CN220344321U - 清洗盘、基站和清洁机器人系统 - Google Patents

Abstract

本公开提供了一种清洗盘、基站和清洁机器人系统。清洗盘包括：清洁腔、以及设置于清洁腔内的清洗部，清洗部用于与自移清洁设备的清洁元件干涉以将清洁元件上的脏污去除，清洁腔用于容纳脏污；其中，清洗盘设置为与基站可拆卸连接。由此，能够将整个清洗盘从基站上拆卸下来，可以对整个清洗盘进行清洗，使得清洗部、清洁腔都较为清洁，提高了清洗盘清洁的彻底性，能够避免脏污长时间聚集或残留在清洁腔内而产生异味的情况。

Description

清洗盘、基站和清洁机器人系统

技术领域

本公开涉及智能家居技术领域，尤其涉及一种清洗盘、基站和清洁机器人系统。

背景技术

随着技术的迭代更新与发展，自移清洁设备已经进入到普通家庭生活当中，如并逐渐实现了普及。在当前的自移清洁设备中，拖地机、扫拖一体机因具备拖地功能，广受人们喜爱。另外，自移清洁设备在完成一定清扫任务或清扫指定时间后等，可以停靠基站对清洁元件进行清洗。

实用新型内容

在实用新型内容部分中引入了一系列简化形式的概念，这将在具体实施方式部分中进一步详细说明。本公开的此部分并不意味着要试图限定出所要求保护的技术方案的关键特征和必要技术特征，更不意味着试图确定所要求保护的技术方案的保护范围。

本公开第一方面的实施例，提供了一种清洗盘，应用于清洗自移清洁设备的基站，清洗盘包括：清洁腔、以及设置于清洁腔内的清洗部，清洗部用于与自移清洁设备的清洁元件干涉以将清洁元件上的脏污去除，清洁腔用于容纳脏污；其中，清洗盘设置为与基站可拆卸连接。

进一步地，基站包括用于容纳自移清洁设备的容纳腔，容纳腔的底壁上开设有安装槽，清洗盘的外缘形状与安装槽的形状相匹配，清洗盘可受限于安装槽内以对清洗盘相对于基站在水平方向的运动进行限位。

进一步地，清洁腔内设置有污水槽，设置于基站上的污水管的一段延伸至该污水槽。

进一步地，清洁腔的侧壁开设有缺口，污水管穿过该缺口固定于清洗盘上。

进一步地，清洗部设置于清洁腔的底壁上，并凸出于清洁腔的底壁表面，清洗部包括连接端和自由端，连接端与清洁腔的侧壁连接，清洗部的顶部设置有第一清洗凸起；其中，清洗部的数量为至少两个。

进一步地，清洗盘还包括：导水部，导水部设置于清洁腔的底壁上，并凸出于清洁腔的表面，导水部的顶部开设有导水槽，导水槽与基站上的出水口连通，导水槽用于容纳清洁液并能够与清洁元件干涉；其中，导水部的数量为至少两个。

进一步地，导水部与清洗部间隔分布，导水部的第一端与清洁腔的侧壁连接，清洗部和导水部中相邻的两个之间形成集水区，污水槽位于一个集水区内，清洁腔的底壁上开设有排污通道，污水槽通过排污通道与各个集水区连通。

进一步地，位于集水区内的清洁腔的底壁设置为导向面，导向面为倾斜平面或倾斜曲面。

进一步地，导水部上开设有与导水槽连通的漏液口，漏液口与导水槽的槽底连通；导水槽内还设置有第二清洗凸起。

进一步地，清洗部包括第一清洗部，第一清洗部的顶部由连接端至自由端的方向设置有刮水板，第一清洗凸起位于刮水板的同一侧。

进一步地，清洗部还包括第二清洗部，第二清洗部位于两个第一清洗部之间，刮水板位于第一清洗部远离第二清洗部的一侧。

进一步地，第二清洗部包括与清洗腔的侧壁连接的主支、以及与主支连接的两个分支，分支远离主支的端部和邻近的第一清洗部的自由端之间形成与排污通道连通的第一开口。

进一步地，两个导水部分布在两个第一清洗部之间，并位于第一清洗部远离第二清洗部的一侧，导水部的第二端与邻近的第一清洗部的自由端之间形成与排污通道连通的第二开口；其中，污水槽位于两个导水部之间。

进一步地，清洗盘还包括：过滤装置，设置在污水槽内，位于污水管的周侧。

进一步地，清洗盘还包括：液位检测装置，设置于污水槽内，用于检测污水槽内的液位高度；其中，液位检测装置包括设置于过滤装置上的浮子组件，浮子组件包括在液体作用下浮于液体表面的浮子本体；非接触式感应元件和非接触式被感应元件中的一个设置于浮子本体上，另一个设置于基站上，当过滤装置设置于污水槽内，且污水槽内液体表面处于特定范围时，非接触式感应元件可以感应到非接触式被感应元件。

本公开的第二方面，提供了一种基站，包括第一方面中任一项的清洗盘。

本公开的第三方面，提供了一种清洁机器人系统，包括：自移清洁设备；以及第二方面的基站。

上述说明仅是本公开技术方案的概述，为了能够更清楚了解本公开的技术手段，而可依照说明书的内容予以实施，并且为了让本公开的上述和其它目的、特征和优点能够更明显易懂，以下特举本公开的具体实施方式。

