件183与导水槽2241干涉，能够利用导水槽2241中的清洁液将自身蘸湿，然后清洁元件183与清洗部222干涉，即可实现对清洁元件183的清洁，这样的设置，有利于提高清洁元件183的清洁效果。其中，导水部224凸出于清洁腔2211的表面，使得导水部224上的导水槽2241能够可靠与清洁元件183干涉，以确保导水槽2241的水能够顺利被清洁元件183蘸取。

其中，导水部224的数量为至少两个，如导水部224的数量为两个、三个、四个或多个，通过合理设置导水部224的数量，能够确保导水部224的导水槽2241内的清洁液较为均匀、全面地将清洁元件183蘸湿。

可以理解的是，在对清洁元件183进行清洗过程中，清洁元件183与导水部224的导水槽2241干涉，同时，自移清洁设备100的运动机构驱动清洁元件183旋转，使得整个清洁元件183做旋转运动，以循环与导水槽2241干涉，进而使得清洁元件183能够均匀被蘸湿，蘸湿后的清洁元件183与清洗部222干涉以提高清洗效果。

如图3和图4所示，其中，基站200包括清水箱213，清水箱213位于容纳腔211的上方用于容纳清洁液，出水口2112与清水箱213连通，通过出水口2112可以将清水箱213中的清洁液输入至导水槽2241内。其中，出水口2112可以位于容纳腔211的顶部，出水口2112与导水部224的导水槽2241正对，如此，通过阀等部件控制出水口2112的开闭情况，即可使清水箱213中的清洁液在重力作用下输入至导水槽2241内。可以理解的是，出水口2112也可以位于容器腔的侧壁，通过管路连通出水口2112和导水槽2241，将清洗箱中的清洁液流入导水槽2241内。

如图8所示，在本公开提供的一些可能实现的实施例中，基站200还包括与清水箱213连接的主供水管路、以及连接主供水管路的至少两个出水管路240，出水管路240与出水口2112连接，如图4和图8所示，以基站200上的出水口2112的数量为两个、出水管路240的数量也为两个为例举例说明，两个出水管路240分别与两个出水口2112连接，由于出水口2112位于清洗盘220的导水槽2241的正上方，由此，利用主供水管路、两个出水管路240，能够将清水箱213中的清洁液分别输送至清洗盘220的两个导水槽2241内。

也就是说，本公开利用一个主供水管路连接清水箱213和两个出水管路240连通，并使两个出水管路240分别与基站200上的两个出水口2112连通，将清水箱213的出水通路由一路分为多路，进而能够将清水箱213中的清洁液分别引导至清洗盘220的两个导水槽2241内。具体地，基站200还包括多路阀，通过多路阀连通主供水管路和至少两个出水管路240。如当出水管路240的数量为两个时，可以利用三通阀244连通主供水管路和两个出水管路240。

通常情况下，由于制造误差或出水管路长度差异会造成两个出水管路的出水量不均匀。为此，本公开实施例提供的基站200，通过在每个出水管路240中分别设置有水流调节结构243，可以理解的是，在出水管路240中设置水流调节结构243，能够使出水管路240的局部内径变小，而出水管路240中的局部内径突然变小会使所在出水管路240的局部区域出水压力升高，而两个出水管路240同时与主供水管路连接，进而能够提高多个出水管路240的出水量的均匀性，使多个出水管路240的出水量较为一致，确保良好的出水效果。需要说明的是，多个出水管路240的出水量较为一致，可以理解为多个出水管的出水量的偏差较小，或近似相等。

具体地，本公开实施例中的出水管路240的数量可以与清洗盘220中的导水部224的数量相同，使得每个出水管路240为导水槽2241供水。由此，利用水流调节结构243使多个出水管路240的出水量较为一致，能够确保流入清洗盘220的多个导水槽2241中的液体流量大致相同，这样，在自移清洁设备100的清洁元件183与导水槽2241干涉且旋转过程中与，使得清洁元件183能够均匀地蘸取液体，提高清洁元件183蘸水的均匀性，进而提高清洗盘220的清洗效果。

