TW202142363A - 邊緣拋光裝置及拋光吸盤墊清洗方法 - Google Patents

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Abstract

本發明提供了一種邊緣拋光裝置及拋光吸盤墊清洗方法，該邊緣拋光裝置包括：拋光吸盤、安裝於拋光吸盤上的拋光吸盤墊、用於將已拋光的晶圓從拋光吸盤墊上移除的機械臂以及用於在對晶圓拋光後對拋光吸盤墊進行清洗的清洗裝置，清洗裝置包括：用於清洗拋光吸盤墊的清洗單元，以對拋光吸盤墊進行沖洗和刷洗；以及，與清洗單元固定連接的移動單元，移動單元用於帶動清洗單元移動到拋光吸盤墊上的不同位置。本發明的技術方案能夠減小拋光液在拋光吸盤墊上的累積速度，進而避免在對晶圓進行邊緣拋光的過程中導致晶圓的底面產生凹坑缺陷，從而避免導致晶圓的良率下降。

Description

邊緣拋光裝置及拋光吸盤墊清洗方法
本發明涉及半導體製造設備領域，特別涉及一種邊緣拋光裝置及拋光吸盤墊清洗方法。
在半導體元件製造的過程中，一般需要對晶圓邊緣進行拋光，以去除前道製程在邊緣的缺陷（如劃傷），降低晶圓的邊緣缺陷率，並將晶圓直徑維持在一個穩定的範圍以滿足客戶規格要求；同時，對於晶圓在清洗後的邊緣顆粒清洗及磊晶製程的邊緣缺陷率提供保證。
晶圓的邊緣拋光一般在獨立的邊緣拋光裝置上進行，參閱圖1，圖1是現有的邊緣拋光裝置的示意圖，從圖1中可看出，邊緣拋光裝置包括拋光吸盤11、吸盤墊圈12、吸盤墊13、拋光液入口14和拋光部15，拋光吸盤11、拋光液入口14和拋光部15均安裝於一支撐單元（未圖示）上。吸盤11具有一凸台（未圖示），在將晶圓16放置在拋光吸盤11上之前，先將吸盤墊圈12固定在拋光吸盤11的凸台的外緣，再將吸盤墊13張貼在吸盤墊圈12和拋光吸盤11的頂表面上；在將晶圓16放置在吸盤墊13上之後，晶圓16被拋光吸盤11吸附固定住，拋光液從拋光液入口14滴到晶圓16上，拋光吸盤11帶動晶圓16旋轉，使得晶圓16上的拋光液被甩到晶圓16的邊緣，同時，拋光部15也高速旋轉以對晶圓16施加壓力並與晶圓16維持相對運動，從而對晶圓16的邊緣進行化學機械研磨。其中，由於吸盤墊13是具有吸水性的材質，被甩到晶圓16的邊緣的拋光液會流到晶圓16的底面，進入到吸盤墊13中；並且，在晶圓16放置到吸盤墊13上之前也會經過一道拋光工藝，晶圓16底面在前道工藝殘留的拋光液也會被帶到吸盤墊13中，隨著邊緣拋光的晶圓16的數量的增多，使得吸盤墊13上累積的拋光液也越來越多，那麼拋光液就會對晶圓16的底面產生腐蝕。
並且，由於拋光部15在高速旋轉對晶圓16施加壓力時，在吸盤墊圈12和拋光吸盤11的凸台的側壁所接觸的位置處的上方（即圖1中的D1處），晶圓16和吸盤墊13之間的作用力最大，如果拋光液在吸盤墊13中大量累積，會導致晶圓16的底面在此位置處的腐蝕受損最嚴重，造成晶圓16的底面的此位置處形成環形的凹坑缺陷，如圖2中所示的晶圓16底面的一圈凹坑缺陷D2，從而導致晶圓的良率下降。
