CN116749054B - 抛光机及调平方法 - Google Patents

Abstract

本发明涉及一种抛光机及调平方法，该抛光机包括：上机架，相对上盘中心轴可活动地设置；接液结构，包括连接盘和接液环，连接盘固定连接于上盘中心轴，接液环固定连接于连接盘；刷头，至少部分位于接液环内，以与接液环内壁接触；第一驱动件，连接于上机架，用于驱动刷头转动；检测单元，用于检测第一驱动件的负载；及调平单元，可活动地设置于上机架。通过第一驱动件驱动刷头转动便能刷掉接液环内壁上的结晶，从而避免接液环内壁上形成的结晶脱落后划伤抛光中的产品。通过检测第一驱动件的负载，可以判断刷头是否在上机架调平的状态下工作，从而判断上机架是否调平并根据第一驱动件的负载通过调平单元将上机架调平。

Description

抛光机及调平方法

技术领域

本发明涉及抛光技术领域，特别是涉及抛光机及调平方法。

背景技术

抛光机的用于供给抛光液的结构为开放结构，其由上部的上机架，固定于上机架的多个流液管和下部的接液环组成，这些流液管的出液口位于同一圆周上。流液管中的抛光液流到接液环上，接液环旋转以利用离心力使抛光液分布在整个接液环上，从而使抛光液从接液环上的多个孔道流入上盘。

由于抛光液的浸润，接液环内壁上会形成一些顽固的结晶。在抛光的过程中，如果这些结晶脱落后随着抛光液流入上盘，会导致抛光中的产品划伤。目前，通常依靠纯水的冲洗对接液环表面进行清洁，但纯水的冲洗无法清除这些结晶。而且，接液环由于机械振动等原因会出现倾斜，导致各个流液管的出液口和接液环之间的高度差不一致，不同流液管中的抛光液经过不同的距离滴落到接液环上，导致抛光液流入上盘的液量和流速不均，不利于抛光液均匀供给，影响产品的抛光品质。因此，在抛光机工作之前，有必要进行调节以使各个流液管的出液口和接液环之间的高度差一致。

发明内容

基于此，有必要针对上述问题，提供一种抛光机。该抛光机能够利用刷头刷掉接液环内壁上的结晶，并且能够利用刷头对上机架进行调平以使各个流液管的出液口和接液环之间的高度差一致。

为了解决上述问题，本发明提供技术方案如下：

一种抛光机，包括上盘中心轴，所述上盘中心轴用于带动上盘转动和升降，还包括：上机架，相对所述上盘中心轴可活动地设置；接液结构，包括连接盘和接液环，所述连接盘固定连接于所述上盘中心轴，所述接液环固定连接于所述连接盘；刷头，至少部分位于所述接液环内，以与所述接液环内壁接触；第一驱动件，连接于所述上机架，用于驱动所述刷头转动；检测单元，用于检测所述第一驱动件的负载；及调平单元，可活动地设置于所述上机架，用于将所述上机架调平。

如此设置，在使用该抛光机进行抛光之前，可以通过第一驱动件驱动刷头转动，转动的刷头便能刷掉接液环内壁上的结晶。让接液环转动至少一圈而刷头的位置不变，刷头便能清除接液环整圈内壁上的结晶，这样便能避免接液环内壁上形成的结晶脱落而进入上盘导致抛光中的产品划伤。

而且，通过检测第一驱动件的负载，可以判断刷头是否在上机架调平的状态下工作，从而判断上机架是否调平。若上机架没有调平，则可以根据第一驱动件的负载，通过调平单元将上机架调平。

将上机架调平能够使各个流液管的出液口和接液环之间的高度差一致，以使抛光液流入上盘的液量和流速均匀，利于抛光液均匀供给，从而提高产品的抛光品质。此外，如果在上机架相对于接液环倾斜的状态下利用刷头长时间地清洁接液环，刷头可能对接液环造成损伤。将上机架调平则可以防止刷头对接液环造成损伤。

在其中一个实施例中，所述抛光机还包括固设于所述上机架的第二驱动件，所述第二驱动件包括可升降的第二输出轴，所述刷头连接于所述第二输出轴；及/或，所述抛光机还包括固设于所述上机架的第三驱动件，所述第三驱动件包括可升降的第三输出轴，所述调平单元设置于所述第三输出轴。

