CN219745662U - 清洗组件及清洗设备 - Google Patents

Abstract

本公开提供一种清洗组件及清洗设备。清洗组件的第二容纳结构作为第一容纳结构的节流结构，能够盛放自第一容纳结构排出的液体以再次利用。第二容纳结构包括溢流管路，设置于溢流管路上的第一阀门能够在第二容纳结构内的液体为高液位时受控开启，通过溢流的方式避免容纳主体中的液体过多而发生外溢的问题，进而保证了第一容纳结构内的液体参数和容量在预设范围，提升了清洗组件及使用上述清洗组件的清洗设备的清洗效果。

Description

清洗组件及清洗设备

技术领域

本公开涉及电池加工技术领域，具体涉及清洗组件及清洗设备。

背景技术

在硅电池片的制备过程中，硅片形成绒面/碱抛后需要通过水槽对经过酸槽的硅片表面的化学品残留进行清洗，以保证制程的脱水性良好，避免硅片在后段存在水渍印或烧焦问题，提高产品良率。

为了节省硅电池片的清洗过程中的用水，相关技术通常采用将主水箱排出的热水排出到副水箱，关闭副水箱主排阀，并通过泵机将热水再次利用从而降低成本。然而，副水箱蓄水加满后高液位常亮，导致主水箱溢流停止、副水箱蓄水外溢，进而造成底板漏液、上料停止、良率降低等问题。

实用新型内容

本公开提供一种清洗组件及清洗设备，以解决相关技术问题。

根据本公开的实施例的第一方面提供一种清洗组件，包括：

第一容纳结构，包括排水口；

第二容纳结构，包括容纳主体和溢流管路；所述排水口和所述溢流管路分别与所述容纳主体连通；所述溢流管路设有第一阀门；

控制模组，包括主控制器和设置于所述容纳主体的液位感应器，所述液位感应器与所述主控制器导电连接，以向所述主控制器发送液位信号；所述第一阀门与所述主控制器导电连接，以使所述主控制器在所述液位信号为高位信号时控制所述第一阀门开启。

可选的，所述第二容纳结构还包括与所述容纳主体连通的主排管路，所述主排管路设有第二阀门。

可选的，所述主排管路包括位于所述第二阀门两侧的第一区段和第二区段，所述第一区段位于所述第二阀门和所述容纳主体之间；所述溢流管路与所述第二区段连通。

可选的，所述第二阀门包括手动阀门。

可选的，所述清洗组件还包括第三容纳结构；所述第一容纳结构还包括进水口，所述第三容纳结构与所述进水口连通。

可选的，所述第二容纳结构还包括回流管路，所述回流管路设有泵机；所述回流管路与所述第三容纳结构连通。

可选的，所述第一容纳结构包括槽型结构，所述第二容纳结构包括箱型结构；所述箱型结构设有顶部开口和与所述顶部开口可拆卸连接的盖体。

可选的，所述第一阀门包括气动截止阀；所述第一阀门自开启切换至关闭的条件与所述第一阀门的开启时长关联。

可选的，所述第二容纳结构包括相对设置的顶部区段和底部区段，所述底部区段设有与所述溢流管路连通的溢流开口。

根据本公开的第二方面提供一种清洗设备，包括如第一方面所述的任一清洗组件。

本公开提供的技术方案至少可以达到以下有益效果：

本公开的第二容纳结构作为第一容纳结构的节流结构，能够盛放自第一容纳结构排出的液体以再次利用。第二容纳结构包括溢流管路，设置于溢流管路上的第一阀门能够在第二容纳结构内的液体为高液位时受控开启，通过溢流的方式避免容纳主体中的液体过多而发生外溢的问题，进而保证了第一容纳结构内的液体参数和容量在预设范围，提升了清洗组件及使用上述清洗组件的清洗设备的清洗效果。

应当理解的是，以上的一般描述和后文的细节描述仅是示例性和解释性的，并不能限制本公开。

附图说明

为了更清楚地说明本公开实施例中的技术方案，下面将对实施例描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本公开的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动性的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。

图1是本公开一示例性实施例中一种清洗组件的侧视结构示意图；

图2是本公开一示例性实施例中一种清洗组件的俯视结构示意图。

具体实施方式

这里将详细地对示例性实施例进行说明，其示例表示在附图中。下面的描述涉及附图时，除非另有表示，不同附图中的相同数字表示相同或相似的要素。以下示例性实施例中所描述的实施方式并不代表与本公开相一致的所有实施方式。相反，它们仅是与本公开的一些方面相一致的装置和方法的例子。

