CN214418499U - 一种具有清洗防结垢装置的双面抛光设备 - Google Patents

Abstract

本实用新型涉及具有清洗防结垢装置的双面抛光设备，其包括内齿组件、下研磨组件、以及上研磨组件，内齿组件包括底盘、内齿圈，下研磨组件包括下盘、以及横梁，其中横梁横设在底盘上方，且底盘顶面和横梁底面之间形成接液槽，特别是，双面抛光设备还包括设置在接液槽的清洗防结垢装置，清洗防结垢装置包括位于接液槽内且能够相对接液槽的槽底表面进行刷扫的刷扫部件、以及对接液槽的槽底表面或刷扫部件进行冲洗的冲刷部件。本实用新型一方面通过刷扫和冲刷将接液槽内的浆液充分的搅动，避免磨屑堆积和浆液沉降，同时也便于浆液的回收和循环；另一方面无需拆除任何部件，即可对接液槽完成清洁，简单方便，降低工作人员劳动强度，提高生产效率。

Description

一种具有清洗防结垢装置的双面抛光设备

技术领域

本实用新型属于研磨抛光设备领域，具体涉及一种具有清洗防结垢装置的双面抛光设备。

背景技术

双面研磨抛光机主要应用于硅片、陶瓷片、石英晶体及其他半导体材料的双面研磨/抛光，也可用于其他脆硬材料的双面高精度研磨/抛光。

目前，市场上的传统使用的双面研磨抛光机设计、生产过程中主要考虑其设备的稳定性及加工过程中的精确控制性能，该类设备主要有上盘、下盘、内齿圈三个转速的固定搭配，太阳轮单独驱动，游星轮的公转和自传可以在一定范围内任意调节适配，有利于工件加工精度和效率的提高，选用普通三相异步电动机拖动，变频器调速，实现启动、停车的平稳过渡，满足对加工工艺的需要。

然而，这一类研磨抛光机没有考虑到研磨过程中抛光浆料沉积的问题，因此存在以下缺陷：

1、浆料在长时间加工过程中会逐渐沉积在设备内部，不能很好的通过循环管道再次进入循环抛光，导致后续需要补加抛光浆液，成本高；

2、设备内容易形成浆料的结块硬物，进入浆料循环系统后会导致抛光工件的良率低；

3、设备内部区域狭小，清理不便，投入的人力成本高，降低生产效率。

发明内容

本实用新型所要解决的技术问题是克服现有技术的不足，提供一种改进的具有清洗防结垢装置的双面抛光设备。

为解决上述技术问题，本实用新型采取如下技术方案：

一种具有清洗防结垢装置的双面抛光设备，其包括内齿组件、下研磨组件、以及上研磨组件，内齿组件包括底盘、自底盘边缘向上延伸并形成有内齿的内齿圈，下研磨组件包括下盘、以及连接在下盘底面并支撑下盘的横梁，其中横梁横设在底盘上方，且底盘顶面和横梁底面之间形成接液槽，

特别是，双面抛光设备还包括设置在接液槽的清洗防结垢装置，清洗防结垢装置包括位于接液槽内且能够相对接液槽的槽底表面进行刷扫的刷扫部件、以及对接液槽的槽底表面或刷扫部件进行冲洗的冲刷部件。

优选地，刷扫部件包括刷座和刷毛，其中刷座自上端部连接在横梁的底部，刷毛自下端部抵触在槽底表面上。这样一来，通过底盘和横梁的相对运动，实现槽底表面的刷扫，避免研磨碎屑以及抛光液的沉积。

根据本实用新型的一个具体实施和优选方面，刷扫部件还包括设置在刷座和横梁之间的连杆，其中连杆上下伸缩设置。这样设置的好处就是：根据研磨强度，调节刷扫力度，以确保不会产生碎屑的沉积。

具体的，刷扫部件至少有两个，且绕着内齿圈的中心间隔分布。这个根据实际需要进行安装，一般情况下，都是均匀分布。

根据本实用新型的又一个具体实施和优选方面，冲刷部件包括高压喷头和浆液供液单元，其中高压喷头设置在横梁上，且喷流口朝向槽底表面设置，浆液供液单元自横梁内将浆液供应至高压喷头。在刷扫的同时，通过高压喷头所形成搅动力度，不仅便于抛光液的循环回流，而且也进一步降低研磨碎屑以及抛光液沉积的可能性。

优选地，高压喷头的喷管自两端部向上拱起设置，其中在喷管的内壁形成多个喷嘴，且多个喷嘴所形成水流相交并汇聚成一点，该汇聚的点贴近所述槽底表面设置。这样设置，避免水流分散而无法达到搅拌的效果。

优选地，浆液供液单元与浆液循环供液管路相连通设置。方便实施，降低抛光液的消耗。

具体的，高压喷头至少有两个，且绕着内齿圈的中心间隔分布。这个根据实际需要进行安装，一般情况下，都是均匀分布。

此外，冲刷部件位于刷扫部件与内齿圈的中心之间。避免高压喷头所搅拌的浆液乱窜，不利于浆液的回流。

优选地，底盘自上而下所形成腔体逐步变小，且腔体的底部的表面为平面，刷扫部件和冲刷部件位于平面的正上方。先通过变小的腔体，能够将碎屑向底部集中到导向，然后在平面正上方的刷扫和冲刷下，大幅度降低碎屑沉积的可能性。

