CN219644303U - 光学结构、终端壳体及终端 - Google Patents

Abstract

本申请提供光学结构、终端壳体及终端。该光学结构包括基材层及纹理层，所述纹理层设于所述基材层上，所述纹理层包括邻接的多个纹理区域，所述纹理层的至少部分纹理区域包括间隔设置的多个凸部，所述多个凸部沿所述基材层的表面延伸，相邻两个纹理区域的凸部的宽度不同和/或高度不同。本申请提供的光学结构能够呈现双重光影，使得所述光学结构呈现出的视觉效果更加丰富，提高美观度。

Description

光学结构、终端壳体及终端

技术领域

本申请涉及光学成像领域，尤其涉及光学结构、终端壳体及终端。

背景技术

随着整体消费水平的提高，用户对手机盖美观度的要求越来越高。手机、平板电脑等电子设备通常采用玻璃或者透明板材等透明材料作为后盖，并在后盖上形成纹理层以提高电子设备的外观美感。

目前，后盖上的装饰纹理整体光影质感不强，光影效果非常单一、不够丰富，不能满足对手机美观度的要求。

实用新型内容

为解决上述技术问题，本申请提供一种光学结构、终端壳体及终端，该光学结构能够呈现双重光影，使得所述光学结构呈现出的视觉效果更加丰富，提高美观度。

本申请第一方面提供一种光学结构，所述光学结构包括基材层以及纹理层，所述纹理层设于所述基材层上，所述纹理层包括邻接的多个纹理区域，所述纹理层的至少部分纹理区域包括间隔设置的多个凸部，所述多个凸部沿所述基材层的表面延伸，相邻两个纹理区域的凸部的宽度不同和/或高度不同，所述凸部的高度为沿所述基材层和所述纹理层的层叠方向上的尺寸，所述凸部的宽度为沿垂直于所述凸部的延伸方向的方向上的尺寸。

本申请第二方面提供一种终端壳体，所述终端包括光学结构，所述光学结构包括基材层以及纹理层，所述纹理层设于所述基材层上，所述纹理层包括邻接的多个纹理区域，所述纹理层的至少部分纹理区域包括间隔设置的多个凸部，所述多个凸部沿所述基材层的表面延伸，相邻两个纹理区域的凸部的宽度不同和/或高度不同，所述凸部的高度为沿所述基材层和所述纹理层的层叠方向上的尺寸，所述凸部的宽度为沿垂直于所述凸部的延伸方向的方向上的尺寸。

本申请第三方面提供一种终端，所述终端包括终端壳体，所述终端壳体包括光学结构，所述光学结构包括基材层以及纹理层，所述纹理层设于所述基材层上，所述纹理层包括邻接的多个纹理区域，所述纹理层的至少部分纹理区域包括间隔设置的多个凸部，所述多个凸部沿所述基材层的表面延伸，相邻两个纹理区域的凸部的宽度不同和/或高度不同，所述凸部的高度为沿所述基材层和所述纹理层的层叠方向上的尺寸，所述凸部的宽度为沿垂直于所述凸部的延伸方向的方向上的尺寸。

本申请提供的光学结构、终端壳体及终端，通过设置纹理层的相邻两个纹理区域的凸部的宽度不同和/或高度不同，能够使得相邻两个纹理区域的凸部对光的反射和折射效果不一致，进而使得不同纹理区域宏观上呈现出亮暗的光影效果，从而使得所述光学结构不仅可呈现出所述至少部分纹理区域的多个凸部的光影纹理，还呈现出不同纹理区域亮暗不一致的光影效果，从而使得所述光学结构呈现出双重光影的光效，视觉效果更加丰富，美观度得到显著提高。

附图说明

为了更清楚地说明本申请的技术方案，下面将对实施方式中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图是本申请一些实施方式，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。

