CN114680648A - 一种盖体组件及烹饪装置 - Google Patents

Abstract

本发明提供一种盖体组件及烹饪装置，涉及家用电器技术领域。该盖体组件包括：基座；光波管，连接于基座；遮板，连接于基座并与光波管在第一方向上相邻设置；其中，遮板的延伸方向与光波管的延伸方向基本相同，遮板能够相对光波管运动，以调节光波管发出的至少部分光波的照射区域。本发明的盖体组件及烹饪装置可以有效提高对食物加热的均匀程度。

Description

一种盖体组件及烹饪装置

技术领域

本发明属于家用电器技术领域，更具体地，涉及一种盖体组件及烹饪装置。

背景技术

烹饪装置是将电能或其他能源转变成热能以对食物进行加热的装置。根据加热方式的不同，烹饪装置有多种烹饪类型，包括煎、炸、蒸以及各种组合。相关的烹饪装置采用光波对食物进行烘烤加热，相关的烹饪装置的光波照射装置设置在承载食物的烤盘上方，但是对食物加热的均匀性不佳，导致食物的加热效率不高。

发明内容

有鉴于此，本发明提供一种盖体组件及烹饪装置，以解决如何提高烹饪装置对食物加热的均匀程度的技术问题。

本发明的技术方案是这样实现的：

本发明实施例提供一种盖体组件，包括基座；光波管，连接于所述基座；遮板，连接于所述基座并与所述光波管在第一方向上相邻设置；其中，所述遮板的延伸方向与所述光波管的延伸方向基本相同，所述遮板能够相对所述光波管运动，以调节所述光波管发出的至少部分光波的照射区域。

进一步地，所述遮板能够相对所述光波管转动预设角度，所述遮板的旋转轴方向与所述第一方向呈夹角。

进一步地，所述遮板能够相对所述光波管平动，所述遮板的平动方向与所述第一方向呈夹角。

进一步地，所述光波管的至少部分沿周向延伸且在所述周向形成开口；所述遮板至少部分沿所述周向延伸；所述周向围绕所述第一方向延伸。

进一步地，所述遮板为在所述周向闭合的一体件。

进一步地，所述遮板包括多个沿所述周向依次设置的子板，至少部分所述子板能相对所述光波管转动。

进一步地，至少两个所述子板的旋转方向不同。

进一步地，所述光波管为轴对称结构，每个子板的旋转轴的延伸方向与所述光波管的对称轴的延伸方向一致。

进一步地，所述遮板具有与所述光波管相邻的第一表面，所述第一表面为弧形面。

本发明还提供一种烹饪装置，包括上述任一项所述的盖体组件；底座，与所述基座连接，以形成在所述底座和所述基座之间的中空的烹饪腔；所述底座设置有与所述烹饪腔相邻的承载件，以承载所述食物；其中，所述遮板与所述烹饪腔相邻并与所述承载件相对设置，所述光波管相对所述遮板远离所述烹饪腔，所述第一方向为所述烹饪腔的高度方向。

进一步地，所述遮板能够相对所述光波管运动以调节所述光波管发出的光波的照射区域覆盖所述食物，并且所述照射区域的边缘距离所述食物的边缘小于预设值。

本发明实施例的盖体组件包括基座、光波管和遮板，其中，遮板的延伸方向与光波管的延伸方向基本相同，遮板能够相对光波管运动，以调节光波管发出的至少部分光波的照射区域。本发明通过调节遮板与光波管的相对位置，以改变照射区域的光波能量分布情况，以光波管整体的照射区域为对象，遮板既可以削弱该照射区域的一部分的光波能量，也可以增强该照射区域的另一部分的光波能量，从而有效改善了光波管对应的照射区域内光波能量分布不均的问题，进而改善了烤盘组件上食物受热不均的情况，提高烹饪装置对食物加热的均匀程度，并且该调节方式灵活便捷。

