CN215847336U - 基板玻璃抛光装置 - Google Patents

Abstract

本公开涉及一种基板玻璃抛光装置，该基板玻璃抛光装置包括驱动机构、形成有轮槽的抛光轮、第一喷嘴、第二喷嘴以及抛光罩，轮槽用于供基板玻璃的边缘插设，驱动机构用于驱动抛光轮转动，以用于使轮槽对基板玻璃的边缘进行研磨，且抛光轮设置于抛光罩内，第一喷嘴和第二喷嘴均设置于抛光罩，以用于对轮槽与基板玻璃的边缘的研磨位置处喷射冷却液，第一喷嘴和第二喷嘴相对设置且分别用于设置于基板玻璃的上下两侧。将第一喷嘴和第二喷嘴相对设置且分别用于设置于基板玻璃的上下两侧，更好地降低抛光轮的轮槽的温度，进而减少冷却液夹杂研磨粉尘从轮槽内甩出而形成的污渍粘附，减少基板玻璃四边颗粒聚集的情况，提高基板玻璃生产的质量。

Description

基板玻璃抛光装置

技术领域

本公开涉及玻璃制造技术领域，具体地，涉及一种基板玻璃抛光装置。

背景技术

在液晶基板玻璃生产技术当中，研磨的主要工作原理，首先是磨轮与基板玻璃做相对运动，磨轮上研磨层里的硬质颗粒，在一定的负载下对玻璃表面进行划痕与剥离的机械作用，先破坏玻璃表面形成一定深度的微裂纹，再经过时就把裂纹形成的碎片除掉。研磨时冷却液即起着冷却介质作用，同时又与剥离的新生表面产生作用生成硅胶，有利于剥离，具有一定的化学作用。如此重复进行，玻璃就得到了研磨。

现有的研磨装置中，往往设置一个喷嘴喷射冷却液对抛光点进行冷却，但是在使用带有轮槽的抛光轮时，冷却液不能够很好地对轮槽进行降温，导致轮槽内部温度高，磨削带出研磨水夹杂研磨粉尘甩至基板表面后迅速冷却，形成污渍粘附，无法通过清洗工序及时清洗掉。导致基板玻璃四边颗粒聚集，严重影响产品质量。

实用新型内容

本公开的目的是提供一种基板玻璃抛光装置，该基板玻璃抛光装置能够有效地对抛光轮进行冷却，减少基板玻璃四边颗粒聚集，提高产品质量。

为了实现上述目的，本公开提供一种基板玻璃抛光装置，所述基板玻璃抛光装置包括驱动机构、形成有轮槽的抛光轮、第一喷嘴、第二喷嘴以及抛光罩，所述抛光轮、所述第一喷嘴以及所述第二喷嘴均设置于所述抛光罩，所述轮槽用于供基板玻璃的边缘插设，所述驱动机构用于驱动所述抛光轮转动，以用于使所述轮槽对所述基板玻璃的边缘进行研磨，所述第一喷嘴和所述第二喷嘴用于对所述轮槽与所述基板玻璃的边缘的研磨位置处喷射冷却液，所述第一喷嘴和所述第二喷嘴相对设置且分别用于设置于所述基板玻璃的上下两侧。

可选地，所述第一喷嘴的轴线和所述第二喷嘴的轴线相互重合。

可选地，所述基板玻璃抛光装置还包括泵送单元、冷却液源、第一管路以及第二管路，所述第一喷嘴通过所述第一管路与所述冷却液源连通，所述第二喷嘴通过所述第二管路与所述冷却液源连通，所述泵送单元设置于所述冷却液源以用于将该冷却液源中的冷却液泵送至所述第一管路和所述第二管路。

可选地，所述基板玻璃抛光装置还包括第一支架和第二支架，所述第一管路和所述第二管路分别通过所述第一支架和所述第二支架安装于所述抛光罩。

可选地，所述基板玻璃抛光装置还包括第三支架和第四支架，所述第一喷嘴可转动地设置于所述第三支架，所述第二喷嘴可转动地设置于所述第四支架。

可选地，所述基板玻璃抛光装置还包括转运平台，所述转运平台用于沿第一方向对所述基板玻璃进行转运。

可选地，所述基板玻璃抛光装置还包括第一检测单元、第二检测单元、第一电磁阀、第二电磁阀以及控制器，所述第一检测单元、所述第二检测单元、所述第一电磁阀以及所述第二电磁阀均与所述控制器电连接；