图1为本申请实施例提供的光学结构的平面示意图。

图2为图1中A的放大图。

图3为本申请一实施例提供的纹理层的多个纹理区域的多个凸部的排布结构示意图。

图4为至少部分纹理区域中纹理区域21h的平面图。

图5为至少部分纹理区域中纹理区域21i的平面图。

图6为至少部分纹理区域中纹理区域21j的平面图。

图7为至少部分纹理区域中纹理区域21k的平面图。

图8为至少部分纹理区域中纹理区域21n的平面图。

图9为至少部分纹理区域中纹理区域21m的平面图。

图10为本申请一实施例提供的一个纹理区域的凸部的宽度及相邻两个凸部的间距的示意图。

图11为本申请一实施例提供的至少部分纹理区域的多个凸部的宽度沿预设方向呈阶跃式变化的示意图。

图12为图4中凸部的截面示意图。

图13为图5中凸部的截面示意图。

图14为图6中凸部的截面示意图。

图15为图7中凸部的截面示意图。

图16为图8中凸部的截面示意图。

图17为图9中凸部的截面示意图。

图18为本申请一实施例提供的至少部分纹理区域的多个凸部的高度沿预设方向呈阶跃式变化的示意图。

图19为本申请一实施例提供的光学结构的截面结构示意图。

图20为本申请另一实施例提供的光学结构的截面结构示意图。

图21为本申请一实施例提供的终端壳体的截面结构示意图。

图22为本申请另一实施例提供的终端壳体的截面结构示意图。

主要元件符号说明：

光学结构 100

基材层 10

纹理层 20

纹理区域 21，21h，21i，21j，21k，21m，21n

凸部 211

镀膜层 30

保护层 40

终端壳体 200

透明后盖 50

具体实施方式

下面将结合本申请实施例中的附图，对本申请实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本申请一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本申请中的实施例，本领域普通技术人员在没有付出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本申请保护的范围。

本申请的描述中，术语“上”、“下”、“内”、“外”等指示的方位或者位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本申请和简化描述，而不是指示或者暗示所指的装置或者元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本申请的限制。

需要说明的是，本申请实施例中所提供的图示仅以示意方式说明本申请的基本构想，图示中仅显示与本申请中有关的组件而非按照实际实施时的组件数目、形状及尺寸绘制，其实际实施时各组件的型态、数量及比例可为一种随意的改变，且其组件布局形态也可能更复杂。

请参阅图1及图2，图1为本申请实施例提供的光学结构100的平面示意图，图2为图1中A的放大图。如图1与图2所示，所述光学结构100包括基材层及纹理层20，所述纹理层20设于所述基材层上，所述纹理层20包括邻接的多个纹理区域21，所述纹理层20的至少部分纹理区域21包括间隔设置的多个凸部211，所述多个凸部211沿所述基材层的表面延伸，相邻两个纹理区域21的凸部211的宽度不同和/或高度不同。

其中，所述凸部211的高度为沿所述基材层和所述纹理层20的层叠方向上的尺寸，所述凸部211的宽度为沿垂直于所述凸部211的延伸方向的方向上的尺寸。

其中，所述基材层的表面为所述基材层的用于设置所述纹理层20的一面。

本申请实施例提供的光学结构100，通过设置纹理层20的相邻两个纹理区域21的凸部211的宽度不同和/或高度不同，能够使得相邻两个纹理区域21的凸部211对光的反射和折射效果不一致，进而使得不同纹理区域21宏观上呈现出亮暗的光影效果，从而使得所述光学结构100不仅可呈现出所述至少部分纹理区域21的多个凸部211自身排布产生的光影纹理，还呈现出不同纹理区域21亮暗不一致的光影效果，从而使得所述光学结构100呈现出双重光影的光效，视觉效果更加丰富，美观度得到显著提高。

在一些实施例中，所述多个纹理区域21中每一纹理区域21包括间隔设置的多个凸部211。

其中，所述纹理区域21的多个凸部211可沿对应的预设延伸方向在所述基材层的表面延伸，不同纹理区域21的多个凸部211对应的预设延伸方向可相同或不同，且不同纹理区域21的多个凸部211在所述基材层上的正投影的形状可相同或不同。例如，请参阅图3，为本申请一实施例提供的所述纹理层20的多个纹理区域21的多个凸部211的排布结构示意图，如图3所示，多个纹理区域21的多个凸部211在所述基材层上的正投影均呈环形线条并且所述多个凸部211以同心环形式排布。又例如，多个纹理区域21的多个凸部211在所述基材层上的正投影均呈余弦波形线条或正弦波形线条并且多个纹理区域21的多个凸部211均平行排布；或者，多个纹理区域21中的部分纹理区域21的多个凸部211在所述基材层上的正投影为短线且该部分纹理区域21的多个凸部211平行排布，其它部分纹理区域21的多个凸部211在所述基材层上的正投影为半圆形且该其它部分纹理区域21的多个凸部211共圆心排布。显然，每一凸部211在所述基材层上的正投影可为其它形状，多个纹理区域21中的多个凸部211可以其它排布方式进行排布。

请参阅图4至图9，为本申请实施例提供的至少部分纹理区域21的平面图，图4为所述至少部分纹理区域21中纹理区域21h的平面图，图5为所述至少部分纹理区域21中纹理区域21i的平面图，图6为所述至少部分纹理区域21中纹理区域21j的平面图，图7为所述至少部分纹理区域21中纹理区域21k的平面图，图8为所述至少部分纹理区域21中纹理区域21n的平面图，图9为所述至少部分纹理区域21中纹理区域21m的平面图。

其中，纹理区域21h、纹理区域21i、纹理区域21j、纹理区域21k、纹理区域21n及纹理区域21m依次邻接。

在一些实施例中，如图4至图9所示，所述纹理区域21的多个凸部211等间距设置，且所述纹理区域21的多个凸部211的宽度相同。即，每一包括凸部211的纹理区域21的多个凸部211等间距设置，且每一包括凸部211的纹理区域21的多个凸部211的宽度相同。