因此，需要提出一種拋光吸盤墊清洗裝置及其清洗方法和邊緣拋光裝置，以避免在對晶圓進行邊緣拋光的過程中導致晶圓的底面產生凹坑缺陷，進而避免導致晶圓的良率下降。
本發明的目的在於提供一種邊緣拋光裝置及拋光吸盤墊清洗方法，能夠減小拋光液在拋光吸盤墊上的累積速度，進而避免在對晶圓進行邊緣拋光的過程中導致晶圓的底面產生凹坑缺陷，從而避免導致晶圓的良率下降。
為實現上述目的，本發明提供了一種邊緣拋光裝置，包括拋光吸盤、安裝於該拋光吸盤上的拋光吸盤墊、用於將已拋光的晶圓從該拋光吸盤墊上移除的機械臂以及用於在對晶圓拋光後對該拋光吸盤墊進行清洗的清洗裝置，該清洗裝置包括：清洗單元，用於清洗該拋光吸盤墊，該清洗單元包括噴嘴和清洗刷，該噴嘴固定於該清洗刷上，以對該拋光吸盤墊進行沖洗和刷洗；以及，移動單元，與該清洗單元固定連接，該移動單元用於帶動該清洗單元移動到該拋光吸盤墊上的不同位置。
可選的，該清洗單元與該移動單元之間通過一中空的管路固定連接，該管路與該噴嘴連通，以向該拋光吸盤墊噴射清洗液。
可選的，該清洗刷包括一刷毛座和多組刷毛，該刷毛的一端和該噴嘴的一端均固定於該刷毛座上，該刷毛座固定連接於該移動單元上。
可選的，該移動單元包括垂向移動模塊和水平向移動模塊，該垂向移動模塊用於在垂直於該拋光吸盤墊的方向上移動該清洗單元，該水平向移動模塊用於在平行於該拋光吸盤墊的方向上移動該清洗單元。
可選的，該移動單元包括驅動模塊，用於驅動該移動單元帶動該清洗單元。
可選的，該清洗刷的下端在距離該拋光吸盤墊的頂表面-2cm~15cm之間移動。
可選的，該噴嘴向該拋光吸盤墊噴射的清洗液的壓力為1MPa~5MPa。
本發明還提供了一種拋光吸盤墊清洗方法，用於在對晶圓邊緣拋光後清洗去除該晶圓下方的拋光吸盤墊中的拋光液，包括：沖洗步驟，採用一移動單元將一清洗單元從初始位置移動到該拋光吸盤墊的上方並在該拋光吸盤墊的上方不斷移動，同時通過該清洗單元上的噴嘴向該拋光吸盤墊上噴射清洗液，以對該拋光吸盤墊進行沖洗；刷洗步驟，停止向該拋光吸盤墊上噴射清洗液，採用該移動單元將該清洗單元向下移動，以使得該清洗單元上的清洗刷接觸該拋光吸盤墊，且該清洗單元在該拋光吸盤墊上不斷移動，以對該拋光吸盤墊進行刷洗。
可選的，在該沖洗步驟和該刷洗步驟中，該拋光吸盤墊處於旋轉狀態；和/或，該清洗單元的清洗刷處於旋轉狀態。
可選的，多次循環重複該沖洗步驟和該刷洗步驟，以使得該拋光吸盤墊中的拋光液被去除完全；在該拋光吸盤墊中的拋光液被去除完全之後，通過該移動單元將該清洗單元移動到該初始位置。
與現有技術相比，本发明的技術方案具有以下有益效果：1、本發明的邊緣拋光裝置，通過設置用於清洗拋光吸盤墊的清洗單元以及用於帶動該清洗單元移動到該拋光吸盤墊上的不同位置的移動單元，能夠減小拋光液在該拋光吸盤墊上的累積速度，進而避免在對晶圓進行邊緣拋光的過程中導致晶圓的底面產生凹坑缺陷，從而避免導致晶圓的良率下降。2、本發明的拋光吸盤墊清洗方法，通過在晶圓邊緣拋光後，對拋光吸盤墊進行沖洗和刷洗，能夠減小拋光液在該拋光吸盤墊上的累積速度，進而避免在對晶圓進行邊緣拋光的過程中導致晶圓的底面產生凹坑缺陷，從而避免導致晶圓的良率下降。
