CN214548821U - 一种光波管组件及烹饪装置 - Google Patents

Abstract

本实用新型提供一种光波管组件及烹饪装置，涉及家用电器技术领域。该光波管组件包括：光波管，光波管至少部分沿周向延伸且在周向上形成开口；反射罩，与光波管连接，且反射罩具有在第一方向上与光波管相邻的反射面，以反射光波管发出的至少部分光波；周向围绕第一方向；其中，反射面包括在周向上靠近开口的第一表面和与第一表面连接的第二表面；第一表面形成在第一方向上远离光波管的凹槽。本实用新型的光波管组件及烹饪装置可以有效提高对食物加热的均匀程度。

Description

一种光波管组件及烹饪装置

技术领域

本实用新型属于家用电器技术领域，更具体地，涉及一种光波管组件及烹饪装置。

背景技术

烹饪装置是将电能或其他能源转变成热能以对食物进行加热的装置。根据加热方式的不同，烹饪装置有多种烹饪类型，包括煎、炸、蒸以及各种组合。相关的烹饪装置采用光波对食物进行烘烤加热，相关的烹饪装置的光波照射装置设置在承载食物的烤盘上方，但是对食物加热的均匀性不佳，导致食物的加热效率不高。

实用新型内容

有鉴于此，本实用新型提供一种光波管组件及烹饪装置，以解决如何提高烹饪装置对食物加热的均匀程度的技术问题。

本实用新型的技术方案是这样实现的：

本实用新型实施例提供一种光波管组件包括：光波管，所述光波管至少部分沿周向延伸且在所述周向上形成开口；反射罩，与所述光波管连接，且所述反射罩具有在第一方向上与所述光波管相邻的反射面，以反射所述光波管发出的至少部分光波；所述周向围绕所述第一方向；其中，所述反射面包括在所述周向上靠近所述开口的第一表面和与所述第一表面连接的第二表面；所述第一表面形成在所述第一方向上远离所述光波管的凹槽。

进一步地，在所述周向上，所述开口延伸的范围位于所述第一表面延伸的范围之内。

进一步地，所述第一表面包括：凹槽底面，在所述第一方向上远离所述光波管，且所述开口延伸的范围位于所述凹槽底面延伸的范围之内；两个凹槽侧面，均在所述第一方向上从远离所述光波管的远端向靠近所述光波管的近端延伸；其中，所述两个凹槽侧面的远端分别对应连接在所述凹槽底面在所述周向的两端，所述两个凹槽侧面的近端分别对应连接所述第二表面。

进一步地，所述凹槽底面和两个所述凹槽侧面均为平滑过渡的弧面，其中，两个所述凹槽侧面在所述周向上的最大间距大于或等于所述凹槽底面在所述周向上延伸的距离。

进一步地，所述凹槽底面和两个所述凹槽侧面均为平面，其中，两个所述凹槽侧面在所述周向上的最大间距大于或等于所述凹槽底面在所述周向上延伸的距离。

进一步地，所述第二表面为弧面，所述第二表面向所述光波管突出。

进一步地，所述第二表面为平面。

进一步地，所述第一表面和所述第二表面平滑过渡。

进一步地，所述光波管包括：第一光波管，沿所述周向延伸，所述第一光波管的两端之间形成所述开口；两个第二光波管，分别对应连接在所述第一光波管的两端，所述第二光波管沿直线延伸。

本实用新型实施例还提供一种烹饪装置，包括上述任一项所述的光波管组件。

本实用新型实施例的光波管组件包括光波管和反射罩，其中反射罩的反射面包括在周向上靠近光波管开口的第一表面和与第一表面连接的第二表面，第一表面形成在第一方向上远离光波管的凹槽。本实用新型通过在反射罩靠近光波管光源冷区的位置形成凹形的反射面，来自光波管的部分光波投射至该凹形反射面并经该面反射的过程中，这部分光波的发散角会逐渐收拢，从而能够辐射至烤盘组件的照射冷区，补偿该区域的光波能量，提高辐射冷区的热密度，减小辐射冷区与其余区域的温度差，有效改善烤盘组件上食物受热不均的情况。

