CN215008216U - 一种改善大芯片分层的结构 - Google Patents
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Abstract
本实用新型公开一种改善大芯片分层的结构,包括框架、晶圆、焊料和铝线,晶圆一侧的框架上设有V形槽,V形槽一侧设有锁定槽,锁定槽包括垂直槽和位于垂直槽下方的燕尾槽,垂直槽向下设置于框架的内部,燕尾槽的小口端承接与垂直槽的底部。锁定槽上的垂直槽有效增加塑封料和框架之间的接触面积,并且能够形成塑封料冲进框架里加一倒扣效果,结合牢固,不易松动,增加框架的对塑封料的咬合力,有效防止芯片分层的现象的发生,并且垂直槽的设置可以促进塑封料进入到燕尾槽内。
Description
技术领域
本实用新型涉及芯片制造领域,具体是一种改善大芯片分层的结构。
背景技术
对于大尺寸芯片(芯片面积大于20mm^2)封装产品,在封装完成后,经过高温回流焊或环境温湿度变化后,容易产生芯片和基导之间的分层,继而影响产品寿命,或性能(阻抗超标)和失效。
V型槽为目前的业内通用做法,因为产品结构决定了,封装工艺过程中图示产品上端容易产生框架和塑封料的分层,并且分层会延申到芯片和框架之间。最后导致产品失效。V型槽设计对产品上端的锁封受温度变化,切割工艺拉扯应力等造成的分层风险不足以消除。单一V型槽形成的塑封料与框架间的咬合界面不够牢靠。
此外,在已经公开的现有技术CN201721603409,公开了一种通信用GaN基射频功放芯片,芯片包括由上向下依次设置且固定连接的第一管芯、第二管芯和封装基板,第二管芯上的焊盘借助键合引线与封装基板上的焊盘连接,关键是:位于第二管芯下方的封装基板上端面设置有凸台,凸台上端面开设有至少两个燕尾槽,所有的燕尾槽平行设置,第二管芯下端设置有燕尾条,燕尾条的高度小于燕尾槽的深度,第二管芯借助燕尾条和燕尾槽的配合与封装基板插接,燕尾条的侧壁与燕尾槽接触,燕尾条与燕尾槽的底面之间设置有粘接层。虽然在文中基板上也设有燕尾槽,但是基板上的燕尾槽结构是单一的,塑封料和燕尾槽之间的接触面为底面和斜侧面,仅仅依靠燕尾槽上顶部的支撑力,与塑封料之间的咬合力度是远远不够的,当塑封料和燕尾槽底部产生间隙分离的时候,塑封料极大可能还是会脱离燕尾槽,导致塑封料和基板之间的分离。
实用新型内容
之前的塑封料和框架之间的接触面积太小,受其它因素影响的时候,容易造成分离的问题,因此,本实用新型公开了一种改善大芯片分层的结构,有效提高框架和塑封料之间的结合力。
本实用新型的技术方案为:一种改善大芯片分层的结构,包括框架、晶圆、焊料和铝线,晶圆一侧的框架上设有V形槽, V形槽一侧设有锁定槽,锁定槽包括垂直槽和位于垂直槽下方的燕尾槽,垂直槽向下设置于框架的内部,燕尾槽的小口端承接与垂直槽的底部。
进一步地,燕尾槽的小口端在上,大口端在下,小口端的宽度小于大口端,垂直槽的深度大于燕尾槽的竖直方向的深度,燕尾槽的大口端的宽度小于垂直槽的水平方向的宽度。
进一步地,锁定槽的深度大于V形槽的深度,垂直槽的深度为0.145-0.155mm,燕尾槽的深度为0.115-0.125mm。
进一步地,V形槽位于晶圆和锁定槽之间的位置。
进一步地,晶圆通过焊料和框架底部相连,晶圆上表面通过铝线和另一侧的框架引脚相连,另一侧的框架上方和底部都设有V形槽,焊料末端流入晶圆一侧的V形槽内,框架之间及上方的铝线上方填充有塑封料。
进一步地,塑封料填充到V形槽和锁定槽内。