所述第一检测单元用于检测设置于所述转运平台上的所述基板玻璃的厚度，所述第二检测单元用于检测所述转运平台对所述基板玻璃的转运速度，所述第一电磁阀设置于所述第一管路，所述第二电磁阀设置于所述第二管路，所述控制器用于：根据所述第一检测单元检测到的所述基板玻璃的厚度信息及所述第二检测单元检测到的所述转运平台的速度信息，控制所述第一电磁阀和所述第二电磁阀的开度大小。

可选地，所述转运平台和所述控制器电连接，所述控制器用于：在控制所述第一电磁阀和所述第二电磁阀打开后，控制所述转运平台沿所述第一方向对所述基板玻璃进行转运。

可选地，所述第一管路和所述第二管路均构造为软管。

可选地，所述抛光罩的下端形成为开放端。

在上述技术方案中，通过在抛光罩上设置第一喷嘴和第二喷嘴，并且该第一喷嘴和第二喷嘴相对设置且分别用于设置于基板玻璃的上下两侧，从而可以从基板玻璃的上下两侧对研磨位置进行冷却，更好地降低抛光轮的轮槽的温度，进而减少冷却液夹杂研磨粉尘从轮槽内甩出而形成的污渍粘附，减少基板玻璃四边颗粒聚集的情况，提高基板玻璃生产的质量。

本公开的其他特征和优点将在随后的具体实施方式部分予以详细说明。

附图说明

附图是用来提供对本公开的进一步理解，并且构成说明书的一部分，与下面的具体实施方式一起用于解释本公开，但并不构成对本公开的限制。在附图中：

图1是本公开一种实施方式的基板玻璃抛光装置沿水平方向的剖视图，其中，该图中还示意出了基板玻璃；

图2是本公开一种实施方式的基板玻璃抛光装置沿竖直方向的剖视图，其中，虚线表示冷却液。

附图标记说明

1 抛光轮 2 第一喷嘴

3 第二喷嘴 4 抛光罩

5 第一管路 6 第二管路

7 第一支架 8 第二支架

10 基板玻璃 41 开放端

具体实施方式

以下结合附图对本公开的具体实施方式进行详细说明。应当理解的是，此处所描述的具体实施方式仅用于说明和解释本公开，并不用于限制本公开。

在本公开中，在未作相反说明的情况下，使用的方位词如“上、下”通常是指本公开的基板玻璃抛光装置在正常使用状态下所定义的上和下，具体可以参照图2所示；使用的方位词如“内、外”指的是具体结构轮廓的内和外；使用的术语如“第一、第二”仅是为了区分一个要素和另外一个要素，并不具有顺序性和重要性。

如图1和图2所示，本公开提供一种基板玻璃抛光装置，该基板玻璃抛光装置包括驱动机构(未图示)、形成有轮槽(未图示)的抛光轮1、第一喷嘴2、第二喷嘴3以及抛光罩4。轮槽用于供基板玻璃10的边缘插设，驱动机构用于驱动抛光轮1转动，以用于使轮槽对基板玻璃10的边缘进行研磨，且抛光轮1设置于抛光罩4内，第一喷嘴2和第二喷嘴3均设置于抛光罩4，以用于对轮槽与基板玻璃10的边缘的研磨位置处喷射冷却液，第一喷嘴2和第二喷嘴3相对设置且分别用于设置于基板玻璃10的上下两侧。

在上述技术方案中，通过在抛光罩4上设置第一喷嘴2和第二喷嘴3，并且该第一喷嘴2和第二喷嘴3相对设置且分别用于设置于基板玻璃10的上下两侧，从而可以从基板玻璃10的上下两侧对研磨位置进行冷却，更好地降低抛光轮1的轮槽的温度，进而减少冷却液夹杂研磨粉尘从轮槽内甩出而形成的污渍粘附，减少基板玻璃10四边颗粒聚集的情况，提高基板玻璃10生产的质量。