附图说明

图1为本实用新型实施例的烹饪装置的立体结构示意图；

图2为本实用新型实施例的光波管组件的立体结构示意图；

图3为烹饪装置的烤盘组件的热密度分布示意图；

图4为本实用新型实施例的光波管组件的另一种光波管结构示意图；

图5a为相关技术的烹饪装置的光波分布示意图；

图5b为本实用新型实施例的烹饪装置的光波分布示意图；

图6a为相关技术光源冷区附近的反射罩的反射面的光波反射示意简图；

图6b为本实用新型实施例的光源冷区附近的反射罩的凹槽底面的光波反射示意简图；

图7为本实用新型实施例的反射罩的局部放大图；

图8为本实用新型实施例的反射罩的反射面的正视示意图；

图9a为本实用新型实施例的光源冷区附近的反射罩的两个凹槽侧面为凹曲面的光波反射示意简图；

图9b为本实用新型实施例的光源冷区附近的反射罩的两个凹槽侧面为平面的光波反射示意简图；

图10为本实用新型实施例的一种反射罩的立体结构示意图；

图11为本实用新型实施例的另一种反射罩的立体结构示意图。

附图标记说明：

1-烹饪装置，10-壳体，11-烹饪腔，20-烤盘组件，21-烤盘，22-加热元件，30-光波管组件，31-光波管，311-第一光波管，312-第二光波管，32-反射罩，第一通孔321，33-反射面，33A-第一环形面，33B-第二环形面，331-第一表面，3311-凹槽底面，3312-凹槽侧面，332-第二表面，3321-凸起，S1-光源冷区，S2-辐射冷区，S3-过热区，A1-第一反射区，A2-第二反射区，L1-开口的延伸长度，L2-第一表面的延伸长度，L3-凹槽底面的延伸距离，L4-两个凹槽侧面之间的距离

具体实施方式

为了使本实用新型的目的、技术方案及优点更加清楚明白，以下结合附图及实施例，对本实用新型进行进一步详细说明。应当理解，此处所描述的具体实施例仅仅用以解释本实用新型，并不用于限定本实用新型。

在具体实施例中所描述的各个具体技术特征，在不矛盾的情况下，可以通过任何合适的方式进行组合，例如通过不同的具体技术特征的组合可以形成不同的实施例和技术方案。为了避免不必要的重复，本实用新型中各个具体技术特征的各种可能的组合方式不再另行说明。

在以下的描述中，所涉及的术语“第一\第二\...”仅仅是区别不同的对象，不表示各对象之间具有相同或联系之处。应该理解的是，所涉及的方位描述“上方”、“下方”、“外”、“内”均为正常使用状态时的方位，“左”、“右”方向表示在具体对应的示意图中所示意的左右方向，可以为正常使用状态的左右方向也可以不是。

需要说明的是，术语“包括”、“包含”或者其任何其他变体意在涵盖非排他性的包含，从而使得包括一系列要素的过程、方法、物品或者装置不仅包括那些要素，而且还包括没有明确列出的其他要素，或者是还包括为这种过程、方法、物品或者装置所固有的要素。在没有更多限制的情况下，由语句“包括一个……”限定的要素，并不排除在包括该要素的过程、方法、物品或者装置中还存在另外的相同要素。术语“连接”在未特别说明的情况下，既包括直接连接也包括间接连接。“第一方向”是指烹饪腔的高度方向。

本实用新型提供一种光波管组件，可应用于烹饪装置中，烹饪装置可以是煎烤机、煎饼机和光微波炉等。烹饪装置可以用于烹饪任何食物，例如，糕点、馒头和煎饼等，也可以用于烹饪牛排、猪排和排骨等肉制品。需要说明的是，本实用新型的应用场景类型并不对本实用新型的光波管组件产生限定。