為使本發明的目的、優點和特徵更加清楚，以下對本發明提出的邊緣拋光裝置及拋光吸盤墊清洗方法作進一步詳細說明。需說明的是，附圖均採用非常簡化的形式且均使用非精准的比例，僅用以方便、明晰地輔助說明本發明實施例的目的。
本發明一實施例提供一種邊緣拋光裝置，參閱圖3，圖3是本發明一實施例的邊緣拋光裝置的示意圖，從圖3中可看出，該邊緣拋光裝置包括拋光吸盤21、安裝於該拋光吸盤21上的拋光吸盤墊23、用於將已拋光的晶圓從該拋光吸盤墊23上移除的機械臂（未圖示）以及用於在對晶圓拋光後對該拋光吸盤墊23進行清洗的清洗裝置。
下面參閱圖3~圖5對該邊緣拋光裝置進行詳細說明，圖4是圖3所示的邊緣拋光裝置中的拋光吸盤墊的俯視示意圖，圖5是圖3所示的邊緣拋光裝置中的清洗裝置的橫向剖面示意圖。
該拋光吸盤21用於對該晶圓進行真空吸附，使得在對該晶圓的邊緣拋光的過程中，該晶圓能夠被固定住。
該拋光吸盤21具有一凸台，該凸台的外緣上環繞安裝有一圈拋光吸盤墊圈22，該凸台的外徑與該拋光吸盤墊圈22的內徑相等，使得該拋光吸盤墊圈22與該凸台的側壁緊密接觸。該凸台的高度與該拋光吸盤墊圈22的厚度相同；該拋光吸盤墊23安裝於該拋光吸盤墊圈22和該凸台的頂表面上。該拋光吸盤21下方還有支撐部件等結構。
該拋光吸盤21、該拋光吸盤墊圈22和該拋光吸盤墊23的內外圈均為圓形，該晶圓的直徑大於該拋光吸盤墊圈22和該拋光吸盤墊23的外徑，以使得能夠對該晶圓的邊緣進行拋光。
該拋光吸盤墊圈22的外徑可以等於或者略小於該拋光吸盤墊23的外徑，以使得該拋光吸盤墊23能夠覆蓋該拋光吸盤墊圈22。
該拋光吸盤墊圈22和該拋光吸盤墊23的外徑均大於該凸台下方的拋光吸盤21的外徑，以使得在該拋光吸盤墊圈22的下方留有一定的緩衝空間，即位於該拋光吸盤墊圈22下方的未被該拋光吸盤21覆蓋的環形區域。該拋光吸盤墊圈22的材質具有較大的強度和韌性，例如為塑料，以使得該拋光吸盤墊圈22對該拋光吸盤墊23起到支撐作用的同時，還能在該晶圓的邊緣受到拋光高壓時，通過該拋光吸盤墊圈22的韌性以及該拋光吸盤墊圈22下方的緩衝空間，來減輕高壓力在晶圓上造成的邊緣印記。
該拋光吸盤墊23的材質較軟且具有吸水性，例如可以為無紡布，使得該拋光吸盤墊23與該晶圓接觸的時候避免劃傷該晶圓，且能夠吸收拋光液。
該邊緣拋光裝置還包括拋光部（未圖示）和拋光液入口（未圖示），該拋光部可以包括對稱地設置在該晶圓邊緣的外圍的至少兩個部件，該拋光液入口位於該晶圓的上方。在對該晶圓的邊緣拋光的過程中，拋光液從該拋光液入口滴到該晶圓上，該拋光吸盤21帶動該晶圓以一定的轉速旋轉，使得該晶圓上的拋光液被甩到該晶圓的邊緣，同時，該拋光部也以一定的轉速旋轉，以使得該拋光部與該晶圓維持相對運動的同時，還對該晶圓的邊緣施加壓力，從而對該晶圓的邊緣進行化學機械研磨。
