CN216054573U - 一种防止扬尘的等离子体刻蚀设备 - Google Patents
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Abstract
本实用新型公开了一种防止扬尘的等离子体刻蚀设备，包括刻蚀组件，所述刻蚀组件包括操作箱，所述操作箱的内腔底部固定设置有支撑平台，所述操作箱的顶部中间开设有进风口，所述操作箱的下部左右两侧均固定设置有出风管，本实用新型涉及等离子体刻蚀设备技术领域。该防止扬尘的等离子体刻蚀设备，通过管内衬筒、光滑顶面、粗糙底面以及微粒遮挡口的相互配合，经过出风管内的微粒部分会顺着光滑顶面滑落到外壁，部分会沉积在微粒遮挡口的内部，当强大的气流经过出风管时，避免出现扬尘，使待刻蚀基板的表面保持洁净，保证了刻蚀的效果，通过伸缩弹簧、梯形限位块以及卡边的设置，便于定时对管内衬筒进行更换清洁。
Description
技术领域
本实用新型涉及等离子体刻蚀设备技术领域，具体为一种防止扬尘的等离子体刻蚀设备。
背景技术
半导体技术的不断进步，迫使半导体制造设备迭代发展，性能更优，稳定性更佳，功能集成度更高，自动化水准更高，是所有设备供应商以及设计师需要不断突破和创新。等离子体刻蚀设备是半导体工艺常用的设备，通过等离子体轰击的方式对晶圆表面的薄膜进行刻蚀，从而改善薄膜表面均匀性以及粗糙度等性质。
现有的等离子体刻蚀设备在使用过程中产生的微粒会沉积在出风管，导致下次使用，设备的内部由真空环境向非真空环境切换，强大的气流经过出风管，会产生扬尘，飞落到待刻蚀基板表面，降低刻蚀的效果。
实用新型内容
针对现有技术的不足，本实用新型提供了一种防止扬尘的等离子体刻蚀设备，解决了产生的微粒会沉积在出风管，导致下次使用，设备的内部由真空环境向非真空环境切换，强大的气流经过出风管，会产生扬尘，飞落到待刻蚀基板表面，降低刻蚀的效果的问题。
为实现以上目的，本实用新型通过以下技术方案予以实现：一种防止扬尘的等离子体刻蚀设备，包括刻蚀组件，所述刻蚀组件包括操作箱，所述操作箱的内腔底部固定设置有支撑平台，所述操作箱的顶部中间开设有进风口，所述操作箱的下部左右两侧均固定设置有出风管，所述出风管的内部卡接有防扬尘组件，所述防扬尘组件包括管内衬筒，所述管内衬筒的底部固定连接有卡边，所述卡边卡接在出风管的底部，所述管内衬筒的顶部侧面一圈固定连接有若干个伸缩弹簧，若干个所述伸缩弹簧远离管内衬筒的一端均固定连接有梯形限位块，所述管内衬筒的内壁之间均匀固定连接有若干个防扬尘罩机构，所述防扬尘罩机构包括光滑顶面，所述光滑顶面的中间开设有透风口，所述光滑顶面的底部固定连接有粗糙底面，所述粗糙底面的下表面均匀开设有若干个微粒遮挡口。
优选的，所述操作箱的内壁下部固定设置有防沾附层，所述支撑平台的顶部左右两侧对称固定连接有限位夹。
优选的，所述支撑平台的顶部且位于两个限位夹之间固定放置有待刻蚀基板。
优选的，所述操作箱的内腔侧壁之间固定设置有匀风板，且匀风板位于操作箱内腔的上部。
优选的，所述操作箱的内腔侧壁且位于匀风板的上方均匀固定设置有若干个导流板。
优选的，所述卡边靠近出风管外壁的一面通过磁性吸附条与出风管吸附。
有益效果
本实用新型提供了一种防止扬尘的等离子体刻蚀设备。与现有技术相比具备以下有益效果：