本实用新型的有益之处:锁定槽上的垂直槽有效增加塑封料和框架之间的接触面积,并且能够形成塑封料冲进框架里加一倒扣效果,结合牢固,不易松动,增加框架的对塑封料的咬合力,有效防止芯片分层的现象的发生,并且垂直槽的设置可以促进塑封料进入到燕尾槽内。
附图说明
图1为本实用新型的结构示意图;
图2为本实用新型锁定槽的结构示意图;
其中:1、框架,2、焊料,3、晶圆,4、塑封料,5、铝线,6、锁定槽,61、垂直槽,62、燕尾槽,621、小口端,622、大口端,7、V形槽。
具体实施方式
为了加深对本实用新型的理解,下面结合附图详细描述本实用新型的具体实施方式,该实施例仅用于解释本实用新型,并不构成对本实用新型的保护范围的限定。
如图1-2所示,一种改善大芯片分层的结构,包括框架1、晶圆3、焊料2和铝线5,晶圆3一侧的框架1上设有V形槽7,晶圆3通过焊料2和框架1底部相连,晶圆3上表面通过铝线5和另一侧的框架1引脚相连,另一侧的框架1上方和底部都设有V形槽7,焊料2末端流入晶圆3一侧的V形槽7内,焊料在焊接工艺过程中,在高温条件下,有流动性,向芯片四周扩散,流到V形槽内,框架1之间及上方的铝线5上方填充有塑封料4,塑封料4填充到V形槽7和锁定槽6内。
V形槽7一侧设有锁定槽6,V形槽7位于晶圆3和锁定槽6之间的位置,锁定槽6包括垂直槽61和位于垂直槽61下方的燕尾槽62,垂直槽61向下设置于框架1的内部,燕尾槽62的小口端621承接与垂直槽61的底部,垂直槽的设置可以促进塑封料进入到燕尾槽内。
燕尾槽62的小口端621在上,大口端622在下,小口端621的宽度小于大口端622,垂直槽61的深度大于燕尾槽62的竖直方向的深度,燕尾槽62的大口端的宽度小于垂直槽61的水平方向的宽度,锁定槽6的深度大于V形槽7的深度,垂直槽61的深度为0.145-0.155mm,燕尾槽62的深度为0.115-0.125mm。
框架上的锁定槽的结构能够增大和塑封料的接触面积,不仅形成X、Y、Z方向,有锁定效果,因为小口端的宽度小于大口端的宽度,Z方向同样有锁定效果。此种情况,当产品在从高温到低温,因热膨胀系数铜比塑封料小很多的情况下,塑封料收缩力在Z方向上,会因此结构锁定槽的锁定作用避免塑封料与铜的分层。
Claims (6)
1.一种改善大芯片分层的结构,包括框架、晶圆、焊料和铝线,所述晶圆一侧的框架上设有V形槽,其特征在于:所述V形槽一侧设有锁定槽,所述锁定槽包括垂直槽和位于垂直槽下方的燕尾槽,所述垂直槽向下设置于框架的内部,所述燕尾槽的小口端承接与垂直槽的底部。
2.根据权利要求1所述的一种改善大芯片分层的结构,其特征在于:所述燕尾槽的小口端在上,大口端在下,小口端的宽度小于大口端,所述垂直槽的深度大于燕尾槽的竖直方向的深度,所述燕尾槽的大口端的宽度小于垂直槽的水平方向的宽度。
3.根据权利要求2所述的一种改善大芯片分层的结构,其特征在于:所述锁定槽的深度大于V形槽的深度,所述垂直槽的深度为0.145-0.155mm,所述燕尾槽的深度为0.115-0.125mm。
4.根据权利要求1所述的一种改善大芯片分层的结构,其特征在于:所述V形槽位于晶圆和锁定槽之间的位置。
5.根据权利要求1所述的一种改善大芯片分层的结构,其特征在于:所述晶圆通过焊料和框架底部相连,所述晶圆上表面通过铝线和另一侧的框架引脚相连,所述另一侧的框架上方和底部都设有V形槽,所述焊料末端流入晶圆一侧的V形槽内,所述框架之间及上方的铝线上方填充有塑封料。
6.根据权利要求5所述的一种改善大芯片分层的结构,其特征在于:所述塑封料填充到V形槽和锁定槽内。
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