在其中一个实施例中，所述调平单元包括连接件和滚动件，所述连接件可升降地设置于所述上机架，所述滚动件转动连接于所述连接件且在调平过程中滚动连接于所述连接盘以抵接所述连接盘。

在其中一个实施例中，所述刷头、所述第一驱动件、所述检测单元、所述调平单元均设有多个，且分别一一对应设置，所述刷头环设于所述上盘中心轴；及/或，所述刷头、所述第一驱动件、所述检测单元、所述调平单元均设有多个，且分别一一对应设置，所述调平单元环设于所述上盘中心轴；及/或，所述刷头、所述第一驱动件、所述检测单元、所述调平单元均设有多个，且分别一一对应设置，对应的所述第一驱动件与所述调平单元并排设置。

在其中一个实施例中，所述抛光机还包括密封罩，所述密封罩套设于所述上盘中心轴外，所述上机架和所述接液结构均位于所述密封罩内。

如此设置，可以利用密封罩起到防护作用。具体地，密封罩将上机架、接液结构均与外界隔开，以防止外界的杂质进入抛光机，有利于提高抛光机的洁净度。

本发明还提供一种调平方法，用于调平上述的抛光机中的上机架，包括如下步骤：

a.设定第一驱动件在上机架处于调平状态下的负载为标准负载m₀；

b.获取每个第一驱动件的实时负载m₁；

c.判断每个第一驱动件的实时负载m₁是否等于标准负载m₀；

d.若任一第一驱动件的实时负载m₁小于m₀，则利用调平单元使上机架靠近该第一驱动件的部分上升，并执行步骤c；

e.若任一第一驱动件的实时负载m₁大于m₀，则利用调平单元使上机架靠近该第一驱动件的部分下降，并执行步骤c；

f.若各个第一驱动件的实时负载m₁均等于m₀，则判定上机架处于调平状态，完成调平。

如此设置，通过检测第一驱动件的负载m₁并将m₁与标准负载m₀比较，便可以判断刷头是否在上机架调平的状态下工作，从而间接地判断上机架是否处于调平状态。换言之，标准负载m₀为调平上机架提供了直观的指标，第一驱动件的负载m₁充当着被调节的参数。若各个第一驱动件的负载m₁均等于m₀，则意味着上机架处于调平状态，调平完成。否则，通过调平单元调节上机架相对于接液环的姿态，以使各个第一驱动件的负载m₁均趋向于m₀，直至各个第一驱动件的负载m₁均等于m₀。因此，该调平方法只需检测第一驱动件的负载，而无需检测上机架和接液环之间的相对位姿即可实现调平。相比于检测相对位姿，检测负载更易于实现，检测成本也更低。因此，该调平方法易于实现且检测成本低。

应用该调平方法将上机架调平后，各个流液管的出液口和接液环之间的高度差一致，这能使抛光液流入上盘的液量和流速均匀，利于抛光液均匀供给，从而提高产品的抛光品质。

此外，如果在上机架相对于接液环倾斜的状态下利用刷头长时间地清洁接液环，刷头可能对接液环造成损伤。应用该调平方法将上机架调平则可以防止刷头对接液环造成损伤。

在其中一个实施例中，在步骤d中：若任一第一驱动件的实时负载m₁小于m₀，则使该第一驱动件所对应的调平单元上升，以使上机架靠近该第一驱动件的部分上升；及/或，在步骤e中：若任一第一驱动件的实时负载m₁大于m₀，则使该第一驱动件所对应的调平单元下降，以使上机架靠近该第一驱动件的部分下降。

在其中一个实施例中，在步骤d和步骤e中，同时调节各个调平单元以使各个调平单元始终与连接盘保持接触。

在其中一个实施例中，在步骤b之前，还包括步骤：g.使各个调平单元与连接盘接触。

在其中一个实施例中，若调平单元抵接于连接盘上端，则先执行步骤d再执行步骤e；若调平单元抵接于连接盘下端，则先执行步骤e再执行步骤d。

附图说明

图1为本发明第一实施例中抛光机的部分结构的结构示意图；

图2为图1所示第一实施例在另一视角下的结构示意图；

图3为图2中E-E方向的剖视图；

图4为图1所示结构中部分结构的结构示意图;

