CN216234833U - 硅片搬运系统 - Google Patents

Abstract

本申请提供一种硅片搬运系统，涉及电池生产领域。硅片搬运系统包括前工序载板、后工序载板、搬运装置及升降台；前工序载板具有多个载板槽，用于承载硅片，后工序载板具有具有贯穿其厚度方向的多个载板孔，载板孔用于承载硅片；搬运装置包括移载机构和安装于移载机构的第一吸持件，第一吸持件用于吸持或释放硅片，移载机构能够驱动第一吸持件在载板槽的上方和载板孔的上方往返运动；升降台上安装有能够穿过载板孔的第二吸持件，升降台能够带动第二吸持件升降，第二吸持件被配置成用于吸持在载板孔的上方的硅片并将硅片置于载板孔。本申请的硅片搬运系统，能够减小硅片划伤或被污染的几率。

Description

硅片搬运系统

技术领域

本申请涉及电池片生产设备领域，具体而言，涉及一种硅片搬运系统。

背景技术

镀膜在电池片制作过程中是比较关键的环节，特别是在电池片上镀两种不同的膜层时，在电池片上镀上一层膜后需要将电池片快速洁净地传输至下一镀膜设备进行镀膜，从而保证两种镀膜在最短时间完成。

现有技术中，硅片通常是通过花篮来实现前工序载板和后工序载板的转移，采用花篮时，不能采用输送带直接将前工序载板中的硅片输送进花篮，而是需要移载装置将前工序载板中的硅片取出放置在中转平台，再由搬运装置一片片地将中转平台上的硅片传输至花篮中，再由花篮作为承载介质对镀膜的硅片进行传输，然后再通过另一搬运装置从花篮中将镀膜后的硅片一片片取出放置在另一中转平台上，接着再由另一移载装置将硅片放置到对应的后工序载板，后续再进行下一镀膜工序。该种方式需要经过较多的操作，才能实现硅片在两种镀膜工序设备之间的转移，不仅会使得产能节拍降低，容易造成硅片划伤，或者硅片已镀膜的表面被污染而影响下工序镀膜质量。

实用新型内容

本申请提供一种硅片搬运系统，能够减小硅片划伤或被污染的几率。

本申请实施例提供一种硅片搬运系统，包括：

前工序载板，具有多个载板槽，用于承载硅片；

后工序载板，具有贯穿其厚度方向的多个载板孔，载板孔用于承载硅片；

搬运装置，搬运装置包括移载机构和安装于移载机构的第一吸持件，第一吸持件用于吸持或释放硅片，移载机构能够驱动第一吸持件在载板槽的上方和载板孔的上方往返运动；以及

升降台，升降台上安装有穿过载板孔的第二吸持件，升降台能够带动第二吸持件升降，第二吸持件被配置成用于吸持在载板孔的上方的硅片并将硅片置于载板孔。

在上述技术方案中，通过移载机构驱动第一吸持件运动至前工序载板的上方，然后第一吸持件将前工序载板的载板槽内的硅片吸持，再通过移载机构驱动第一吸持件运动至后工序载板的上方，第一吸持件释放硅片，升降台上升，第二吸持件穿过载板孔到达载板孔的上方，第二吸持件吸持第一吸持件释放的硅片，然后升降台下降，第二吸持件将吸持的硅片置于后工序载板的载板孔的支撑部固定。由于第二吸持件在载板孔的上方通过吸持的方式将第一吸持件释放的硅片接起，然后再进行下降将硅片放置在载孔板内，这种方式有利于减小硅片的损伤。另外，本申请实施例的硅片搬运系统，硅片搬运的整个过程无需通过花篮和不同的中转平台、搬运装置进行搬运，通过搬运装置和升降台可完成硅片在前工序载板和后工序载板之间的搬运，避免了硅片搬运的过多操作，能够减小硅片划伤或被污染的几率，并能够提高搬运效率。

在一种可能的实施方案中，第二吸持件被配置成在第一吸持件移动至载板孔的上方时上升以吸持硅片，并能够在第一吸持件释放硅片后下降以将硅片置于载板孔。

在上述技术方案中，由于在第一吸持件移动至载板孔的上方时，第二抵持件能够将硅片吸持，然后第一吸持件释放硅片，第二吸持件再下降将硅片置于载板孔，硅片转移的整个过程均有吸持的作用，不容易在重力作用下降的过程中与第二吸持件发生碰撞产生破损。

