CN214361643U - 掩膜板 - Google Patents
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Abstract
本申请公开了一种掩膜板,包括通用掩膜板和掩膜条,其中,通用掩膜板包括具有通用蒸镀开口的框式主体和由所述框式主体向所述通用蒸镀开口延伸的遮挡区域,所述遮挡区域上开设有减重部,所述减重部的厚度小于所述框式主体的厚度;掩膜条设置于所述通用掩膜板,且所述掩膜条的蒸镀区域覆盖所述通用蒸镀开口,所述蒸镀区域包括多个精密蒸镀开口。该掩膜板张网时平整度高,从而有助于提升显示面板良率。
Description
技术领域
本申请属于显示设备技术领域,尤其涉及一种掩膜板。
背景技术
现有技术的显示屏中包括与摄像头相对应的非显示区域,从而使得显示区为非规则的形状,在进行显示元件的制备时,常采用蒸镀的形式在显示区形成发光层,但是现有技术中的掩膜板在张网时容易出现褶皱,从而会影响显示面板良率。
实用新型内容
本申请实施例提供了一种掩膜板,该掩膜板张网时平整度高,从而有助于提升显示面板良率。
本申请实施例一方面提供了一种掩膜板,包括通用掩膜板和掩膜条,其中,通用掩膜板包括具有通用蒸镀开口的框式主体和由所述框式主体向所述通用蒸镀开口延伸的遮挡区域,所述遮挡区域上开设有减重部,所述减重部的厚度小于所述框式主体的厚度;掩膜条设置于所述通用掩膜板,且所述掩膜条的蒸镀区域覆盖所述通用蒸镀开口,所述蒸镀区域包括多个精密蒸镀开口。
可选地,所述减重部包括贯穿所述通用掩膜板厚度方向的至少一个过孔,所述过孔沿平行于所述通用掩膜板方向的截面的形状为圆形、椭圆形或多边形。
可选地,所述减重部包括至少一个凹槽,所述凹槽的深度小于所述通用掩膜板的厚度。
可选地,所述通用掩膜板包括第一表面和第二表面,所述凹槽的开口位于所述第一表面,或者,所述凹槽的开口位于所述第二表面。
可选地,所述通用掩膜板包括第一表面和第二表面,所述减重部包括多个凹槽,部分所述凹槽的开口位于所述第一表面,另一部分所述凹槽的开口位于所述第二表面。
可选地,所述减重部包括多个凹槽,至少部分所述凹槽沿所述通用掩膜板厚度方向的深度相同。
可选地,所述凹槽开口的形状为圆形、椭圆形或多边形。
可选地,所述通用蒸镀开口在所述通用掩膜板上呈行列分布,所述掩膜条沿列方向覆盖一列的所述通用蒸镀开口设置,且所述蒸镀区域与所述通用蒸镀开口一一对应,或者,所述蒸镀区域与多个所述通用蒸镀开口对应。
可选地,相邻行的所述通用蒸镀开口沿所述行方向对称,或者,相邻列的所述通用蒸镀开口沿所述列方向对称。
可选地,部分相邻行的所述通用蒸镀开口沿所述行方向对称,另一部分相邻列所述通用蒸镀开口沿所述列方向对称。
与现有技术相比,本申请实施例提供的掩膜板中,通用掩膜板包括框式主体和遮挡区域,框式主体上形成有与每个显示面板一一对应的通用蒸镀开口,遮挡区域将每个通用蒸镀开口所暴露的显示面板中的异形区进行遮挡,以便于在蒸镀后将显示区和异形区进行区分,遮挡区域上开设有减重部,减重部具有减重作用,使得通用掩膜板中设置有遮挡区域的框式主体与未设置遮挡区域的框式主体之间的重量差异减小,避免通用掩膜板中应力集中于遮挡区域,从而使通用掩膜板在张网过程中框架主体的各部位受力均匀,提高了通用掩膜板的平整度,使得掩膜条与通用掩膜板可以更好地贴合,从而可提高蒸镀良率。
附图说明
为了更清楚地说明本申请实施例的技术方案,下面将对本申请实施例中所需要使用的附图作简单地介绍,显而易见地,下面所描述的附图仅仅是本申请的一些实施例,对于本领域普通技术人员来讲,在不付出创造性劳动的前提下,还可以根据这些附图获得其他的附图。
图1是本申请实施例提供的一种掩膜板的结构示意图;
图2是图1中的通用掩膜板的结构示意图;
图3是图1中的掩膜条的结构示意图;
图4是本申请实施例提供的另一种掩膜板的结构示意图;
图5是图4中的掩膜条的结构示意图;
图6是本申请实施例提供的另一种通用掩膜板的结构示意图;
图7为图6中提供的通用掩膜板的A区域结构示意图放大图;
图8是本申请实施例提供的另一种通用掩膜板的结构示意图;