附图说明

本公开的下列附图在此作为本公开实施例的一部分用于理解本公开。附图中示出了本公开的实施例及其描述，用来解释本公开的原理。附图中：

图1为根据本公开的一个可选实施例的自移清洁设备的结构示意图；

图2为图1所示实施例的一个视角的结构示意图；

图3为根据本公开的一个可选实施例的基站的结构示意图；

图4为图3所示实施例的一个视角的部分结构示意图；

图5为根据本公开的一个可选实施例的基站和清洗盘的结构示意图；

图6为图5所示实施例的一个视角的结构示意图；

图7为根据本公开的一个可选实施例的清洗盘的结构示意图；

图8为图7所示实施例的一个视角的结构示意图。

附图标记说明

100自移清洁设备，110机器主体，111前向部分，112后向部分，120感知系统，121确定装置，122缓冲器，140驱动系统，141驱动轮模块，142从动轮，150清洁系统，151干式清洁系统，152边刷，170人机交互系统，183清洁元件；

200基站，211容纳腔，2111安装槽，2112出水口，2113充电接触极片，2114补水接头，213清水箱，214污水箱，220清洗盘，2211清洁腔，2212污水槽，2213缺口，2214集水区，2215导向面，2216排污通道，222清洗部，2221第一清洗部，2222第二清洗部，2223第一清洗凸起，2224刮水板，2225主支，2226分支，2227连接端，2228自由端，223污水管，224导水部，2241导水槽，2242漏液口，2243第二清洁凸起，225过滤装置，226液位检测装置

具体实施方式

在下文的描述中，给出了大量具体的细节以便提供对本公开所提供的技术方案更为彻底的理解。然而，对于本领域技术人员而言显而易见的是，本公开所提供的技术方案可以无需一个或多个这些细节而得以实施。

应予以注意的是，这里所使用的术语仅是为了描述具体实施例，而非意图限制根据本公开的示例性实施例。如在这里所使用的，除非上下文另外明确指出，否则单数形式也意图包括复数形式。此外，还应当理解的是，当在本说明书中使用术语“包含”和/或“包括”时，其指明存在所述特征、整体、步骤、操作、元件和/或组件，但不排除存在或附加一个或多个其他特征、整体、步骤、操作、元件、组件和/或它们的组合。

现在，将参照附图更详细地描述根据本公开的示例性实施例。然而，这些示例性实施例可以多种不同的形式来实施，并且不应当被解释为只限于这里所阐述的实施例。应当理解的是，提供这些实施例是为了使得本公开的公开彻底且完整，并且将这些示例性实施例的构思充分传达给本领域普通技术人员。

如1图至图8所示，本公开的实施例提供了一种清洗盘220、基站200和清洁机器人系统，其中，清洁机器人系统包括自移清洁设备100和基站200，即基站200与自移清洁设备100配合使用。

进一步地，如图1和图2所示，自移清洁设备100可以包括机器主体110、感知系统120、控制模块、驱动系统140、清洁系统150、能源系统和人机交互系统170。可以理解的是，自移清洁设备100可以为自动清洁设备或满足要求的其他自移清洁设备100。自移清洁设备100是在无使用者操作的情况下，在某一待清洁区域自动进行清洁操作的设备。其中，当自移清洁设备100开始工作时，自移清洁设备100从基站200出发进行清洁任务。当自移清洁设备100完成清洁任务或其他需要中止清洁任务的情况时，自移清洁设备100可以返回基站200进行充电、和/或补水、和/或清洗、和/或集尘等操作。

如1图所示，机器主体110包括前向部分111和后向部分112，具有近似圆形形状(前后都为圆形)，也可具有其他形状，包括但不限于前方后圆的近似D形形状及前方后方的矩形或正方形形状。

如1图所示，感知系统120包括位于机器主体110上的位置确定装置121、设置于机器主体110的前向部分111的缓冲器122上的碰撞传感器、近距离传感器，设置于机器主体110下部的悬崖传感器，以及设置于机器主体110内部的磁力计、加速度计、陀螺仪、里程计等传感装置，用于向控制模块提供机器的各种位置信息和运动状态信息。位置确定装置121包括但不限于摄像头、激光测距装置(LDS，全称Laser Distance Sensor)。

如1图所示，机器主体110的前向部分111可承载缓冲器122，在清洁过程中驱动轮模块141推进自移清洁设备100在地面行走时，缓冲器122经由设置在其上的传感器系统，例如红外传感器，检测自移清洁设备100的行驶路径中的一个或多个事件，自移清洁设备100可通过由缓冲器122检测到的事件，例如障碍物、墙壁，而控制驱动轮模块141使自移清洁设备100来对事件做出响应，例如远离障碍物。

控制模块设置在机器主体110内的电路主板上，包括与非暂时性存储器，例如硬盘、快闪存储器、随机存取存储器，通信的计算处理器，例如中央处理单元、应用处理器，应用处理器根据激光测距装置反馈的障碍物信息利用定位算法，例如即时定位与地图构建(SLAM，全称Simultaneous Localization And Mapping)，绘制自移清洁设备100所在环境中的即时地图。并且结合缓冲器122上所设置传感器、悬崖传感器、磁力计、加速度计、陀螺仪、里程计等传感装置反馈的距离信息、速度信息综合判断自移清洁设备100当前处于何种工作状态、位于何位置，以及自移清洁设备100当前位姿等，如过门槛，上地毯，位于悬崖处，上方或者下方被卡住，尘盒满，被拿起等等，还会针对不同情况给出具体的下一步动作策略，使得自移清洁设备100有更好的清扫性能和用户体验。