在一种可能的实施方案中，移载机构包括横移搬运模组和安装于横移搬运模组的升降模组，第一吸持件安装于升降模组，横移搬运模组能够带动升降模组做直线往复运动。

在上述技术方案中，通过升降模组升降能够带动第一吸持件升降，从而能够方便将前工序载板上的硅片吸持起来，由于升降模组安装于横移搬运模组，且横移搬运模组能够带动升降模组做直线往复运动，从而将第一吸持件吸持的硅片传输至后工序载板上方。

在一种可能的实施方案中，升降模组包括有多个升降件，每个升降件均安装有第一吸持件，前工序载板具有多排用于承载硅片的载板槽，多个第一吸持件能够吸持至少一排载板槽中的硅片。

在上述技术方案中，多个升降件升降，能够使得多个第一吸持件将一排载板槽中的硅片吸持，然后横移搬运模组带动多个升降件一同运动，能够将多个第一吸持件吸持的多个硅片传输至后工序载板上方，提高了搬运效率。

在一种可能的实施方案中，横移搬运模组上安装有驱动机构，升降件与横移搬运模组可滑动地连接，驱动机构用于驱动多个升降件沿横移搬运模组的长度方向运动以调节相邻两个升降件的距离。

在上述技术方案中，通过驱动机构驱动升降件沿横移搬运模组的长度方向运动来调节相邻两个升降件的距离，从而能够适应于后工序载板的载板孔之间的距离，以便更加精确地传输至对应的载板孔上方。

在一种可能的实施方案中，硅片搬运系统还包括硅片定位识别系统和控制器；硅片定位识别系统设于升降台的上方，用于获取第二吸持件吸持的硅片的横向位置，并将横向位置信息传递给控制器；控制器根据横向位置信息能够控制升降台沿横向运动以将第二吸持件吸持的硅片对准载板孔，并能够控制升降台沿竖向运动以将第二吸持件吸持的硅片放置于载板孔。

在上述技术方案中，通过硅片定位识别系统和控制器的配合，能够将硅片比较精确地调控到对准载板孔的位置，并将第二吸持件吸持的硅片放置于载板孔，能够进一步提高硅片放置于载板孔的准确性。

在一种可能的实施方案中，载板孔设置有多排，一排载板孔中的每个载板孔对应设置一个升降台，每个升降台能够独立进行横向运动。

在上述技术方案中，由于一排载板孔中的每个载板孔对应设置一个升降台，从而能够通过多个升降台分别进行横向移动以精准地将多个硅片放置于一排载板孔。

在一种可能的实施方案中，升降台包括第一驱动件、第二驱动件、第三驱动件和第二吸持件，第三驱动件被构造成驱动第二吸持件沿第一预设方向运动，第二驱动件被构造成驱动第三驱动件沿第二预设方向运动，第一驱动件被构造成驱动第二驱动件沿第三预设方向运动，第一预设方向、第二预设方向和第三预设方向中的任一者为X方向，另一者为Y方向，余下的一者为Z方向。

在上述技术方案中，通过第一驱动件、第二驱动件和第三驱动件的配合，能够控制第二吸持件在X方向、Y方向和Z方向中的任意一个方向运动，从而能够比较精确地控制第二吸持件的位置，以方便吸持第一吸持件吸持的硅片。

在一种可能的实施方案中，硅片搬运系统还包括用于传输前工序载板的第一传输机构，第一传输机构用于将承载有硅片的前工序载板传输至第一吸持件的行程区域的下方，并能够将硅片被吸持后的前工序载板传输至第一吸持件的行程区域外。

在上述技术方案中，通过第一传输机构能够将承载有硅片的前工序载板传输至第一吸持件的行程区域的下方，以方便移载机构吸持硅片，而且，第一传输机构能够将硅片被吸持后的前工序载板传输至第一吸持件的行程区域外，从而能够进一步提高效率。

在一种可能的实施方案中，第一传输机构呈L型设置，第一传输机构具有沿传输方向依次设置的第一工位、第二工位和第三工位，第一吸持件能够在第二工位吸持硅片。

在上述技术方案中，第一传输机构呈L型设置能够节约占地空间。

在一种可能的实施方案中，硅片搬运系统还包括用于传输后工序载板的第二传输机构，第二传输机构用于将后工序载板传输至第一吸持件的行程区域的下方以承接硅片，并能够将承接有硅片的后工序载板传输至第一吸持件的行程区域外。