附图说明

图1为本发明实施例的烹饪装置的立体结构示意图；

图2为本发明实施例的烹饪装置的剖视图；

图3为烹饪装置的烤盘组件的热密度分布示意图；

图4为本发明实施例的盖体组件的立体结构示意图；

图5为本发明实施例的盖体组件的半剖视图；

图6a为本发明实施例的遮板的一种运动状态示意简图；

图6b为本发明实施例的遮板的另一种运动状态示意简图；

图6c为本发明实施例的遮板的另一种运动状态示意简图；

图6d为本发明实施例的遮板的另一种运动状态示意简图；

图6e为本发明实施例的遮板的另一种运动状态示意简图；

图6f为本发明实施例的烹饪装置的光波照射食物的示意简图；

图7a为本发明实施例的一种光波管和一种遮板的结构示意图；

图7b为本发明实施例的一种光波管和另一种遮板的结构示意图；

图8a为本发明实施例的一种子板结构示意图；

图8b为本发明实施例的另一种子板结构示意图。

附图标记说明：

1-烹饪装置，10-壳体，11-烹饪腔，20-烤盘组件，21-烤盘，22-加热元件，40-盖体组件，41-基座，411-隔热罩，412-反射罩，42-光波管，43-遮板，431-第一表面，432-子板，底座-50，O＇-光波管的对称轴，α-夹角，S1-第一过热区，S2-第二过热区，S3-过渡区，S4-第一过冷区，F-食物，A1-遮板反射的光波的照射面积，A2-食物所占面积

具体实施方式

为了使本发明的目的、技术方案及优点更加清楚明白，以下结合附图及实施例，对本发明进行进一步详细说明。应当理解，此处所描述的具体实施例仅仅用以解释本发明，并不用于限定本发明。

在具体实施例中所描述的各个具体技术特征，在不矛盾的情况下，可以通过任何合适的方式进行组合，例如通过不同的具体技术特征的组合可以形成不同的实施例和技术方案。为了避免不必要的重复，本发明中各个具体技术特征的各种可能的组合方式不再另行说明。

在以下的描述中，所涉及的术语“第一\第二\...”仅仅是区别不同的对象，不表示各对象之间具有相同或联系之处。应该理解的是，所涉及的方位描述“上方”、“下方”、“外”、“内”均为正常使用状态时的方位，“左”、“右”方向表示在具体对应的示意图中所示意的左右方向，可以为正常使用状态的左右方向也可以不是。

需要说明的是，术语“包括”、“包含”或者其任何其他变体意在涵盖非排他性的包含，从而使得包括一系列要素的过程、方法、物品或者装置不仅包括那些要素，而且还包括没有明确列出的其他要素，或者是还包括为这种过程、方法、物品或者装置所固有的要素。在没有更多限制的情况下，由语句“包括一个……”限定的要素，并不排除在包括该要素的过程、方法、物品或者装置中还存在另外的相同要素。术语“连接”在未特别说明的情况下，既包括直接连接也包括间接连接。“第一方向”表示烹饪腔的高度方向。

本发明提供一种盖体组件，可应用于烹饪装置中作为烹饪装置的上盖组件或者下盖组件，烹饪装置可以是煎烤机、煎饼机或电饼铛等。烹饪装置可以用于烹饪任何食物，例如，糕点、馒头和煎饼等，也可以用于烹饪牛排、猪排和排骨等肉制品。需要说明的是，本发明的应用场景类型并不对本发明的盖体组件产生限定。

以下以煎烤机为例对烹饪装置1的工作过程进行大致介绍。如图1所示，煎烤机可以包括壳体10、烤盘组件20和光波管42。其中，壳体10形成有容纳食物的烹饪腔，在工作状态下，烤盘组件20位于烹饪腔的下方与壳体下部固定连接，光波管42位于烹饪腔的上方与壳体上部固定连接。烤盘组件20包括嵌装于壳体下部的烤盘21以及加热元件22，烤盘21用于盛装食物，加热元件22通电后，能够产生热量，并以热传导和热辐射的方式将热量传递至烤盘21，以对食物进行加热。加热元件22可以是以电阻或电磁的方式进行加热。光波管42可以固定连接于壳体上部，光波管42可以是碳纤维光波管、卤素管或石英管等，通电后能够发出可见光、红外线光和远红外线光等，光波管42与放置在烤盘21的食物上表面保持预设间隔，并将发出的光波以热辐射的方式照射于待加热的食物的上表面或侧面，以对食物进行加热。光波管42能够迅速产生高温高热，冷却速度也较快，加热效率较高，并且光波辐射的方式可以较好地对食物进行均匀烘烤，避免食物烤焦，从而保证食物的色泽。煎饼机通过上方的光波管和下方的加热元件共同完成对烤盘上食物的加热。需要说明的是，在其他的技术方案中，煎烤机的烤盘组件20也可以只具有盛装食物的作用，不具有加热功能，煎烤机仅通过上方的光波管42对食物进行加热。此外，在另外的技术方案中，除了在烤盘组件上方设置一组光波管，还可以在烤盘下方也设置一组光波管，对应地两组光波管仍具有与上述描述同样的性能，在此不再赘述。