如图2所示，驱动系统140可基于具有距离和角度信息例如x、y及θ分量的驱动命令而操纵机器主体110跨越地面行驶。驱动系统140包含驱动轮模块141，驱动轮模块141可以同时控制左轮和右轮，为了更为精确地控制机器的运动，优选驱动轮模块141分别包括左驱动轮模块和右驱动轮模块。左、右驱动轮模块沿着由机器主体110界定的横向轴设置。为了自移清洁设备100能够在地面上更为稳定地运动或者更强的运动能力，自移清洁设备100可以包括一个或者多个从动轮142，从动轮142包括但不限于万向轮。驱动轮模块141包括行走轮和驱动马达以及控制驱动马达的控制电路，驱动轮模块141还可以连接测量驱动电流的电路和里程计。驱动轮可具有偏置下落式悬挂系统，以可移动方式紧固，例如以可旋转方式附接到机器主体110，且接收向下及远离机器主体110偏置的弹簧偏置。弹簧偏置允许驱动轮以一定的着地力维持与地面的接触及牵引，同时自移清洁设备100的清洁元件183也以一定的压力接触地面。

能源系统包括充电电池，例如镍氢电池和锂电池。充电电池可以连接有充电控制电路、电池组充电温度检测电路和电池欠压监测电路，充电控制电路、电池组充电温度检测电路、电池欠压监测电路再与单片机控制电路相连。主机通过设置在机身侧方或者下方的充电电极与基站200连接进行充电。

人机交互系统170包括主机面板上的按键，按键供用户进行功能选择；还可以包括显示屏和/或指示灯和/或喇叭，显示屏、指示灯和喇叭向用户展示当前机器所处状态或者功能选择项；还可以包括手机客户端程序。对于路径导航型自移清洁设备100，在手机客户端可以向用户展示设备所在环境的地图，以及机器所处位置，可以向用户提供更为丰富和人性化的功能项。

清洁系统150包括湿式清洁系统，即自移清洁设备100可以为拖地机，或者，清洁系统150包括湿式清洁系统和干式清洁系统151，即自移清洁设备100可以为扫拖一体机。

如图2所示，本公开实施例所提供的干式清洁系统151可以包括滚刷、尘盒、风机、出风口。与地面具有一定干涉的滚刷将地面上的垃圾扫起并卷带到滚刷与尘盒之间的吸尘口前方，然后被风机产生并经过尘盒的有吸力的气体吸入尘盒。干式清洁系统151还可包括具有旋转轴的边刷152，旋转轴相对于地面成一定角度，以用于将碎屑移动到清洁系统150的滚刷区域中。

其中，湿式清洁系统可以包括：清洁组件、送水机构、储液箱等。其中，清洁组件可以设置于储液箱下方，储液箱内部的清洁液通过送水机构传输至清洁组件，以使清洁组件对待清洁平面进行湿式清洁。在本公开其他实施例中，储液箱内部的清洁液也可以直接喷洒至待清洁平面，清洁组件通过将清洁液涂抹均匀实现对平面的清洁。可以理解的是，自移清洁设备100设置有与储液箱连通的注水口，利用注水口，能够将自移清洁设备100外部的液体补充至储液箱中，以实现对储液箱的补水操作。

本公开实施例提供的清洁组件，包括设置于机器主体110上的运动机构(图中未示出)和清洁元件183，即整个清洁组件可以通过运动机构安装在机器主体110上，清洁组件随着机器主体110的移动而移动，以实现拖地功能。其中，运动机构用于驱动清洁元件183动作，如运动机构可以驱动清洁元件183升降、运动机构也可以驱动清洁元件183旋转，由此，可以根据清洁元件183是否与待清洁表面接触的需求，通过运动机构，即可实现清洁元件183的升降和旋转操作，以满足清洁元件183的不同功能需求，即能够实现清洁元件183的区分策略的处理，提高了自清洁设备的清洁性能，提高了清洁效率和使用体验。

其中，在自移清洁设备100的前进方向上，清洁元件183可以位于干式清洁系统151的后部，清洁元件183通常可以是织物、海绵等具有吸水性的柔性物质。在本方案中，清洁元件183可以为至少一个旋转的转盘，自移机器人储液箱中的水引导至清洁元件183，浸湿的清洁元件183通过旋转运动将地面上的污渍清除。

进一步地，当在自移清洁设备100移动的过程中，在一些不需要拖地的场景，如往返基站200、或者进行地毯清洁的情况下，可以利用控制模块控制运动机构驱动清洁元件183升起，可以理解的是，清洁元件183升起可以为清洁元件183的最低下表面高于驱动轮的最低下表面，使得在该种情况下，驱动轮带动自移清洁设备100移动的过程中，清洁元件183不会与待清洁表面接触，由此可以避免在不需要拖地的场景下，清洁元件183与待清洁表面接触而使待清洁表面二次污染的情况，有利于提高自移清洁设备100的清洁性，提高清洁效率和使用体验。

当在自移清洁设备100移动的过程中，在一些需要拖地的场景，如对地面进行湿式处理的情况下，可以利用控制模块控制运动机构驱动清洁元件183下降，使清洁元件183的最低下表面与待清洁表面干涉接触，同时，利用控制模块控制运动机构驱动清洁元件183旋转，由此，使得驱动轮带动自移清洁设备100移动的过程中，清洁元件183会与待清洁表面接触干涉，以实现对待清洁表面的拖地操作。