在上述技术方案中，通过第二传输机构能够将后工序载板传输至第一吸持件的行程区域的下方，以方便承接升降台吸持的硅片。而且，第二传输机构能够将承接有硅片的后工序载板传输至第一吸持件的行程区域外，从而能够进一步提高效率。

在一种可能的实施方案中，第二传输机构呈L型设置，第二传输机构具有沿传输方向依次设置的第四工位、第五工位和第六工位，第二吸持件能够在第五工位吸持硅片。

在上述技术方案中，第二传输机构呈L型设置能够节约占地空间。

附图说明

为了更清楚地说明本申请实施例的技术方案，下面将对实施例中所需要使用的附图作简单地介绍，应当理解，以下附图仅示出了本申请的某些实施例，因此不应被看作是对范围的限定，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他相关的附图。

图1为本申请实施例的第一视角下的硅片搬运系统的结构示意图；

图2为本申请实施例的第二视角下的硅片搬运系统的结构示意图；

图3为本申请实施例的第三视角下的硅片搬运系统的结构示意图；

图4为本申请实施例的搬运装置的结构示意图；

图5为本申请实施例的升降台的结构示意图。

图标：10-硅片搬运系统；11-前工序载板；111-载板槽；12-后工序载板；121-载板孔；13-搬运装置；131-移载机构；1311-横移搬运模组；1311a-连接件；1312-升降模组；13121-升降件；132-第一吸持件；133-导轨；1331-第一轨道；1332-第二轨道；14-升降台；141-第一驱动件；142-第二驱动件；143-第三驱动件；144-第二吸持件；15-硅片定位识别系统；151-支架；152-CCD相机；16-第一传输机构；161-第一工位；162-第二工位；163-第三工位；17-第二传输机构；171-第四工位；172-第五工位；173-第六工位。

具体实施方式

为使本申请实施例的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合本申请实施例中的附图，对本申请实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例是本申请一部分实施例，而不是全部的实施例。通常在此处附图中描述和示出的本申请实施例的组件可以以各种不同的配置来布置和设计。

因此，以下对在附图中提供的本申请的实施例的详细描述并非旨在限制要求保护的本申请的范围，而是仅仅表示本申请的选定实施例。基于本申请中的实施例，本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本申请保护的范围。

应注意到：相似的标号和字母在下面的附图中表示类似项，因此，一旦某一项在一个附图中被定义，则在随后的附图中不需要对其进行进一步定义和解释。

在本申请的描述中，需要说明的是，术语“上”、“下”、“内”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，或者是该申请产品使用时惯常摆放的方位或位置关系，仅是为了便于描述本申请和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本申请的限制。此外，术语“第一”、“第二”、“第三”等仅用于区分描述，而不能理解为指示或暗示相对重要性。

在本申请的描述中，还需要说明的是，除非另有明确的规定和限定，术语“设置”、“安装”、“连接”应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或一体地连接；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连，可以是两个元件内部的连通。对于本领域的普通技术人员而言，可以具体情况理解上述术语在本申请中的具体含义。

实施例1

本实施例提供一种硅片搬运系统10，请参照图1-图3，其包括前工序载板11、后工序载板12、搬运装置13以及升降台14。

其中，前工序载板11具有多个载板槽111，载板槽111用于承载硅片，其主要用于承载经过一道镀膜工艺后的硅片。搬运装置13及升降台14主要用于将前工序载板11上的硅片转运至后工序载板12，其中，后工序载板12具有贯穿其厚度方向的载板孔121，载板孔121用于承载硅片。示例性地，载板孔121的孔壁包括用于承载硅片的支撑部，支撑部沿载板孔121的孔壁环设一圈，可以理解的是，支撑部也可以设在孔壁的部分区域，只要能够支撑硅片即可。

请参照图1-图4，搬运装置13包括移载机构131和安装于移载机构131的第一吸持件132，第一吸持件132用于吸持或释放硅片，移载机构131能够驱动第一吸持件132在前工序载板11的载板槽111上方和后工序载板12的载板孔121上方往返运动。

升降台14安装有能够穿过载板孔的第二吸持件144，升降台14能够带动第二吸持件144升降，第二吸持件144被配置成用于吸持在载板孔121的上方的硅片并将硅片置于载板孔121。可选地，第一吸持件132和第二吸持件144可采用非接触式吸盘，例如伯努力吸盘，能够减少对硅片的损伤。