(1)、该防止扬尘的等离子体刻蚀设备，通过在出风管的内部卡接有防扬尘组件，防扬尘组件包括管内衬筒，管内衬筒的底部固定连接有卡边，卡边卡接在出风管的底部，管内衬筒的顶部侧面一圈固定连接有若干个伸缩弹簧，若干个伸缩弹簧远离管内衬筒的一端均固定连接有梯形限位块，管内衬筒的内壁之间均匀固定连接有若干个防扬尘罩机构，防扬尘罩机构包括光滑顶面，光滑顶面的中间开设有透风口，光滑顶面的底部固定连接有粗糙底面，粗糙底面的下表面均匀开设有若干个微粒遮挡口，通过管内衬筒、光滑顶面、粗糙底面以及微粒遮挡口的相互配合，经过出风管内的微粒部分会顺着光滑顶面滑落到外壁，部分会沉积在微粒遮挡口的内部，当强大的气流经过出风管时，避免出现扬尘，使待刻蚀基板的表面保持洁净，保证刻蚀的效果，通过伸缩弹簧、梯形限位块以及卡边的设置，便于定时对管内衬筒进行更换清洁。
(2)、该防止扬尘的等离子体刻蚀设备，通过在支撑平台的顶部且位于两个限位夹之间固定放置有待刻蚀基板，操作箱的内腔侧壁之间固定设置有匀风板，且匀风板位于操作箱内腔的上部，操作箱的内腔侧壁且位于匀风板的上方均匀固定设置有若干个导流板，卡边靠近出风管外壁的一面通过磁性吸附条与出风管吸附，通过匀风板和导流板的相互配合，保证刻蚀气体流动的均匀性，从而实现对刻蚀均匀性的控制，提高刻蚀制程的良率。
附图说明
图1为本实用新型的结构剖视图；
图2为本实用新型防扬尘组件的剖视图；
图3为本实用新型防扬尘罩机构的俯视图；
图4为本实用新型防扬尘罩机构的仰视图。
图中：1、刻蚀组件；11、操作箱；12、防沾附层；13、支撑平台；14、限位夹；15、待刻蚀基板；2、进风口；3、匀风板；4、导流板；5、出风管；6、防扬尘组件；61、管内衬筒；62、卡边；63、磁性吸附条；64、伸缩弹簧；65、梯形限位块；66、防扬尘罩机构；661、光滑顶面；662、透风口；663、粗糙底面；664、微粒遮挡口。
具体实施方式
下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本实用新型保护的范围。
请参阅图1-4，本实用新型提供一种技术方案：一种防止扬尘的等离子体刻蚀设备，包括刻蚀组件1，刻蚀组件1包括操作箱11，操作箱11的内腔底部固定设置有支撑平台13，操作箱11的顶部中间开设有进风口2，操作箱11的下部左右两侧均固定设置有出风管5，出风管5的内部卡接有防扬尘组件6，防扬尘组件6包括管内衬筒61，管内衬筒61的底部固定连接有卡边62，卡边62卡接在出风管5的底部，管内衬筒61的顶部侧面一圈固定连接有若干个伸缩弹簧64，若干个伸缩弹簧64远离管内衬筒61的一端均固定连接有梯形限位块65，管内衬筒61的内壁之间均匀固定连接有若干个防扬尘罩机构66，防扬尘罩机构66包括光滑顶面661，光滑顶面661的中间开设有透风口662，光滑顶面661的底部固定连接有粗糙底面663，粗糙底面663的下表面均匀开设有若干个微粒遮挡口664，通过管内衬筒61、光滑顶面661、粗糙底面663以及微粒遮挡口664的相互配合，经过出风管5内的微粒部分会顺着光滑顶面661滑落到外壁，部分会沉积在微粒遮挡口664的内部，当强大的气流经过出风管5时，避免出现扬尘，使待刻蚀基板15的表面保持洁净，保证刻蚀的效果，通过伸缩弹簧64、梯形限位块65以及卡边62的设置，便于定时对管内衬筒61进行更换清洁，操作箱11的内壁下部固定设置有防沾附层12，支撑平台13的顶部左右两侧对称固定连接有限位夹14，支撑平台13的顶部且位于两个限位夹14之间固定放置有待刻蚀基板15，操作箱11的内腔侧壁之间固定设置有匀风板3，且匀风板3位于操作箱11内腔的上部，操作箱11的内腔侧壁且位于匀风板3的上方均匀固定设置有若干个导流板4，卡边62靠近出风管5外壁的一面通过磁性吸附条63与出风管5吸附，通过匀风板3和导流板4的相互配合，保证刻蚀气体流动的均匀性，从而实现对刻蚀均匀性的控制，提高刻蚀制程的良率。