以下以煎烤机为例对烹饪装置1的工作过程进行大致介绍。如图1所示，煎烤机可以包括壳体10、烤盘组件20和光波管31。其中，壳体10形成有容纳食物的烹饪腔，在工作状态下，烤盘组件20位于烹饪腔的下方与壳体下部固定连接，光波管31位于烹饪腔的上方与壳体上部固定连接。烤盘组件20包括嵌装于壳体下部的烤盘21以及加热元件22，烤盘21用于盛装食物，加热元件22通电后，能够产生热量，并以热传导和热辐射的方式将热量传递至烤盘21，以对食物进行加热。加热元件22可以是以电阻或电磁的方式进行加热。光波管31可以固定连接于壳体上部，光波管31可以是碳纤维光波管、卤素管或石英管等，通电后能够发出可见光、红外线光和远红外线光等，光波管31与放置在烤盘21的食物上表面保持预设间隔，并将发出的光波以热辐射的方式照射于待加热的食物的上表面或侧面，以对食物进行加热。光波管31能够迅速产生高温高热，冷却速度也较快，加热效率较高，并且光波辐射的方式可以较好地对食物进行均匀烘烤，避免食物烤焦，从而保证食物的色泽。煎饼机通过上方的光波管和下方的加热元件共同完成对烤盘上食物的加热。需要说明的是，在其他的技术方案中，煎烤机的烤盘组件20也可以只具有盛装食物的作用，不具有加热功能，煎烤机仅通过上方的光波管31对食物进行加热。此外，在另外的技术方案中，除了在烤盘组件上方设置一组光波管，还可以在烤盘下方也设置一组光波管，对应地两组光波管仍具有与上述描述同样的性能，在此不再赘述。

需要说明的是，光波管31为中空结构，光波管31内部的容纳腔内设置有用于发热的电加热丝，电加热丝需从光波管31延伸方向的两端引出并与外部电源连接，以在通电情况下能发热。即，光波管31无法形成一个周向连续闭合的封闭管路结构，且沿光波管31的延伸方向的两端间隔预设距离，从而在沿光波管31的延伸方向的两端形成开口，即，在光波管31上形成光源冷区。为方便理解和说明，以下结合图2进行示例说明。如图2所示，光波管31延伸方向的两端分别设置有电极端子，以与外部电源连接，获取电能。两个电极端子间隔预设距离，由于两个电极端子之间并没有能产生热量的光波管，无法发射光波，从而光波管31会在电极端子附近产生光源冷区S1。如图3所示，为工作状态下，烤盘组件20接受光波管31发出的光波辐射照射而形成的热密度分布情况。辐射的光波越多，热密度越大。分布越密集的区域表示热密度越高，该区域内的温度越高；分布越稀疏的区域表示热密度越低，该区域内的温度越低。由于光波管31与烤盘组件20的相对位置是固定的，在烤盘组件20与光波管31光源冷区S1相对应的区域，仅能被光波管31的光源冷区S1附近的光波管31的部分发射的少量光波照射到，从而在烤盘组件20形成辐射冷区S2，该区域的热密度分布较低，从而辐射冷区S2的温度低于烤盘组件20其余区域的温度，进而导致放置在烤盘组件20上的食物受热不均。

本实用新型实施例中，如图4所示，光波组件30可以包括光波管31和反射罩32。需要说明的是，光波组件30可以设置在烹饪装置1的烹饪腔的上方，即光波组件30位于食物的上方，光波可以自上而下辐射至烤盘组件20上，以对食物加热。也可以将光波组件30设置于烹饪腔的下方，即光波组件30位于食物的下方，光波可以自下而上辐射至烤盘组件20上，对食物加热。在示例性的实施例中，将光波组件30设置于烹饪腔上继续后续说明。

可以将光波组件30嵌装于壳体10的上盖，可选的，在光波组件30和上盖之间还可以设置隔热罩，以减少热量从光波组件30传递至壳体10，从而减少烹饪腔内的热量散失，提高加热效率。并且减小传递至壳体10的热量，既可以延长壳体10的使用寿命，还可以防止用户在使用烹饪装置1时被烫伤。

光波管31至少部分沿周向延伸且在周向上形成开口。周向可以理解为能够形成封闭的环形的方向，例如，可以是圆环、椭圆环和矩形环等。前述部分已提到周向延伸的光波管31无法形成一个周向连续闭合的封闭管路结构，也就是说，实际的光波管31在延伸方向(周向)上具有两端而不是封闭的，即光波管31的两端具有开口，并在开口区域形成光源冷区S1。光波管31的具体延伸方向可以根据烹饪装置的外轮廓设定，例如，对于整体结构轮廓近似圆形轮廓或椭圆形的烹饪装置，光波管31可以是圆弧形管，不仅能很好的匹配烹饪装置本身的结构，还能够提高加热效率；对于整体结构轮廓近似矩形的烹饪装置，光波管31可以是大致的矩形管。为简化说明，以下以圆弧形结构的光波管31继续后续说明。

