CN110257769B - 一种掩膜版及蒸镀装置 - Google Patents

Abstract

本发明公开了一种掩膜版及蒸镀装置，掩膜版包括多个开孔区和多个非开孔区，开孔区位于相邻的非开孔区之间，至少部分相邻的非开孔区之间设置有第一连接结构，第一连接结构贯穿位于对应的相邻非开孔区之间的开孔区且第一连接结构划分对应的开孔区为主体部和至少一个端部，所有非开孔区与所有第一连接结构构成一体结构。通过本发明的技术方案，有利于在实现蒸镀连续网格状结构的同时，降低掩膜版的张网难度。

Description

一种掩膜版及蒸镀装置

技术领域

本发明实施例涉及掩膜技术领域，尤其涉及一种掩膜版及蒸镀装置。

背景技术

随着显示技术的发展，显示面板的尺寸逐渐增加，显示面板的设计难度逐渐加大，用户对显示面板显示的均匀性的要求也越来越高。

目前，为了提高显示面板的显示均匀性，可以在显示面板设置辅助阴极结构，利用激光打孔技术去除有机发光结构的发光功能层以使得阴极与辅助阴极电连接，进而降低传输阴极信号结构的电阻，提高显示面板的显示均匀性，但是目前对于诸如辅助阴极的连续网格状结构的制作难度较大。

发明内容

本发明提供一种掩膜版及蒸镀装置，有利于在实现蒸镀连续网格状结构的同时，降低掩膜版的张网难度。

第一方面，本发明实施例提供了一种掩膜版，包括：

多个开孔区和多个非开孔区，所述开孔区位于相邻的所述非开孔区之间，至少部分相邻的所述非开孔区之间设置有第一连接结构；

所述第一连接结构贯穿位于对应的相邻所述非开孔区之间的开孔区且所述第一连接结构划分对应的所述开孔区为主体部和至少一个端部，所有所述非开孔区与所有所述第一连接结构构成一体结构。

进一步地，所述开孔区以及所述非开孔区均沿第一方向和第二方向矩阵排列，所述开孔区位于相邻的四个所述非开孔区之间；其中，所述第一方向与所述第二方向相互垂直。

沿所述第一方向相邻的所述非开孔区之间设置有所述第一连接结构，沿所述第二方向相邻的所述非开孔区之间设置有所述第一连接结构。

进一步地，沿所述第一方向相邻的两个所述非开孔区之间的所述第一连接结构沿所述第一方向延伸，沿所述第二方向相邻的两个所述非开孔区之间的所述第一连接结构沿所述第二方向延伸。

进一步地，所述开孔区包括主体部、沿所述第一方向位于所述主体部两侧的端部以及沿所述第二方向位于所述主体部两侧的端部。

进一步地，至少一个所述开孔区的主体部的形状与其余所述开孔区的主体部的形状不同。

进一步地，相邻的所述非开孔区之间设置有开孔连线区，所述开孔连线区连接对应的两个相邻的所述开孔区。

进一步地，至少部分相邻的所述非开孔区之间设置有至少两个开孔连线区以及至少一个第二连接结构，至少一个所述开孔连线区与对应的相邻的两个所述开孔区中的一个开孔区连接，至少一个所述开孔连线区与对应的相邻的两个所述开孔区中的另一个开孔区连接；

沿所述开孔连线区的延伸方向，所述开孔连线区与所述第二连接结构间隔排列。

第二方面，本发明实施例还提供了一种蒸镀装置，包括如第一方面所述的掩膜版，还包括：

蒸镀源，所述蒸镀源位于所述掩膜版未设置待蒸镀基板的一侧；

沿垂直于所述第一连接结构延伸方向的方向，所述蒸镀源在对应所述第一连接结构处形成的蒸镀阴影区域的宽度大于等于所述第一连接结构的宽度。

进一步地，沿平行于所述掩膜版的方向，所述蒸镀源相对于所述掩膜版可移动；

优选地，至少沿垂直于所述第一连接结构延伸方向的方向，所述蒸镀源相对于所述掩膜版可移动。

进一步地，沿垂直于所述掩膜版的方向，所述蒸镀源相对于所述掩膜版可移动。

本发明实施例提供了一种掩膜版及蒸镀装置，掩膜版包括开孔区和非开孔区，开孔区位于相邻的非开孔区之间，至少部分相邻的非开孔区之间设置有第一连接结构，第一连接结构贯穿位于对应的相邻非开孔区之间的开孔区，且第一连接结构划分对应的开孔区为主体部和至少一个端部，所有非开孔区与所有第一连接结构构成一体结构，有利于在实现蒸镀连续网格状结构，例如连续网格状的辅助阴极结构以提高显示面板的显示均匀性的同时，降低掩膜版的张网难度。