图5为另一个实施例中部分结构的剖视图。

附图标记：

1、上机架；2、接液结构；21、连接盘；22、接液环；3、刷头；31、承载体；32、刷体；4、第一驱动件；5、调平单元；51、连接件；52、滚动件；6、第二驱动件；7、第三驱动件。

具体实施方式

为使本发明的上述目的、特征和优点能够更加明显易懂，下面结合附图对本发明的具体实施方式做详细的说明。在下面的描述中阐述了很多具体细节以便于充分理解本发明。但是本发明能够以很多不同于在此描述的其它方式来实施，本领域技术人员可以在不违背本发明内涵的情况下做类似改进，因此本发明不受下面公开的具体实施例的限制。

在本发明的描述中，需要理解的是，术语“中心”、“纵向”、“横向”、“长度”、“宽度”、“厚度”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”、“内”、“外”、“顺时针”、“逆时针”、“轴向”、“径向”、“周向”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本发明和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本发明的限制。

此外，术语“第一”、“第二”仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此，限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隐含地包括至少一个该特征。在本发明的描述中，“多个”的含义是至少两个，例如两个，三个等，除非另有明确具体的限定。

在本发明中，除非另有明确的规定和限定，术语“安装”、“相连”、“连接”、“固定”等术语应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或成一体；可以是机械连接，也可以是电连接；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连，可以是两个元件内部的连通或两个元件的相互作用关系，除非另有明确的限定。对于本领域的普通技术人员而言，可以根据具体情况理解上述术语在本发明中的具体含义。

在本发明中，除非另有明确的规定和限定，第一特征在第二特征“上”或“下”可以是第一和第二特征直接接触，或第一和第二特征通过中间媒介间接接触。而且，第一特征在第二特征“之上”、“上方”和“上面”可是第一特征在第二特征正上方或斜上方，或仅仅表示第一特征水平高度高于第二特征。第一特征在第二特征“之下”、“下方”和“下面”可以是第一特征在第二特征正下方或斜下方，或仅仅表示第一特征水平高度小于第二特征。

需要说明的是，当元件被称为“固定于”或“设置于”另一个元件，它可以直接在另一个元件上或者也可以存在居中的元件。当一个元件被认为是“连接”另一个元件，它可以是直接连接到另一个元件或者可能同时存在居中元件。本文所使用的术语“垂直的”、“水平的”、“上”、“下”、“左”、“右”以及类似的表述只是为了说明的目的，并不表示是唯一的实施方式。

首先，本发明提供一种抛光机，请参阅图1至图3，该抛光机包括上盘中心轴（图中未示出）、上机架1、接液结构2。其中：

上盘中心轴用于带动上盘转动和升降，以使抛光机的上盘与下盘接触并相对旋转，从而对位于两者之间的产品进行抛光。

上机架1上固定地设有多个流液管，这些流液管的出液口位于同一圆周上。

接液结构2包括连接盘21和接液环22，接液环22固定连接于连接盘21，且接液环22位于流液管出液口下方以接住从流液管流出的抛光液。连接盘21固定连接于上盘中心轴，上盘中心轴通过连接盘21带动接液环22一同旋转，以使接液环22接到的抛光液在离心力作用下分布在整个接液环22上，从而使抛光液从接液环22上的多个孔道流入上盘。

在传统技术中，由于抛光液的浸润，接液环内壁上会形成一些顽固的结晶。在抛光的过程中，如果这些结晶脱落后随着抛光液流入上盘，会导致抛光中的产品划伤。目前，通常依靠纯水的冲洗对接液环表面进行清洁，但纯水的冲洗无法清除这些结晶。而且，接液环由于机械振动等原因会出现倾斜，导致各个流液管的出液口和接液环之间的高度差不一致，不同流液管中的抛光液经过不同的距离滴落到接液环上，导致抛光液流入上盘的液量和流速不均，不利于抛光液均匀供给，影响产品的抛光品质。因此，在抛光机工作之前，有必要进行调节以使各个流液管的出液口和接液环之间的高度差一致。