需要说明的是，光波管42发出的光波具有方向性，同一点光源发出的光波的角度各不相同，朝各个方向传播，辐射至物体表面。光波波束较多的区域，所接受到的光波辐射能量较大，而光波波束较少的区域，所接受到的光波辐射能量较少。如图2所示，在工作状态下，光波管42发出的光波(光波的路径如图2中箭头所示)以各个角度投射至待加热的食物表面，通过热辐射对烹饪腔11中的食物进行加热。烤盘组件20位于光波管42正下方的区域距离光波管42最近，光波管42下侧发出的部分光波垂直投射于该区域，导致该区域的光波能量较为集中，从而热量过高，形成第一过热区S1。光波管42内侧发出的部分光波容易出现交叠，并在烤盘组件20的大致中间区域形成交叠区，交叠区的光波能量也较为集中，从而热量过高，形成第二过热区S2。烤盘组件20在第一过热区S1和第二过热区S2之间的区域接受到的光波辐射相对较均匀，形成过渡区S3。由于烹饪装置本身的结构限制，烤盘组件20靠近外缘的区域所能接受到光波辐射较少，从而形成第一过冷区S4。如图3所示，为工作状态下，烤盘组件20接受光波管42发出的光波辐射照射而形成的热密度分布情况。辐射的光波越多，热密度越大。分布越密集的区域表示热密度越高，该区域内的温度越高；分布越稀疏的区域表示热密度越低，该区域内的温度越低。沿烤盘组件20的径向方向，烤盘组件20具有明显的温度差，有些区域温度高，有些区域温度低，从而导致放置在烤盘组件20上的食物受热不均。

在本发明实施例中，如图4和图5所示，盖体组件40包括基座41、光波管42和遮板43。需要说明的是，盖体组件40可以设置在烹饪装置1壳体10的上部，也可以是在壳体10的下部。在示例性的实施例中，将盖体组件40设置在烹饪装置1壳体10的上部，以便于后续说明。图4和图5所示的状态为将设置在壳体10上部的盖体组件40在工作状态下沿上下方向翻转180度后显示的状态。

如图2所示，底座50与基座41连接，以形成在底座50和基座41之间的中空的烹饪腔11，底座50设置有与烹饪腔11相邻的承载件，以承载食物，例如承载件可以是烤盘组件20。

具体的，基座41的形式不限，可以仅仅只是一个上盖壳体，也可以是隔热罩411或者反射罩412，当然也可以是上盖壳体、隔热罩411以及反射罩412的任意组合，在此不作具体限制。在示例性的实施例中，基座41包括隔热罩411和反射罩412，可以将基座41嵌装于烹饪装置1的壳体10上。

可选的，如图5所示，反射罩412可以嵌装于上盖壳体或隔热罩411，以反射罩412嵌装于隔热罩411为例，反射罩412位于隔热罩411与光波管42之间。反射罩412能够将光波管42沿其他方向发出的部分光波反射至烤盘组件20，以避免这部分光波朝壳体上方区域散失，提高光波的利用率，从而提高加热效率，并且还能够有效降低壳体上部的温升。

可选的，如图5所示，反射罩412为预设的形状，以使光波管42发射的光波经过尽可能少的反射次数后，射向烤盘组件20的上表面，且使热辐射能够覆盖整个烤盘组件20的上表面。具体的，位于光波管42两侧的反射罩412形成类似凸面反射镜区域，以使射向该凸面反射镜的区域的光波被散射，从而使被凸面镜区域反射的光波能够覆盖烤盘组件20的上表面的更大面积的区域；位于光波管42上方的反射罩412形成类似凹面反射镜区域，其具有类似凹面镜的聚集作用，从而使经过该凹面反射镜区域反射的光波能够从光波管31的周围向中间射向烤盘组件20的上表面。