如图3和图4所示，本公开提供的基站200，包括清洗盘220，清洗盘220用于对自移清洁设备100的清洁元件183进行清洁，因此，当自移清洁设备100利用清洁元件183完成拖地操作后，可以将自移清洁设备100停靠在基站200上，利用清洗盘220对脏污的清洁元件183进行清洁操作。

如图5、图6和图7所示，在本公开提供的一些可能实现的实施例中，清洗盘220与基站200可拆卸连接，由此，可以将清洗盘220整体上从基站200上拆卸下来，对清洗盘220进行清洗，有利于提高清洗盘220清洗的彻底性，避免清洗盘220清洗不彻底、或不方便清洗而使脏污长时间残留在清洗盘220上存在产生异味的可能性，有利于提高清洗盘220的清洗体验，提高用户使用的满意度。同时，清洗盘220与基站200可拆卸连接，有利于提高维修效率。

其中，如图5、图6、图7和图8所示，清洗盘220包括清洁腔2211、以及设置于清洁腔2211内部的清洗部222，清洗部222用于与自移清洁设备100的清洁元件183干涉以将清洁元件183上的脏污去除，由此实现对清洁元件183的清洁操作，如当清洁元件183为拖盘时，通过拖盘与清洁腔2211内的清洗部222干涉实现对拖盘的清洗操作。由于清洁腔2211用于容纳脏污，使得清洗部222将清洁元件183上的脏污去除后可以聚集在清洁腔2211内。

通过清洗盘220设置为与基站200可拆卸连接，使得清洗盘220作为一个整体能够与基站200进行可拆卸连接，由此用户可以根据需求将清洗盘220安装在基站200上，或者从基站200上拆卸下来。如用户可以将整个清洗盘220从基站200上拆卸下来，便于对清洗盘220进行清洗，提高清洗盘220清洗的便利性，并能够提高清洗盘220清洗的彻底性，能够避免脏污长时间聚集或残留在清洁腔2211内而产生异味，有利于提高用户使用的满意度。

而相关技术中的基站，由于清洗后的脏污会聚集在基站的污水槽内后排出，即使污水槽内的脏污排出，基站的污水槽内仍会残留脏污流痕和残渣，长时间后仍会产生异味，同时，由于污水槽是开设在基站上的，不方便清洗，由此，异味会长时间存在，影响用户的使用体验。

而本公开中，由于能够将整个清洗盘220从基站200上拆卸下来，由此，可以对整个清洗盘220进行清洗，使得清洗部222、清洁腔2211都较为清洁，大大提高了清洗盘220清洁的彻底性，进而能够避免脏污长时间聚集或残留在清洁腔2211内而产生异味的情况，能够提升用户的使用体验，同时，本公开提供的清洗盘220在对清洁元件183进行清洗的过程中，不会有脏污残留在基站200上，确保了基站200的清洁性，因此，避免了脏污长时间残留在基站200上使基站200产生异味的可能性。

可以理解的是，当需要对自移清洁设备100的清洁元件183进行清洗操作时，可以将清洗盘220安装在基站200上即可。

进一步地，可以通过卡接结构、限位结构、螺纹结构、榫卯结构、磁吸结构等实现清洗盘220与基站200的可拆卸连接。其中，清洗部222可以通过粘结、焊接、或其他结构连接在清洗盘220的清洁腔2211内，或者，清洗部222可以与清洁腔2211的腔壁一体成型，如清洗部222可以与清洗盘220一体成型。其中，清洗部222去除的清洁元件183上的脏污可以包括污液、毛发、固体残渣等。

在本公开提供的一些可能实现的实施例中，基站200包括用于容纳自移清洁设备100的容纳腔211，当自移清洁设备100的清洁元件183脏污需要清洗时，至少部分自移清洁设备100可以停靠在基站200的容纳腔211内，以利用清洗盘220对清洁元件183进行清洗操作。

其中，清洗盘220安装在容纳腔211的底壁上，使得自移清洁设备100容纳在基站200的容纳腔211内时，位于容纳腔211底部的清洗盘220可以对位于机器主体110底部的清洁元件183进行清洗操作。

其中，如图5所示，容纳腔211的底壁上设置有安装槽2111，清洗盘220的外缘形状与安装槽2111的形状相匹配，清洗盘220可受限于安装槽2111内以对清洗盘220相对于基站200在水平方向的运动进行限位。由此，通过合理设置安装槽2111的形状和清洗盘220外缘的形状，使得清洗盘220放置在安装槽2111内，如清洗盘220由安装槽2111的上方插入安装槽2111，即可实现整个清洗盘220与基站200的安装，当清洗盘220由安装槽2111的上方取出，即可实现整个清洗盘220与基站200的拆卸，操作简单，使用方便，且简化了卡接结构、限位结构、螺纹结构、榫卯结构、磁吸结构等连接清洗盘220和基站200的结构的设置，有利于降低成本。

如图5和图6所示，在本公开提供的一些可能实现的实施例中，清洁腔2211的底壁上设置有位于清洁腔2211内部的污水槽2212，污水槽2212的槽底可以低于清洁腔2211的底壁的上表面，使得清洗部222将清洁元件183上的脏污去除后，脏污在重力的作用下会聚集在污水槽2212内。其中，基站200还包括污水管223，污水管223的一端延伸至该污水槽2212内，具体地，污水管223的第一端与污水槽2212连通，污水管223的第二端延伸至清洁腔2211的外部。由此，利用污水管223能够将污水槽2212内的脏污排出，进而能够及时将清洁腔2211内的脏污排出，使得清洁腔2211可以继续容纳脏污，以实现对清洁元件183的继续清洗，有利于提高清洗效果。同时，能够避免清洁腔2211内的脏污未及时排出而溢出造成二次污染，有利于提高用户使用的满意度。在本公开实施例中，污水管223可由弹性材质构成，便于清洗盘220的拆卸。