附图说明

通过阅读参照以下附图所作的对非限制性实施例所作的详细描述，本申请的其它特征、目的和优点将会变得更明显：

图1为本发明实施例提供的一种掩膜版的俯视结构示意图；

图2为本发明实施例提供的一种待蒸镀结构的俯视结构示意图；

图3为本发明实施例提供的一种蒸镀装置的结构示意图；

图4为本发明实施例提供的另一种掩膜版的俯视结构示意图；

图5为本发明实施例提供的一种开孔区图案形成的流程示意图。

具体实施方式

下面结合附图和实施例对本发明作进一步的详细说明。可以理解的是，此处所描述的具体实施例仅仅用于解释本发明，而非对本发明的限定。另外还需要说明的是，为了便于描述，附图中仅示出了与本发明相关的部分而非全部结构。贯穿本说明书中，相同或相似的附图标号代表相同或相似的结构、元件或流程。需要说明的是，在不冲突的情况下，本申请中的实施例及实施例中的特征可以相互组合。

本发明实施例提供了一种掩膜版，掩膜版包括多个开孔区和多个非开孔区，开孔区位于相邻的非开孔区之间，至少部分相邻的非开孔区之间设置有第一连接结构，第一连接结构贯穿位于对应的相邻非开孔区之间的开孔区且第一连接结构划分对应的开孔区为主体部和至少一个端部，所有非开孔区与所有第一连接结构构成一体结构。

随着显示技术的发展，显示面板的尺寸逐渐增加，显示面板的设计难度逐渐加大，用户对显示面板显示的均匀性的要求也越来越高。目前，为了提高显示面板的显示均匀性，可以在显示面板设置辅助阴极结构，利用激光打孔技术去除有机发光结构的发光功能层以使得阴极与辅助阴极电连接，进而降低传输阴极信号结构的电阻，提高显示面板的显示均匀性，但是目前对于诸如辅助阴极的连续网格状结构的制作难度较大。

本发明实施例提供了一种掩膜版及蒸镀装置，掩膜版包括开孔区和非开孔区，开孔区位于相邻的非开孔区之间，至少部分相邻的非开孔区之间设置有第一连接结构，第一连接结构贯穿位于对应的相邻非开孔区之间的开孔区，且第一连接结构划分对应的开孔区为主体部和至少一个端部，所有非开孔区与所有第一连接结构构成一体结构，有利于在实现蒸镀连续网格状结构，例如连续网格状的辅助阴极结构以提高显示面板的显示均匀性的同时，降低掩膜版的张网难度。

以上是本发明的核心思想，下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下，所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。

图1为本发明实施例提供的一种掩膜版的俯视结构示意图，图2为本发明实施例提供的一种待蒸镀结构的俯视结构示意图，图3为本发明实施例提供的一种蒸镀装置的结构示意图。结合图1至图3，掩膜版7包括多个开孔区1和多个非开孔区2，开孔区1位于相邻的非开孔区2之间，这里设置开孔区1位于相邻的非开孔区2之间并不严格限定开孔区1位于相邻非开孔区2的正中间，确保相邻非开孔区2之间设置有至少部分开孔区1即可，至少部分相邻的非开孔区2之间设置有第一连接结构3，第一连接结构3贯穿位于对应的非开孔区2之间的开孔区1，第一连接结构3划分对应的开孔区1为主体部a和至少一个端部b，以第一连接结构31为例，图1示例性地设置第一连接结构31将对应的开孔区11划分为主体部a和一个端部b，所有非开孔区2与所有第一连接结构形成一体结构。

具体地，可以利用图1所示结构的掩膜版7制作图2所示结构的待蒸镀结构9，待蒸镀结构9可以为连续的网格状结构，即可以设置待蒸镀结构9包括多个块状结构91以及连接块状结构91的线状结构92，块状结构91与线状结构92形成连续的网格状结构。