通过移载机构131驱动第一吸持件132运动至前工序载板11的上方，然后第一吸持件132将前工序载板11的载板槽111内的硅片吸持，再通过移载机构131驱动第一吸持件132运动至后工序载板12的上方，第一吸持件132释放硅片，升降台14上升，第二吸持件144穿过载板孔121到达载板孔的上方，第二吸持件144吸持第一吸持件132释放的硅片，然后升降台14下降，第二吸持件144将吸持的硅片置于后工序载板12的载板孔121的支撑部上固定。需要说明的是，在具体操作时，可以是升降台14先上升，第二吸持件144上升到载板孔121的上方，然后第一吸持件132再释放硅片；也可以是第一吸持件132释放硅片后，升降台14上升，第二吸持件144上升到载板孔121的上方将释放的硅片吸持。由于第二吸持件144在载板孔121的上方通过吸持的方式将第一吸持件132释放的硅片接起，然后再进行下降将硅片放置在载板孔121内，这种方式有利于减小硅片的损伤。

另外，也可以是第二吸持件144被配置成在第一吸持件132移动至载板孔121的上方时上升以吸持硅片，并能够在第一吸持件132释放硅片后下降以将硅片置于载板孔121。即是说，第一吸持件132移动至载板孔121的上方时，第二吸持件144在第一吸持件132释放硅片之前或同时对硅片进行吸持，然后第一吸持件132释放硅片，第二吸持件144再下降将硅片置于载板孔121，硅片转移的整个过程均有吸持的作用，不容易在重力作用下降的过程中与第二吸持件144发生碰撞产生破损。

本申请实施例的硅片搬运系统10，硅片搬运的整个过程无需通过花篮和不同的中转平台、搬运装置13进行搬运，通过搬运装置13和升降台14可完成硅片在前工序载板11和后工序载板12之间的搬运，避免了硅片搬运的过多操作，能够减小硅片划伤或被污染的几率，并能够提高搬运效率。

进一步地，请继续参照图1-图4，移载机构131包括横移搬运模组1311和安装于横移搬运模组1311的升降模组1312，第一吸持件132安装于升降模组1312，横移搬运模组1311能够带动升降模组1312做直线往复运动。

通过升降模组1312升降能够带动第一吸持件132升降，从而能够方便将前工序载板11上的硅片吸持起来，由于升降模组1312安装于横移搬运模组1311，且横移搬运模组1311能够带动升降模组1312做直线往复运动，从而将第一吸持件132吸持的硅片传输至后工序载板12上方。

在一些实施方案中，横移搬运模组1311包括第一驱动部件和连接件1311a，升降模组1312安装于连接件1311a，第一驱动部件用于驱动连接件1311a做直线往复运动，硅片搬运系统10还包括导轨133，连接件1311a与导轨可滑动连接。

通过第一驱动部件驱动连接件1311a做直线往复运动，从而带动升降模组1312及第一吸持件132一同做直线往复运动。由于连接件1311a与导轨133可滑动连接，则第一驱动部件驱动连接件1311a沿着导轨133滑动做直线往复运动的过程中，运动更加平稳。

示例性地，导轨133位于前工序载板11、后工序载板12的上方一侧，导轨133包括第一轨道1331和第二轨道1332，连接件1311a的两端分别与第一轨道1331和第二轨道1332可滑动地连接。通过第一轨道1331和第二轨道1332共同限定连接件1311a的运动轨迹，使得连接件1311a运动时更加稳定。

示例性地，横移搬运模组1311的第一驱动部件可以是电机与丝杆的配合，电机的动力输出轴与丝杆同轴连接，丝杆与连接件1311a螺纹连接，通过电机驱动丝杆转动，从而转化为连接件1311a的直线往复运动。其中，丝杆安装于导轨133。需要说明的是，横移搬运模组1311的第一驱动部件也可以是气缸或者液压缸等，本申请实施例对第一驱动部件不做限定，只要能够驱动连接件1311a做直线往复运动即可。

在一些实施方案中，升降模组1312包括有多个升降件13121，每个升降件13121均安装有第一吸持件132，每个升降件13121均安装有第一吸持件132，前工序载板11具有多排用于承载硅片的载板槽111，多个第一吸持件132能够吸持一排载板槽111中的硅片，后工序载板12的载板孔121设置有多排，一排载板孔121中的每个载板孔121对应设置一个升降台14。