图9为图8中提供的通用掩膜板的B区域结构示意图放大图;
图10是本申请实施例提供的一种通用掩膜板中的通用蒸镀开口排布方式结构示意图;
图11是本申请实施例提供的另一种通用掩膜板中的通用蒸镀开口排布方式结构示意图。
附图中:
1-通用掩膜板;10-框式主体;11-通用蒸镀开口;12-遮挡区域;13-过孔;14-凹槽;2-掩膜条;20-蒸镀区域;21-精密蒸镀开口。
具体实施方式
下面将详细描述本申请的各个方面的特征和示例性实施例。在下面的详细描述中,提出了许多具体细节,以便提供对本申请的全面理解。但是,对于本领域技术人员来说很明显的是,本申请可以在不需要这些具体细节中的一些细节的情况下实施。下面对实施例的描述仅仅是为了通过示出本申请的示例来提供对本申请的更好的理解。
需要说明的是,在本文中,诸如第一和第二等之类的关系术语仅仅用来将一个实体或者操作与另一个实体或操作区分开来,而不一定要求或者暗示这些实体或操作之间存在任何这种实际的关系或者顺序。而且,术语“包括”、“包含”或者其任何其他变体意在涵盖非排他性的包含,从而使得包括一系列要素的过程、方法、物品或者设备不仅包括那些要素,而且还包括没有明确列出的其他要素,或者是还包括为这种过程、方法、物品或者设备所固有的要素。在没有更多限制的情况下,由语句“包括……”限定的要素,并不排除在包括要素的过程、方法、物品或者设备中还存在另外的相同要素。
现有技术的显示屏中包括与摄像头相对应的非显示区域,从而使得显示区为非规则的形状,采用现有技术中的掩膜板蒸镀形成发光层时,现有技术中的掩膜板在张网时容易出现褶皱,从而会影响显示面板良率,申请人研究发现,现有技术中的掩膜板在张网时容易产生褶皱的原因在于,现有技术中的掩膜板中包括用于对与摄像头相对应的非显示区域进行遮挡的部分,以便于对显示区进行蒸镀,但是由于掩膜板中用于遮挡与摄像头相对的非显示区的部分容易造成应力集中,从而会使导致掩膜板产生褶皱,并造成显示屏显示不良,申请人基于对对上述问题的解析,提出了一种掩膜板。
为了更好地理解本申请,下面结合图1至图11根据本申请实施例的掩膜板进行详细描述。
请参阅图1,本申请实施例提供了一种掩膜板,包括通用掩膜板1和掩膜条2,其中,如图2所示,通用掩膜板1包括具有通用蒸镀开口11的框式主体10和由框式主体10向通用蒸镀开口11延伸的遮挡区域12,遮挡区域12上开设有减重部,减重部的厚度小于框式主体10的厚度;如图3 所示,掩膜条2设置于通用掩膜板1,且掩膜条2的蒸镀区域20覆盖通用蒸镀开口11,蒸镀区域20包括多个精密蒸镀开口21。
本申请实施例提供的掩膜板中,通用掩膜板1包括框式主体10和遮挡区域12,框式主体10上形成有与每个显示面板一一对应的通用蒸镀开口 11,遮挡区域12将每个通用蒸镀开口11所暴露的显示面板中的异形区进行遮挡,以便于在蒸镀后将显示区和异形区进行区分,遮挡区域12上开设有减重部,减重部具有减重作用,使得通用掩膜板1中设置有遮挡区域12 的框式主体10与未设置遮挡区域12的框式主体10之间的重量差异减小,避免通用掩膜板1中应力集中于遮挡区域12,从而使通用掩膜板1在张网过程中框架主体的各部位受力均匀,提高了通用掩膜板1的平整度,使得掩膜条2与通用掩膜板1可以更好地贴合,从而可提高蒸镀良率。
在一种可行的实施方式中,如图1所示,通用蒸镀开口11在通用掩膜板1上呈行列分布,掩膜条2沿列方向覆盖一列的通用蒸镀开口11设置,且蒸镀区域20与通用蒸镀开口11一一对应。
上述实施方式中,通用掩膜板1用于支撑掩膜条2,多个掩膜条2沿行方向依次设置于通用掩膜板1上,每个掩膜条2覆盖一列通用蒸镀开口11,每个掩膜条2包括与每个通用蒸镀开口11一一对应的蒸镀区域20,每个蒸镀区域20包括多个精密蒸镀开口21,掩膜条2中的蒸镀区域20规则排列,从而使得掩膜条2的平整度高、蒸镀效果好。
在另一种实施方式中,多个掩膜条2沿列方向依次设置于通用掩膜板 1上,每个掩膜条2覆盖一行通用蒸镀开口11,每个掩膜条2包括与每个通用蒸镀开口11一一对应的蒸镀区域20,每个蒸镀区域20包括多个精密蒸镀开口21,掩膜条2中的蒸镀区域20规则排列,从而使得掩膜条2的平整度高、蒸镀效果好。