具体的，对于圆弧形结构的光波管31的具体结构形式多样，例如，如图2所示，光波管31包括沿周向延伸的第一光波管311，第一光波管311的两端之间形成开口(图2中所圈出的部分)，两个第二光波管312分别对应连接在第一光波管311的两端，两个第二光波管312均为直管，且均设置在第一光波管311的外侧，便于引出与外部电源连接。光波管31还可以是如图4所示的全部沿周向延伸的大致C型结构，并在C型光波管的两端形成开口(图4中所圈出的部分)。如图5a所示，为相关技术中的烹饪装置结构，光源冷区S1的正下方，烤盘组件20形成有辐射冷区S2。

可以理解的是，光波的传播具有方向性，同一点光源发出的光波角度各不相同，各自以不同的方向辐射至物体表面。光波管31发出的光波，有一部分可以直接辐射至烤盘组件20上，还有一部分光波辐射至与烹饪腔11相邻的壁面以及光波管31的上方区域，从而光波管31发出的光波未被充分利用。

如图5b所示，反射罩32与光波管31连接。具体的，反射罩32位于光波管31的上方，这样反射罩32能够将光波管31沿其他方向发出的部分光波反射至烤盘组件20进行光波能量补偿，避免这部分光波辐射至壳体10上方区域而直接耗散，提高了光波的利用率，从而提高烹饪装置的加热效率，并且还能够有效降低壳体10上部的温升。需要说明的是，光波管31可以是和反射罩32固定连接，光波管31也可以是能够升降调整高度的光波管，在示例性的实施例中，采用光波管31固定连接于反射罩32继续后续说明。

如图2和图5b所示，反射罩32具有在第一方向上与光波管31相邻的反射面33，以反射光波管31发出的至少部分光波。需要说明的是，第一方向是指烹饪腔的高度方向(如图5b所示的上下方向)。周向围绕第一方向，可以将周向理解为在水平形成环形的方向。具体的，反射罩32可以是大致薄壁件，反射罩32靠近光波管31的面为反射面33。相邻是指反射面33与光波管31之间可以存在一定的空间，但是二者之间不存在其他实体。反射面32位于光波管31的上方，能够将来自光波管31的部分光波进行反射，以投射至烤盘组件20进行光波补偿。

如图2所示，反射面33包括在周向上靠近开口(图2中所圈出的部分)的第一表面331和与第一表面331连接的第二表面332。具体的，反射面33的延伸方向与光波管31的延伸方向基本相同。第一表面331与开口相邻设置，而第二表面332相对第一表面331而言，是远离开口的。第一表面331和第二表面332围合形成一个闭合的第一环形面33A，该环形面可以是多个平面组成，也可以是多个曲面组成，或者既包括平面也包括曲面。第一环形面33A设置在靠近光波管31内侧的区域，以对光波管31内侧发出的部分光波进行反射。需要说明的是，沿烹饪装置的径向方向，远离壳体边缘的一侧称之为内侧，靠近壳体边缘的一侧称之为外侧。如图5b所示，将第一环形面33A倾斜设置成内缘低外缘高的状态，这样第一环形面33A可以将来自光波管31的部分光波反射至烤盘组件20的A1区域，提高该区域的光波能量分布。

可选的，如图2和图5b所示，反射面33还包括设置在靠近光波管31外侧区域的第二环形面33B，第二环形面33B与第一环形面33A的外缘连接，连接处可以是平滑过渡，第二环形面33B能够对光波管31外侧发出的部分光波进行反射。如图5b所示，将第二环形面33B倾斜设置成内缘高外缘低的状态，这样第二环形面33B可以将来自光波管31的部分光波反射至烤盘组件20的A2区域，提高该区域的光波能量分布。