可选地，一排载板槽111的个数与一排载板孔121的个数相同。可以理解的是一排载板槽111的个数也可以小于一排载板孔121的个数。

示例性地，每个升降台14能够独立进行横向运动，即每个升降台14既可以单独沿X方向运动或沿Y方向运动，也可以单独沿X方向运动和沿Y方向运动。每个升降台14既可以独立地进行升降，也可以一同进行升降。

多个升降件13121升降，能够使得多个第一吸持件132将一排载板槽111中的硅片吸持，然后横移搬运模组1311带动多个升降件13121一同运动，能够将多个第一吸持件132吸持的多个硅片传输至后工序载板12的一排载板孔121上方，进一步提高了搬运效率。由于一排载板孔121中的每个载板孔121对应设置一个升降台14，从而能够通过多个升降台14分别进行横向移动以精准地将多个硅片放置于一排载板孔121。

示例性地，升降模组1312包括第二驱动部件和升降部，第二驱动部件可以为气缸或者液压缸等，第一吸持件132固定于升降部，第二驱动部件能够驱动升降部升降，从而带动第一吸持件132进行升降。

可选地，升降件13121与连接件1311a可滑动地连接，且连接件1311a上安装有驱动机构，驱动机构能够驱动升降件13121沿连接件1311a的长度方向运动，从而能够调整相邻两个升降件13121之间的距离，以适应后工序载板12的相邻两个载板孔121之间间距。示例性地，驱动机构可以是电机加丝杆的结构，每个升降件13121连接有滑块，滑块与丝杆螺纹连接，通过电机驱动丝杆转动转化为滑块的直线运动，从而使得升降件13121滑动。驱动机构也可以为气缸或液压缸设置，多个气缸或液压缸能够对应控制升降模组1312沿连接件1311a的长度方向运动。另外，需要说明的是本申请实施例对驱动机构不做限定，只要能够驱动升降件13121沿连接件1311a的长度方向运动即可。

请参照图5，示例性地，升降台14包括第一驱动件141、第二驱动件142、第三驱动件143和第二吸持件144，第三驱动件143被构造成驱动第二吸持件144沿第一预设方向运动，第二驱动件142被构造成驱动第三驱动件143沿第二预设方向运动，第一驱动件141被构造成驱动第二驱动件142沿第三预设方向运动，第一预设方向、第二预设方向和第三预设方向中的任一者为X方向，另一者为Y方向，余下的一者为Z方向。

通过第一驱动件141、第二驱动件142和第三驱动件143的配合，能够控制第二吸持件144在X方向、Y方向和Z方向中的任意一个方向运动，从而能够比较精确地控制第二吸持件144的位置，以方便吸持移载机构131上的硅片。其中，第一驱动件141、第二驱动件142和第三驱动件143均可以为电机加丝杆的驱动方式，也可以为气缸或者液压缸等驱动方式，本申请实施例不做具体限定。

进一步地，为了提高效率，硅片搬运系统10还包括用于传输前工序载板11的第一传输机构16，第一传输机构16用于将承载有硅片的前工序载板11传输至第一吸持件132的行程区域的下方，并能够将硅片被吸持后的前工序载板11传输至第一吸持件132的行程区域外。

通过第一传输机构16能够将承载有硅片的前工序载板11传输至第一吸持件132的行程区域的下方，以方便移载机构131吸持硅片，而且，第一传输机构16能够将硅片被吸持后的前工序载板11传输至第一吸持件132的行程区域外，如此流水线操作，从而能够进一步提高效率。

进一步地，硅片搬运系统10还包括用于传输后工序载板12的第二传输机构17，第二传输机构17用于将后工序载板12传输至第一吸持件132的行程区域的下方以承接硅片，并能够将承接有硅片的后工序载板12传输至第一吸持件132的行程区域外。

通过第二传输机构17能够将后工序载板12传输至第一吸持件132的行程区域的下方，以方便承接升降台14吸持的硅片。而且，第二传输机构17能够将承接有硅片的后工序载板12传输至第一吸持件132的行程区域外，从而能够进一步提高效率。