如图5所示，隔热罩411可以设置于反射罩412和上盖壳体之间，以减少热量从反射罩412传递至壳体10，从而减少烹饪腔11内的热量散失，提高加热效率。同时，减小传递至壳体10的热量，还能够防止壳体10发生热疲劳，延长了壳体10的使用寿命，也能够防止用户在使用烹饪装置1时被烫伤。

如图5所示，光波管42连接于基座41。需要说明的是，光波管42与基座41的连接方式可多样，例如，光波管42可以是如图5所示的与基座41固定连接的方式，即，光波管42与基座41的相对位置不变；在其他的实施例中，光波管42还可以是相对基座41能够升降调节或者旋转的连接方式，即，光波管42相对基座41的位置可变化。光波管42与基座41的连接方式在此不作具体限制。在示例性的实施例中，采用光波管42固定连接于基座41继续后续说明。

光波管42可以是碳纤维光波管、卤素管或石英管等，通电后能够发出可见光、红外线光和远红外线光等。光波管42能够迅速产生高温高热，冷却速度也较快，加热效率较高，并且光波辐射的方式可以较好地对食物进行均匀烘烤，避免食物烤焦，从而保证食物的色泽。

光波管42的具体结构形式可多样。例如，光波管42可以是直管，可以是单根，也可以是多根；光波管42也可以是周向延伸的管，周向可以理解为能够形成封闭的环形的方向，可以是圆环，矩形环，椭圆环等。需要说明的是，光波管42为中空结构，光波管42内部的容纳腔内设置有用于发热的电加热丝，电加热丝需从光波管42延伸方向的两端引出并与外部电源连接，以在通电情况下能发热。即，光波管42无法形成一个周向连续闭合的封闭管路结构，沿光波管42的延伸方向的两端间隔预设距离，即，实际的光波管42在延伸方向(周向)上具有两端而不是封闭的，从而形成有开口。例如，对于整体结构轮廓近似圆形轮廓或椭圆形的烹饪装置，光波管42可以是圆弧形管，不仅能很好的匹配烹饪装置本身的结构，还能够提高加热效率；对于整体结构轮廓近似矩形的烹饪装置，光波管42可以是大致的矩形管。为简化说明，以下以圆弧形结构的光波管42继续后续说明。

如图6a所示，遮板43连接于基座41并与光波管42在第一方向上相邻设置。需要说明的是，第一方向是指烹饪腔的高度方向(如图6a所示的上下方向)，遮板43只需要有至少一部分和光波管42在第一方向上相邻即可阻挡光波管42沿第一方向的照射的光波从而减小S1区域的热辐射，而不需要遮板43全部都在第一方向上与光波管42相邻。遮板43与烹饪腔11相邻并与烤盘组件20相对设置，光波管42相对遮板43远离烹饪腔11。遮板43是一种透射率低、反射率高的遮光元件。投射至遮板43的光波基本不能够穿过遮板43投射到烤盘组件20上，这部分光波将以反射的形式投射至其他区域。具体的，烤盘组件20位于光波管42的下方，接受光波自上而下的投射，将遮板43设置于光波管42和烤盘组件20之间，才可以有效阻挡部分投向烤盘组件20的光波，从而削弱烤盘组件20相应区域的光波辐射，减小相应区域的热密度。

相邻的含义是指遮板43与光波管42之间可以存在一定的空间，但是二者之间没有其它实体。具体的，由于光波的传递具有发散性，若遮板43与光波管42间隔过远，部分发散的光波可以避开遮板43而继续传递，导致遮板43的遮光效果较差，从而遮板43与光波管42的距离不宜过远。遮板43可以是大致的薄壁件，在第一方向上，遮板43与光波管42相邻的面为第一表面431，该面具有遮光能力和反射能力。即，第一表面431可以阻止光波透过其表面并对这部分光波进行反射。

