CN211757120U - 一种单晶碳化硅晶片的清洗装置 - Google Patents

一种单晶碳化硅晶片的清洗装置 Download PDF

Info

Publication number
CN211757120U
CN211757120U CN201921908562.0U CN201921908562U CN211757120U CN 211757120 U CN211757120 U CN 211757120U CN 201921908562 U CN201921908562 U CN 201921908562U CN 211757120 U CN211757120 U CN 211757120U
Authority
CN
China
Prior art keywords
fixedly connected
motor
silicon carbide
top end
seat
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Fee Related
Application number
CN201921908562.0U
Other languages
English (en)
Inventor
沈泽康
陈晓静
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Jiangsu Yingrui Semiconductor Co ltd
Original Assignee
Jiangsu Yingrui Semiconductor Co ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Jiangsu Yingrui Semiconductor Co ltd filed Critical Jiangsu Yingrui Semiconductor Co ltd
Priority to CN201921908562.0U priority Critical patent/CN211757120U/zh
Application granted granted Critical
Publication of CN211757120U publication Critical patent/CN211757120U/zh
Expired - Fee Related legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Landscapes

  • Cleaning Or Drying Semiconductors (AREA)

Abstract

本实用新型公开了一种本实用新型公开了一种单晶碳化硅晶片的清洗装置,包括底板,所述底板的一侧内部固定连接有底座,所述底座的内部中心处固定连接有第一电机,所述第一电机的转动轴的顶端固定连接有转盘,所述转盘的顶端固定连接有多个吸盘,所述底板的底端固定连接有废液槽,所述底板的中心处固定连接有升降槽,所述升降槽的底端中心处固定连接有第五电机,所述第五电机的转动轴的顶端固定连接有螺纹杆,所述升降座的内部中心处螺纹传动连接有螺纹杆,本实用新型通过多个电机和转动座的设置,实现清洗喷头的多轴转动,通过转盘旋转晶片,配合喷头的多轴转动,对晶片实现全方位的清洗,增加清洗面积,减少单点水流预清洗使用的时间。