在另一种可行的实施方式中,如图4和图5所示,通用蒸镀开口11在通用掩膜板1上呈行列分布,掩膜条2沿列方向覆盖一列的通用蒸镀开口 11设置,蒸镀区域20与多个通用蒸镀开口11对应。
在一种可行的实施方式中,如图2所示,减重部包括贯穿通用掩膜板 1厚度方向的至少一个过孔13,过孔13沿平行于通用掩膜板1方向的截面的形状为圆形、椭圆形或多边形,也可以为其它形状,本申请不做特别限定。
在上述实施方式中,减重部包括至少一个过孔13,从而可以减轻减重部的重量,以减小张网过程中框架主体中与遮挡区域12相连的部分与框架主体中未与遮挡区域12相连的部分之间的应力差,从而使得在张网过程中,通用掩膜板1更为平整,以使通用掩膜板1更好地与掩膜条2贴合并为掩膜条2提供支撑。
上述实施方式中,过孔13的数量可以为一个或者多个,本申请不做特别限定。当过孔13的数量为一个时,可通过增大过孔13沿平行于通用掩膜板1方向的截面的面积来减轻遮挡区域12的重量,当过孔13的数量为一个时,可将过孔13的中心与遮挡区域12的中心重合,过孔13的边沿形状与遮挡区域12的边沿形状相同,使得遮挡区域12各个位置重力均匀,从而使框式主体10与遮挡区域12连接部分受遮挡区域12重力影响更为均匀;当过孔13的数量为多个时,可将多个过孔13均匀设置于遮挡区域12,使得遮挡区域12各个位置重力均匀,从而使框式主体10与遮挡区域12连接部分受遮挡区域12重力影响更为均匀。
上述实施方式中,每个过孔13沿平行于通用掩膜板1方向的截面的形状为圆形、椭圆形或多边形,多个过孔13中各个过孔13沿平行于通用掩膜板1方向的截面的形状可以相同也可以不同,每个过孔13沿平行于通用掩膜板1方向的截面中,位于沿垂直于通用掩膜板1方向的各个位置的截面形状可以相同也可以不同。
在一种可行的实施方式中,如图6和图7所示,减重部包括至少一个凹槽14,凹槽14的深度小于通用掩膜板1的厚度。
在上述实施方式中,减重部包括至少一个凹槽14,以减轻遮挡区域12 的重量、减小张网过程中框架主体中与遮挡区域12相连的部分与框架主体中未与遮挡区域12相连的部分之间的应力差,从而使得在张网过程中,通用掩膜板1更为平整,以使通用掩膜板1更好地与掩膜条2贴合并为掩膜条2提供支撑。
上述实施方式中,凹槽14的数量可以为一个或者多个,本申请不做特别限定。当凹槽14的数量为一个时,可通过增大凹槽14沿平行于通用掩膜板1方向的截面的面积来减轻遮挡区域12的重量,当凹槽14的数量为一个时,可将凹槽14的中心与遮挡区域12的中心重合,凹槽14的边沿形状与遮挡区域12的边沿形状相同,使得遮挡区域12各个位置重力均匀,从而使框式主体10与遮挡区域12连接部分受遮挡区域12重力影响更为均匀;当凹槽14的数量为多个时,可将多个凹槽14均匀设置于遮挡区域12,使得遮挡区域12各个位置重力均匀,从而使框式主体10与遮挡区域12连接部分受遮挡区域12重力影响更为均匀。
在一种可行的实施方式中,通用掩膜板1包括第一表面和第二表面,凹槽14的开口位于第一表面,或者,凹槽14的开口位于第二表面。
通用掩膜板1包括第一表面和第二表面,其中,第一表面为用于与用于支撑掩膜板的支撑框架固定的表面,第二表面为用于与掩膜条2固定的表面,或者,第一表面为用于与掩膜条2固定的表面,第二表面为用于与用于支撑掩膜板的支撑框架固定的表面,当减重部包括凹槽14时,凹槽14 的开口可以位于第一表面,也可以位于第二表面,当减重部包括多个凹槽 14时,多个凹槽14的开口可以均位于同一表面,即各个凹槽14的开口均位于第一表面或者均位于第二表面,也可以部分凹槽14的开口位于第一表面、另一部分凹槽14的开口位于第二表面,本申请不做特别限定。
在上述实施方式中,当部分凹槽14的开口位于第一表面,另一部分凹槽14的开口位于第二表面时,可以避免在通用掩膜板1张网时遮挡区域12 向一侧发生卷曲的情况,当开口位于第一表面的凹槽14与开口位于第二表面的凹槽14沿平行于通用掩膜板1方向对称设置时,防卷曲的效果更好。
在一种可行的实施方式中,如图7所示,减重部包括多个凹槽14,至少部分凹槽14沿通用掩膜板1厚度方向的深度相同。