如图2所示，第一表面331形成在第一方向上远离光波管31的凹槽。具体的，第一表面331沿第一方向朝远离光波管31的方向凹陷，从而呈现凹槽状结构。可以理解的是，如图6a所示，在相关技术中，反射罩的反射面33为靠近光波管31的凸面形状，波束投射至凸面形结构的反射面33，波束在经反射面33反射的过程中发散角会增大，即，凸面形结构的反射面33对波束的反射具有发散作用，从而使反射的波束能够具有更大的辐射面。第一表面331本身位于光源冷区，仅有少量的来自光波管31开口端部的部分光波能够投射至第一表面331，若第一表面331为凸面形结构，这部分光波经第一表面331反射之后发散，从而能够辐射至烤盘组件20上的辐射冷区S2的光波更是极少。本发明实施例的第一表面331为如图6b凹面形结构，光波管31开口端部的部分光波波束可以投射至凹面形结构的反射面33，波束在经反射面33反射的过程中发散角会减小，即，凸面形结构的反射面33对波束的反射具有聚拢作用，从而使反射的波束具有更小的辐射面，进而使更多的来自第一表面331的波束能够辐射至烤盘组件20上的辐射冷区S2，补偿该区域的光波能量，提高辐射冷区S2的热密度，减小辐射冷区与其余区域的温度差，有效改善烤盘组件20上食物受热不均的情况。

可选的，如图2所示，反射罩32的大致中间区域开设有贯穿反射罩32的第一通孔321。也就是说，第一通孔321与第一环形面33A相邻。如图5b所示，由于光波管31靠近内侧的部分向外辐射的光波容易出现交叠，并在烤盘组件20的大致中间区域形成过热区S3。过热区S3的光波能量较为集中，通过在反射罩32的中间区域开设第一通孔321，可以有效减少光波从反射罩32的中间区域辐射至烤盘组件20的过热区S3，避免恶化该区域的加热效果。

本实用新型实施例的光波管组件包括光波管和反射罩，其中反射罩的反射面包括在周向上靠近光波管开口的第一表面和与第一表面连接的第二表面，第一表面形成在第一方向上远离光波管的凹槽。本实用新型通过在反射罩靠近光波管光源冷区的位置形成凹形的反射面，来自光波管的部分光波投射至该凹形反射面并经该面反射的过程中，这部分光波的发散角会逐渐收拢，从而能够辐射至烤盘组件的照射冷区，补偿该区域的光波能量，提高辐射冷区的热密度，减小辐射冷区与其余区域的温度差，有效改善烤盘组件上食物受热不均的情况。

在一些实施例中，如图7所示，在周向上，开口延伸的范围位于第一表面331延伸的范围之内。具体的，开口的延伸长度L1小于第一表面331的延伸长度L2，并且沿周向，光波管31的两端均位于第一表面331的两端之间。光波管31在周向的端部是距离第一表面331最近的部分光源，若光波管31的两端在第一表面331的两端之外，第一表面331的延伸范围内将没有能够产生光波的光波管，并且光波管31端部所发出的光波难以直接辐射至第一表面331，那么第一表面331几乎接受不到光波的照射，也就是说第一表面331没有了光波来源，从而第一表面331无法提供能辐射至烤盘组件20的辐射冷区S2的光波，进而无法对辐射冷区S2进行光波补偿。通过将光波管周向的两端均设置在第一表面的延伸范围内，使这部分位于第一表面延伸范围内的光波管能够为第一表面提供光波辐射，即为第一表面提供光源，这样第一表面才能够把接受到部分光波辐射至烤盘组件的辐射冷区，进行光波补偿。

在一些实施例中，如图7和图8所示，第一表面331包括凹槽底面3311和两个凹槽侧面3312。可以认为，在光波管组件设置在烹饪装置的上盖的情况下，工作状态下，第一表面331是相对光波管31向上凹陷的，凹槽底面3311位于最上端，凹槽底面3311在第一方向(图8所示上下方向)上远离光波管31，且开口延伸的范围位于凹槽底面3311延伸的范围之内。具体的，凹槽底面3311沿烹饪腔的高度方向，朝远离光波管31的方向延伸形成凹面结构。凹槽底面3311沿周向延伸，光波管31沿周向的两端均位于凹槽底面3311在延伸方向的两端范围之内，这样光波管31端部发出的光波就能够直接辐射至凹槽底面3311。如图6b为凹槽底面3311的光波辐射和反射分布，沿周向，光波管31端部发出的光波辐射至凹槽底面3311，经凹槽底面3311的反射至烤盘组件20的辐射冷区S2。