同时本说明书中未作详细描述的内容均属于本领域技术人员公知的现有技术。
使用时，刻蚀气体通过进风口2进入操作箱11的内部，操作箱11的内部由真空环境向非真空环境切换，刻蚀气体在匀风板3和导流板4的作用下，均匀的流动到待刻蚀基板15的表面，当强大的气流经过出风管时，之前产生的微粒部分已经顺着光滑顶面661滑落到外壁，部分沉积在微粒遮挡口664的内部，防止扬尘的出现，使待刻蚀基板15的表面保持洁净，通过伸缩弹簧64、梯形限位块65以及卡边62的设置，利用一定的力度可解除防扬尘组件6和出风管5之间的锁定，定时对管内衬筒61进行更换清洁。
需要说明的是，在本文中，诸如第一和第二等之类的关系术语仅仅用来将一个实体或者操作与另一个实体或操作区分开来，而不一定要求或者暗示这些实体或操作之间存在任何这种实际的关系或者顺序。而且，术语“包括”、“包含”或者其任何其他变体意在涵盖非排他性的包含，从而使得包括一系列要素的过程、方法、物品或者设备不仅包括那些要素，而且还包括没有明确列出的其他要素，或者是还包括为这种过程、方法、物品或者设备所固有的要素。
尽管已经示出和描述了本实用新型的实施例，对于本领域的普通技术人员而言，可以理解在不脱离本实用新型的原理和精神的情况下可以对这些实施例进行多种变化、修改、替换和变型，本实用新型的范围由所附权利要求及其等同物限定。
Claims (6)
1.一种防止扬尘的等离子体刻蚀设备，包括刻蚀组件(1)，其特征在于：所述刻蚀组件(1)包括操作箱(11)，所述操作箱(11)的内腔底部固定设置有支撑平台(13)，所述操作箱(11)的顶部中间开设有进风口(2)，所述操作箱(11)的下部左右两侧均固定设置有出风管(5)，所述出风管(5)的内部卡接有防扬尘组件(6)，所述防扬尘组件(6)包括管内衬筒(61)，所述管内衬筒(61)的底部固定连接有卡边(62)，所述卡边(62)卡接在出风管(5)的底部，所述管内衬筒(61)的顶部侧面一圈固定连接有若干个伸缩弹簧(64)，若干个所述伸缩弹簧(64)远离管内衬筒(61)的一端均固定连接有梯形限位块(65)，所述管内衬筒(61)的内壁之间均匀固定连接有若干个防扬尘罩机构(66)，所述防扬尘罩机构(66)包括光滑顶面(661)，所述光滑顶面(661)的中间开设有透风口(662)，所述光滑顶面(661)的底部固定连接有粗糙底面(663)，所述粗糙底面(663)的下表面均匀开设有若干个微粒遮挡口(664)。
2.根据权利要求1所述的一种防止扬尘的等离子体刻蚀设备，其特征在于：所述操作箱(11)的内壁下部固定设置有防沾附层(12)，所述支撑平台(13)的顶部左右两侧对称固定连接有限位夹(14)。
3.根据权利要求2所述的一种防止扬尘的等离子体刻蚀设备，其特征在于：所述支撑平台(13)的顶部且位于两个限位夹(14)之间固定放置有待刻蚀基板(15)。
4.根据权利要求1所述的一种防止扬尘的等离子体刻蚀设备，其特征在于：所述操作箱(11)的内腔侧壁之间固定设置有匀风板(3)，且匀风板(3)位于操作箱(11)内腔的上部。
5.根据权利要求4所述的一种防止扬尘的等离子体刻蚀设备，其特征在于：所述操作箱(11)的内腔侧壁且位于匀风板(3)的上方均匀固定设置有若干个导流板(4)。
6.根据权利要求1所述的一种防止扬尘的等离子体刻蚀设备，其特征在于：所述卡边(62)靠近出风管(5)外壁的一面通过磁性吸附条(63)与出风管(5)吸附。
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