当减重部包括多个凹槽14且各个凹槽14沿通用掩膜板1厚度方向的深度均相同时,可进一步使得遮挡区域12各个位置的重力均匀,从而使框式主体10与遮挡区域12连接部分受遮挡区域12重力影响更为均匀,从而避免固定于通用掩膜板1设置有遮挡区域12位置处的掩膜条2发生褶皱。
在一种可行的实施方式中,凹槽14开口的形状为圆形、椭圆形或多边形。
当减重部包括多个凹槽14时,各个凹槽14沿平行于通用掩膜板1方向的截面的形状可以相同也可以不同,每个凹槽14沿平行于通用掩膜板1 方向的截面中,位于沿垂直于通用掩膜板1方向的各个位置的截面形状可以相同也可以不同。
在一种可行的实施方式中,如图8和图9所示,减重部可同时包括过孔13和凹槽14,具体地,过孔13和凹槽14间隔均匀分布,或者,沿遮挡区域12边沿设置有过孔13、在所述遮挡区域12中间位置设置一个或均匀分布的多个凹槽14,或者,如图8和图9所示,沿遮挡区域12边沿设置有凹槽14,在所述遮挡区域12中间位置设置一个或均匀分布的多个过孔13,从而实现减轻遮挡区域12重量的效果,以释放遮挡区域12对框式主体10 造成的应力,使得在通用掩膜板1张网过程中平整度得以提升,使通用掩膜板1与掩膜条2的固定效果更好,从而提升蒸镀效果。
在上述实施方式中,关于过孔13和凹槽14的形状本申请不做特别限定,关于凹槽14的开口方向,可与前述实施方式相同,本申请不再赘述。
在一种可行的实施方式中,通用掩模板中相邻行的通用蒸镀开口11沿行方向对称,如图10所示;或者,如图11所示,相邻列的通用蒸镀开口 11沿列方向对称。
在上述实施方式中,当通用掩膜板1中相邻行的通用蒸镀开口11沿行方向对称时,可以选用设置有沿行方向排列的多个蒸镀区域20的掩膜条2,各个掩膜条2在通用掩膜板1上沿列方向排列,也可以选用设置有沿列方向排列的多个蒸镀区域20的掩膜条2,各个掩膜条2在通用掩膜板1上沿行方向排列,或者选用具有一个蒸镀区域20的掩膜条2,该蒸镀区域可覆盖多个通用蒸镀开口11;当通用掩膜板1中相邻列的通用蒸镀开口11沿列方向对称时,可以选用设置有沿列方向排列的多个蒸镀区域20的掩膜条2,各个掩膜条2在通用掩膜板1上沿行方向排列,也可以选用设置有沿行方向排列的多个蒸镀区域20的掩膜条2,各个掩膜条2在通用掩膜板1上沿列方向排列,或者选用具有一个蒸镀区域20的掩膜条2,该蒸镀区域可覆盖多个通用蒸镀开口11,本申请不做限定。
在一种可行的实施方式中,通用掩模板中也可以部分相邻行的通用蒸镀开口11沿行方向对称,另一部分相邻列通用蒸镀开口11沿列方向对称,本申请不做特别限定。
以上,仅为本申请的具体实施方式,所属领域的技术人员可以清楚地了解到,为了描述的方便和简洁,上述描述的系统、模块和单元的具体工作过程,可以参考前述方法实施例中的对应过程,在此不再赘述。应理解,本申请的保护范围并不局限于此,任何熟悉本技术领域的技术人员在本申请揭露的技术范围内,可轻易想到各种等效的修改或替换,这些修改或替换都应涵盖在本申请的保护范围之内。
还需要说明的是,本申请中提及的示例性实施例,基于一系列的步骤或者装置描述一些方法或系统。但是,本申请不局限于上述步骤的顺序,也就是说,可以按照实施例中提及的顺序执行步骤,也可以不同于实施例中的顺序,或者若干步骤同时执行。
Claims (10)
1.一种掩膜板,其特征在于,包括:
通用掩膜板,包括具有通用蒸镀开口的框式主体和由所述框式主体向所述通用蒸镀开口延伸的遮挡区域,所述遮挡区域上开设有减重部,所述减重部的厚度小于所述框式主体的厚度;
掩膜条,设置于所述通用掩膜板,且所述掩膜条的蒸镀区域覆盖所述通用蒸镀开口,所述蒸镀区域包括多个精密蒸镀开口。
2.根据权利要求1所述的掩膜板,其特征在于,所述减重部包括贯穿所述通用掩膜板厚度方向的至少一个过孔,所述过孔沿平行于所述通用掩膜板方向的截面的形状为圆形、椭圆形或多边形。
3.根据权利要求1所述的掩膜板,其特征在于,所述减重部包括至少一个凹槽,所述凹槽的深度小于所述通用掩膜板的厚度。
4.根据权利要求3所述的掩膜板,其特征在于,所述通用掩膜板包括第一表面和第二表面,所述凹槽的开口位于所述第一表面,或者,所述凹槽的开口位于所述第二表面。
