CN215388662U - 一种室内气体处理设备 - Google Patents

Abstract

本实用新型提供一种室内气体处理设备，用于解决现有湿法半导体设备对晶元加工时产生的挥发性气体的结晶问题；一种室内气体处理设备，包括腔体，进气入口，第一混合区，第一处理腔室，循环水箱，新水箱，第二混合区，第二处理腔室，气液分离器，排气出口；所述腔体包括两个混合区和两个处理腔室，用于收集和吸收废气；所述第一混合区为L型设置，所述第二混合区为直角Z型设置，所述第二处理腔室内部设置有第二针状填料，所述第二针状填料顶部设置有第二大流量喷淋器，所述循环水箱设置在腔体的底部，为吸收废气存储充足水量；所述新水箱设置在所述腔体一侧，本实用新型的有益效果：抑制厂务管道的结晶形成，减少废气排放。

Description

一种室内气体处理设备

技术领域

本实用新型主要涉及气体处理设备技术领域，尤其涉及一种室内气体处理设备。

背景技术

一种室内气体处理设备高效结构设计，可有效应用于大型密闭工厂环境内，例如半导体晶圆制造厂。半导体湿法设备所使用腐蚀性有害药液大多数是酸、碱、有机液体，多数具有水溶性，可用水进行捕捉其挥发产生的气体；该结构设计可有效解决半导体设备与厂务互联之间可能存在的管路结晶问题，减少废气排放。

现有湿法半导体设备在对晶圆进行加工时，所使用到的药液，在工艺加工中产生挥发的酸、碱、有机气体，在厂务管路直连的情况下，混合气体结合就已发生化学反应，生成结晶，造成管路堵塞，清理难度大，影响工艺进程。该结构设计可有效解决结晶，在气体进入厂务之前，将废气集中收集处理。

实用新型内容

针对现有技术的上述缺陷，本实用新型提供一种室内气体处理设备，用于解决现有湿法半导体设备对晶元加工时产生的挥发性气体的结晶问题。

一种室内气体处理设备，包括腔体1，进气入口2，第一混合区3，第一处理腔室4，循环水箱5，新水箱6，第二混合区7，第二处理腔室8，气液分离器9，排气出口10；

所述腔体1包括两个混合区和两个处理腔室，用于收集和吸收废气；所述腔体1的两侧分别设置有进气入口2和排气出口10；所述腔体1内部自进气入口2至排气出口10依次设置有第一混合区3，第一处理腔室4，第二混合区7和第二处理腔室8；

所述第一混合区3为L型设置，远离进气入口2的一侧壁设置有第一细雾喷淋器31，所述第一混合区3的底部设置有第一排液口32，所述第一排液口32延伸至所述第一处理腔室4的底部；

所述第一处理腔室4内部设置有第一针状填料44，所述第一针状填料44顶部设置有第一大流量喷淋器41，底部设置有第一气流均布器42；所述第一处理腔室4还包括第一导流器43；所述第一导流器43设置在所述第一排液口32内；

所述第二混合区7为直角Z型设置，靠近所述第二处理腔室8的侧壁上设置有第二细雾喷淋器71，底部设置有第二排液口72，所述第二排液口72延伸至所述第二处理腔室8的底部；

所述第二处理腔室8内部设置有第二针状填料84，所述第二针状填料84顶部设置有第二大流量喷淋器81，底部设置有第二气流均布器82；所述第二处理腔室8还包括第二导流器83；所述第二导流器83设置在所述第二排液口72内；