如图7所示，在上述实施例中，清洁腔2211的侧壁开设有缺口2213，即缺口2213开设在清洗盘220上，污水管223通过缺口2213固定在清洗盘220上并延伸至污水槽2212内。其中，基站200包括污水箱214，污水管223的第二端与污水箱214连通，可以将脏污收集在污水箱214内。可以理解的是，连通污水管223和污水箱214的管路上可以设置水泵，以实现污水的收集。

其中，如图3所示，基站200的污水箱214可以位于容纳腔211的上方，利用污水管223的第二端可以便利地将污水管223与污水箱214连通，进而通过污水管223将污水槽2212与位于容纳腔211上方的污水箱214连通，由此，可以将清洗盘220的清洁腔2211内的污水及时收集在污水箱214内。可以理解的是，在另一些可能实现的实施例中，污水管223的第二端也可以延伸至基站200的外部，直接与排污管道连通。具体地，污水管223设置为弯折结构，与污水管223的第二端连接的部分向上弯折，以使污水管223能够可靠与污水箱214连通。

如图7和图8所示，在本公开提供的一些可能实现的实施例中，清洗部222设置于清洁腔2211的底壁上，并凸出于清洁腔2211的表面，清洗部222包括连接端2227和自由端2228，连接端2227与清洁腔2211的侧壁连接，即清洗部222可以理解为清洗筋。清洗部222的顶部设置有第一清洗凸起2223，由此，利用清洗部222顶部的第一清洗凸起2223与自移清洁设备100的清洁元件183干涉，能够将清洁元件183上的脏污去除。

由于清洗部222的连接端2227与清洁腔2211的侧壁连接，清洗部222的自由端2228向清洁腔2211的内容延伸，使得清洗部222同时起到了良好的引导作用，利用清洗部222能够将脏污引导至污水槽2212内，进而有利于提高清洗盘220排污效率，提高清洗盘220的清洗效率。其中，清洗部222凸出于清洁腔2211的表面，使得清洗部222上的第一清洗凸起2223能够可靠与清洁元件183干涉，以确保良好的清洁效果。

其中，清洗部222的数量为至少两个，如清洗部222的数量为两个、三个、四个或多个，通过合理设置清洗部222的数量，能够确保清洗部222的第一清洗凸起2223与清洁元件183具有足够的接触面积，以确保良好的清洁效果，同时，能够确保清洁腔2211内具有足够的空间供脏污顺畅流通至污水槽2212，以确保良好的清洗效率。

可以理解的是，在对清洁元件183进行清洗过程中，清洁元件183与第一清洗凸起2223干涉，同时，自移清洁设备100的运动机构驱动清洁元件183旋转，使得整个清洁元件183做旋转运动，以循环与第一清洗凸起2223干涉，进而实现对清洁元件183的清洗操作。

如图7和图8所示，在本公开提供的一些可能实现的实施例中，清洗盘220还包括：导水部224，导水部224设置于清洁腔2211的内底壁上并凸出于清洁腔2211的表面，即导水部224可以理解为导水筋，导水部224的顶部开设有导水槽2241，导水槽2241与基站200上的出水口2112连通，导水槽2241用于容纳清洁液并能够与清洁元件183干涉。由此，清洁液从基站200的出水口2112流入导水槽2241，当清洁元件183与导水槽2241干涉，能够利用导水槽2241中的清洁液将自身蘸湿，然后清洁元件183与清洗部222干涉，即可实现对清洁元件183的清洁，这样的设置，有利于提高清洁元件183的清洁效果。其中，导水部224凸出于清洁腔2211的表面，使得导水部224上的导水槽2241能够可靠与清洁元件183干涉，以确保导水槽2241的水能够顺利被清洁元件183蘸取。

其中，导水部224的数量为至少两个，如导水部224的数量为两个、三个、四个或多个，通过合理设置导水部224的数量，能够确保导水部224的导水槽2241内的清洁液较为均匀、全面地将清洁元件183蘸湿。

可以理解的是，在对清洁元件183进行清洗过程中，清洁元件183与导水部224的导水槽2241干涉，同时，自移清洁设备100的运动机构驱动清洁元件183旋转，使得整个清洁元件183做旋转运动，以循环与导水槽2241干涉，进而使得清洁元件183能够均匀被蘸湿，蘸湿后的清洁元件183与清洗部222干涉以提高清洗效果。

如图3和图4所示，其中，基站200包括清水箱213，清水箱213位于容纳腔211的上方用于容纳清洁液，出水口2112与清水箱213连通，通过出水口2112可以将清水箱213中的清洁液输入至导水槽2241内。其中，出水口2112可以位于容纳腔211的顶部，出水口2112与导水部224的导水槽2241正对，如此，通过阀等部件控制出水口2112的开闭情况，即可使清水箱213中的清洁液在重力作用下输入至导水槽2241内。可以理解的是，出水口2112也可以位于容器腔的侧壁，通过管路连通出水口2112和导水槽2241，将清洗箱中的清洁液流入导水槽2241内。