需要说明的是，遮板43的宽度(如图6a所示左右方向的长度)可根据实际需要设定，遮板43的宽度越大，被遮挡的光波波束越多，烤盘组件20相应区域被削弱的光波辐射也越多；相反的，遮板43宽度越窄，被削弱的光波辐射越少。

如图5所示，遮板43的延伸方向与光波管42的延伸方向基本相同。具体的，遮板43的基本结构形状取决于光波管42的结构形状。例如，光波管42可以是直管、椭圆环管、圆环管和矩形环管等，对应的，遮板43可以是直线形长条件、椭圆环件、圆环件和矩形件等。在示例性的实施例中，光波管42和遮板43均可以是圆环形。需要说明的是，遮板43可以是一体式结构，也可以是分体式结构，即遮板43包括多个子板。将遮板43和光波管42二者的延伸方向设置成基本相同，这样遮板43能够较为有效和直接地接受来自相邻光波管42的光波波束的投射，从而对这部分光波进行阻挡和反射。

遮板43能够相对光波管42运动，以调节光波管42发出的至少部分光波的照射区域。能够理解的是，遮板43起到了对光波管42发出的光波进行反射的作用，那么遮板43的运动会改变遮板43的反射区域和光波射入方向与遮板43的反射面的角度，从而改变反射后光波的方向，从而改变光波照射到的照射区域。遮板43的运动形式灵活多样，包括转动和平动，为方便理解和说明，以下结合图例对遮板43的运动进行详细说明。

具体的，遮板43可以相对光波管42转动：转动可分为两种类型，第一种类型是遮板43绕光波管42的轴线转动。如图6a所示，遮板43可以转动至光波管42的正下方区域，即遮板43处于基本水平的状态，以阻挡部分垂直照射于烤盘组件20的光波，从而减少辐射至第一过热区S1的光波波束，削弱第一过热区S1的热密度，进而减小与其余区域的温度差，改善烤盘组件20上食物受热不均的情况。如图6b所示，遮板43可以转动至光波管42靠近内侧的区域，即遮板43处于倾斜状态，遮板43的内缘高于外缘，并且在沿烤盘组件20的径向方向，光波管42具有相对的两个内侧区域，可以在其中一个内侧区域设置遮板43，另一个内侧区域不设置遮板43，这样既可以削弱交叠区的光波能量，减少辐射至第二过热区S2的光波波束，削弱第二过热区S2的热密度，减小与其余区域的温度差。并且也避免了由于光波管42的内侧区域均设置遮板43而导致的能够进入第二过热区S2光波波束过少，热密度削减过强。此外，由于遮板43还具有反射光波的能力，从而光波管42投射于遮板43的部分光波可以以反射的形式辐射至烤盘组件20的第一过冷区S4，以对该区域进行光波补偿，加强该区域的光波能量，从而提高第一过冷区S4的热密度，进而减小与其余区域的温度差，改善烤盘组件20上食物受热不均的情况。如图6c所示，遮板43还可以转动至光波管42靠近外侧的区域，遮板43仍处于倾斜状态，此时遮板43的外缘高于内缘。对于可以调节升降高度的光波管42，光波管42距离烤盘组件20的上表面高度越高，烤盘组件20所能接受到的光波辐射能量越少，过渡区S3作为烤盘组件20的主受热区的光波能量也会受到一定影响。可以通过在光波管42的外侧区域设置遮板43，遮板43可以将来自光波管42和/或反射罩412的部分光波反射至烤盘组件20的过渡区S3以加强该区域的光波能量，提高该区域的热密度，从而提高烹饪装置1的加热效率。当然，对于加热功率可调节的烹饪装置，烹饪装置进入大功率工作模式时，也可将遮板43转动至光波管42的外侧区域，一方面可以减少对光波的阻挡，同时还能反射部分光波对主受热区进行能量补偿。需要说明的是，遮板43的转动调节的角度可根据实际需要灵活调节，在此不做具体限制。

第二种类型是遮板43绕水平方向转动。具体的，如图6d所示，遮板43可以是一体件，一体式的遮板43作为一个整体相对水平方向转动的过程中，与光波管42的相对位置也会发生变化，从而也会对投射至烤盘组件20的光波分布产生影响。