所述循环水箱5设置在腔体1的底部，为吸收废气存储充足水量；所述新水箱6设置在所述腔体1一侧，为吸收废气提供新鲜水源。

优选的，所述进气入口2设置有多个；所述排气出口10设置有一个。

优选的，所述新水箱6上侧还设置有电泵。

优选的，所述第一细雾喷淋器31和第二细雾喷淋器71均为2um 细雾喷淋器。

优选的，所述第一针状填料44为5mm针状填料。

优选的，所述第一混合区3的顶部，所述第二混合区7的顶部靠近所述第一混合区3的侧壁上，及所述第二处理腔室8的顶部各设有一个气压检测器。

优选的，所述第二针状填料84为2mm针状填料。

优选的，所述第一大流量喷淋器41与第二大流量喷淋器81与所述新水箱6连接。采用新水箱6中的水进行喷淋。

本实用新型的有益效果：抑制厂务管道的结晶形成，减少废气排放。

附图说明

图1为本实用新型结构示意图；

图2为第一处理腔室结构示意图

图3为第二处理腔室结构示意图；

图4为混合气体流向示意图；

图中，

1、腔体；

2、进气入口；

3、第一混合区，31、细雾喷淋器，32、第一排液口；

4、第一处理腔室，41、第一大流量喷淋器，42、第一气流均布器， 43、第一导流器，44、第一针状填料；

5、循环水箱；

6、新水箱；

7、第二混合区，71、第二细雾喷淋器，72、第二排液口；

8、第二处理腔室，81、第二大流量喷淋器，82、第二气流均布器， 83、第二导流器，84、第二针状填料；

9、气液分离器；

10、排气出口。

具体实施方式

下面结合附图对本实用进行详细描述，本部分的描述仅是示范性和解释性，不应对本实用新型的保护范围有任何的限制作用。

本实用新型提供一种室内气体处理设备，包括腔体1，进气入口 2，第一混合区3，第一处理腔室4，循环水箱5，新水箱6，第二混合区7，第二处理腔室8，气液分离器9，排气出口10；

所述腔体1包括两个混合区和两个处理腔室，用于收集和吸收废气；所述腔体1的两侧分别设置有进气入口2和排气出口10；所述腔体1内部自进气入口2至排气出口10依次设置有第一混合区3，第一处理腔室4，第二混合区7和第二处理腔室8；

所述第一混合区3为L型设置，远离进气入口2的一侧壁设置有第一细雾喷淋器31，前端设备酸碱混合气体，在较为干燥的情况下产生晶体颗粒，因其具有水溶性，通过细雾捕捉并且湿润后，可有效抑制结晶情况。所述第一混合区3的底部设置有第一排液口32，所述第一排液口32延伸至所述第一处理腔室4的底部；该区域设计风速为20m/s，带液气体通过排液口时，可将液滴气体分离。

所述第一处理腔室4内部设置有第一针状填料44，所述第一针状填料44顶部设置有第一大流量喷淋器41，底部设置有第一气流均布器42；所述第一处理腔室4还包括第一导流器43；所述第一导流器43设置在所述第一排液口32内；通过第一导流器43与第一气流均布器42，使气体呈现稳定状态，该区域风速2.5—3m/s。

所述第二混合区7为直角Z型设置，靠近所述第二处理腔室8的侧壁上设置有第二细雾喷淋器71，底部设置有第二排液口72，所述第二排液口72延伸至所述第二处理腔室8的底部；该区域为高速混合区，风速为20m/s，带液气体通过排液口时，可将液滴气体分离。

所述第二处理腔室8内部设置有第二针状填料84，所述第二针状填料84顶部设置有第二大流量喷淋器81，底部设置有第二气流均布器82；所述第二处理腔室8还包括第二导流器83；所述第二导流器83设置在所述第二排液口72内；通过第二导流器83与第二气流均布器82，使气体呈现稳定状态，该区域风速2.5—3m/s，进入喷淋区域。

所述气液分离器9设置在所述第二处理腔室8内；捕捉水蒸气，使通过风机的气体较为干燥，进一步缓解结晶。

所述循环水箱5设置在腔体1的底部，为吸收废气存储充足水量；所述新水箱6设置在所述腔体1一侧，为吸收废气提供新鲜水源。

本实施例中优选的，所述进气入口2设置有多个；所述排气出口 10设置有一个。

本实施例中优选的，所述新水箱6上侧还设置有电泵。

本实施例中优选的，所述第一细雾喷淋器31和第二细雾喷淋器 71均为2um细雾喷淋器。

本实施例中优选的，所述第一针状填料44为5mm针状填料。喷淋区域采用大流量循环水对第一针状填料44覆盖，通过针状填料增加水比表面积，提高液体吸附效率。

本实施例中优选的，所述第一混合区3的顶部，所述第二混合区7的顶部靠近所述第一混合区3的侧壁上，及所述第二处理腔室 8的顶部各设有一个气压检测器，检测判断对应区域是否堵塞，控制液体流量。

本实施例中优选的，所述第二针状填料84为2mm针状填料。喷淋区域采用大流量循环水对第二针状填料84覆盖，通过针状填料增加水比表面积，提高液体吸附效率。相对5mm的第一针状填料41，液体吸附效率高50％。

本实施例中优选的，所述第一大流量喷淋器41与第二大流量喷淋器81与所述新水箱6连接。采用新水箱6中的水进行喷淋。

如图4箭头所示，前端设备酸碱混合气体自进气入口2进入第一混合区3，通过第一细雾喷淋器31的细雾捕捉并且湿润后，可以有效抑制结晶形成，第一混合区3顶部设有一气压检测器，检测本区域是否有堵塞情况，同时控制流量，本区局风速为20m/s，经过第一排液口32时，可将液滴气体分离。