5.根据权利要求3所述的掩膜板,其特征在于,所述通用掩膜板包括第一表面和第二表面,所述减重部包括多个凹槽,部分所述凹槽的开口位于所述第一表面,另一部分所述凹槽的开口位于所述第二表面。
6.根据权利要求5所述的掩膜板,其特征在于,至少部分所述凹槽沿所述通用掩膜板厚度方向的深度相同。
7.根据权利要求3-6任一项所述的掩膜板,其特征在于,所述凹槽开口的形状为圆形、椭圆形或多边形。
8.根据权利要求1所述的掩膜板,其特征在于,所述通用蒸镀开口在所述通用掩膜板上呈行列分布,所述掩膜条沿列方向覆盖一列的所述通用蒸镀开口设置,且所述蒸镀区域与所述通用蒸镀开口一一对应,或者,所述蒸镀区域与多个所述通用蒸镀开口对应。
9.根据权利要求8所述的掩膜板,其特征在于,相邻行的所述通用蒸镀开口沿行方向对称,或者,相邻列的所述通用蒸镀开口沿列方向对称。
10.根据权利要求8所述的掩膜板,其特征在于,部分相邻行的所述通用蒸镀开口沿行方向对称,另一部分相邻列所述通用蒸镀开口沿列方向对称。
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Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN114032499A (zh) * | 2021-11-18 | 2022-02-11 | 昆山国显光电有限公司 | 精密掩膜板和掩膜板 |
CN114134460A (zh) * | 2021-11-29 | 2022-03-04 | 昆山国显光电有限公司 | 掩膜板 |
CN114318222A (zh) * | 2021-12-07 | 2022-04-12 | 昆山国显光电有限公司 | 掩模板 |
CN115305449A (zh) * | 2022-07-15 | 2022-11-08 | 中国船舶重工集团公司第七一三研究所 | 一种高精度金属化掩膜装置 |
CN115433900A (zh) * | 2022-09-29 | 2022-12-06 | 昆山国显光电有限公司 | 掩膜板和蒸镀装置 |
CN115679254A (zh) * | 2022-09-08 | 2023-02-03 | 京东方科技集团股份有限公司 | 一种掩膜板、显示基板、显示装置 |
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Cited By (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN114032499A (zh) * | 2021-11-18 | 2022-02-11 | 昆山国显光电有限公司 | 精密掩膜板和掩膜板 |
CN114134460A (zh) * | 2021-11-29 | 2022-03-04 | 昆山国显光电有限公司 | 掩膜板 |
WO2023093089A1 (zh) * | 2021-11-29 | 2023-06-01 | 昆山国显光电有限公司 | 掩膜板及掩膜装置 |
CN114318222A (zh) * | 2021-12-07 | 2022-04-12 | 昆山国显光电有限公司 | 掩模板 |
CN115305449A (zh) * | 2022-07-15 | 2022-11-08 | 中国船舶重工集团公司第七一三研究所 | 一种高精度金属化掩膜装置 |
CN115679254A (zh) * | 2022-09-08 | 2023-02-03 | 京东方科技集团股份有限公司 | 一种掩膜板、显示基板、显示装置 |
CN115433900A (zh) * | 2022-09-29 | 2022-12-06 | 昆山国显光电有限公司 | 掩膜板和蒸镀装置 |
CN115433900B (zh) * | 2022-09-29 | 2024-02-20 | 昆山国显光电有限公司 | 掩膜板和蒸镀装置 |
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