在上述实施例中，如图5和图6所示，导水部224与清洗部222间隔分布，清洗部222和导水部224中相邻的两个之间形成集水区2214，即可以是相邻的两个清洗部222之间形成集水区2214，也可以是相邻的两个导水部224之间形成集水区2214，也可以是相邻的一个清洗部222和一个导水部224形成集水区2214。通过将污水槽2212位于一个集水区2214内，清洁腔2211的底壁上设置有排污通道2216，污水槽2212通过排污通道2216与各个集水区2214连通，进而利用排污通道2216的导向作用，能够将各个集水区2214的脏污引导至污水槽2212内，由此，能够提高清洗盘220收集污水的快速性和彻底性，有利于提高清洗盘220的排污效率，进而提高清洗效率。

如图5所示，在上述实施例中，位于集水区2214内的清洁腔2211的底壁设置为导向面2215，导向面2215为倾斜平面或倾斜曲面，由此，在导向面2215的引导下，能够使各个集水区2214的脏污较为快速、较为彻底地引导至污水槽2212内，提高清洗盘220的排污效率和排污效果，进而提高清洗效率。

进一步地，导向面2215可以为倾斜平面或倾斜曲面，导向面2215的倾斜角度可以为大于0°小于等于30°，如导向面2215的倾斜角度可以为5°、10°、20°、30°或其他角度，具体地，导向面2215的倾斜角度可以大于等于8°，如每个集水区2214内的导向面2215可以由不低于8°的圆锥面构成。

如图8所示，在本公开提供的一些可能实现的实施例中，导水部224上开设有与导水槽2241连通的漏液口2242，由于清洁液进入导水部224的导水槽2241后，自移清洁设备100的清洁元件183无法将导水槽2241中的清洁液蘸取彻底，存在导水槽2241内残留清洁液的情况，通过在导水部224上开设与导水槽2241连通的漏液口2242，使得导水槽2241内剩余的清洁液可以从漏液口2242排出，能够避免导水槽2241中长时间残留液体而产生异味的情况，进而有利于提高导水槽2241的清洁性。可以理解的是，在将清洗盘220从基站200上取下来进行清洗的过程中，也可以对导水部224和清洗部222进行清洗。

其中，漏液口2242与导水槽2241的槽底连通，使得导水槽2241中的残留液体能够经漏液口2242较为彻底的排出，进而能够提高导水槽2241排液的彻底性。

其中，导水槽2241内还设置有第二清洗凸起，由此，在清洁元件183与导水槽2241干涉蘸取导水槽2241内的清洁液时，清洁元件183能够同时与第二清洁凸起2243干涉进行清洗操作，进而提高清洗效率和清洗效果。

可以理解的是，第二清洗凸起和第一清洗凸起2223的形状和大小可以相同也可以不同，多个第二清洗凸起的形状和大小可以相同也可以不同，多个第一清洗凸起2223的形状和大小可以相同也可以不同。

如图5所示，在本公开提供的一些可能实现的实施例中，清洗部222包括第一清洗部2221，第一清洗部2221的顶部由连接端2227至自由端2228的方向设置有刮水板2224。刮水板2224的设置，使得清洁元件183在经过刮水板2224的过程中，将清洁元件183上的污水刮掉，进而提高清洁元件183的清洁效果。

其中，第一清洗凸起2223位于刮水板2224的同一侧，使得清洁元件183可以在与刮水板2224干涉进行刮水操作后，与第一清洗凸起2223干涉、摩擦进行清洗操作，或者，清洁元件183可以在与第一清洗凸起2223干涉、摩擦进行清洗操作后，与刮水板2224干涉进行刮水操作。可以理解的是，清洁元件183的同一位置在进行刮水操作后，可以与导水部224干涉，进行蘸取清洁液的操作，或者，清洁元件183的同一位置在进行刮水操作后，可以与清洗部222干涉，进行清洗操作。可以理解的是，刮水板2224刮下的脏污在重力作用下流入清洁腔2211，经集水区2214、排污通道2216流向污水槽2212，经排污管收集至污水箱214。

如图5所示，在本公开提供的一些可能实现的实施例中，清洗部222还包括第二清洗部2222，第二清洗部2222位于两个第一清洗部2221之间，刮水板2224位于第一清洗部2221远离第二清洗部2222的一侧。由于第二清洗部2222的顶端设置有第一清洗凸起2223，将第二清洗部2222设置在两个第一清洗部2221之间，使得清洁元件183在被一个第一清洗部2221上的刮水板2224挂掉水分后，旋转至与第二清洗部2222上的第一清洗凸起2223干涉，能够充分地进行清洗操作，然后清洁元件183旋转至另一个第一清洗部2221后，被该清洗部222上的刮水板2224再次刮掉水分和脏污，由此，可以提高清洗盘220的清洗效果。可以理解的是，该部分清洁元件183被另一个清洗部222上的刮水板2224刮掉水分和脏污后，可以与导水部224干涉进行蘸取清洗液的操作。

进一步地，刮水板2224位于第一清洗部2221远离第二清洗部2222的一侧，即刮水板2224远离第二清洗部2222设置，第一清洗部2221上的第一清洗凸起2223和第二清洗部2222位于刮水板2224的同一侧，由此，使得第一清洗部2221和第二清洗部2222上的第一清洗凸起2223均在两个第一清洗部2221的刮水板2224之间，由此，能够增大刮水后的清洁元件183与第一清洗凸起2223的接触时长，有利于提高清洗效果。