混合气体接着经过第一导流器43和第一气流均布器42后，进入第一处理腔室4，通过第一导流器43和第一气流均布器42，使本区域的气体呈现稳定状态，该区域风速为2.5-3m/s。同时，第一大流量喷淋器41对本区域的第一针状填料44喷淋覆盖，增加水比表面积，提高液体吸附效率。本区域的针状填料为5mm。

而后，混合气体经过第二混合区7，受到第二细雾喷淋71的湿润，本区域的风速为20m/s。本区域也设置有一气压监测器，检测本区域是否有堵塞情况，同时控制流量。

混合气体经过第二排液口72后，经由第二导流器83和第二气流均布器82，进入第二处理腔室8。通过第二导流器83和第二气流均布器82的作用，使本区域的气体呈现稳定状态，该区域风速为 2.5-3m/s。同时，第二大流量喷淋器81对本区域的第二针状填料84 喷淋覆盖，增加水比表面积，提高液体吸附率。本区域的针状填料为 2mm，相对于5mm的填料效率高50％。

随后，气体经过气液分离器9后，干燥气体经过排气出口10送至厂务系统。

本实用新型所涉及的针状填料，包括第一针状填料44和第二针状填料84均是在传统鲍尔环和花环填料基础上做出改进后的填料，用作增加液体比表面积，均为不规则针刺状。

需要说明的是，术语“中心”、“上”、“下”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“内”、“外”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本实用新型和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本实用新型的限制。此外，术语“第一”、“第二”、“第三”仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性。

以上所述的本实用新型实施方式，并不构成对本实用新型保护范围的限定。任何在本实用新型的精神和原则之内所作的修改、等同替换和改进等，均应包含在本实用新型的权利要求保护范围之内。

Claims (8)

1.一种室内气体处理设备，包括腔体(1)，进气入口(2)，第一混合区(3)，第一处理腔室(4)，循环水箱(5)，新水箱(6)，第二混合区(7)，第二处理腔室(8)，气液分离器(9)，排气出口(10)；

其特征在于，

所述腔体(1)包括两个混合区和两个处理腔室，用于收集和吸收废气；所述腔体(1)的两侧分别设置有进气入口(2)和排气出口(10)；所述腔体(1)内部自进气入口(2)至排气出口(10)依次设置有第一混合区(3)，第一处理腔室(4)，第二混合区(7)和第二处理腔室(8)；

所述第一混合区(3)为L型设置，远离进气入口(2)的一侧壁设置有第一细雾喷淋器(31)，所述第一混合区(3)的底部设置有第一排液口(32)，所述第一排液口(32)延伸至所述第一处理腔室(4)的底部；

所述第一处理腔室(4)内部设置有第一针状填料(44)，所述第一针状填料(44)顶部设置有第一大流量喷淋器(41)，底部设置有第一气流均布器(42)；所述第一处理腔室(4)还包括第一导流器(43)；所述第一导流器(43)设置在所述第一排液口(32)内；

所述第二混合区(7)为直角Z型设置，靠近所述第二处理腔室(8)的侧壁上设置有第二细雾喷淋器(71)，底部设置有第二排液口(72)，所述第二排液口(72)延伸至所述第二处理腔室(8)的底部；

所述第二处理腔室(8)内部设置有第二针状填料(84)，所述第二针状填料(84)顶部设置有第二大流量喷淋器(81)，底部设置有第二气流均布器(82)；所述第二处理腔室(8)还包括第二导流器(83)；所述第二导流器(83)设置在所述第二排液口(72)内；

所述气液分离器(9)设置在所述第二处理腔室(8)内；

所述循环水箱(5)设置在腔体(1)的底部，为吸收废气存储充足水量；所述新水箱(6)设置在所述腔体(1)一侧，为吸收废气提供新鲜水源。

2.根据权利要求1所述的室内气体处理设备，其特征在于：所述进气入口(2)设置有多个；所述排气出口(10)设置有一个。

3.根据权利要求1所述的室内气体处理设备，其特征在于：所述新水箱(6)上侧还设置有电泵。

4.根据权利要求1所述的室内气体处理设备，其特征在于：所述第一细雾喷淋器(31)和第二细雾喷淋器(71)均为2um细雾喷淋器。

5.根据权利要求1所述的室内气体处理设备，其特征在于：所述第一针状填料(44)为5mm针状填料。

6.根据权利要求1所述的室内气体处理设备，其特征在于：所述第一混合区(3)的顶部，所述第二混合区(7)的顶部靠近所述第一混合区(3)的侧壁上，及所述第二处理腔室(8)的顶部各设有一个气压检测器。

7.根据权利要求1所述的室内气体处理设备，其特征在于：所述第二针状填料(84)为2mm针状填料。

8.根据权利要求1所述的室内气体处理设备，其特征在于：所述第一大流量喷淋器(41)与第二大流量喷淋器(81)与所述新水箱(6)连接。

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