該機械臂可用於將待拋光的晶圓移動到該拋光吸盤墊23上；且該機械臂還可用於將已拋光的晶圓從該拋光吸盤墊23上移除，以使得該清洗裝置能夠對該拋光吸盤墊23進行清洗。
如圖4所示，該拋光吸盤墊23包括同心的多個環形圈231和連接各個環形圈231的至少一支撐線條232，相鄰的兩個環形圈231之間存在間隙D3，以使得該拋光吸盤21能夠通過間隙D3對該晶圓進行真空吸附。且該拋光吸盤墊23的最外圈和最內圈的環形圈231的寬度大於位於二者之間的環形圈231的寬度，以使得存在足夠多的間隙D3能夠確保對該晶圓的真空吸附力足夠的同時，還能使得該拋光吸盤墊23能夠起到保護該晶圓的底面不被劃傷的作用。同時，該拋光吸盤墊23的最外圈的環形圈231的內徑小於該凸台的外徑，以使得在該拋光吸盤墊圈22和該拋光吸盤墊23分別與該拋光吸盤21之間安裝緊密時，該拋光吸盤墊23的最外圈的環形圈231能夠覆蓋到該凸台的側壁與該拋光吸盤墊圈22的接觸處。
在對該晶圓的邊緣進行拋光的過程中，該拋光部高速旋轉對該晶圓的邊緣施加壓力，為了減輕高壓力在該晶圓上造成的邊緣印記，該拋光吸盤墊圈22的外邊緣都會略微向下方的緩衝空間形變，這樣就導致透過該晶圓向下施加壓力於該拋光吸盤墊23、該拋光吸盤墊圈22和該凸臺上時，在該拋光吸盤墊圈22和該凸台的側壁所接觸的位置處的上方，該晶圓與該拋光吸盤墊23之間的作用力最大；並且，該拋光吸盤墊23的環形圈231之間的間隙D3中會累積拋光液，該拋光吸盤墊23本身也會吸附有拋光液，隨著拋光的晶圓越來越多，間隙D3以及該拋光吸盤墊23本身累積的拋光液也越來越多，那麼，會導致該晶圓的底面在該拋光吸盤墊圈22和該凸台的側壁所接觸的位置處的腐蝕受損最嚴重，形成一圈凹坑缺陷（DIC缺陷）。因此，為了避免拋光液在間隙D3以及該拋光吸盤墊23內部累積，需要在對每片該晶圓完成邊緣拋光之後，採用清洗裝置對該拋光吸盤墊23進行清洗，以減小拋光液在該拋光吸盤墊23中（即該間隙D3和該拋光吸盤墊23內部）的累積速度，甚至完全去除該拋光吸盤墊23中的拋光液。
如圖3和圖5所示，該清洗裝置包括清洗單元30和移動單元40，該清洗單元30用於清洗該拋光吸盤墊23，該移動單元40用於帶動該清洗單元30移動到該拋光吸盤墊23上的不同位置。
其中，該清洗單元30包括噴嘴31和清洗刷32，該噴嘴31固定於該清洗刷32上，可以從該噴嘴31向該拋光吸盤墊23噴出清洗液，以對該拋光吸盤墊23進行沖洗，並在沖洗完成後，採用該清洗刷32對該拋光吸盤墊23進行刷洗。
該清洗刷32包括一刷毛座321和多組刷毛322，該刷毛322的一端和該噴嘴31的一端均固定於該刷毛座321上，且該刷毛322和該噴嘴31均垂直於該刷毛座321。該噴嘴31優選固定於該刷毛座321的中心，以使得清洗液在該拋光吸盤墊23上噴灑均勻。該刷毛322優選以該噴嘴31為中心均勻地分佈於該刷毛座321上，以使得能夠對該拋光吸盤墊23的各個位置施力均勻，進而使得對該拋光吸盤墊23的清洗效果更好。該刷毛322的材質具有一定強度的同時，也具有一定的柔韌性，以使得在對該拋光吸盤墊23進行刷洗的同時，避免損傷該拋光吸盤墊23。該刷毛座321的形狀可以為圓形、方形等；該刷毛座321的直徑可以為20mm~100mm，或者也可以根據該刷毛座321清洗的該拋光吸盤墊23的直徑大小選擇合適直徑的該刷毛座321。