需要说明的是，第一吸持件132的行程区域指的是第一吸持件132沿直线往复运动能够到达的区域。

示例性地，第一传输机构16和第二传输机构17均呈L型设置，这样能够节约占地空间。可以理解的是，第一传输机构16和第二传输机构17也可以呈直线设置。其中，第一传输机构16和第二传输机构17均可以为皮带传输或链条传输等。

其中，第一传输机构16具有沿传输方向依次设置的第一工位161、第二工位162和第三工位163，其中，第一吸持件132能够在第二工位162吸持硅片。示例性地，传输至第一工位161的前工序载板11承载有硅片，传输至第二工位162的前工序载板的载板槽111内的硅片能够被第一吸持件132吸持，然后前工序载板传输至第三工位163。

第二传输机构17具有沿传输方向依次设置的第四工位171、第五工位172和第六工位173，第二吸持件144能够在第五工位172吸持硅片。其中，传输至第四工位171的后工序载板12无硅片，传输至第五工位172的后工序载板能够被第二吸持件放置硅片，然后从第五工位172传输至第六工位173。

实施例2

本实施例提供一种硅片搬运系统10，与实施例1的硅片搬运系统10相比，本实施例的硅片搬运系统10还包括硅片定位识别系统15和控制器；硅片定位识别系统15设于升降台14的上方，用于获取第二吸持件144上吸持的硅片的横向位置，并将横向位置信息传递给控制器；控制器根据横向位置信息能够控制升降台14沿横向运动以将第二吸持件144吸持的硅片对准载板孔121，并能够控制升降台14沿竖向运动以将第二吸持件144吸持的硅片放置于载板孔121。

通过硅片定位识别系统15和控制器的配合，能够将硅片比较精确地调控到对准载板孔121的位置，并将第二吸持件144吸持的硅片放置于载板孔121，能够进一步提高硅片放置于载板孔121的准确性。

示例性地，硅片定位识别系统15包括支架151和一排CCD相机152，每个CCD相机152对应拍摄一个升降台14，则通过一排CCD相机152同时进行拍摄对应第二吸持件144吸持的硅片的横向位置，并将横向位置信息传递给控制器，控制器根据多个横向位置信息分别控制对应的升降台14的第一驱动件141、第二驱动件142和第三驱动件143工作，将对应的硅片放置于对应载板孔121，能够提高效率，节约时间。需要说明的是，在其他实施例中，硅片定位识别系统15也可以采用红外感应装置等来获取第二吸持件144上吸持的硅片的位置。

实施例3

本实施例提供一种硅片搬运方法，硅片由实施例2的硅片搬运系统10进行搬运，搬运方法包括：

S1:通过第一传输机构16将承载有镀膜后的硅片的前工序载板11传输至第一吸持件132的行程区域并到达第二工位162。

S2:横移搬运模组1311的第一驱动部件驱动连接件1311a沿导轨133直线运动并带动升降模组1312及第一吸持件132运动至前工序载板11上方，升降模组1312下降带动第一吸持件132下降将前工序载板11的载板槽111内的硅片吸持。

S3:升降模组1312上升，驱动机构驱动升降组件沿连接件1311a的长度方向运动以调控相邻两个升降件13121的间距以适应后工序载板12的载板孔121的间距，且第一驱动部件驱动连接件1311a沿导轨133直线运动并带动升降模组1312及第一吸持件132运动至后工序载板12上方。

S4:升降模组1312下降，升降台14上升，第二吸持件144上升至载板孔121的上方，第二吸持件144吸持硅片然后第一吸持件132释放硅片。

S5：CCD相机152拍摄硅片的位置并将该位置信息传递给控制器，控制器控制第一驱动件141、第二驱动件142和第三驱动件143工作，实现对第二吸持件144吸持的硅片的位置的精确调控，从而将硅片精确地放置于对应的载板孔121内。

S6:第一传输机构16将前工序载板11按指定步长传送，第二传输机构17将后工序载板12按指定步长传送，分别为下一排硅片的取放做准备。

S7：重复上述步骤S2～S6，直至将前工序载板11承载的硅片全部放入后工序载板12的载板孔121内。

以上仅为本申请的优选实施例而已，并不用于限制本申请，对于本领域的技术人员来说，本申请可以有各种更改和变化。凡在本申请的精神和原则之内，所作的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本申请的保护范围之内。

Claims (12)