在本公开使用的术语是仅仅出于描述特定实施例的目的，而非旨在限制本公开。除非另作定义，本公开使用的技术术语或者科学术语应当为本公开所属领域内具有一般技能的人士所理解的通常意义。本公开中使用的“第一”、“第二”以及类似的词语并不表示任何顺序、数量或者重要性，而只是用来区分不同的组成部分。同样，“一个”或者“一”等类似词语也不表示数量限制，而是表示存在至少一个，若仅指代“一个”时会再单独说明。“多个”或者“若干”表示两个及两个以上。除非另行指出，“前部”、“后部”、“下部”和/或“上部”、“顶部”、“底部”等类似词语只是为了便于说明，而并非限于一个位置或者一种空间定向。“包括”或者“包含”等类似词语意指出现在“包括”或者“包含”前面的元件或者物件涵盖出现在“包括”或者“包含”后面列举的元件或者物件及其等同，并不排除其他元件或者物件。“连接”或者“相连”等类似的词语并非限定于物理的或者机械的连接，而且可以包括电性的连接，不管是直接的还是间接的。

在硅电池片的制备过程中，硅片形成绒面/碱抛后需要通过水槽对经过酸槽的硅片表面的化学品残留进行清洗，以保证制程的脱水性良好，避免硅片在后段存在水渍印或烧焦问题，提高产品良率。为了节省硅电池片的清洗过程中的用水，相关技术通常采用将主水箱排出的热水排出到副水箱，关闭副水箱主排阀，并通过泵机将热水再次利用从而降低成本。然而，副水箱蓄水加满后高液位常亮，导致主水箱溢流停止、副水箱蓄水外溢，进而造成底板漏液、上料停止、良率降低等问题。

本公开提供一种清洗组件。图1是本公开一示例性实施例中一种清洗组件的侧面结构示意图，如图1所示，清洗组件1包括第一容纳结构11、第二容纳结构12和控制模组。第一容纳结构11包括排水口111，第二容纳结构12包括容纳主体121和溢流管路122，排水口111和溢流管路122分别与容纳主体121连通，溢流管路122设有第一阀门1221。控制模组包括主控制器和设置于容纳主体121的液位感应器131，液位感应器131与主控制器导电连接，以向主控制器发送液位信号。第一阀门1221与主控制器导电连接，以使主控制器在液位信号为高位信号时控制第一阀门1221开启。

上述第二容纳结构12作为第一容纳结构11的节流结构，能够盛放自第一容纳结构11排出的液体以再次利用，减少了清洗液体消耗，进而降低成本。第二容纳结构12包括溢流管路122，设置于溢流管路122上的第一阀门1221能够在第二容纳结构12内的液体为高液位时受控开启，通过溢流的方式避免容纳主体121中的液体过多而发生外溢的问题，进而保证了第一容纳结构11内的液体参数和容量在预设范围，提升了清洗组件1及使用上述清洗组件1的清洗设备的清洗效果。

以清洗组件1用于清洗硅电池片为例，硅片电池可以通过花篮放入第一容纳结构11内，通过第一容纳结构11内的纯水进行清洗，第一容纳结构11内的纯水可以自排水口111排出至第二容纳结构12进行盛放和再利用。在液位传感器发出的液位信号不是高位信号时，第一阀门1221关闭，第二容纳结构12中蓄入第一容纳结构11排出的液体。在液位传感器发出高位信号时，第一阀门1221开启，第二容纳结构12通过溢流管道排出一定量的液体，以避免液体外溢发生底板漏液，进而避免了生产上料停止的宕机问题。

第二容纳结构12内液位较高时，若降低第一容纳结构11向第二容纳结构12的排液流量，则会导致热水供应不足或温度系数降低的脱水不良、在烘干槽无法烘干、下传生产在扩散或镀膜等问题，成品容易出现烧焦、外观水印、花篮印等不良。上述溢流管路122和第一阀门1221还能够有效避免因导致第一容纳结构11向第二容纳结构12溢流停止而造成的硅电池片脱水性下降、绒面带液烧焦及水渍印等外观不良问题。

在一些实施例中，如图2所示，第二容纳结构12还可以包括与容纳主体121连通的主排管路123，主排管路123设有第二阀门1231。主排管路123及其上的第二阀门1231可以在特定场景下对容纳主体121进行排水，上述特定场景可以包括清洗组件1完成清洗后的排空、针对容纳主体121的清洗等。上述第二阀门1231可以是手动阀门、气动阀门等，本公开并不对此进行限制。

在上述实施例中，主排管路123可以包括位于第二阀门1231两侧的第一区段和第二区段，第一区段位于第二阀门1231和容纳主体121之间，溢流管路122与第二区段连通。将溢流管路122接入到第二区段，以避免第二阀门1231对溢流管路122中的液体排出的干扰，节省管路布局空间和材料成本。

在一些实施例中，清洗组件1还可以包括第三容纳结构，第一容纳结构11还包括进水口，第三容纳结构与进水口连通。即，将第三容纳结构作为第一容纳结构11用水的储存和注入结构，有助于实现对第一容纳结构11注水流量和用水量的控制。