在對該拋光吸盤墊23進行沖洗時，該噴嘴31向該拋光吸盤墊23噴射的清洗液可以為高壓清洗液，以對該拋光吸盤墊23具有足夠的清洗力，將該拋光吸盤墊23上的大部分的拋光液沖洗掉，尤其是位於該拋光吸盤墊23的環形圈231之間的間隙D3中的拋光液能夠被盡可能地去除完全。該噴嘴31向該拋光吸盤墊23噴射的清洗液的壓力優選為1MPa~5MPa（例如為2MPa、4MPa等），以在滿足沖洗效果的同時，還能避免壓力過大導致的該拋光吸盤墊23的損傷。該清洗液可以為水。
在對該拋光吸盤墊23進行刷洗時，該清洗刷32的下端可以在距離該拋光吸盤墊23的頂表面-2cm~15cm（例如為0cm、5cm、10cm等）之間移動，即該刷毛322的下端可以在距離該拋光吸盤墊23的頂表面-2cm~15cm之間移動。該刷毛322向下施力接觸刷洗該拋光吸盤墊23的過程中，該刷毛322的下端與該拋光吸盤墊23的頂表面的距離為負值；該刷毛322位於該拋光吸盤墊23的上方時，該刷毛322的下端與該拋光吸盤墊23的頂表面的距離為正值。由於該拋光吸盤墊23的材質具有柔韌性，該刷毛322可以對該拋光吸盤墊23向下施加壓力，將吸附在該拋光吸盤墊23內部的拋光液刷洗出來；並且，該刷毛322可以對準該拋光吸盤墊23的環形圈231之間的間隙D3進行刷洗，將間隙D3中的拋光液刷洗去除，提高清洗效果。
該移動單元40與該清洗單元30固定連接，以帶動該清洗單元30移動。該清洗單元30與該移動單元40之間可以通過一中空的管路50固定連接，該管路50與該噴嘴31連通，以向該拋光吸盤墊23噴射清洗液。其中，該刷毛座321可以固定連接於該移動單元40上，也就是說，該刷毛座321可以通過該管路50固定連接於該移動單元40上，該刷毛座321中設置有與該噴嘴31和該管路50連通的清洗液的流通通道，以使得該清洗液經該管路50、該刷毛座321和該噴嘴31噴射到該拋光吸盤墊23上。
該移動單元40可以包括垂向移動模塊（未圖示）和水平向移動模塊（未圖示）。該垂向移動模塊用於在垂直於該拋光吸盤墊23的方向上移動該清洗單元30，以使得該清洗單元30在垂直於該拋光吸盤墊23的方向上靠近和遠離該拋光吸盤墊23。該水平向移動模塊用於將該清洗單元30從初始位置移動到該拋光吸盤墊23的上方、用於帶動該清洗單元30在該拋光吸盤墊23的上方和表面順時針和逆時針的移動以及用於將該清洗單元30從該拋光吸盤墊23的上方移動到初始位置。
其中，該水平向移動模塊可以通過帶動該管路50順時針和逆時針的移動來帶動該清洗單元30順時針和逆時針移動，以使得能夠對整個的該拋光吸盤墊23進行沖洗和刷洗。該清洗單元30在該拋光吸盤墊23的上方和表面進行順時針和逆時針移動的過程中，該清洗刷32可以處於旋轉狀態，或者該拋光吸盤墊23處於旋轉狀態，或者該清洗刷32和該拋光吸盤墊23均處於旋轉狀態，以提高沖洗和刷洗的效果。