其中，同一纹理区域21的多个凸部211等间距设置且该多个凸部211的宽度相同，可使得该纹理区域21呈现出均匀一致的光影效果，且易于所述光学结构100的加工制造。

在一些实施例中，相邻两个纹理区域21的凸部211的宽度不同，任一纹理区域21中凸部211的宽度与所述纹理区域21的相邻两个凸部211的间距之和等于预设值，任意两个纹理区域21的凸部211的宽度与相邻两个凸部211的间距之和相等。即，所有纹理区域21的任一凸部211的宽度与相邻两个凸部211的间距之和等于所述预设值。

请参阅图10，为本申请一实施例提供的一个纹理区域21的凸部211的宽度及相邻两个凸部211的间距的示意图。如图10所示，所述凸部211的宽度为a，相邻两个凸部211的间距为b，所述预设值为c，其中，a+b＝c。

其中，所述预设值可根据实际需求设定。在一些实施例中，所述预设值可为20μm-150μm中的值。通过设置每一包括凸部211的纹理区域21中任一凸部211的宽度与所述纹理区域21的相邻两个凸部211的间距之和在该范围内，能够呈现较为明显的双重光影效果。其中，当每一包括凸部211的纹理区域21中任一凸部211的宽度与所述纹理区域21的相邻两个凸部211的间距之和大于150μm时，可能凸部211的宽度过大，会使得从肉眼可看到纹理层20的纹路，视觉上较为粗糙，影响美观，或者可能相邻两个凸部211的间距过大，单位面积内经凸部211反射的光线较少，会使得纹理区域21的光影效果不够明显；当每一包括凸部211的纹理区域21中任一凸部211的宽度与所述纹理区域21的相邻两个凸部211的间距之和小于20μm时，可能凸部211的宽度过小，会使得反射的光线较少，视觉上可能会存在磨砂感，并且还会使得凸部211的宽度变化的范围较小，即，不同纹理区域21的凸部211的宽度在较小的范围内变化，进而使得多个纹理区域21亮暗变化效果不够明显，此外，宽度过小不易加工。

在一些实施例中，前述的所述纹理层20的至少部分纹理区域21沿预设方向依次排布，所述至少部分纹理区域21的多个凸部211的宽度沿所述预设方向呈线性变化，即所述至少部分纹理区域21的多个凸部211的宽度沿所述预设方向逐渐增加或逐渐减小，相邻两个纹理区域21的凸部211的宽度沿所述预设方向逐渐增加或逐渐减小。其中，所述预设方向平行于所述基材层10。所述预设方向可根据实际需求设定。例如，所述预设方向可为顺时针方向、逆时针方向、水平方向、竖直方向等。

其中，通过设置所述至少部分纹理区域21的多个凸部211的宽度沿所述预设方向逐渐增加或逐渐减小，可使得所述至少部分纹理区域21共同呈现出沿所述预设方向从亮到暗或者从暗到亮的亮度变化较为舒缓的视觉效果。

请参阅图11，为本申请一实施例提供的至少部分纹理区域21的多个凸部211的宽度沿所述预设方向呈阶跃式变化的示意图。在一些实施例中，如图11所示，前述的所述纹理层20的至少部分纹理区域21沿预设方向依次排布，所述至少部分纹理区域21的多个凸部211的宽度沿所述预设方向呈阶跃式变化。

其中，相邻两个纹理区域21的凸部211的宽度沿所述预设方向可以阶跃式递增或者阶跃式递减进行变化。

其中，通过设置所述至少部分纹理区域21的宽度沿所述预设方向呈阶跃式变化，可使得所述多个纹理区域21共同呈现出沿所述预设方向亮、暗交替变换的亮度变化较为多样的视觉效果。

请参阅图12至图17，图12为图4中凸部211的截面示意图，图13为图5中凸部211的截面示意图，图14为图6中凸部211的截面示意图，图15为图7中凸部211的截面示意图，图16为图8中凸部211的截面示意图，图17为图9中凸部211的截面示意图。

其中，图12示意了图4中凸部211的宽度与相邻两个凸部211的间距，图13示意了图5中凸部211的宽度与相邻两个凸部211的间距，图14示意了图6中凸部211的宽度与相邻两个凸部211的间距，图15示意了图7中凸部211的宽度与相邻两个凸部211的间距，图16示意了图8中凸部211的宽度与相邻两个凸部211的间距，图17示意了图9中凸部211的宽度与相邻两个凸部211的间距。