遮板43除了上述的转动形式之外，遮板43还可以相对光波管42平动：具体的，如图6e所示，遮板43可以是一体件，一体式的遮板43作为一个整体可以在水平方向移动，即，遮板43可以沿烹饪腔11的径向方向移动预设距离，以改变光波管42投射至烤盘组件20的光波分布。例如，当遮板43的部分区域完全从光波管42的正下方移开时，相应地，该部分的光波管42就可以不受这部分已移开的遮板43的阻挡，而直接将光波垂直投射至正下方的烤盘组件20区域，提高该区域的光波能量，当然遮板43也可以从不遮挡光波管42的状态移动至遮挡状态。

遮板43能够相对光波管42运动以调节光波管42发出的光波的照射区域覆盖食物F，并且照射区域的边缘距离食物F的边缘小于预设值。具体的，基于以上遮板43的各种调节方式，用户可以根据实际需要灵活调节遮板43与光波管42的相对位置。一种可选的场景是使遮板43所反射的光波尽可能地辐射到烤盘组件20上待加热的食物F上，有效提高光波的利用率。例如，如图6f所示，为烤盘组件20上食物F接受光波辐射的情况。尤其是对于体积较小或者分量较少的食物F，例如，包子、馒头或蛋挞等，其本身所能接受光波辐射的面积较小。那么，可以灵活且有针对性地调节遮板43的位置和角度，例如，图6f所示的两块食物F位于烤盘组件20靠近中间的位置，可以将遮板43转动至光波管42的外侧，使遮板43反射的光波(图6f中实线箭头的波束)尽可能地辐射至食物F所在的区域内，从而避免遮板43反射的光波辐射至其他区域，造成这部分光波的浪费，进而有效提高加热食物F的效率。此外，还可以通过微调遮板43的角度，以调整遮板43的辐射面积A1，使该面积尽可能地集中于食物F所在区域的面积A2内，从而使反射的光波能够集中辐射至食物F表面上。通过将光波管的光波集中到食物所在区域，能够避免光波照射在非食物烹饪区域所产生的能量浪费，有效提高光波的利用率。

本发明实施例的盖体组件包括基座、光波管和遮板，其中，遮板的延伸方向与光波管的延伸方向基本相同，遮板能够相对光波管运动，以调节光波管发出的至少部分光波的照射区域。本发明通过调节遮板与光波管的相对位置，以改变光波管整体所对应的照射区域的光波能量分布情况，遮板既可以削弱该照射区域中的一部分的光波能量，也可以增强该照射区域中的另一部分的光波能量，从而有效改善了照射区域的光波能量分布不均的问题，进而改善了烤盘组件上食物受热不均的情况，提高了烹饪装置对食物加热的均匀程度，并且该调节方式灵活便捷。

在一些实施例中，如图6d所示，遮板43能够相对光波管42转动预设角度，遮板43的旋转轴方向与第一方向(如图6d所示的上下方向)呈夹角α。需要说明的是，遮板43相对光波管42转动不包括遮板43在水平面转动的情况，遮板43在水平面转动时，遮板43与光波管42相邻的第一表面431始终处于一个基本水平的状态，虽然可以阻挡部分光波的传播，但是投射至第一表面431的光波基本上都反射至了上方区域，烤盘组件20并不能接受到来自第一表面432反射的光波，从而需要光波补偿的区域无法获得光波补偿，造成了光波能量的浪费。也就是说，遮板43在转动的过程中能够与第一方向形成一定的夹角α，这样就可以调整遮板43的第一表面431与水平方向的角度，从而使投射至第一表面431的部分光波能够反射至烤盘组件20的预设区域，并对预设区域进行光波补偿。此外，通过改变遮板43与水平方向的角度，还能够对需要进行光波能量削弱的区域灵活调节。通过将遮板设置成能够相对光波管转动预设角度并且旋转轴与第一方向成夹角的结构，以有效保证遮板对烤盘组件照射区域的遮光能力和反射补偿能力。