該移動單元40還可包括驅動模塊（未圖示），用於驅動該移動單元40帶動該清洗單元30。該驅動模塊可以為馬達。
並且，若未採用該清洗裝置清洗該拋光吸盤墊，該拋光吸盤墊的使用壽命可能只有半天；若採用該清洗裝置清洗該拋光吸盤墊，該拋光吸盤墊的使用壽命可能達到一個月以上，也不會導致晶圓的底面產生明顯的凹坑缺陷。
由上述內容可知，通過採用該清洗裝置在每次對該晶圓邊緣拋光完成之後，對該拋光吸盤墊進行清洗，能夠減小拋光液在該拋光吸盤墊上（即該間隙D3和該拋光吸盤墊23內部）累積的速度，甚至可以完全去除該拋光吸盤墊上累積的拋光液，延長了該拋光吸盤墊的使用壽命，避免導致晶圓的底面產生一圈凹坑缺陷，進而避免導致晶圓的良率下降。
綜上所述，本發明提供的邊緣拋光裝置，包括：拋光吸盤、安裝於該拋光吸盤上的拋光吸盤墊、用於將已拋光的晶圓從該拋光吸盤墊上移除的機械臂以及用於在對晶圓拋光後對該拋光吸盤墊進行清洗的清洗裝置，該清洗裝置包括：清洗單元，用於清洗該拋光吸盤墊，該清洗單元包括噴嘴和清洗刷，該噴嘴固定於該清洗刷上，以對該拋光吸盤墊進行沖洗和刷洗；以及，移動單元，與該清洗單元固定連接，該移動單元用於帶動該清洗單元移動到該拋光吸盤墊上的不同位置。本發明提供的邊緣拋光裝置避免在對晶圓進行邊緣拋光的過程中導致晶圓的底面產生凹坑缺陷，進而避免導致晶圓的良率下降。
本發明一實施例提供一種拋光吸盤墊清洗方法，用於在對晶圓邊緣拋光後清洗去除該晶圓下方的拋光吸盤墊中的拋光液，參閱圖6，圖6是本發明一實施例的拋光吸盤墊清洗方法的流程圖，該拋光吸盤墊清洗方法包括：步驟S1，沖洗步驟，採用一移動單元將一清洗單元從初始位置移動到該拋光吸盤墊的上方並在該拋光吸盤墊的上方不斷移動，同時通過該清洗單元上的噴嘴向該拋光吸盤墊上噴射清洗液，以對該拋光吸盤墊進行沖洗；步驟S2，刷洗步驟，停止向該拋光吸盤墊上噴射清洗液，採用該移動單元將該清洗單元向下移動，以使得該清洗單元上的清洗刷接觸該拋光吸盤墊，且該清洗單元在該拋光吸盤墊上不斷移動，以對該拋光吸盤墊進行刷洗。
下面參閱圖7a~圖7e更為詳細的介紹本實施例提供的拋光吸盤墊清洗方法，圖7a~圖7e是圖6所示的拋光吸盤墊清洗方法中的元件示意圖。
按照步驟S1，沖洗步驟，採用一移動單元40將一清洗單元30從初始位置（如圖7a所示的位置）移動到該拋光吸盤墊23的上方（如圖7b所示的位置）並在該拋光吸盤墊23的上方不斷移動（如圖7c所示），同時通過該清洗單元30上的噴嘴31向該拋光吸盤墊23上噴射清洗液，以對該拋光吸盤墊23進行沖洗。
該移動單元40和該清洗單元30可以均為一邊緣拋光裝置中的清洗裝置，該邊緣拋光裝置可以參閱圖3，該邊緣拋光裝置還包括拋光吸盤21、安裝於該拋光吸盤21上的拋光吸盤墊23以及用於將已拋光的晶圓從該拋光吸盤墊23上移除的機械臂（未圖示）。該邊緣拋光裝置還包括連接該清洗單元30與該移動單元40的一中空的管路50。該邊緣拋光裝置中的各個結構可以參閱上述本發明的該邊緣拋光裝置的說明，在此不再贅述。