如图5所示，在上述实施例中，第二清洗部2222包括与清洗腔的侧壁连接的主支2225、以及与主支2225连接的两个分支2226，分支2226远离主支2225的端部和邻近的第一清洗部2221的自由端2228之间形成与排污通道2216连通的第一开口。由此，使得分支2226与邻近的第一清洗部2221之间形成的集水区2214的脏污通过第一开口引导至排污通道2216，并经排污通道2216引导至污水槽2212，然后通过污水管223排出至清洁腔2211的外部。

如图5至图8所示，在本公开提供的一些可能实现的实施例中，两个导水部224分布在两个第一清洗部2221之间，并位于第一清洗部2221远离第二清洗部2222的一侧，由此，可以利用两个导水部224较为集中的对清洁元件183提供清洁液，以使清洁元件183能够充分地蘸湿，提高清洁效果。

其中，导水部224的第二端与邻近的第一清洗部2221的自由端2228之间形成与排污通道2216连通的第二开口，由此，使得导水部224与邻近的第一清洗部2221之间形成的集水区2214的脏污通过第二开口引导至排污通道2216，并经排污通道2216引导至污水槽2212，然后通过污水管223排出至清洗腔的外部。

其中，污水槽2212位于两个导水部224之间，由于清洁元件183与导水部224干涉蘸取清洁液的过程中，会有部分清洁液从导水槽2241内挤出，也会有部分清洁液从脱离导水部224的清洁元件183上掉落，将污水槽2212设置在两个导水部224之间，可以将从导水槽2241内挤出的清洁液、从脱离导水部224的清洁元件183上掉落的清洁液快速引导至污水槽2212，以提高清洗盘220的排污效率。

如图8所示，在本公开提供的一些可能实现的实施例中，清洗盘220还包括：过滤装置225，设置在污水槽2212内，位于污水管223的周侧。过滤装置225的设置，可以将清洁腔2211内颗粒较大的杂质过滤掉，防止杂质堵塞污水管223的现象，有利于提高经污水管223排出至污水箱214或外部环境的污液的清洁性。

进一步地，过滤装置225与清洗盘220可拆卸连接，可以将过滤装置225从清洗盘220上拆卸下来对过滤装置225、清洗盘220分别进行清洗，以提高清洗盘220的清洗效果。具体地，过滤装置225可以通过螺纹结构、卡接结构、榫卯结构中的一种与座体221可拆卸连接。

其中，过滤装置225可以在污水槽2212周向的一侧上设置过滤网、也可以在污水槽2212周向的两侧上设置过滤网，也可以在污水槽2212的整个周向上设置过滤网。进一步地，过滤装置225的顶部也可以设置过滤网，进一步提高过滤装置225的过滤效果。

如图8所示，在本公开提供的一些可能实现的实施例中，清洗盘220还包括：液位检测装置226，液位检测装置226设置于污水槽2212内，用于检测污水槽2212内的液位高度。液位检测装置226的设置，能够确定污水槽2212的液位高度是否在合理范围内，避免污水槽2212的液位高度较高而使脏污溢出清洗腔外部造成二次污染，液位检测装置226的设置，有利于提高清洗盘220使用的安全性和清洁性。

具体地，液位检测装置226可以为液位传感器，也可以为满足要求的其他结构。

进一步地，液位检测装置226包括设置于过滤装置225上的浮子组件，浮子组件包括在液体作用下浮于液体表面的浮子本体；非接触式感应元件和非接触式被感应元件中的一个设置于浮子本体上，另一个设置于基站200上，当过滤装置225设置于污水槽2212内，且污水槽2212内液体表面处于特定范围时，非接触式感应元件可以感应到非接触式被感应元件。

其中，非接触式感应元件用于对非接触式被感应元件进行检测，如非接触式感应元件用于检测非接触式被感应元件发射的信号参数，通过非接触式感应元件和非接触式被感应元件中的一个设置于浮子本体上，另一个设置于基站200上，即非接触式感应元件和非接触式被感应元件中的一个随着浮子本体的浮动而移动，另一个设置在基站200的固定位置处，这样，浮子本体在液体的作用下上下浮动过程中，非接触式感应元件检测到的非接触式被感应元件发射的信号参数是不同的，进而根据不同的信号参数即可确定污水槽2212内的液位范围，并确定液位范围是否处于合理范围。

进一步地，当过滤装置225设置于污水槽2212内，且污水槽2212内的液体表面处于特定范围时，非接触式感应元件可以感应到非接触式被感应元件，说明过滤装置225准确安装在座体221上，且污水槽2212内水位处于特定范围，如污水槽2212内的水位处于安全位置并不会影响基站200的正常工作。即浮子组件、非接触式感应元件、非接触式被感应元件构成的检测装置，能够同时对污水槽2212内的液位和过滤装置225的当前位置进行检测，扩大了浮子组件的功能，简化了检测装置的设置，即简化了产品的结构，并简化了系统软件程序及算法，可有效的节约成本，适于推广应用。

也就是说，本公开实施例提供的基站200，通过将浮子组件设置在过滤装置225上，并配合非接触式感应元件和非接触式被感应元件，使得基站200能够同时对过滤装置225是否安装于清洁槽以及清洁槽内水位是否处于正常范围进行检测，简化基站200的结构。

其中，如图4所示，基站200的容纳腔211内还设置有补水接头2114，补水接头2114的入口与清水箱213连接，补水接头2114的出口用于与自移清洁设备100的注水口连接，以实现对自移清洁设备100的补水操作。