在上述实施例中，第二容纳结构12还可以包括回流管路124，回流管路124设有泵机1241，回流管路124与第三容纳结构连通。通过泵机1241将第二容纳结构12中的液体泵回至第三容纳结构，以便于对上述节流液体的再次利用。其中，上述泵机1241在清洗组件1的使用过程中可以持续工作，以确保节流循环效率。上述泵机1241在第二容纳结构12中的液体量小于低液位时停止工作，以避免空转和设备损坏。

需要说明的是，第二容纳结构12可以设有高液位标识线和低液位标识线，以便于查看第二容纳结构12中的液体量。上述液位传感器可以包括警告灯，当液位传感器感应到高位信号和地位信号时，可以发出对应的灯光告警。

在一些实施例中，第一容纳结构11可以包括槽型结构，第二容纳结构12包括箱型结构，箱型结构设有顶部开口1212和与顶部开口1212可拆卸连接的盖体1213。将第一容纳结构11设置为槽型结构能够便于盛放硅电池片的花篮放入和取出，提升操作效率和便利性。上述第二容纳结构12设置成箱型结构，并通过盖体1213封装顶部开口1212，能够在储液量较高的情况下避免液体溢出。上述第一容纳结构11可以是曼提拉水箱。

在上述实施例中，第一阀门1221可以是气动截止阀，第一阀门1221自开启切换至关闭的条件与第一阀门1221的开启时长关联。利用气动截止阀可以获得延时性质的定排效果，提升溢流智能性。例如，可以通过操作面板设定第一阀门1221的开启时长，以针对不同的清洗组件1应用场景，使第一阀门1221在第一容纳结构11内的液态容量脱落高位时关闭。

在一些实施例中，第二容纳结构12可以包括相对设置的顶部区段和底部区段，底部区段设有与溢流管路122连通的溢流开口1211。将与溢流管路122连通的溢流开口1211设置在底部区段，不仅能够优化管路布局，还有助于提升溢流速度。

本公开进一步提供一种清洗设备，清洗设备包括上述清洗组件1。

需要说明的是，上述清洗设备可以是晶硅电池生产中在清洗工序使用的槽式清洗机，清洗组件1可以是槽式清洗机中使用的水箱及管路组件。

由于清洗组件1的第二容纳结构12作为第一容纳结构11的节流结构，能够盛放自第一容纳结构11排出的液体。第二容纳结构12包括溢流管路122，设置于溢流管路122上的第一阀门1221能够在第二容纳结构12内的液体为高液位时受控开启，通过溢流的方式避免容纳主体121中的液体过多而发生外溢的问题，进而保证了第一容纳结构11内的液体参数和容量在预设范围，提升了清洗组件1及使用上述清洗组件1的清洗设备的清洗效果。

以上所述仅为本公开的较佳实施例而已，并不用以限制本公开，凡在本公开的精神和原则之内，所做的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本公开保护的范围之内。

Claims (10)

1.一种清洗组件，其特征在于，包括：

第一容纳结构，包括排水口；

第二容纳结构，包括容纳主体和溢流管路；所述排水口和所述溢流管路分别与所述容纳主体连通；所述溢流管路设有第一阀门；

控制模组，包括主控制器和设置于所述容纳主体的液位感应器，所述液位感应器与所述主控制器导电连接，以向所述主控制器发送液位信号；所述第一阀门与所述主控制器导电连接，以使所述主控制器在所述液位信号为高位信号时控制所述第一阀门开启。

2.根据权利要求1所述的清洗组件，其特征在于，所述第二容纳结构还包括与所述容纳主体连通的主排管路，所述主排管路设有第二阀门。

3.根据权利要求2所述的清洗组件，其特征在于，所述主排管路包括位于所述第二阀门两侧的第一区段和第二区段，所述第一区段位于所述第二阀门和所述容纳主体之间；所述溢流管路与所述第二区段连通。

4.根据权利要求2所述的清洗组件，其特征在于，所述第二阀门包括手动阀门。

5.根据权利要求1所述的清洗组件，其特征在于，还包括第三容纳结构；所述第一容纳结构还包括进水口，所述第三容纳结构与所述进水口连通。

6.根据权利要求5所述的清洗组件，其特征在于，所述第二容纳结构还包括回流管路，所述回流管路设有泵机；所述回流管路与所述第三容纳结构连通。

7.根据权利要求1所述的清洗组件，其特征在于，所述第一容纳结构包括槽型结构，所述第二容纳结构包括箱型结构；所述箱型结构设有顶部开口和与所述顶部开口可拆卸连接的盖体。

8.根据权利要求1所述的清洗组件，其特征在于，所述第一阀门包括气动截止阀；所述第一阀门自开启切换至关闭的条件与所述第一阀门的开启时长关联。

9.根据权利要求1所述的清洗组件，其特征在于，所述第二容纳结构包括相对设置的顶部区段和底部区段，所述底部区段设有与所述溢流管路连通的溢流开口。

10.一种清洗设备，其特征在于，包括如权利要求1-9任一项所述清洗组件。