在對該晶圓完成邊緣拋光之後，該機械臂會將該晶圓從該拋光吸盤墊23上移除；接著，該移動單元40通過該管路50帶動該清洗單元30從該初始位置移動到該拋光吸盤墊23的上方，該清洗單元30中的噴嘴31向該拋光吸盤墊23噴出高壓的清洗液；同時，該移動單元40再通過該管路50帶動該清洗單元30在平行於該拋光吸盤墊23的方向上順時針或逆時針的移動，以向該拋光吸盤墊23的整個面噴射高壓清洗液；同時，該清洗單元30和/或該拋光吸盤墊23可以處於旋轉狀態，以提高沖洗效果，將該拋光吸盤墊23上的大部分的拋光液沖洗掉，尤其是位於該拋光吸盤墊23的環形圈231之間的間隙D3中的拋光液能夠被盡可能地去除完全。
按照步驟S2，刷洗步驟，停止向該拋光吸盤墊23上噴射清洗液，採用該移動單元40將該清洗單元30向下移動，以使得該清洗單元30上的清洗刷32接觸該拋光吸盤墊23，且該清洗單元30在該拋光吸盤墊23上不斷移動（如圖7d所示），以對該拋光吸盤墊23進行刷洗。
該移動單元40可通過該管路50帶動該清洗單元30在該拋光吸盤墊23上順時針或逆時針的移動，以對該拋光吸盤墊23的整個面進行刷洗；同時，該清洗單元30和/或該拋光吸盤墊23可以處於旋轉狀態，以提高刷洗效果。
另外，可以多次循環重複該沖洗步驟和該刷洗步驟，以使得該拋光吸盤墊23中的拋光液被去除完全。可以根據產品需求和成本選擇合適的重複次數。
並且，在該拋光吸盤墊23中的拋光液被去除完全之後，可以通過該移動單元40將該清洗單元30移動到該初始位置（如圖7e所示的位置）。
綜上所述，通過在每次對該晶圓邊緣拋光完成之後，對該拋光吸盤墊進行沖洗和刷洗，能夠減小拋光液在該拋光吸盤墊上的累積速度，甚至可以完全去除該拋光吸盤墊上累積的拋光液，延長了該拋光吸盤墊的使用壽命，避免導致晶圓的底面產生一圈凹坑缺陷，進而避免導致晶圓的良率下降。
以上敍述依據本發明多個不同實施例，其中各項特徵可以單一或不同結合方式實施。因此，本發明實施方式之揭露為闡明本發明原則之具體實施例，應不拘限本發明於所揭示的實施例。進一步言之，先前敍述及其附圖僅為本發明示範之用，並不受其限囿。其他元件之變化或組合皆可能，且不悖于本發明之精神與範圍。
11:拋光吸盤 12:吸盤墊圈 13:吸盤墊 14:拋光液入口 15:拋光部 16:晶圓 21:拋光吸盤 22:拋光吸盤墊圈 23:拋光吸盤墊 231:環形圈 232:支撐線條 30:清洗單元 31:噴嘴 32:清洗刷 321:刷毛座 322:刷毛 40:移動單元 50:管路
在此圖式可用以更為理解本發明之目的與優點，其中： 圖1是現有的邊緣拋光裝置的示意圖； 圖2是晶圓底面上的凹坑缺陷的示意圖； 圖3是本發明一實施例的邊緣拋光裝置的示意圖； 圖4是圖3所示的邊緣拋光裝置中的拋光吸盤墊的俯視示意圖； 圖5是圖3所示的邊緣拋光裝置中的清洗裝置的橫向剖面示意圖； 圖6是本發明一實施例的拋光吸盤墊清洗方法的流程圖； 圖7a~圖7e是圖6所示的拋光吸盤墊清洗方法中的元件示意圖。