如图7和图8所示，两个凹槽侧面3312均在第一方向(如图8所示的上下方向)上从远离光波管31的远端向靠近光波管31的近端延伸，两个凹槽侧面3312的远端分别对应连接在凹槽底面3311在周向的两端，两个凹槽侧面3312的近端分别对应连接第二表面332。具体的，两个凹槽侧面3321对应位于凹槽底面3311周向延伸的两端。如图8所示，为反射罩第一表面331的侧面剖视图，两个凹槽侧面3312不仅沿第一方向延伸凹陷，还向周向延伸方向有凹陷，并且两个凹槽侧面3312在第一方向的延伸方向与凹槽底面3311在第一方向的延伸方向相同，但两个凹槽侧面3312在周向方向的延伸方向相反，从而形成两个相对凹槽结构。两个凹槽侧面3312的两个远端(图8中虚线所圈出的部分)对应连接凹槽底面3311在周向的两端，形成第一表面331。两个凹槽侧面3312的两个近端(图8中实线所圈出的部分)对应连接第二表面332，从而将第一表面331和第二表面332连接形成反射面33。

如图8所示，两个凹槽侧面3312远端之间的距离大于两个凹槽侧面3312近端之间的距离，从而使第一表面331从上向下看呈渐扩结构，也就是说沿凹槽底面3311朝靠近光波管31的方向，凹槽的开口逐渐增大。这样光波管31端部发出的光波才能够照射到两个凹槽侧面3312。如图9a所示，为两个凹槽侧面3312的光波辐射和反射分布，沿周向，光波管31的两端发出的光波对应辐射至两个凹槽侧面3312，例如，光波管31左端发出的光波辐射至与之相邻的左侧凹槽侧面3312，这部分光波经该面反射后辐射至烤盘组件20的辐射冷区S2；光波管31右端发出的光波辐射至与之相邻的右侧凹槽侧面3312，这部分光波经该面反射后辐射至烤盘组件20的辐射冷区S2。

通过两个凹槽侧面以及凹槽底面的共同作用，有效提高了辐射至烤盘组件辐射冷区的光波数量，从而进一步提高了辐射冷区的光波补偿效果。

在一些实施例中，如图8所示，凹槽底面3311和两个凹槽侧面3312均为平滑过渡的弧面。具体的，两个凹槽侧面3312的远端(图8中虚线所圈出的部分)对应与凹槽底面3311沿周向的两端圆弧过渡连接，以使凹槽侧面3312向凹槽底面3311平缓过渡，有效避免衔接处应力集中，延长反射罩32的使用寿命。

如图8所示，两个凹槽侧面3312在周向上的最大间距L4大于或等于凹槽底面3311在周向上延伸的距离L3。具体的，两个凹槽侧面3312均相对凹槽底面3311倾斜设置，使第一表面331的凹槽呈现由闭口端向开口端逐渐扩张，并且两个凹槽侧面3312靠近近端的间距大于两个凹槽侧面3312靠近远端的间距，从而使两个凹槽侧面3312均能够朝光波管充分外露，以接受来自光波管31的光波辐射。

通过将凹槽底面与两个凹槽侧面平滑过渡连接，可以提高反射罩的使用寿命，并且也能使两个不同的面的光波过渡更加平缓；通过将两个凹槽侧面倾斜设置，从而使凹槽侧面更容易被光波管发出的光波照射到，提高其接受光波辐射的效率。

凹槽底面3311和两个凹槽侧面3312可以都是凹曲面结构，也可以是平面或者折面结构。在另一些实施例中，如图9b所示，凹槽底面3311和两个凹槽侧面3312均为平面。可以理解的是，平面结构的反射面虽然不具有将波束的发散件聚拢的作用，但是平面结构的反射面所反射出去的光波的发散角会小于凸面结构的反射面所反射出去的光波的发散角。也就是说，相较于凸面结构的反射面，平面结构的反射面能够将反射出去的光波的辐射范围缩小。从而将凹槽底面3311和两个凹槽侧面3312设置成平面结构，也能够让少量光波辐射进辐射冷区S2。同样的，两个凹槽侧面3312在周向上的最大间距大于或等于凹槽底面3311在周向上延伸的距离。