在一种实施方式中，参照图2所示，第一喷嘴2的轴线和第二喷嘴3的轴线相互重合，也即该第一喷嘴2和第二喷嘴3正对设置，由上可知，该第一喷嘴2和第二喷嘴3又是朝向抛光轮1和基板玻璃10的研磨位置进行喷射冷却液的，则在研磨一定程度后，第一喷嘴2和第二喷嘴3相对喷射的两柱冷却液会进行相互抵消，避免冷却液喷射到例如研磨照相设备上等。

可选地，参照图2所示，基板玻璃抛光装置还包括泵送单元(未图示)、冷却液源(未图示)、第一管路5以及第二管路6。第一喷嘴2通过第一管路5与冷却液源连通，第二喷嘴3通过第二管路6与冷却液源连通，泵送单元设置于冷却液源以用于将该冷却液源中的冷却液泵送至第一管路5和第二管路6。利用同一冷却液源输送冷却液，避免设置多个冷却液源提高该装置的成本，并且通过设置该泵送单元可以保证输送至第一管路5和第二管路6中的冷却液的压力。

可选地，上述的冷却液构造为冷却水，上述的泵送单元构造为水泵。

在其他的实施方式中，基板玻璃抛光装置还包括第一支架7和第二支架8，第一管路5和第二管路6分别通过第一支架7和第二支架8安装于抛光罩4。从而提高该第一管路5和第二管路6安装于该抛光罩4的稳定性。该第一支架7可以构造为任意适当的形状和结构，本公开对此不作限定。

在一种实施方式中，基板玻璃抛光装置还包括第三支架和第四支架，第一喷嘴2可转动地设置于第三支架，第二喷嘴3可转动地设置于第四支架。通过设置该第三支架和第四支架，一方面便于第一喷嘴2和第二喷嘴3的安装，另外一方面该第一喷嘴2和第二喷嘴3分别可转动地设置于第三支架和第四支架，从而便于对第一喷嘴2和第二喷嘴3之间的角度进行调节，以达到所需的角度设计。

示例性地，基板玻璃抛光装置还包括转运平台(未图示)，转运平台用于沿第一方向对基板玻璃10进行转运。从而可以实现对基板玻璃10的自动研磨，提高该基板玻璃抛光装置的自动化程度。该第一方向既可以是基板玻璃10的宽度方向，也可以是基板玻璃的长度方向等，本公开对此不作限定。

可选地，基板玻璃抛光装置还包括第一检测单元(未图示)、第二检测单元(未图示)、第一电磁阀(未图示)、第二电磁阀(未图示)以及控制器(未图示)，第一检测单元、第二检测单元、第一电磁阀以及第二电磁阀均与控制器电连接；第一检测单元用于检测设置于转运平台上的基板玻璃10的厚度，第二检测单元用于检测转运平台对基板玻璃10的转运速度，第一电磁阀设置于第一管路5，第二电磁阀设置于第二管路6，控制器用于：根据第一检测单元检测到的基板玻璃10的厚度信息及第二检测单元检测到的转运平台的速度信息，控制第一电磁阀和第二电磁阀的开度大小。从而实现对冷却液的合理使用，避免冷却液的浪费。

例如，在一种可能的工况下，第一检测单元检测到基板玻璃10的厚度小于预设厚度，第二检测单元检测到转运平台的速度小于预设速度时，控制器控制第一电磁阀和第二电磁阀的阀口开度变小，从而减少冷却液的使用。

可选地，转运平台和控制器电连接，控制器用于：在控制第一电磁阀和第二电磁阀打开后，控制转运平台沿第一方向对基板玻璃10进行转运。也就是说，在抛光轮1对基板玻璃10进行研磨之前，便通过控制器控制第一电磁阀和第二电磁阀的打开，实现第一喷嘴2和第二喷嘴3向研磨位置喷射冷却液，避免抛光轮1对基板玻璃10进行干磨。

示例性地，第一管路5和第二管路6均构造为软管。通过将第一管路5和第二管路6设置为软管，便于管路布置的同时还能够减少本公开的装置的重量。

可选地，参照图2所示，抛光罩4的下端形成为开放端41，便于使用后的冷却液从抛光罩4内流出。

以上结合附图详细描述了本公开的优选实施方式，但是，本公开并不限于上述实施方式中的具体细节，在本公开的技术构思范围内，可以对本公开的技术方案进行多种简单变型，这些简单变型均属于本公开的保护范围。