请一并参阅图1至图4，为了解决上述问题，本发明提供的抛光机还包括刷头3、第一驱动件4、检测单元（图中未示出）和调平单元5。刷头3至少部分位于接液环22内以与接液环22内壁接触。第一驱动件4连接于上机架1，用于驱动刷头3转动。检测单元用于检测第一驱动件4的负载。调平单元5可活动地设置于上机架1，用于将上机架1调平。上机架1相对上盘中心轴可活动地设置，以使上机架1处于可以被调平单元5调整的状态。其中，“将上机架1调平”指的是将上机架1调整至各个流液管出液口和接液环22之间的高度差一致的状态。

在本发明中，刷头3既能清除结晶，又能用于实现上机架1的调平。具体阐述如下：

一方面，刷头3能清除结晶。在使用该抛光机进行抛光之前，可以通过第一驱动件4驱动刷头3转动，转动的刷头3便能刷掉接液环22内壁上的结晶。让接液环22转动至少一圈而刷头3的位置不变，刷头3便能清除接液环22整圈内壁上的结晶，这样便能避免接液环22内壁上形成的结晶脱落而进入上盘导致抛光中的产品划伤。

另一方面，刷头3能用于实现上机架1的调平。通过检测第一驱动件4的负载，可以判断刷头3是否在上机架1调平的状态下工作，从而判断上机架1是否调平。若上机架1没有调平，则可以根据第一驱动件4的负载，通过调平单元5将上机架1调平。

将上机架1调平能够使各个流液管的出液口和接液环22之间的高度差一致，以使抛光液流入上盘的液量和流速均匀，利于抛光液均匀供给，从而提高产品的抛光品质。此外，如果在上机架1相对于接液环22倾斜的状态下利用刷头3长时间地清洁接液环22，刷头3可能对接液环22造成损伤。将上机架1调平则可以防止刷头3对接液环22造成损伤。

在其中一个实施例中，上机架1通过居中组件连接于地面，且套设于上盘中心轴外但不与上盘中心轴接触。该居中组件固设于地面，上机架1相对该居中组件可活动地设置。

在本发明的第一实施例中，第一驱动件4包括可转动的第一输出轴，第一输出轴连接于刷头3，第一输出轴转动时带动刷头3转动。

参阅图1、图3和图4，在本发明的第一实施例中，抛光机还包括固设于上机架1的第二驱动件6，第二驱动件6包括可升降的第二输出轴（图中未标号），刷头3连接于第二输出轴。由此，可以通过第二驱动件6驱动刷头3升降。在要清洗接液环22时，第二输出轴下降，从而使刷头3至少部分伸入接液环22内以与接液环22的内壁接触；在清洗完接液环22后，第二输出轴上升，从而使刷头3离开接液环22，以方便抛光机进行后续的抛光作业。

可以理解，在第一实施例中，刷头3通过居中的第一驱动件4连接于第二输出轴，第一驱动件4通过居中的第二驱动件6连接于上机架1。第二输出轴升降，第一驱动件4随之升降从而带动刷头3升降。

参阅图3和图4，在第一实施例中，刷头3包括承载体31和刷体32，承载体31连接于第二输出轴，刷体32凸设于承载体31以抵接接液环22的内壁。其中，刷体32可以为天然毛料或塑料丝或金属丝，第一实施例对刷体32的结构形式不作具体限制。

可以理解，在利用刷头3清洁接液环22的过程中，只有刷体32与接液环22的内壁接触，承载体31与接液环的内壁不接触，承载体31的底端与接液环22的底壁之间存在一段距离。

值得一说的是，将刷头3上下升降的动作和接液环22旋转的动作相结合，可以让刷头3依次扫过接液环22内壁的各个区域，由此可实现对接液环22内壁的无死角地清洁。

参阅图1至图4，在第一实施例或其他实施例中，抛光机还包括固设于上机架1的第三驱动件7，第三驱动件7包括可升降的第三输出轴（图中未示出），调平单元5设置于第三输出轴。由于上机架1相对上盘中心轴可活动地设置，通过第三驱动件7驱动调平单元5升降，便能将上机架1的一侧顶起或使上机架1的一侧下降，从而调平上机架1。