由于以上技术方案的实施，本实用新型与现有技术相比具有如下优点：

本实用新型一方面通过刷扫和冲刷将接液槽内的浆液充分的搅动，避免磨屑堆积和浆液沉降，同时也便于浆液的回收和循环；另一方面无需拆除任何部件，即可对接液槽完成清洁，简单方便，降低工作人员劳动强度，提高生产效率。

附图说明

下面结合附图和具体的实施例对本实用新型做进一步详细的说明。

图1为本实用新型的双面抛光设备的剖视示意图；

其中：x、夹持工件；

1、双面抛光设备；10、内齿组件；100、底盘；101、内齿圈；a、内齿；11、下研磨组件；110、下盘；111、横梁；q、接液槽；12、上研磨组件；120、上盘；13、支撑架；14、中心齿轮；15、驱动组件；

2、刷扫部件；20、刷座；21、连杆；22、刷毛；

3、冲刷部件；30、高压喷头。

具体实施方式

为使本申请的上述目的、特征和优点能够更加明显易懂，下面结合附图对本申请的具体实施方式做详细的说明。在下面的描述中阐述了很多具体细节以便于充分理解本申请。但是本申请能够以很多不同于在此描述的其它方式来实施，本领域技术人员可以在不违背本申请内涵的情况下做类似改进，因此本申请不受下面公开的具体实施例的限制。

在本申请的描述中，需要理解的是，术语“中心”、“纵向”、“横向”、“长度”、“宽度”、“厚度”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”、“内”、“外”、“顺时针”、“逆时针”、“轴向”、“径向”、“周向”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本申请和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本申请的限制。

此外，术语“第一”、“第二”仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此，限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隐含地包括至少一个该特征。在本申请的描述中，“多个”的含义是至少两个，例如两个，三个等，除非另有明确具体的限定。

在本申请中，除非另有明确的规定和限定，术语“安装”、“相连”、“连接”、“固定”等术语应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或成一体；可以是机械连接，也可以是电连接；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连，可以是两个元件内部的连通或两个元件的相互作用关系，除非另有明确的限定。对于本领域的普通技术人员而言，可以根据具体情况理解上述术语在本申请中的具体含义。

在本申请中，除非另有明确的规定和限定，第一特征在第二特征“上”或“下”可以是第一和第二特征直接接触，或第一和第二特征通过中间媒介间接接触。而且，第一特征在第二特征“之上”、“上方”和“上面”可是第一特征在第二特征正上方或斜上方，或仅仅表示第一特征水平高度高于第二特征。第一特征在第二特征“之下”、“下方”和“下面”可以是第一特征在第二特征正下方或斜下方，或仅仅表示第一特征水平高度小于第二特征。

需要说明的是，当元件被称为“固定于”或“设置于”另一个元件，它可以直接在另一个元件上或者也可以存在居中的元件。当一个元件被认为是“连接”另一个元件，它可以是直接连接到另一个元件或者可能同时存在居中元件。本文所使用的术语“垂直的”、“水平的”、“上”、“下”、“左”、“右”以及类似的表述只是为了说明的目的，并不表示是唯一的实施方式。

如图1所示，本实施例的双面抛光设备1包括内齿组件10、下研磨组件11、上研磨组件12、支撑架13、中心齿轮14、以及驱动组件15，其中支撑架13用于夹持工件x。

内齿组件10包括底盘100、自底盘100边缘向上延伸并形成有内齿a的内齿圈101。

下研磨组件11包括两个下盘110、连接在每个下盘110底面并支撑下盘110 的横梁111，其中横梁111横设在底盘100上方，且底盘100顶面和横梁111底面之间形成接液槽q。

上研磨组件12包括与下盘110一一对应设置的上盘120。

工件x自底面抵触在下盘110上、自顶面抵触在上盘120上，支撑架13夹持在工件x的外周，且支撑架13自边缘处形成有与内齿a相配合的轮齿。

中心齿轮14设置在支撑架13远离内齿a的一侧，并与支撑架13边缘处的轮齿相啮合设置。

也就是说，在研磨抛光过程中，工件x沿内齿圈101周向运动时，自身也在做自转。

驱动组件15为常规驱动传动部件，这里不作赘述。

本例中，为了避免浆液在接液槽q中产生沉降、以及磨屑沉积，在接液槽q中对应形成有刷扫部件2和冲刷部件3。

底盘100自上而下所形成腔体逐步变小，且腔体的底部的表面为平面，刷扫部件2和冲刷部件3位于平面的正上方。先通过变小的腔体，能够将碎屑向底部集中到导向，然后在平面正上方的刷扫和冲刷下，大幅度降低碎屑沉积的可能性。