Description

一种单晶碳化硅晶片的清洗装置
技术领域
本实用新型涉及芯片制造领域,尤其涉及一种单晶碳化硅晶片的清洗装置。
背景技术
现有的单晶碳化硅在打磨之后需要在无尘环境下进行预清洗,预清洗的效果直接决定无尘室晶片清洗的来料情况及最终衬底表面的洁净度品质。
现有的预清洗使用水流冲洗,时间长,效果不好,清洗过程中,水流较为集中,容易对单晶碳化硅晶片造成损伤。
实用新型内容
本实用新型的目的是为了解决现有技术中存在的缺点,而提出的一种单晶碳化硅晶片的清洗装置。
为了实现上述目的,本实用新型采用了如下技术方案:一种单晶碳化硅晶片的清洗装置,包括底板,所述底板的一侧内部固定连接有底座,所述底座的内部中心处固定连接有第一电机,所述第一电机的转动轴的顶端固定连接有转盘,所述转盘的顶端固定连接有多个吸盘,所述底板的底端固定连接有废液槽,所述底板的中心处固定连接有升降槽,所述升降槽的底端中心处固定连接有第五电机,所述第五电机的转动轴的顶端固定连接有螺纹杆,所述升降槽的内部滑动连接有升降座,所述升降座的内部中心处螺纹传动连接有螺纹杆,所述升降座的顶端固定连接有第二电机,所述第二电机的转动轴的前端固定连接有第二转动座,所述第二转动座的顶端固定连接有第三电机,所述第三电机的转动轴的前端固定连接有第一转动座,所述第一转动座的顶端固定连接有第四电机,所述第四电机的转动轴的前端固定连接有固定套,所述固定套的中心处固定连接有连接管,所述连接管的一端螺纹连接有喷头,所述连接管的另一端固定连接有软管,所述软管远离连接管的一端固定连接有水泵,所述水泵的另一端连接有清洗液槽。
进一步地,所述底座的周侧设置有聚水槽,所述聚水槽的一侧底端设置有排水口,所述排水口穿过底板延伸至废液槽的内部。
进一步地,多个所述吸盘远离转盘的一端吸附连接有单晶碳化硅晶片,多个所述吸盘一共四个分布在转盘的顶端。
进一步地,所述升降座的底端两侧设置有凸起,所述升降槽在与升降座的滑动连接处设置有对应的滑槽。
进一步地,所述升降座的内部设置有螺母,所述螺纹杆与升降座内部的螺母进行传动连接。
进一步地,所述底板的顶端设置有防尘罩,所述防尘罩的一端设置在远离聚水槽的位置,所述防尘罩的另一端设置在水泵的中心处。
本实用新型具有如下有益效果:
1、本实用新型通过多个电机和转动座的设置,实现清洗喷头的多轴转动,通过转盘旋转晶片,配合喷头的多轴转动,对晶片实现全方位的清洗,增加清洗面积,减少单点水流预清洗使用的时间。
2、本实用新型通过设置聚水槽、排水口等,将清洗的液体的进行收集,导入至废液槽,经过后期处理,进行循环利用。
附图说明
图1为本实用新型提出的一种单晶碳化硅晶片的清洗装置的正视图;
图2为本实用新型提出的一种单晶碳化硅晶片的清洗装置的局部俯视图;
图3为图1中A处的放大图;
图4为本实用新型提出的一种单晶碳化硅晶片的清洗装置的升降槽示意图。
图例说明:1、底板;2、防尘罩;3、连接管;4、喷头;5、软管;6、螺纹杆;7、第五电机;8、清洗液槽;9、水泵;10、第一电机;11、废液槽;12、排水口;13、聚水槽;14、转盘;15、吸盘;16、固定套;17、第二电机;18、升降座;19、升降槽;20、第三电机;21、第一转动座;22、第四电机;23、底座;24、第二转动座。
具体实施方式
下面将结合本实用新型实施例中的附图,对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述。
参照图1-4,本实用新型提供的一种实施例:一种单晶碳化硅晶片的清洗装置,包括底板1,底板1的一侧内部固定连接有底座23,底座23的内部中心处固定连接有第一电机10,使得转盘14可以转动,第一电机10的转动轴的顶端固定连接有转盘14,转盘14的顶端固定连接有多个吸盘15,用于固定晶片,底板1的底端固定连接有废液槽11,废液的收集槽,底板1的中心处固定连接有升降槽19,和升降座18配合,使得升降座18可以上下移动,升降槽19的底端中心处固定连接有第五电机7,通过螺纹杆6来使得升降座18可以升降,第五电机7的转动轴的顶端固定连接有螺纹杆6,和升降座18内螺母配合进行升降,升降槽19的内部滑动连接有升降座18,用于升降和安装第二电机17,升降座18的内部中心处螺纹传动连接有螺纹杆6,升降座18的顶端固定连接有第二电机17,第二电机17的转动轴的前端固定连接有第二转动座24,第二转动座24的顶端固定连接有第三电机20,第三电机20的转动轴的前端固定连接有第一转动座21,第一转动座21的顶端固定连接有第四电机22,三个电机的使用,使得喷头4可以多方位的转动,第四电机22的转动轴的前端固定连接有固定套16,用于固定连接管3,固定套16的中心处固定连接有连接管3,连接管3的一端螺纹连接有喷头4,将清洗液喷出,连接管3的另一端固定连接有软管5,软管5远离连接管3的一端固定连接有水泵9,水泵9的另一端连接有清洗液槽8,用于放置清洗液。
底座23的周侧设置有聚水槽13,用于收集喷出之后的清洗液,聚水槽13的一侧底端设置有排水口12,将废液引导至废液槽11中,排水口12穿过底板1延伸至废液槽11的内部。多个吸盘15远离转盘14的一端吸附连接有单晶碳化硅晶片,多个吸盘15一共四个分布在转盘14的顶端。升降座18的底端两侧设置有凸起,升降槽19在与升降座18的滑动连接处设置有对应的滑槽,放置升降座18转动。升降座18的内部设置有螺母,螺纹杆6与升降座18内部的螺母进行传动连接,使得升降座18可以升降。底板1的顶端设置有防尘罩2,保证清洗环境的无尘,防尘罩2的一端设置在远离聚水槽13的位置,防尘罩2的另一端设置在水泵9的中心处。
工作原理:将需要预清洗的晶片放置在转盘14顶端,使用吸盘15进行固定,启动第一电机10,使得转盘14开始转动,启动水泵9,抽取清洗液槽8内部的清洗液,清洗液通过软管5流到连接管3,通过连接管3流入喷头4,通过喷头4将清洗液喷出,通过启动第五电机7,调整喷头4的高度,通过启动第二电机17,调整喷头4的仰角,通过启动第三电机20,调整喷头4的摆角,通过启动第四电机22,调整喷头4的旋转角,调整各个角度的调整,对晶片进行快速全面的清洗。
以上显示和描述了本实用新型的基本原理、主要特征及优点。本行业的技术人员应该了解,上述实施方式只为说明本实用新型的技术构思及特点,其目的在于让熟悉此项技术的人士能够了解本实用新型的内容并加以实施,并不能以此限制本实用新型的保护范围,凡根据本实用新型精神实质所作的等效变化或修饰,都应涵盖在本实用新型的保护范围内。

Claims (6)