如图12至图17所示，纹理区域21h的凸部211的宽度为a1，相邻两个凸部211的间距为b1，纹理区域21i的凸部211的宽度为a2，相邻两个凸部211的间距为b2，纹理区域21j的凸部211的宽度为a3，相邻两个凸部211的间距为b3，纹理区域21k的凸部211的宽度为a4，相邻两个凸部211的间距为b4，纹理区域21n的凸部211的宽度为a5，相邻两个凸部211的间距为b5，纹理区域21m的凸部211的宽度为a6，相邻两个凸部211的间距为b6。其中，a1+b1＝a2+b2＝a3+b3＝a4+b4＝a5+b5＝a6+b6＝c。

在一些实施例中，所述纹理区域21h、纹理区域21i、纹理区域21j、纹理区域21k、纹理区域21n及纹理区域21m沿所述预设方向依次邻接，其中，a1至a6可逐渐增加，b1至b6可逐渐减小；或者，a1至a6可逐渐减小，b1至b6可逐渐增加。使得所述纹理区域21h、纹理区域21i、纹理区域21j、纹理区域21k、纹理区域21n及纹理区域21m共同呈现出沿所述预设方向从亮到暗或者从暗到亮的视觉效果。在其它实施例中，a1至a6、b1至b6可呈阶跃式变化，使得所述纹理区域21h、纹理区域21i、纹理区域21j、纹理区域21k、纹理区域21n及纹理区域21m共同呈现出沿所述预设方向亮暗交替变换的视觉效果。

在一些实施例中，相邻两个纹理区域21的多个凸部211的宽度不同，且高度相同。即，每一包括凸部211的纹理区域21的所有凸部211的宽度相同，不同纹理区域21的凸部211的宽度不同，每一包括凸部211的纹理区域21的所有凸部211的高度相同，不同纹理区域21的凸部211的高度相同。

其中，在所述相邻两个纹理区域21的多个凸部211的宽度不同时，通过设置所述相邻两个纹理区域21的多个凸部211的高度相同，使得在制作所述纹理层20时，可通过仅改变所述至少部分纹理区域21的多个凸部211的宽度，来达到不同纹理区域21的亮暗的视觉效果，减少加工工作量，降低加工成本。并且，当同时改变不同纹理区域21的凸部211的宽度和高度时，要达到不同纹理区域21的亮暗的视觉效果，对于不同纹理区域21的凸部211高度和宽度的设计较为复杂，工作量较大。

在一些实施例中，相邻两个纹理区域21的多个凸部211的宽度相同，相邻两个纹理区域21的多个凸部211的高度不同。即，每一包括凸部211的纹理区域21的所有凸部211的宽度相同，不同纹理区域21的凸部211的宽度相同，每一包括凸部211的纹理区域21的所有凸部211的高度相同，不同纹理区域21的凸部211的高度不同。

其中，在所述相邻两个纹理区域21的多个凸部211的宽度相同时，通过设置所述相邻两个纹理区域21的多个凸部211的高度不同，可使得所述至少部分纹理区域21呈现出亮暗变化的视觉效果。

在一些实施例中，在相邻两个纹理区域21的多个凸部211的宽度相同，相邻两个纹理区域21的多个凸部211的高度不同，且所述纹理层20的至少部分纹理区域21沿所述预设方向依次排布时，所述至少部分纹理区域21的多个凸部211的高度可沿所述预设方向呈线性变化，即所述至少部分纹理区域21的多个凸部211的高度可沿所述预设方向逐渐增加或逐渐减小，相邻两个纹理区域21的凸部211的高度沿所述预设方向逐渐增加或逐渐减小。

其中，通过设置所述至少部分纹理区域21的多个凸部211的高度沿所述预设方向逐渐增加或逐渐减小，可使得所述至少部分纹理区域21共同呈现出沿所述预设方向从亮到暗或者从暗到亮的亮度变化较为舒缓的视觉效果。

请参阅图18，为本申请一实施例提供的至少部分纹理区域21的多个凸部211的高度沿所述预设方向呈阶跃式变化的示意图。在一些实施例中，在相邻两个纹理区域21的多个凸部211的宽度相同，相邻两个纹理区域21的多个凸部211的高度不同，且所述纹理层20的至少部分纹理区域21沿所述预设方向依次排布时，所述多个纹理区域21的多个凸部211的高度沿所述预设方向呈阶跃式变化。如图18所示，至少部分纹理区域21的多个凸部211的高度沿所述预设方向呈阶跃式变化，即沿所述预设方向，凸部211的高度从h1递增至h2，在递增至h2时，高度阶跃式降低至h1，再从h1递增至h2。

其中，相邻两个纹理区域21的凸部211的高度可沿所述预设方向可以阶跃式递增或者阶跃式递减进行变化。

其中，通过设置所述至少部分纹理区域21的高度沿所述预设方向呈阶跃式变化，可使得所述多个纹理区域21共同呈现出沿所述预设方向亮、暗交替变换的亮度变化较为多样的视觉效果。