其中，基站200上还设置有充电对接组件，充电对接组件包括位于容纳腔211内的充电接触极片2113，当自移清洁设备100停靠在基站200的容纳腔211内时，自移清洁设备100的充电极片与基站200的充电接触极片2113对接，以实现对自移清洁设备100的充电操作。

本公开已经通过上述实施例进行了说明，但应当理解的是，上述实施例只是用于举例和说明的目的，而非意在将本公开限制于所描述的实施例范围内。此外本领域技术人员可以理解的是，本公开并不局限于上述实施例，根据本公开的教导还可以做出更多种的变型和修改，这些变型和修改均落在本公开所要求保护的范围以内。本公开的保护范围由附属的权利要求书及其等效范围所界定。

Claims (17)

1.一种清洗盘，应用于清洗自移清洁设备的基站，其特征在于，所述清洗盘包括：

清洁腔、以及设置于所述清洁腔内的清洗部，所述清洗部用于与所述自移清洁设备的清洁元件干涉以将所述清洁元件上的脏污去除，所述清洁腔用于容纳脏污；

其中，所述清洗盘设置为与所述基站可拆卸连接。

2.根据权利要求1所述的清洗盘，其特征在于，所述基站包括用于容纳所述自移清洁设备的容纳腔，所述容纳腔的底壁上开设有安装槽，所述清洗盘的外缘形状与所述安装槽的形状相匹配。

3.根据权利要求1所述的清洗盘，其特征在于，所述清洁腔内设置有污水槽，设置于所述基站上的污水管的一端延伸至所述污水槽。

4.根据权利要求3所述的清洗盘，其特征在于，

所述清洁腔的侧壁开设有缺口，所述污水管穿过所述缺口固定于所述清洗盘上。

5.根据权利要求3或4所述的清洗盘，其特征在于，

所述清洗部设置于所述清洁腔的底壁上，并凸出于所述清洁腔的底壁表面，所述清洗部包括连接端和自由端，所述连接端与所述清洁腔的侧壁连接，所述清洗部的顶部设置有第一清洗凸起；

其中，所述清洗部的数量为至少两个。

6.根据权利要求5所述的清洗盘，其特征在于，还包括：

导水部，所述导水部设置于所述清洁腔的底壁上，并凸出于所述清洁腔的表面，所述导水部的顶部开设有导水槽，所述导水槽与所述基站上的出水口连通，所述导水槽用于容纳清洁液并能够与所述清洁元件干涉；

其中，所述导水部的数量为至少两个。

7.根据权利要求6所述的清洗盘，其特征在于，

所述导水部与所述清洗部间隔分布，所述导水部的第一端与所述清洁腔的侧壁连接，所述清洗部和所述导水部中相邻的两个之间形成集水区，所述污水槽位于一个所述集水区内，所述清洁腔的底壁上开设有排污通道，所述污水槽通过所述排污通道与各个所述集水区连通。

8.根据权利要求7所述的清洗盘，其特征在于，

位于所述集水区内的所述清洁腔的底壁设置为导向面，所述导向面为倾斜平面或倾斜曲面。

9.根据权利要求7所述的清洗盘，其特征在于，

所述导水部上开设有与所述导水槽连通的漏液口，所述漏液口与所述导水槽的槽底连通；

所述导水槽内还设置有第二清洗凸起。

10.根据权利要求7所述的清洗盘，其特征在于，

所述清洗部包括第一清洗部，所述第一清洗部的顶部由所述连接端至所述自由端的方向设置有刮水板，所述第一清洗凸起位于所述刮水板的同一侧。

11.根据权利要求10所述的清洗盘，其特征在于，

所述清洗部还包括第二清洗部，所述第二清洗部位于两个所述第一清洗部之间，所述刮水板位于所述第一清洗部远离所述第二清洗部的一侧。

12.根据权利要求11所述的清洗盘，其特征在于，

所述第二清洗部包括与所述清洁腔的侧壁连接的主支、以及与所述主支连接的两个分支，所述分支远离所述主支的端部和邻近的所述第一清洗部的所述自由端之间形成与所述排污通道连通的第一开口。

13.根据权利要求11所述的清洗盘，其特征在于，

两个所述导水部分布在两个所述第一清洗部之间，并位于所述第一清洗部远离所述第二清洗部的一侧，所述导水部的第二端与邻近的所述第一清洗部的所述自由端之间形成与所述排污通道连通的第二开口；

其中，所述污水槽位于两个所述导水部之间。

14.根据权利要求3所述的清洗盘，其特征在于，还包括：

过滤装置，设置在所述污水槽内，位于所述污水管的周侧。

15.根据权利要求14所述的清洗盘，其特征在于，还包括：

液位检测装置，设置于所述污水槽内，用于检测所述污水槽内的液位高度；

其中，所述液位检测装置包括设置于所述过滤装置上的浮子组件，所述浮子组件包括在液体作用下浮于液体表面的浮子本体；

非接触式感应元件和非接触式被感应元件中的一个设置于所述浮子本体上，另一个设置于所述基站上，当所述过滤装置设置于所述污水槽内，且所述污水槽内液体表面处于特定范围时，所述非接触式感应元件可以感应到所述非接触式被感应元件。

16.一种基站，其特征在于，包括如权利要求1至15中任一项所述的清洗盘。

17.一种清洁机器人系统，其特征在于，包括：自移清洁设备；以及如权利要求16所述的基站。