在一些实施例中，如图6e所示，遮板43能够相对光波管42平动，遮板43的平动方向与第一方向(如图6e所示的上下方向)呈夹角。具体的，遮板43可以在水平方向平动，但是遮板43不可以在上下方向平动。光波管42发出的光波是自上而下投射，遮板43在上下方向平动，不仅不能够改变原有的遮光效果以及光波反射效果，烹饪装置1还需预留一定的高度空间供其上下活动，并且还有与其他部件干涉的风险。将遮板43设置成能够相对光波管42水平平动的运动形式，可以有效改变烤盘组件20的照射区域的光波分布情况，例如，使烤盘组件20原本被遮挡的部分区域露出，接受光波辐射，以提高这部分区域的光波能量分布，或，使原本有光波辐射的部分区域被遮挡，阻止光波继续照射，以削弱这部分区域的光波能量分布。通过将遮板设置成能够相对光波管水平平动的运动形式，以有效调节照射区域的光波能量分布。

在一些实施例中，光波管42的至少部分沿周向延伸且在周向形成开口。具体的，对于圆弧形结构的光波管42，光波管42可以是如图7a所示的全部沿周向延伸的大致C型结构，并在C型光波管的两端形成开口(图7a中虚线所圈出的部分)；光波管42也可以是如图4所示的不仅有弧形管体沿周向延伸，光波管42还有一部分是直管，同样的，弧形管体的两端也形成有开口(图4中虚线所圈出的部分)。前述部分已说明周向延伸的光波管42形成开口的原因，在此不再赘述。

遮板43至少部分沿周向延伸，周向围绕第一方向。可以这样理解，弯曲四指，弯曲的方向可以看成周向，而此时对应的大拇指直立延伸的方向是第一方向，周向围绕第一方向可以理解是第一方向的延伸被周向所包围，第一方向在内而周向在外。

具体的，以C型结构的光波管42为例，遮板43的延伸方向与光波管42的延伸方向基本相同。遮板43可以如图7b所示全部沿周向延伸形成闭合的圆环件，也可以是如图7a所示的非闭合的圆环件，且在周向上，遮板43的开口位置与光波管42的开口位置大致对应。以图7a和图7b为例，周向是在水平面上环绕的方向，第一方向是竖直方向。相较于开口式的遮板43结构，闭合式的遮板43结构，可以简化遮板43与光波管42的装配工艺，即省去了将遮板43的开口与光波管42的开口进行对准的工序。遮板43可以是一体式也可以是分体式结构。

光波管42的开口区域为光波管的光源冷区，该区域的光波能量非常少，其正下方的烤盘组件20的相应区域也会形成照射冷区。可以将靠近光波管42开口位置的遮板43调整至靠近光波管42的内侧区域，这样就可以通过遮板43将部分光波反射至开口区下方对应的照射冷区，补偿光源冷区的光波分布，从而提高照射冷区的光波能量分布。

通过将光波管设置成周向不闭合的结构形式，周向不闭合的光波管存在照射冷区，可以通过调节遮板的角度和位置，使部分经遮板反射的光波能够进入到照射冷区，改善照射区域的光波能量分布。

可选的，如图7b所示，遮板43为在周向闭合的一体件。

遮板43的结构形式多样，除了一体式结构还也可以是分体式结构。在一些实施例中，如图8a所示，遮板43包括多个沿周向依次设置的子板432，每个子板432均能相对光波管42转动。具体的，子板432的数量可以根据实际需要设定，子板432的具体结构形式可多样，例如，可以是如图8a所示的弧形结构，也可以是如图8b所示的大致平板状结构。每个子板432均可以相对光波管42转动，需要说明的是，多个子板432可以是同步运动，即，各子板432在各个时刻下旋转的角度和旋转方向均大致相同；多个子板432还可以是各自独立转动，也就是说每个子板432的转动角度和/或旋转方向可以不相同。沿周向，多个子板432可以间隔设置，有效避免在角度调整的过程中发生干涉，每个子板432可以对应控制距离最近的光波管42区段的光波出射情况。例如，有的子板432可以旋转至位于光波管42靠近的内侧区域，有的子板432可以旋转至位于光波管42靠近外侧的区域，还有的子板432可以旋转至位于光波管42的正下方区域，从而使有的子板432既能够阻挡部分光波传递至光波能量较为集中的区域，以削弱光波的能量分布，并且还能够将部分光波反射至光波能量较稀疏的区域，以加强光波的能量分布；而有的子板432只具有阻挡光波进入光波能量较为集中的区域的作用，还有的子板432只具有反射光波进入光波能量较稀疏的区域的作用。各子板432之间彼此独立，互不干扰。