在一些实施例中，相邻两个纹理区域21的多个凸部211的宽度不同，相邻两个纹理区域21的多个凸部211的高度不同。即，每一包括凸部211的纹理区域21的所有凸部211的宽度相同，不同纹理区域21的凸部211的宽度不同，每一包括凸部211的纹理区域21的所有凸部211的高度相同，不同纹理区域21的凸部211的高度不同。

其中，通过设置相邻两个纹理区域21的多个凸部211的宽度及高度均不同，可使得所述多个纹理区域21呈现出亮暗变化的视觉效果。

在一些实施例中，在相邻两个纹理区域21的多个凸部211的宽度不同，相邻两个纹理区域21的多个凸部211的高度不同，且所述纹理层20的至少部分纹理区域21沿所述预设方向依次排布时，所述至少部分纹理区域21的多个凸部211的宽度可沿所述预设方向呈线性变化或者呈阶跃式变化，所述至少部分纹理区域21的多个凸部211的高度可沿所述预设方向呈线性变化或者呈阶跃式变化。

在一些实施例中，所述凸部211的宽度大于20μm且小于150μm，当所述凸部211的宽度大于150μm时，肉眼可看到纹理层20的纹路，视觉上较为粗糙，影响美观；当所述凸部211的宽度小于20μm时，凸部211的宽度过小会使得进入肉眼的光线较少，视觉上可能会存在磨砂感、雾感，并且，凸部211的宽度过小会使得凸部211的宽度变化范围小，即，不同纹理区域21的凸部211的宽度在较小的范围内变化，进而使得多个纹理区域21亮暗变化效果不够明显，此外，宽度过小不易加工。

在一些实施例中，所述凸部211的高度大于0且小于等于15μm，当所述凸部211的高度大于15μm时，为了通过改变凸部211的高度实现不同纹理区域21的亮暗效果，凸部211高度的调整范围的上限值较大，会使得所述光学结构100较厚，不利于终端设备的轻薄化，并且凸部211的高度大于15μm不易加工。在一些实施例中，所述凸部211的高度大于等于7μm且小于等于10μm，凸部211的高度在该范围内变化，相较于位于该范围外，能够达到更明显的亮暗效果。

在一些实施例中，所述多个凸部211的截面的形状包括三角形、抛物线形、弧形、多边形中的至少一种。每一凸部211的截面为沿着垂直于所述基材层且垂直于所述凸部211的延伸方向的方向对所述凸部211截取得到的横截面。

在一些实施例中，所述多个凸部211的截面的形状包括三角形及抛物线形中的至少一种。

其中，通过设置所述凸部211的截面形状为三角形及抛物线形中的至少一种，可增加反射面，使得经凸部211反射的光线较多，进而使得所述纹理层20的多个纹理区域21的双重光影效果更明显。

其中，不同纹理区域21中的凸部211的截面形状可根据实际需求设定。

在一些实施例中，同一纹理区域21的多个凸部211的截面形状可相同或不同，例如，同一纹理区域21的多个凸部211的截面形状均为三角形或者均为抛物线形；或者，多个凸部211中部分凸部211的截面形状为三角形，其它部分凸部211的截面形状为抛物线形。

在一些实施例中，相邻两个纹理区域21的多个凸部211的截面形状可相同或不同，例如，相邻两个纹理区域21的多个凸部211的截面形状均为三角形或者均为抛物线形；或者，相邻两个纹理区域21的其中一个纹理区域21的凸部211的截面形状均为三角形，另一个纹理区域21的凸部211的截面形状均为抛物线形。

显然，还可所述纹理层20的多个纹理区域21中，每一包括凸部211的纹理区域21的凸部211的截面形状不同，相邻两个纹理区域21的多个凸部211的截面形状不同。

请参阅图19，图19为本申请一实施例提供的光学结构100的截面结构示意图。在一些实施例中，如图19所示，所述光学结构100包括如前所述的基材层10、纹理层20以及镀膜层30，所述镀膜层30设置于所述纹理层20的远离所述基材层10的一侧，所述镀膜层30至少覆盖所述多个纹理区域21，以增强所述多个纹理区域21的反射光线的强度。

其中，所述镀膜层30可包括氧化物层以及金属层中的至少一种。所述金属层例如可为铟层、银层、铝层、镁层等。所述氧化层可包括二氧化硅层、二氧化钛层中的至少一种。

在一些实施例中，所述镀膜层30包括氧化物层以及金属层。

在一些实施例中，所述镀膜层30包括层叠设置的二氧化钛层、二氧化硅层、铟层、二氧化硅层以及二氧化钛层。

其中，通过在所述纹理层20的远离所述基材层10的一侧设置所述镀膜层30，使得入射光从所述基材层10的远离所述纹理层20的一侧进入，并经过所述纹理层20到达所述镀膜层30时，镀膜层30能够提高入射光在所述多个纹理区域21的反射率，而增强所述多个纹理区域21的反射光线的强度，从而能够使得所述多个纹理区域21呈现的双重光影效果更明显。