無
21:拋光吸盤
22:拋光吸盤墊圈
23:拋光吸盤墊
30:清洗單元
31:噴嘴
32:清洗刷
321:刷毛座
322:刷毛
40:移動單元
50:管路

Claims (10)

  1. 一種邊緣拋光裝置，包括： 一拋光吸盤； 一安裝於該拋光吸盤上的拋光吸盤墊； 一用於將已拋光的晶圓從該拋光吸盤墊上移除的機械臂；以及 一用於在對晶圓拋光後對該拋光吸盤墊進行清洗的清洗裝置，該清洗裝置包括： 一清洗單元，用於清洗該拋光吸盤墊，該清洗單元包括一噴嘴和一清洗刷，該噴嘴固定於該清洗刷上，以對該拋光吸盤墊進行沖洗和刷洗；以及 一移動單元，與該清洗單元固定連接，該移動單元用於帶動該清洗單元移動到該拋光吸盤墊上的不同位置。
  2. 如申請專利範圍第1項所述的邊緣拋光裝置，其中，該清洗單元與該移動單元之間通過一中空的管路固定連接，該管路與該噴嘴連通，以向該拋光吸盤墊噴射清洗液。
  3. 如申請專利範圍第1項所述的邊緣拋光裝置，其中，該清洗刷包括一刷毛座和多組刷毛，該刷毛的一端和該噴嘴的一端均固定於該刷毛座上，該刷毛座固定連接於該移動單元上。
  4. 如申請專利範圍第1項所述的邊緣拋光裝置，其中，該移動單元包括一垂向移動模塊和一水平向移動模塊，該垂向移動模塊用於在垂直於該拋光吸盤墊的方向上移動該清洗單元，該水平向移動模塊用於在平行於該拋光吸盤墊的方向上移動該清洗單元。
  5. 如申請專利範圍第1項所述的邊緣拋光裝置，其中，該移動單元包括一驅動模塊，用於驅動該移動單元帶動該清洗單元。
  6. 如申請專利範圍第1項所述的邊緣拋光裝置，其中，該清洗刷的下端在距離該拋光吸盤墊的頂表面-2cm~15cm之間移動。
  7. 如申請專利範圍第1項所述的邊緣拋光裝置，其中，該噴嘴向該拋光吸盤墊噴射的清洗液的壓力為1MPa~5MPa。
  8. 一種拋光吸盤墊清洗方法，用於在對晶圓邊緣拋光後清洗去除該晶圓下方的拋光吸盤墊中的拋光液，包括： 一沖洗步驟，採用一移動單元將一清洗單元從一初始位置移動到該拋光吸盤墊的上方並在該拋光吸盤墊的上方不斷移動，同時通過該清洗單元上的一噴嘴向該拋光吸盤墊上噴射一清洗液，以對該拋光吸盤墊進行沖洗； 一刷洗步驟，停止向該拋光吸盤墊上噴射該清洗液，採用該移動單元將該清洗單元向下移動，以使得該清洗單元上的一清洗刷接觸該拋光吸盤墊，且該清洗單元在該拋光吸盤墊上不斷移動，以對該拋光吸盤墊進行刷洗。
  9. 如申請專利範圍第8項所述的拋光吸盤墊清洗方法，其中，在該沖洗步驟和該刷洗步驟中，該拋光吸盤墊處於旋轉狀態；和/或，該清洗單元的該清洗刷處於旋轉狀態。
  10. 如申請專利範圍第8項所述的拋光吸盤墊清洗方法，其中，多次循環重複該沖洗步驟和該刷洗步驟，以使得該拋光吸盤墊中的該拋光液被去除完全；在該拋光吸盤墊中的拋光液被去除完全之後，通過該移動單元將該清洗單元移動到該初始位置。
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