需要说明的是，至少两个出水管路240可以为两个出水管路240、三个出水管路240、四个出水管路240、或其他数量，也就是说，基站200上的出水口2112的数量可以为两个或两个以上，通过对应数量的出水管路240将对应的出水口2112与主供水管路连通，并在每个出水管路240中设置水流调节结构243，进而能够使多个出水口2112的出水量较为一致，确保良好的出水效果。可以理解的是，水流调节结构243也可以用于其他出水装置上，以提高其他出水装置的多个出水口的均匀性。其中，多个出水口2112可以均用于为清洗盘220的导水槽2241供水，在其他实施例中，多个出水口2112中的一部分可以用于为清洗盘220的导水槽2241供水，多个出水口2112中的另一部分可以具有其他作用，具体地，多个出水口2112可以位于容纳腔211的顶壁和/或侧壁上，如多个出水口2112可以均位于容纳腔211的顶壁或侧壁上，或者，多个出水口2112可以同时分布在容纳腔211的顶壁和侧壁上。

如图8和图9所示，在本公开提供的一些可能实现的实施例中，出水管路240包括可拆卸连接的出水管241和出水接头242，出水管241连接主供水管路和出水接头242，水流调节结构243设置在出水接头242内。

由于在实际产品中，通常情况下，出水接头242由硬质材料构成，因此在加工工艺上可以产生管路内径突变的效果，而出水管241通常是由软质材料构成，工艺上难以产生管路内径突变的效果，进而将水流调节结构243设置在出水接头242内，能够顺利实现水流调节结构243的设置，便于水流调节结构243加工，易于实现。可以理解的是，在其他实施例中，也可以将水流调节结构243设置在出水管中。

其中，通过将出水接头242与出水管241可拆卸连接，方便将出水接头242从出水管241上拆卸下来进行维修或更换，有利于提高维修效率，降低维护成本。

如图10和图11所示，在上述实施例中，出水接头242包括第一流道2421和第二流道2422，第一流道2421和第二流道2422之间通过水流调节结构243连接，水流调节结构243的内径小于第一流道2421的内径，第一流道2421远离第二流道2422的端部设置有与出水管连接的进水端口2423，第二流道2422远离第一流道2421的端部设置有出水端口2424。

也就是说，将水流调节结构243设置在出水接头242的第一流道2421和第二流道2422之间，其中，第一流道2421和第二流道2422的内径尺寸可以相同，清水箱213中的液体经主供水管路、出水管、出水接头242的进水端口2423流入第一流道2421，经水流调节结构243、第二流道2422经出水端口2424排出，由于第一流道2421和第二流道2422的径向尺寸相等，如第一流道2421和第二流道2422的内径相等，而水流调节结构243的内径小于第一流道2421的内径，因此，液体在流经水流调节结构243的过程中，会使出水接头242的内部局部区域出水压力升高，而多个出水管路240同时与主供水管路连接，进而能够提高多个出水管路240对应的出水接头242的出水量的均匀性，使多个出水接头242的出水量较为一致。

在上述实施例中，第一流道2421与第二流道2422垂直设置或倾斜设置，即出水接头242的进水端口2423和出水端口2424不在同一直线上，即流体在出水接头242的内部其流向会发生转变，由此，与出水接头242内部的水流调节结构243相配合，能够可靠提高出水接头242的局部出水压力，使得局部出水压力能够明显提高，进而提高多个出水接头242之间的出水量的均匀性。具体地，如图11所示，第一流道2421和第二流道2422垂直设置，可以理解的是，其他示例中，第一流道2421和第二流道2422也可以倾斜设置，如第一流道2421和第二流道2422的倾斜角度可以为大于90°小于160°，如二者的倾斜角度可以为100°、120°、150°、或其他数值。

其中，水流调节结构243的延伸方向与第一流道2421的延伸方向重合，即液体由出水接头242的进水端口2423流入，经第一流道2421流向水流调节结构243的过程中，流向不会发生改变，在水流调节结构243流向第二流向的过程中，流向发生改变，然后由出水端口2424排出。该种设置，在提高各个出水端口2424出水量均匀性的情况下，能够确保良好的出水效率。