请参阅图20，图20为本申请另一实施例提供的光学结构100的截面结构示意图。在一些实施例中，如图20所示，所述镀膜层30设置于所述基材层10的远离所述纹理层20的一侧。

其中，通过将所述镀膜层30设置于所述基材层10的远离所述纹理层20的一侧，使得入射光从所述纹理层20的远离所述基材层10的一侧进入，并经过所述基材层10到达所述镀膜层30时，镀膜层30能够提高入射光在所述多个纹理区域21的反射率，而增强所述多个纹理区域21的反射光线的强度，从而能够使得所述多个纹理区域21呈现的双重光影效果更明显。

其中，所述氧化物层可用于提高所述金属层在所述纹理层20上的粘附力，使金属层不易脱落，还可用于通过改变氧化物层的厚度来改变折射率，而改变所述金属层所呈现的颜色，例如使得颜色更深或者更浅。

在一些实施例中，如图19与图20所示，所述光学结构100还包括保护层40，设置于所述镀膜层30的远离所述纹理层20的一侧，所述保护层40至少覆盖所述多个纹理区域21。

其中，所述保护层40可为油墨层或者其它涂料层。

其中，所述保护层40可由绝缘材料制成。

其中，在所述镀膜层30的远离所述纹理层20的一侧设置所述保护层40，一方面由于所述镀膜层30可能会存在一些缝隙，可通过所述保护层40遮盖所述镀膜层30的缝隙，防止漏光导致反射率降低，另一方面所述保护层40可保护及隔离所述镀膜层30，防止其脱落导致反射率降低，以及防止所述镀膜层30与终端内部的器件直接接触造成短路等。

在一些实施例中，所述基材层10包括透明聚合物层以及玻璃层中的至少一种。

其中，所述透明聚合物层可选自PET(聚对苯二甲酸乙二醇酯)、PC(聚碳酸酯)、PMMA(聚甲基丙烯酸甲酯)及TPU(热塑性聚氨酯弹性体)中的至少一种。

在一些实施例中，所述基材层10与所述纹理层20为一体结构。具体的，对一材料层进行表面处理得到所述纹理层20，该材料层的剩余部分为所述基材层10。例如，对玻璃层进行刻蚀得到所述纹理层20，该玻璃层的剩余部分即为所述基材层10。又例如，对透明聚合物层进行热压处理得到所述纹理层20，该透明聚合物层的剩余部分即为所述基材层10。

在一些实施例中，所述基材层10与所述纹理层20可为分层结构。

本申请实施例还提供一种终端壳体200，所述终端壳体200包括前述的任一实施例提供的光学结构100。

本申请实施例提供的终端壳体200的光学结构100，通过设置纹理层20的相邻两个纹理区域21的凸部211的宽度不同和/或高度不同，能够使得相邻两个纹理区域21的凸部211对光的反射和折射效果不一致，进而使得不同纹理区域21宏观上呈现出亮暗的光影效果，从而使得所述终端壳体200不仅可呈现出所述至少部分纹理区域21的多个凸部211自身排布产生的光影纹理，还呈现出不同纹理区域21亮暗不一致的光影效果，从而使得所述终端壳体200呈现出双重光影的光效，视觉效果更加丰富，美观度得到显著提高。

请参阅图21，图21为本申请一实施例提供的终端壳体200的截面结构示意图。如图20所示，所述终端壳体200包括前述的光学结构100以及透明后盖50，所述透明后盖50用于封盖终端的背面，所述光学结构100设置于所述透明后盖50的靠近终端的内部的一侧，即位于所述透明后盖50的内表面。其中，所述光学结构100的基材层10与所述透明后盖50的内表面贴合，可在所述基材层10与透明后盖50之间设置光学胶而将所述光学结构100粘附在所述透明后盖50的内表面。其中，在一些实施例中，所述基材层10包括光学胶层，用于与所述透明后盖50的内表面贴合。

其中，所述透明后盖50可由透明聚合物或者玻璃制成。

其中，所述镀膜层30及所述保护层40位于所述透明后盖50的内表面。

在一些实施例中，所述光学结构100可作为所述终端壳体200的透明后盖50。

请参阅图22，为本申请另一实施例提供的终端壳体200的截面结构示意图。在一些实施例中，如图22所示，所述光学结构100构成所述终端壳体200的透明后盖50。

其中，在一些实施例中，在所述光学结构100作为所述透明后盖50时，所述光学结构100可包括层叠设置的保护层40、镀膜层30、纹理层20及基材层10，且所述保护层40、镀膜层30及纹理层20位于所述透明后盖50的内表面。其中，所述基材层10可为透明聚合物层。

在其它实施例中，在所述光学结构100作为所述透明后盖50时，所述光学结构100可包括层叠设置的纹理层20、基材层10、镀膜层30及保护层40，且所述基材层10与所述纹理层20为一体结构，所述纹理层20位于所述透明后盖50的外表面。其中，可通过在玻璃上进行表面处理得到所述基材层10及所述纹理层20。