可选的，至少两个子板432的旋转方向不同。

通过将遮板设置成多个子板的分体式的结构，相较于一体式的遮板结构，采用分区段、分角度的综合控制方式，分体式的遮板结构具有更宽的角度调节范围，控制方式也更灵活多样。

在一些实施例中，如图8a和图8b所示，光波管42为基本可以看成轴对称结构，每个子板432的旋转轴的延伸方向与光波管42的对称轴O＇的延伸方向一致。具体的，每个子板432均能够绕光波管42的中心对称轴线O＇旋转以调节子板432的角度，也就是说，子板432的第一表面431的延伸方向与光波管42的延伸方向基本相同，那么，每个子板432的第一表面431就能够最大范围的接受到来自光波管42的光波投射，最大限度地发挥其阻挡光波的能力和反射光波的能力。通过将子板的旋转轴的延伸方向设置成与光波管的中心对称轴延伸方向相同，进一步提高了子板调节的有效性和可靠性。

在一些实施例中，如图8a和图8b所示，遮板43具有与光波管42相邻的第一表面431，第一表面431为弧形面。具体的，第一表面431可以是大致的平面，也可以是弧形面，弧形结构的面对光波具有较好的发散作用，可以更容易的将投射至第一表面431的光波反射至预设区域。通过将遮板的第一表面设置弧面结构，进一步扩大了遮板反射光波的范围。

以上所述，仅为本发明的较佳实施例而已，并非用于限定本发明的保护范围。

Claims (11)

1.一种盖体组件，其特征在于，包括：

基座；

光波管，连接于所述基座；

遮板，连接于所述基座并与所述光波管在第一方向上相邻设置；

其中，所述遮板的延伸方向与所述光波管的延伸方向基本相同，所述遮板能够相对所述光波管运动，以调节所述光波管发出的至少部分光波的照射区域。

2.如权利要求1所述盖体组件，其特征在于，所述遮板能够相对所述光波管转动预设角度，所述遮板的旋转轴方向与所述第一方向呈夹角。

3.如权利要求1所述盖体组件，其特征在于，所述遮板能够相对所述光波管平动，所述遮板的平动方向与所述第一方向呈夹角。

4.如权利要求1-3任一项所述盖体组件，其特征在于，所述光波管的至少部分沿周向延伸且在所述周向形成开口；所述遮板至少部分沿所述周向延伸；所述周向围绕所述第一方向延伸。

5.如权利要求4所述的盖体组件，其特征在于，所述遮板为在所述周向闭合的一体件。

6.如权利要求4所述的盖体组件，其特征在于，所述遮板包括多个沿所述周向依次设置的子板，至少部分所述子板能相对所述光波管转动。

7.如权利要求6所述的盖体组件，其特征在于，至少两个所述子板的旋转方向不同。

8.如权利要求7所述的盖体组件，其特征在于，所述光波管为轴对称结构，每个子板的旋转轴的延伸方向与所述光波管的对称轴的延伸方向一致。

9.如权利要求1所述的盖体组件，其特征在于，所述遮板具有与所述光波管相邻的第一表面，所述第一表面为弧形面。

10.一种烹饪装置，其特征在于，包括：

如权利要求1-9任一项所述的盖体组件；

底座，与所述基座连接，以形成在所述底座和所述基座之间的中空的烹饪腔；所述底座设置有与所述烹饪腔相邻的承载件，以承载所述食物；

其中，所述遮板与所述烹饪腔相邻并与所述承载件相对设置，所述光波管相对所述遮板远离所述烹饪腔，所述第一方向为所述烹饪腔的高度方向。

11.如权利要求10所述的烹饪装置，其特征在于，所述遮板能够相对所述光波管运动以调节所述光波管发出的光波的照射区域覆盖所述食物，并且所述照射区域的边缘距离所述食物的边缘小于预设值。

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