上述实施例中，第一驱动件4可以是电机，第二驱动件6和第三驱动件7可以是气缸或电缸或电动推杆，上述实施例对第一驱动件4、第二驱动件6、第三驱动件7的结构形式不作具体限制。

在另一些实施例中，也可以让调平单元5通过旋转的方式抵接接液结构2或远离接液结构2以实现上机架1的调平。

参阅图3和图4，在第一实施例中，调平单元5包括连接件51和滚动件52，连接件51可升降地设置于上机架1，滚动件52转动连接于连接件51且在调平过程中滚动连接于连接盘21以抵接连接盘21。由此，在连接盘21和接液环22旋转时，滚动件52能够相对连接盘21转动，从而减小调平单元5与连接盘21之间的摩擦。于是，在接液环22旋转时，也能够通过调平单元5对上机架1调平。

参阅图3，在第一实施例中，滚动件52抵接于连接盘21的上端面。在调平上机架1的过程中，如果上机架1的与调平单元5连接的部分向上倾斜，则使滚动件52上升，以允许上机架1的与调平单元5连接的部分回到调平状态；如果上机架1的与调平单元5连接的部分向下倾斜，则使滚动件52下降，以使上机架1的与调平单元5连接的部分回到调平状态。

当然，如图5所示，在其他实施例中，滚动件52也可以抵接于连接盘21的下端面。

上述实施例中，滚动件52可以为滚轮，上述实施例对滚动件52的结构形式不作具体限制。

一并参阅图1至图4，在第一实施例中，刷头3、第一驱动件4、检测单元、调平单元5均设有多个，且分别一一对应设置：每个第一驱动件4驱动对应的刷头3转动，每个检测单元检测对应的第一驱动件4的负载，每个调平单元5设置于对应的刷头3附近。当上机架1相对靠近刷头3的部分偏离调平状态时，与该刷头3对应的调平单元5参与上机架1的调平。其中，刷头3环设于上盘中心轴。

示例性地，这些刷头3沿着上盘中心轴的圆周方向均匀分布。由此，在清洁接液环22时，多个刷头3对接液环22均匀地施力，间接地，多个刷头3对上盘中心轴均匀地施力，这有利于防止刷头3的施力影响上盘中心轴的对中程度。

一并参阅图1至图4，在第一实施例或其他实施例中，刷头3、第一驱动件4、检测单元、调平单元5均设有多个，且分别一一对应设置，调平单元5环设于上盘中心轴。

示例性地，这些调平单元5沿着上盘中心轴的圆周方向均匀分布。由此，不管上机架1相对于接液环22朝哪个方向倾斜，都能通过调平单元5将上机架1调平。

一并参阅图1至图4，在第一实施例或其他实施例中，刷头3、第一驱动件4、检测单元、调平单元5均设有多个，且分别一一对应设置，对应的第一驱动件4与调平单元5并排设置。由此，便于调平单元5将上机架1的相对靠近刷头3的部分调平。

在第一实施例或其他实施例中，抛光机还包括密封罩，密封罩套设于上盘中心轴外，上机架1和接液结构2均位于密封罩内。密封罩起到防护作用，具体地，密封罩将上机架1、接液结构2均与外界隔开，以防止外界的杂质进入抛光机，有利于提高抛光机的洁净度。