如图4所示，在本公开提供的实施例中，基站200用于容纳自移清洁设备100的容纳腔211的腔壁上开设有出水口2112，出水接头242与基站200连接，并穿设于出水口2112，由此，利用出水接头242暴露在容纳腔211的出水端口2424，能够便利地将清水箱213中的清洁液引导至容纳腔211内，以输送至满足要求的位置，如利用出水接头242将清水箱213中的清洁液输送至清洗盘220的导水槽2241内，或者，为自移清洁设备100供水。

其中，出水接头242可以通过可拆卸地方式安装在基站200上，如图10所示，出水接头242上设置有安装孔2425，螺栓穿过安装孔2425与基站200上的螺纹孔连接，即可将出水接头242可靠地安装在基站200上。

清洗盘进一步地，出水接头242穿设于容纳腔211的侧壁和/或顶壁，如此，可以根据需求，合理设置出水接头242的位置，以满足出水接头242为不同部件进行供水的可能性，扩充使用范围。可以理解的是，多个出水接头242可以同时穿设于容纳腔211的侧壁或顶壁，或者，多个出水接头242的一部分穿设于容纳腔211的侧壁，另一部分穿设于容纳腔211的顶壁。

在上述实施例中，出水管路240的数量为两个，两个出水管路240对应的出水接头沿基站200的纵向间隔分布，并穿设于容纳腔211的顶壁，其中，基站200的纵向如图4中的X所示。

清洗盘220的导水部224的数量为两个，每个导水部224对应一个出水接头242，其中，导水部224顶部开设的导水槽2241位于出水端口2424的下方，由此，清水箱213中的液体经出水管、出水接头242的出水端口2424后，在重力的作用下能够直接落入清洗盘220的导水槽2241内，结构简单，供水方便。

在本公开提供的一些可能实现的实施例中，如图5和图6所示，清洗盘220的导水部224与清洗部222间隔分布，清洗部222和导水部224中相邻的两个之间形成集水区2214，即可以是相邻的两个清洗部222之间形成集水区2214，也可以是相邻的两个导水部224之间形成集水区2214，也可以是相邻的一个清洗部222和一个导水部224形成集水区2214。通过将污水槽2212位于一个集水区2214内，清洁腔2211的底壁上设置有排污通道2216，污水槽2212通过排污通道2216与各个集水区2214连通，进而利用排污通道2216的导向作用，能够将各个集水区2214的脏污引导至污水槽2212内，由此，能够提高清洗盘220收集污水的快速性和彻底性，有利于提高清洗盘220的排污效率，进而提高清洗效率。

如图5所示，在上述实施例中，位于集水区2214内的清洁腔2211的底壁设置为导向面2215，导向面2215为倾斜平面或倾斜曲面，由此，在导向面2215的引导下，能够使各个集水区2214的脏污较为快速、较为彻底地引导至污水槽2212内，提高清洗盘220的排污效率和排污效果，进而提高清洗效率。

进一步地，导向面2215可以为倾斜平面或倾斜曲面，导向面2215的倾斜角度可以为大于0°小于等于30°，如导向面2215的倾斜角度可以为5°、10°、20°、30°或其他数值，具体地，导向面2215的倾斜角度可以大于等于8°，如每个集水区2214内的导向面2215可以由不低于8°的圆锥面构成。

如图7所示，在本公开提供的一些可能实现的实施例中，导水部224上开设有与导水槽2241连通的漏液口2242，由于清洁液进入导水部224的导水槽2241后，自移清洁设备100的清洁元件183无法将导水槽2241中的清洁液蘸取彻底，存在导水槽2241内残留清洁液的情况，通过在导水部224上开设与导水槽2241连通的漏液口2242，使得导水槽2241内剩余的清洁液可以从漏液口2242排出，能够避免导水槽2241中长时间残留液体而产生异味的情况，进而有利于提高导水槽2241的清洁性。可以理解的是，在将清洗盘220从基站200上取下来进行清洗的过程中，也可以对导水部224和清洗部222进行清洗。