1.一种单晶碳化硅晶片的清洗装置,包括底板(1),其特征在于:所述底板(1)的一侧内部固定连接有底座(23),所述底座(23)的内部中心处固定连接有第一电机(10),所述第一电机(10)的转动轴的顶端固定连接有转盘(14),所述转盘(14)的顶端固定连接有多个吸盘(15),所述底板(1)的底端固定连接有废液槽(11),所述底板(1)的中心处固定连接有升降槽(19),所述升降槽(19)的底端中心处固定连接有第五电机(7),所述第五电机(7)的转动轴的顶端固定连接有螺纹杆(6),所述升降槽(19)的内部滑动连接有升降座(18),所述升降座(18)的内部中心处螺纹传动连接有螺纹杆(6),所述升降座(18)的顶端固定连接有第二电机(17),所述第二电机(17)的转动轴的前端固定连接有第二转动座(24),所述第二转动座(24)的顶端固定连接有第三电机(20),所述第三电机(20)的转动轴的前端固定连接有第一转动座(21),所述第一转动座(21)的顶端固定连接有第四电机(22),所述第四电机(22)的转动轴的前端固定连接有固定套(16),所述固定套(16)的中心处固定连接有连接管(3),所述连接管(3)的一端螺纹连接有喷头(4),所述连接管(3)的另一端固定连接有软管(5),所述软管(5)远离连接管(3)的一端固定连接有水泵(9),所述水泵(9)的另一端连接有清洗液槽(8)。
2.根据权利要求1所述的一种单晶碳化硅晶片的清洗装置,其特征在于:所述底座(23)的周侧设置有聚水槽(13),所述聚水槽(13)的一侧底端设置有排水口(12),所述排水口(12)穿过底板(1)延伸至废液槽(11)的内部。
3.根据权利要求1所述的一种单晶碳化硅晶片的清洗装置,其特征在于:多个所述吸盘(15)远离转盘(14)的一端吸附连接有单晶碳化硅晶片,多个所述吸盘(15)一共四个分布在转盘(14)的顶端。
4.根据权利要求1所述的一种单晶碳化硅晶片的清洗装置,其特征在于:所述升降座(18)的底端两侧设置有凸起,所述升降槽(19)在与升降座(18)的滑动连接处设置有对应的滑槽。
5.根据权利要求1所述的一种单晶碳化硅晶片的清洗装置,其特征在于:所述升降座(18)的内部设置有螺母,所述螺纹杆(6)与升降座(18)内部的螺母进行传动连接。
6.根据权利要求1所述的一种单晶碳化硅晶片的清洗装置,其特征在于:所述底板(1)的顶端设置有防尘罩(2),所述防尘罩(2)的一端设置在远离聚水槽(13)的位置,所述防尘罩(2)的另一端设置在水泵(9)的中心处。
CN201921908562.0U 2019-11-07 2019-11-07 一种单晶碳化硅晶片的清洗装置 Expired - Fee Related CN211757120U (zh)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201921908562.0U CN211757120U (zh) 2019-11-07 2019-11-07 一种单晶碳化硅晶片的清洗装置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201921908562.0U CN211757120U (zh) 2019-11-07 2019-11-07 一种单晶碳化硅晶片的清洗装置

Publications (1)

Publication Number Publication Date
CN211757120U true CN211757120U (zh) 2020-10-27

Family

ID=72964012

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN201921908562.0U Expired - Fee Related CN211757120U (zh) 2019-11-07 2019-11-07 一种单晶碳化硅晶片的清洗装置

Country Status (1)

Country Link
CN (1) CN211757120U (zh)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN113070263A (zh) * 2021-04-07 2021-07-06 刘兴 基于多角度的仪表回收用清洗装置

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN113070263A (zh) * 2021-04-07 2021-07-06 刘兴 基于多角度的仪表回收用清洗装置

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN212918941U (zh) 一种碳化硅密封圈研磨装置
CN111002205A (zh) 一种半导体用晶圆抛光设备
CN210171733U (zh) 一种自清洁涂胶装置及自清洁涂胶装置用承片托盘
KR20140071926A (ko) 웨이퍼 연마 장치
CN214418499U (zh) 一种具有清洗防结垢装置的双面抛光设备
CN211757120U (zh) 一种单晶碳化硅晶片的清洗装置
CN211163353U (zh) 一种具有清洗功能的晶圆研磨设备
JP6216262B2 (ja) 切削装置
CN108838892B (zh) 一种方便对碎屑进行收集的玻璃基片用打磨装置
CN212397573U (zh) 一种玻璃杯加工用清洗装置
CN210704236U (zh) 一种新型晶圆研磨抛光设备
CN210692489U (zh) 一种多晶硅片用具有硅片间分离结构的清洗设备
CN202592167U (zh) 磨坩埚装置
CN218251811U (zh) 一种基板支撑装置
CN115945991A (zh) 一种晶圆夹持式边缘抛光装置及工艺
CN109860079B (zh) 一种加密芯片的清洗装置
TW202303815A (zh) 一種用於承載和清潔矽片的裝置
CN212683422U (zh) 一种圆形钢化玻璃的磨边装置
CN209140701U (zh) 抛光布修复装置
CN210308480U (zh) 一种便于清理石材切割机
CN210550233U (zh) 一种轴承外圈高效清洗打磨装置
CN210790412U (zh) 一种玻璃表镜生产用打磨装置
CN205703774U (zh) 一种具有清洁装置的碳化硅抛光机
CN212349671U (zh) 一种密封环加工用清洗装置
CN213856040U (zh) 一种带有超声波清洗装置的陶瓷清洗机

Legal Events

Date Code Title Description
GR01 Patent grant
GR01 Patent grant
CF01 Termination of patent right due to non-payment of annual fee

Granted publication date: 20201027

CF01 Termination of patent right due to non-payment of annual fee