另外需要说明的是，在上述具体实施方式中所描述的各个具体技术特征，在不矛盾的情况下，可以通过任何合适的方式进行组合，为了避免不必要的重复，本公开对各种可能的组合方式不再另行说明。

此外，本公开的各种不同的实施方式之间也可以进行任意组合，只要其不违背本公开的思想，其同样应当视为本公开所公开的内容。

Claims (10)

1.一种基板玻璃抛光装置，其特征在于，所述基板玻璃抛光装置包括驱动机构、形成有轮槽的抛光轮(1)、第一喷嘴(2)、第二喷嘴(3)以及抛光罩(4)，所述抛光轮(1)、所述第一喷嘴(2)以及所述第二喷嘴(3)均设置于所述抛光罩(4)，所述轮槽用于供基板玻璃(10)的边缘插设，所述驱动机构用于驱动所述抛光轮(1)转动，以用于使所述轮槽对所述基板玻璃(10)的边缘进行研磨，所述第一喷嘴(2)和所述第二喷嘴(3)用于对所述轮槽与所述基板玻璃(10)的边缘的研磨位置处喷射冷却液，所述第一喷嘴(2)和所述第二喷嘴(3)相对设置且分别用于设置于所述基板玻璃(10)的上下两侧。

2.根据权利要求1所述的基板玻璃抛光装置，其特征在于，所述第一喷嘴(2)的轴线和所述第二喷嘴(3)的轴线相互重合。

3.根据权利要求1所述的基板玻璃抛光装置，其特征在于，所述基板玻璃抛光装置还包括泵送单元、冷却液源、第一管路(5)以及第二管路(6)，所述第一喷嘴(2)通过所述第一管路(5)与所述冷却液源连通，所述第二喷嘴(3)通过所述第二管路(6)与所述冷却液源连通，所述泵送单元设置于所述冷却液源以用于将该冷却液源中的冷却液泵送至所述第一管路(5)和所述第二管路(6)。

4.根据权利要求3所述的基板玻璃抛光装置，其特征在于，所述基板玻璃抛光装置还包括第一支架(7)和第二支架(8)，所述第一管路(5)和所述第二管路(6)分别通过所述第一支架(7)和所述第二支架(8)安装于所述抛光罩(4)。

5.根据权利要求3所述的基板玻璃抛光装置，其特征在于，所述基板玻璃抛光装置还包括第三支架和第四支架，所述第一喷嘴(2)可转动地设置于所述第三支架，所述第二喷嘴(3)可转动地设置于所述第四支架。

6.根据权利要求3-5中任意一项所述的基板玻璃抛光装置，其特征在于，所述基板玻璃抛光装置还包括转运平台，所述转运平台用于沿第一方向对所述基板玻璃(10)进行转运。

7.根据权利要求6所述的基板玻璃抛光装置，其特征在于，所述基板玻璃抛光装置还包括第一检测单元、第二检测单元、第一电磁阀、第二电磁阀以及控制器，所述第一检测单元、所述第二检测单元、所述第一电磁阀以及所述第二电磁阀均与所述控制器电连接；

所述第一检测单元用于检测设置于所述转运平台上的所述基板玻璃(10)的厚度，所述第二检测单元用于检测所述转运平台对所述基板玻璃(10)的转运速度，所述第一电磁阀设置于所述第一管路(5)，所述第二电磁阀设置于所述第二管路(6)，所述控制器用于：根据所述第一检测单元检测到的所述基板玻璃(10)的厚度信息及所述第二检测单元检测到的所述转运平台的速度信息，控制所述第一电磁阀和所述第二电磁阀的开度大小。

8.根据权利要求7所述基板玻璃抛光装置，其特征在于，所述转运平台和所述控制器电连接，所述控制器用于：在控制所述第一电磁阀和所述第二电磁阀打开后，控制所述转运平台沿所述第一方向对所述基板玻璃(10)进行转运。

9.根据权利要求3-5中任意一项所述的基板玻璃抛光装置，其特征在于，所述第一管路(5)和所述第二管路(6)均构造为软管。

10.根据权利要求1-5中任意一项所述的基板玻璃抛光装置，其特征在于，所述抛光罩(4)的下端形成为开放端(41)。

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