在一些实施例中，如图10所示，第二表面332为弧面，第二表面332向光波管31突出。具体的，第二表面332突出形成凸起3321，第二表面332沿周向延伸形成弧面，凸起3321突出的方向与第一表面331所形成的凹槽的凹陷方向基本相反，从而反射罩32的反射面33呈现整体外凸局部内凹的结构。由于第二表面332的面积较大，且第二表面332对应的是光波管31能够发出光波的区域，第二表面332是第一环形面33A的主反射面，第二表面332为凸面形结构的反射面，光波的发散角在经该面反射后会增大，从而从该面反射出去的光波能够辐射到烹饪腔更广的区域，具有更宽的辐射范围。通过将第二表面设置成凸面形结构，以增大反射罩的辐射范围。

在另一些实施例中，如图11所示，第二表面332为平面。具体的，平面也可以作为反射面反射光波至烹饪腔，并且平面结构的第二表面332的加工制造工艺更简单。

在一些实施例中，如图8所示，两个凹槽侧面3312的近端(图8中实线所圈出的部分)对应与第二表面332沿周向的两端圆弧过渡连接，以使凹槽侧面3312向第二表面332圆弧平缓过渡，有效避免衔接处应力集中，进一步延长反射罩32的使用寿命。

以上所述，仅为本实用新型的较佳实施例而已，并非用于限定本实用新型的保护范围。

Claims (10)

1.一种光波管组件，其特征在于，包括：

光波管，所述光波管至少部分沿周向延伸且在所述周向上形成开口；

反射罩，与所述光波管连接，且所述反射罩具有在第一方向上与所述光波管相邻的反射面，以反射所述光波管发出的至少部分光波；所述周向围绕所述第一方向；

其中，所述反射面包括在所述周向上靠近所述开口的第一表面和与所述第一表面连接的第二表面；所述第一表面形成在所述第一方向上远离所述光波管的凹槽。

2.如权利要求1所述的光波管组件，其特征在于，

在所述周向上，所述开口延伸的范围位于所述第一表面延伸的范围之内。

3.如权利要求2所述的光波管组件，其特征在于，所述第一表面包括：

凹槽底面，在所述第一方向上远离所述光波管，且所述开口延伸的范围位于所述凹槽底面延伸的范围之内；

两个凹槽侧面，均在所述第一方向上从远离所述光波管的远端向靠近所述光波管的近端延伸；其中，所述两个凹槽侧面的远端分别对应连接在所述凹槽底面在所述周向的两端，所述两个凹槽侧面的近端分别对应连接所述第二表面。

4.如权利要求3所述的光波管组件，其特征在于，所述凹槽底面和两个所述凹槽侧面均为平滑过渡的弧面，其中，两个所述凹槽侧面在所述周向上的最大间距大于或等于所述凹槽底面在所述周向上延伸的距离。

5.如权利要求3所述的光波管组件，其特征在于，所述凹槽底面和两个所述凹槽侧面均为平面，其中，两个所述凹槽侧面在所述周向上的最大间距大于或等于所述凹槽底面在所述周向上延伸的距离。

6.如权利要求1-5任一项所述的光波管组件，其特征在于，所述第二表面为弧面，所述第二表面向所述光波管突出。

7.如权利要求1-5任一项所述的光波管组件，其特征在于，所述第二表面为平面。

8.如权利要求1所述的光波管组件，其特征在于，所述第一表面和所述第二表面平滑过渡。

9.如权利要求1所述的光波管组件，其特征在于，所述光波管包括：

第一光波管，沿所述周向延伸，所述第一光波管的两端之间形成所述开口；

两个第二光波管，分别对应连接在所述第一光波管的两端，所述第二光波管沿直线延伸。

10.一种烹饪装置，其特征在于，包括如权利要求1-9任一项所述的光波管组件。

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