可以理解，可以在上述的抛光机上设置水洗结构，以搭配刷头3共同清洁接液环22。在上述实施例中，检测单元包括用于检测第一驱动件4负载的传感器。

其次，本发明还提供一种调平方法，该调平方法用于调平上述抛光机中的连接盘21，进而调平上机架1。该调平方法包括如下步骤：

a.设定第一驱动件4在上机架1处于调平状态下的负载为标准负载m₀；

b.获取每个第一驱动件4的实时负载m₁；

c.判断每个第一驱动件4的实时负载m₁是否等于标准负载m₀；

d.若任一第一驱动件4的实时负载m₁小于m₀，则利用调平单元5使上机架1靠近该第一驱动件4的部分上升，并执行步骤c；

e.若任一第一驱动件4的实时负载m₁大于m₀，则利用调平单元5使上机架1靠近该第一驱动件4的部分下降，并执行步骤c；

f.若各个第一驱动件4的实时负载m₁均等于m₀，则判定上机架1处于调平状态，完成调平。

在该调平方法中，通过检测第一驱动件4的负载m₁并将m₁与标准负载m₀比较，便可以判断刷头3是否在上机架1调平的状态下工作，从而间接地判断上机架1是否处于调平状态。换言之，标准负载m₀为调平上机架1提供了直观的指标，第一驱动件4的负载m₁充当着被调节的参数。若各个第一驱动件4的负载m₁均等于m₀，则意味着上机架1处于调平状态，调平完成。否则，通过调平单元5调节上机架1相对于接液环22的姿态，以使各个第一驱动件4的负载m₁均趋向于m₀，直至各个第一驱动件4的负载m₁均等于m₀。因此，该调平方法只需检测第一驱动件4的负载，而无需检测上机架1和接液环22之间的相对位姿即可实现调平。

相比于检测相对位姿，检测负载更易于实现，检测成本也更低。因此，该调平方法易于实现且检测成本低。

应用该调平方法将上机架1调平后，各个流液管的出液口和接液环22之间的高度差一致，这能使抛光液流入上盘的液量和流速均匀，利于抛光液均匀供给，从而提高产品的抛光品质。

此外，如果在上机架1相对于接液环22倾斜的状态下利用刷头3长时间地清洁接液环22，刷头3可能对接液环22造成损伤。应用该调平方法将上机架1调平则可以防止刷头3对接液环22造成损伤。

在其中一个实施例中，可以通过上盘中心轴带动连接盘21转动，可以通过检测单元获取第一驱动件4的负载m₁，可以通过第三驱动件7驱动调平单元5升降以将上机架1顶起或使上机架1下降。

在其中一个实施例中，在步骤d中：若任一第一驱动件4的实时负载m₁小于m₀，则使该第一驱动件4所对应的调平单元5上升，以使上机架1靠近该第一驱动件4的部分上升。

在其中一个实施例中，在步骤e中：若任一第一驱动件4的实时负载m₁大于m₀，则使该第一驱动件4所对应的调平单元5下降，以使上机架1靠近该第一驱动件4的部分下降。

在其中一个实施例中，在步骤d和步骤e中，同时调节各个调平单元5以使各个调平单元5始终与连接盘21保持接触。由此，上机架1的位姿始终被调平单元5限定，这样便能维持上机架1每次调节后的状态。

在其中一个实施例中，在步骤b之前，还包括步骤：g.使各个调平单元5与连接盘21接触。由此，从上机架1第一次被调节时开始，上机架1的位姿便始终被调平单元5限定。

在上述调平方法的各个实施例中，若调平单元5抵接于连接盘21上端（如图3所示），则先执行步骤d再执行步骤e；若调平单元5抵接于连接盘21下端（如图3所示），则先执行步骤e再执行步骤d。由此，可以防止各个调平单元5之间相互干扰。

在上述调平方法中，可以让接液环22始终保持静止，也可以让接液环22始终以相同的转速转动。相应地，在接液环22始终保持静止的实施例中，标准负载m₀指的是第一驱动件4在上机架1处于调平状态且接液环22不转动时的负载。在接液环22始终以相同的转速转动的实施例中，标准负载m₀指的是第一驱动件4在上机架1处于调平状态且接液环22转动时的负载。

以上所述实施例的各技术特征可以进行任意的组合，为使描述简洁，未对上述实施例中的各个技术特征所有可能的组合都进行描述，然而，只要这些技术特征的组合不存在矛盾，都应当认为是本说明书记载的范围。

以上所述实施例仅表达了本发明的几种实施方式，其描述较为具体和详细，但并不能因此而理解为对发明专利范围的限制。应当指出的是，对于本领域的普通技术人员来说，在不脱离本发明构思的前提下，还可以做出若干变形和改进，这些都属于本发明的保护范围。因此，本发明专利的保护范围应以所附权利要求为准。

Claims (9)