在一些实施例中，所述纹理层20的远离所述基材层10的一侧可设置疏水疏油层，例如AF(Anti-fingerprint，防指纹)层，以保护所述纹理层20避免受到物理损伤或化学腐蚀。

本申请实施例还提供一种终端，所述终端包括前述的终端壳体200，所述终端壳体200用于封盖所述终端的背面，所述终端的背面与所述终端的屏幕所在的面相对。其中，所述终端可为手机、电脑、平板、可穿戴设备、显示屏等电子设备，或者其它类型的电子设备。

本申请实施例提供的终端的背面设置有所述光学结构100，可使得所述终端的背面不仅可呈现出所述至少部分纹理区域21的多个凸部211自身排布产生的光影纹理，还呈现出不同纹理区域21亮暗不一致的光影效果，从而使得所述终端的背面呈现出双重光影的光效，视觉效果更加丰富，美观度得到显著提高。

本申请实施例还提供一种光学结构的制作方法，所述光学结构的制作方法包括以下步骤：提供所述基材层10；在所述基材层10上形成纹理层20，所述纹理层20包括邻接的多个纹理区域21，所述纹理层20的至少部分纹理区域21包括间隔设置的多个凸部211，所述多个凸部211沿所述基材层10的表面延伸，相邻两个纹理区域21的凸部211的宽度不同和/或高度不同。

其中，在所述基材层10上形成所述纹理层20，可为在所述基材层10上形成材料层，再对所述材料层进行处理而形成所述纹理层20，或者在所述基材层10上直接进行处理而得到所述纹理层20。

其中，所述光学结构的制作方法可用于制作前述的光学结构100。

在一些实施例中，所述在所述基材层10上形成纹理层20，具体可包括：制备得到转印模具，所述转印模具具有与所述纹理层20的多个纹理区域21成镜面的图形；通过所述转印模具在所述基材层10上形成所述纹理层20。

其中，可根据纹理层20的结构确定纹理数据，例如，所述至少部分纹理区域21的多个凸部211的高度和宽度，每一包括凸部211的纹理区域21的相邻两个凸部211的间距，并将纹理数据传入电脑，再通过激光雕刻对初始模具进行曝光、显影、烘干、等离子清洗等操作，得到纹理模具，该纹理模具具有与所述纹理层20的多个纹理区域21成镜面的图形，然后对该纹理模具进行转印、固化等操作，得到所述转印模具，所述转印模具具有与所述纹理层20的多个纹理区域21成镜面的图形。

其中，可通过所述转印模具采用UV转印、纳米压印、热压等方式在所述基材层10上形成所述纹理层20。例如，通过所述转印模具采用UV转印在所述基材层10上形成所述纹理层20，具体的，在所述转印模具上涂覆UV胶，然后将所述基材层10覆盖在UV胶上，再使用辊轮滚压所述基材层10，然后在所述转印模具的远离UV胶的一侧使用紫外光照射，以固化UV胶，最后将所述UV胶与所述转印模具分离，从而得到所述纹理层20。又例如，通过热压成型的方式将所述转印模具的图形转印在所述基材层10上而形成所述纹理层20，具体的，加热所述基材层10并将所述转印模具压制在所述基材层10上，冷却所述基材层10，然后将所述转印模具与所述基材层10分离，而得到所述纹理层20。

在一些实施例中，所述基材层10为玻璃层，所述在所述基材层10上形成纹理层20，具体可包括：在所述基材层10上形成光刻胶层；去除所述光刻胶层的对应于所述多个纹理区域21的部分，以露出所述基材层10的对应于所述多个纹理区域21的部分；对所述基材层10的对应于所述多个纹理区域21的部分进行刻蚀，而形成所述多个纹理区域21的多个凸部211，从而形成所述纹理层20。

其中，可通过激光直写、菲林曝光等方式将所述光刻胶层的对应于所述多个纹理区域21的部分曝光，再使用显影液将所述光刻胶层的被曝光的部分去除，以露出所述基材层10的对应于所述多个纹理区域21的部分。

其中，可通过干法刻蚀工艺和/或湿法刻蚀工艺对所述基材层10的对应于所述多个纹理区域21的部分进行刻蚀。

在另一些实施例中，所述基材层10为玻璃层，所述在所述基材层10上形成纹理层20，具体可包括：在所述基材层10上形成光刻胶层；对所述光刻胶层进行曝光及显影操作，使得所述光刻胶层的对应于所述多个纹理区域21的部分的厚度小于所述光刻胶层的其它部分的厚度；对所述基材层10的对应于所述多个纹理区域21的部分进行刻蚀，而形成所述多个纹理区域21的多个凸部211，从而形成所述纹理层20。