1.一种硅片搬运系统，其特征在于，包括：

前工序载板，具有多个载板槽，用于承载硅片；

后工序载板，具有贯穿其厚度方向的多个载板孔，所述载板孔用于承载所述硅片；

搬运装置，所述搬运装置包括移载机构和安装于所述移载机构的第一吸持件，所述第一吸持件用于吸持或释放所述硅片，所述移载机构用于驱动所述第一吸持件在所述载板槽的上方和所述载板孔的上方往返运动；以及

升降台，所述升降台上安装有能够穿过所述载板孔的第二吸持件，所述升降台能够带动所述第二吸持件升降，所述第二吸持件被配置成用于吸持在所述载板孔的上方的硅片并将硅片置于载板孔。

2.根据权利要求1所述的硅片搬运系统，其特征在于，所述第二吸持件被配置成在所述第一吸持件移动至所述载板孔的上方时上升以吸持所述硅片，并能够在所述第一吸持件释放所述硅片后下降以将所述硅片置于所述载板孔。

3.根据权利要求1所述的硅片搬运系统，其特征在于，所述移载机构包括横移搬运模组和安装于所述横移搬运模组的升降模组，所述第一吸持件安装于所述升降模组，所述横移搬运模组能够带动所述升降模组做直线往复运动。

4.根据权利要求3所述的硅片搬运系统，其特征在于，所述升降模组包括有多个升降件，每个所述升降件均安装有所述第一吸持件，所述前工序载板具有多排用于承载所述硅片的载板槽，多个所述第一吸持件能够吸持至少一排所述载板槽中的硅片。

5.根据权利要求4所述的硅片搬运系统，其特征在于，所述横移搬运模组上安装有驱动机构，所述升降件与所述横移搬运模组可滑动地连接，所述驱动机构用于驱动多个所述升降件沿所述横移搬运模组的长度方向运动以调节相邻两个所述升降件的距离。

6.根据权利要求1～5任一项所述的硅片搬运系统，其特征在于，所述硅片搬运系统还包括硅片定位识别系统和控制器；所述硅片定位识别系统设于所述升降台的上方，用于获取所述第二吸持件吸持的所述硅片的横向位置，并将所述横向位置信息传递给所述控制器；所述控制器根据所述横向位置信息能够控制所述升降台沿横向运动以将所述第二吸持件吸持的所述硅片对准所述载板孔，并能够控制所述升降台沿竖向运动以将所述第二吸持件吸持的所述硅片放置于所述载板孔。

7.根据权利要求6所述的硅片搬运系统，其特征在于，所述载板孔设置有多排，一排所述载板孔中的每个所述载板孔对应设置一个所述升降台，每个所述升降台能够独立进行横向运动。

8.根据权利要求6所述的硅片搬运系统，其特征在于，每个所述升降台包括第一驱动件、第二驱动件和第三驱动件，所述第三驱动件被构造成驱动所述第二吸持件沿第一预设方向运动，所述第二驱动件被构造成驱动所述第三驱动件沿第二预设方向运动，所述第一驱动件被构造成驱动所述第二驱动件沿第三预设方向运动，所述第一预设方向、所述第二预设方向和所述第三预设方向中的任一者为X方向，另一者为Y方向，余下的一者为Z方向。

9.根据权利要求1～5任一项所述的硅片搬运系统，其特征在于，所述硅片搬运系统还包括用于传输所述前工序载板的第一传输机构，所述第一传输机构用于将承载有硅片的所述前工序载板传输至所述第一吸持件的行程区域的下方，并能够将硅片被吸持后的所述前工序载板传输至所述第一吸持件的行程区域外。

10.根据权利要求9所述的硅片搬运系统，其特征在于，所述第一传输机构呈L型设置，所述第一传输机构具有沿传输方向依次设置的第一工位、第二工位和第三工位，所述第一吸持件能够在所述第二工位吸持硅片。

11.根据权利要求1～5任一项所述的硅片搬运系统，其特征在于，所述硅片搬运系统还包括用于传输所述后工序载板的第二传输机构，所述第二传输机构用于将所述后工序载板传输至所述第一吸持件的行程区域的下方以承接所述硅片，并能够将承接有所述硅片的所述后工序载板传输至所述第一吸持件的行程区域外。

12.根据权利要求11所述的硅片搬运系统，其特征在于，所述第二传输机构呈L型设置，所述第二传输机构具有沿传输方向依次设置的第四工位、第五工位和第六工位，所述第二吸持件能够在所述第五工位吸持硅片。

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