1.一种抛光机，包括上盘中心轴，所述上盘中心轴用于带动上盘转动和升降，其特征在于，还包括：

上机架（1），相对所述上盘中心轴可活动地设置；

接液结构（2），包括连接盘（21）和接液环（22），所述连接盘（21）固定连接于所述上盘中心轴，所述接液环（22）固定连接于所述连接盘（21）；

刷头（3），至少部分位于所述接液环（22）内，以与所述接液环（22）内壁接触；

第一驱动件（4），连接于所述上机架（1），用于驱动所述刷头（3）转动；

检测单元，用于检测所述第一驱动件（4）的负载；及

调平单元（5），可活动地设置于所述上机架（1），用于将所述上机架（1）调平；所述调平单元（5）包括连接件（51）和滚动件（52），所述连接件（51）可升降地设置于所述上机架（1），所述滚动件（52）转动连接于所述连接件（51）且在调平过程中滚动连接于所述连接盘（21）以抵接所述连接盘（21）。

2.根据权利要求1所述的抛光机，其特征在于，所述抛光机还包括固设于所述上机架（1）的第二驱动件（6），所述第二驱动件（6）包括可升降的第二输出轴，所述刷头（3）连接于所述第二输出轴；及/或，

所述抛光机还包括固设于所述上机架（1）的第三驱动件（7），所述第三驱动件（7）包括可升降的第三输出轴，所述调平单元（5）设置于所述第三输出轴。

3.根据权利要求1所述的抛光机，其特征在于，所述刷头（3）、所述第一驱动件（4）、所述检测单元、所述调平单元（5）均设有多个，且分别一一对应设置，所述刷头（3）环设于所述上盘中心轴；及/或，

所述刷头（3）、所述第一驱动件（4）、所述检测单元、所述调平单元（5）均设有多个，且分别一一对应设置，所述调平单元（5）环设于所述上盘中心轴；及/或，

所述刷头（3）、所述第一驱动件（4）、所述检测单元、所述调平单元（5）均设有多个，且分别一一对应设置，对应的所述第一驱动件（4）与所述调平单元（5）并排设置。

4.根据权利要求1所述的抛光机，其特征在于，所述抛光机还包括密封罩，所述密封罩套设于所述上盘中心轴外，所述上机架（1）和所述接液结构（2）均位于所述密封罩内。

5.一种调平方法，用于调平权利要求1至权利要求4中任一项所述的抛光机中的上机架（1），其特征在于，包括如下步骤：

a.设定第一驱动件（4）在上机架（1）处于调平状态下的负载为标准负载m₀；

b.获取每个第一驱动件（4）的实时负载m₁；

c.判断每个第一驱动件（4）的实时负载m₁是否等于标准负载m₀；

d.若任一第一驱动件（4）的实时负载m₁小于m₀，则利用调平单元（5）使上机架（1）靠近该第一驱动件（4）的部分上升，并执行步骤c；

e.若任一第一驱动件（4）的实时负载m₁大于m₀，则利用调平单元（5）使上机架（1）靠近该第一驱动件（4）的部分下降，并执行步骤c；

f.若各个第一驱动件（4）的实时负载m₁均等于m₀，则判定上机架（1）处于调平状态，完成调平。

6.根据权利要求5所述的调平方法，其特征在于，在步骤d中：若任一第一驱动件（4）的实时负载m₁小于m₀，则使该第一驱动件（4）所对应的调平单元（5）上升，以使上机架（1）靠近该第一驱动件（4）的部分上升；及/或，

在步骤e中：若任一第一驱动件（4）的实时负载m₁大于m₀，则使该第一驱动件（4）所对应的调平单元（5）下降，以使上机架（1）靠近该第一驱动件（4）的部分下降。

7.根据权利要求5所述的调平方法，其特征在于，在步骤d和步骤e中，同时调节各个调平单元（5）以使各个调平单元（5）始终与连接盘（21）保持接触。

8.根据权利要求5所述的调平方法，其特征在于，在步骤b之前，还包括步骤：

g.使各个调平单元（5）与连接盘（21）接触。

9.根据权利要求5所述的调平方法，其特征在于，若调平单元（5）抵接于连接盘（21）上端，则先执行步骤d再执行步骤e；若调平单元（5）抵接于连接盘（21）下端，则先执行步骤e再执行步骤d。