在一些实施例中，在形成所述纹理层20之后，所述光学结构的制作方法还包括：在所述纹理层20的远离所述基材层10的一侧形成所述镀膜层30；在所述镀膜层30的远离所述纹理层20的一侧形成所述保护层40。

其中，可通过化学气相沉积或者物理气相沉积方式在所述纹理层20的远离所述基材层10的一侧沉积形成所述镀膜层30。例如，通过物理气相沉积方式在所述纹理层20的远离所述基材层10的一侧依次沉积二氧化钛层、二氧化硅层、铟层、二氧化硅层及二氧化钛层，而形成所述镀膜层30。

其中，可在所述镀膜层30的远离所述纹理层20的一侧印刷油墨，并在75-85℃的温度下烘烤油墨，以形成所述保护层40。

在其它一些实施例中，在形成所述纹理层20之后，所述光学结构的制作方法还包括：在所述基材层10的远离所述纹理层20的一侧形成所述镀膜层30；在所述镀膜层30的远离所述纹理层20的一侧形成所述保护层40。

其中，可通过化学气相沉积或者物理气相沉积方式在所述基材层10的远离所述纹理层20的一侧形成所述镀膜层30。形成的过程可参考前述的在所述纹理层20的远离所述基材层10的一侧沉积形成所述镀膜层30。

在一些实施例中，所述基材层10为玻璃层，可在所述玻璃层的远离所述纹理层20的一侧依次形成二氧化硅层或者铬层、二氧化钛层、二氧化硅层、铟层、二氧化硅层及二氧化钛层，而形成所述镀膜层30，其中，所述二氧化硅层或者铬层可增加所述二氧化钛层与所述基材层10的层间附着力，使得所述基材层10与所述镀膜层30结合更牢固。

需要说明的是，对于前述的各方法实施例，为了简单描述，故将其都表述为一系列的动作组合，但是本领域技术人员应该知悉，本申请并不受所描述的动作顺序的限制，因为依据本申请，某些步骤可以采用其他顺序或者同时进行。其次，本领域技术人员也应该知悉，说明书中所描述的实施例均属于优选实施例，所涉及的动作和模块并不一定是本申请所必须的。

以上是本申请实施例的实施方式，应当指出，对于本技术领域的普通技术人员来说，在不脱离本申请实施例原理的前提下，还可以做出若干改进和润饰，这些改进和润饰也视为本申请的保护范围。

Claims (14)

1.一种光学结构，其特征在于，所述光学结构包括：

基材层；

纹理层，设于所述基材层上，所述纹理层包括邻接的多个纹理区域，所述纹理层的至少部分纹理区域包括间隔设置的多个凸部，所述多个凸部沿所述基材层的表面延伸，相邻两个纹理区域的凸部的宽度不同和/或高度不同。

2.根据权利要求1所述的光学结构，其特征在于，纹理区域的多个凸部等间距设置，且纹理区域的多个凸部的宽度相同。

3.根据权利要求2所述的光学结构，其特征在于，相邻两个纹理区域的凸部的宽度不同，任一纹理区域中凸部的宽度与所述纹理区域的相邻两个凸部的间距之和等于预设值，任意两个纹理区域的凸部的宽度与相邻两个凸部的间距之和相等。

4.根据权利要求3所述的光学结构，其特征在于，所述预设值为20μm-150μm中的值。

5.根据权利要求3所述的光学结构，其特征在于，相邻两个纹理区域的多个凸部的高度相同。

6.根据权利要求3所述的光学结构，其特征在于，所述至少部分纹理区域沿预设方向依次排布，所述至少部分纹理区域的多个凸部的宽度沿所述预设方向呈线性变化或者呈阶跃式变化。

7.根据权利要求2所述的光学结构，其特征在于，纹理区域的多个凸部的高度相同，相邻两个纹理区域的凸部的高度不同。

8.根据权利要求7所述的光学结构，其特征在于，所述至少部分纹理区域沿预设方向依次排布，所述至少部分纹理区域的多个凸部的高度沿所述预设方向呈线性变化或者呈阶跃式变化。

9.根据权利要求1所述的光学结构，其特征在于，所述光学结构还包括镀膜层，设置于所述纹理层的远离所述基材层的一侧，或者所述镀膜层设置于所述基材层的远离所述纹理层的一侧。

10.根据权利要求9所述的光学结构，其特征在于，所述光学结构还包括保护层，设置于所述镀膜层的远离所述纹理层的一侧。

11.根据权利要求1-10任一项所述的光学结构，其特征在于，所述基材层包括透明聚合物层以及玻璃层中的至少一种。

12.根据权利要求1-10任一项所述的光学结构，其特征在于，所述基材层与所述纹理层为一体结构。

13.一种终端壳体，其特征在于，所述终端壳体包括如权利要求1-12任一项所述的光学结构。

14.一种终端，其特征在于，所述终端包括如权利要求13所述的终端壳体。