其中，漏液口2242与导水槽2241的槽底连通，使得导水槽2241中的残留液体能够经漏液口2242较为彻底的排出，进而能够提高导水槽2241排液的彻底性。

其中，导水槽2241内还设置有第二清洗凸起，由此，在清洁元件183与导水槽2241干涉蘸取导水槽2241内的清洁液时，清洁元件183能够同时与第二清洁凸起2243干涉进行清洗操作，进而提高清洗效率和清洗效果。

其中，如图4所示，基站200的容纳腔211内还设置有补水接头2114，补水接头2114的入口与清水箱213连接，补水接头2114的出口用于与自移清洁设备100的注水口连接，以实现对自移清洁设备100的补水操作。

其中，基站200上还设置有充电对接组件，充电对接组件包括位于容纳腔211内的充电接触极片2113，当自移清洁设备100停靠在基站200的容纳腔211内时，自移清洁设备100的充电极片与基站200的充电接触极片2113对接，以实现对自移清洁设备100的充电操作。

本公开已经通过上述实施例进行了说明，但应当理解的是，上述实施例只是用于举例和说明的目的，而非意在将本公开限制于所描述的实施例范围内。此外本领域技术人员可以理解的是，本公开并不局限于上述实施例，根据本公开的教导还可以做出更多种的变型和修改，这些变型和修改均落在本公开所要求保护的范围以内。本公开的保护范围由附属的权利要求书及其等效范围所界定。

Claims (10)

1.一种基站，其特征在于，包括：

清水箱、与所述清水箱连接的主供水管路、以及连接所述主供水管路的至少两个出水管路；

其中，所述出水管路上分别设置有水流调节结构，以使所述出水管路的局部内径变小。

2.根据权利要求1所述的基站，其特征在于，

所述出水管路包括可拆卸连接的出水管和出水接头，所述出水管连接所述主供水管路和所述出水接头，所述水流调节结构设置在所述出水接头内。

3.根据权利要求2所述的基站，其特征在于，

所述出水接头包括第一流道和第二流道，所述第一流道和所述第二流道之间通过所述水流调节结构连接，所述水流调节结构的内径小于所述第一流道内径，所述第一流道远离所述第二流道的端部设置有与所述出水管连接的进水端口，所述第二流道远离所述第一流道的端部设置有出水端口。

4.根据权利要求3所述的基站，其特征在于，

所述第一流道与所述第二流道垂直设置或倾斜设置；

所述水流调节结构的延伸方向与所述第一流道的延伸方向重合。

5.根据权利要求3所述的基站，其特征在于，

所述基站设置有用于容纳自移清洁设备的容纳腔，所述容纳腔的腔壁开设有出水口，所述出水接头与所述基站连接，并穿设于所述出水口。

6.根据权利要求5所述的基站，其特征在于，

所述出水接头穿设于所述容纳腔的侧壁和/或顶壁。

7.根据权利要求6所述的基站，其特征在于，

所述出水管路的数量为两个，两个所述出水管路对应的所述出水接头穿设于所述容纳腔的顶壁；

所述基站还包括位于所述容纳腔的底壁上的清洗盘，所述清洗盘包括与所述出水接头对应的导水部，所述导水部的顶部开设有导水槽，所述导水槽位于所述出水端口的下方。

8.根据权利要求7所述的基站，其特征在于，

所述清洗盘还包括清洁腔和设置于所述清洁腔内的清洗部，所述清洁腔用于容纳脏污，所述清洗部用于与所述自移清洁设备的清洁元件干涉以将所述清洁元件上的脏污去除；

其中，所述清洗盘与所述基站可拆卸连接。

9.根据权利要求8所述的基站，其特征在于，

所述基站还包括污水箱，所述清洁腔的底壁上设置有污水槽，所述污水槽和所述污水箱通过污水管相连通。

10.一种清洁机器人系统，其特征在于，包括：自移清洁设备；以及如权利要求1至9中任一项所述的基站。