本例中，刷扫部件2有两个，且两个刷扫部件2关于底盘100中心线对称设置。这样设置，对沉积物的刷扫效果更好，且设备运行稳定。

每个刷扫部件2包括刷座20、用于将刷座20的上端部与横梁111连接的连杆21、以及设置在刷座20底部的刷毛22，其中刷毛22自底部接触在接液槽q的槽底表面上，且刷毛22采用高强度耐腐蚀材质制成。这样一来，通过底盘和横梁的相对运动，实现槽底表面的刷扫，避免研磨碎屑以及抛光液的沉积。

同时，为了实现刷扫部件2对底盘100压力的调节，连杆21能够下上伸缩可调节设置，这样设置的好处就是：根据研磨强度，调节刷扫力度，以确保不会产生碎屑的沉积。

冲刷部件3包括高压喷头30和浆液供液单元，其中高压喷头30设置在横梁111上，且喷流口朝向槽底表面设置，浆液供液单元自横梁内将浆液供应至高压喷头。在刷扫的同时，通过高压喷头所形成搅动力度，不仅便于抛光液的循环回流，而且也进一步降低研磨碎屑以及抛光液沉积的可能性。

高压喷头30的喷管自两端部向上拱起设置，其中在喷管的内壁形成多个喷嘴，且多个喷嘴所形成水流相交并汇聚成一点，该汇聚的点贴近所述槽底表面设置。这样设置，避免水流分散而无法达到搅拌的效果。

浆液供液单元与浆液循环供液管路相连通设置。方便实施，降低抛光液的消耗。

本例中，高压喷头30同样有两个，且绕着内齿圈101的中心均匀间隔分布。

同时，冲刷部件3位于刷扫部件2与内齿圈101的中心之间。避免高压喷头所搅拌的浆液乱窜，不利于浆液的回流。

综上所述，本实施例具有以下技术优势：

1、通过刷扫和冲刷将接液槽内的浆液充分的搅动，避免堆积成块，同时也便于浆液的回收和循环，降低浆液的损耗；

2、无需拆除任何部件，即可对接液槽完成清洁，简单方便，降低工作人员劳动强度，提高生产效率。

以上对本实用新型做了详尽的描述，其目的在于让熟悉此领域技术的人士能够了解本实用新型的内容并加以实施，并不能以此限制本实用新型的保护范围，凡根据本实用新型的精神实质所作的等效变化或修饰，都应涵盖在本实用新型的保护范围内。

Claims (10)

1.一种具有清洗防结垢装置的双面抛光设备，其包括内齿组件、下研磨组件、以及上研磨组件，所述内齿组件包括底盘、自所述底盘边缘向上延伸并形成有内齿的内齿圈，所述下研磨组件包括下盘、以及连接在所述下盘底面并支撑所述下盘的横梁，其中所述横梁横设在所述底盘上方，且所述底盘顶面和所述横梁底面之间形成接液槽，其特征在于：

所述的双面抛光设备还包括设置在所述接液槽的清洗防结垢装置，所述的清洗防结垢装置包括位于所述接液槽内且能够相对所述接液槽的槽底表面进行刷扫的刷扫部件、以及对所述接液槽的槽底表面或所述刷扫部件进行冲洗的冲刷部件。

2.根据权利要求1所述的具有清洗防结垢装置的双面抛光设备，其特征在于：所述的刷扫部件包括刷座和刷毛，其中所述刷座自上端部连接在所述的横梁的底部，所述的刷毛自下端部抵触在所述槽底表面上。

3.根据权利要求2所述的具有清洗防结垢装置的双面抛光设备，其特征在于：所述的刷扫部件还包括设置在所述刷座和所述横梁之间的连杆，其中所述连杆上下伸缩设置。

4.根据权利要求3所述的具有清洗防结垢装置的双面抛光设备，其特征在于：所述的刷扫部件至少有两个，且绕着所述内齿圈的中心间隔分布。

5.根据权利要求1所述的具有清洗防结垢装置的双面抛光设备，其特征在于：所述的冲刷部件包括高压喷头和浆液供液单元，其中所述的高压喷头设置在所述横梁上，且喷流口朝向所述槽底表面设置，所述的浆液供液单元自所述横梁内将浆液供应至所述高压喷头。

6.根据权利要求5所述的具有清洗防结垢装置的双面抛光设备，其特征在于：所述的高压喷头的喷管自两端部向上拱起设置，其中在所述喷管的内壁形成多个喷嘴，且多个所述喷嘴所形成水流相交并汇聚成一点，该汇聚的点贴近所述槽底表面设置。

7.根据权利要求5所述的具有清洗防结垢装置的双面抛光设备，其特征在于：所述浆液供液单元与浆液循环供液管路相连通设置。

8.根据权利要求5或6所述的具有清洗防结垢装置的双面抛光设备，其特征在于：所述的高压喷头至少有两个，且绕着所述内齿圈的中心间隔分布。

9.根据权利要求1所述的具有清洗防结垢装置的双面抛光设备，其特征在于：所述冲刷部件位于所述刷扫部件与所述内齿圈的中心之间。

10.根据权利要求1所述的具有清洗防结垢装置的双面抛光设备，其特征在于：所述的底盘自上而下所形成腔体逐步变小，且腔体的底部的表面为平面，所述的刷扫部件和所述冲刷部件位于所述平面的正上方。

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