示例性地，待蒸镀结构9例如可以为显示面板中的辅助阴极结构，显示面板中的阴极用于向像素单元提高低电平的电源信号，阴极信号线以及阴极上的压降使得不同像素单元接收到阴极信号的大小不同，显示面板的显示均匀性差，设置显示面板中还包括辅助阴极，辅助阴极可以位于阴极所在膜层的上方金属层，也可以位于阴极所在膜层的下方金属层，辅助阴极与阴极通过过孔电连接，利用辅助阴极增加用于传输阴极信号结构的横截面积，减小用于传输阴极信号结构的电阻，进而降低传输阴极信号结构的压降，提供显示面板的显示均匀性，辅助阴极可以采用电阻很小的透光导电材料或者不透光导电材料，选取不透光的导电材料充当辅助阴极能够更广范围地选择低电阻材料以提高显示面板的显示均匀性。可以设置辅助阴极为图2所示的连续网格状结构，以增加阴极信号的传输通路，进一步提高显示面板的显示均匀性。需要说明的是，待蒸镀结构不限于辅助阴极。

在利用掩膜版7形成图2所示结构的待蒸镀结构9时，掩膜版7在形成待蒸镀结构9的块状结构91以及线状结构92的位置对应形成开孔，在相邻块状结构91以及线状结构92之间的位置形成蒸镀材料的遮挡结构，以使蒸镀材料在开孔处形成待蒸镀结9的块状结构91和线状结构92，但由于待蒸镀结构9为连续的网格状结构，使得掩膜版7上的遮挡结构无法形成一体结构，进而导致掩膜版7无法张网。

结合图1至图3，蒸镀装置可以包括蒸镀源6、待蒸镀基板8以及掩膜版7，掩膜版7设置于蒸镀源6和待蒸镀基板8之间，掩膜版7上未被遮挡的区域使得蒸镀源6喷射出的蒸镀材料通过，进而在待蒸镀基板8对应该未被遮挡区域的位置形成待蒸镀的膜层结构90，可以设置掩膜版7中间的遮挡区域a1为第一连接结构3，由于蒸镀源6出射蒸镀材料的角度范围较大，且蒸镀源6相对于掩膜版7可水平移动，使得蒸镀源6出射的蒸镀材料除了能够在待蒸镀基板8正对未被掩膜版7遮挡的区域形成膜层结构90，还能够在待蒸镀基板8正对未被掩膜版7遮挡的区域的周围区域形成膜层结构90，可以定义前述待蒸镀基板8正对未被掩膜版7遮挡的区域的周围区域为蒸镀阴影区域a2，可以设置蒸镀阴影区域a1至少覆盖第一连接结构3，这里示例性地设置蒸镀阴影区域a2正好覆盖第一连接结构3，利用蒸镀阴影区域a2可以在待蒸镀基板8对应第一连接结构3的位置形成相应的膜层结构90，即待蒸镀结构9被第一连接结构3分割开的部分依靠蒸镀阴影能够连接在一起，避免待蒸镀基板8上对应掩膜版7第一连接结构3的位置存在断路。

结合图1至图3，设置至少部分相邻的非开孔区2之间设置有第一连接结构3，第一连接结构3贯穿位于对应的相邻的非开孔区2之间的开孔区1，第一连接结构3划分对应的开孔区1为主体部a和至少一个端部b，在利用蒸镀阴影区域a2在待蒸镀基板8上对应掩膜版7的第一连接结构3的位置形成待蒸镀结构9，进而形成图2所示的连续网格状结构的同时，利用第一连接结构3连接掩膜版7的非开孔区2以使得掩膜版7的所有遮挡结构形成一体结构，降低了掩膜版7形成连续网格状待蒸镀结构9的张网难度。

可选地，结合图1至图3，可以设置开孔区1以及非开孔区2均沿第一方向XX’和第二方向YY’矩阵排列，第一方向XX’与第二方向YY’相互垂直，示例性地设置第一方向XX’为水平方向，第二方向YY’为竖直方向，开孔区1位于相邻的四个非开孔区2之间，沿第一方向XX’相邻的非开孔区2之间设置有第一连接结构3，例如非开孔区21和非开孔区22之间设置有第一连接结构32，沿第二方向YY’相邻的非开孔区2之间设置有第一连接结构3，例如非开孔区22和非开孔区23之间设置有第一连接结构31。

具体地，结合图1至图3，设置开孔区1位于相邻的四个非开孔区2之间，且沿第一方向XX’和第二方向YY’相邻的非开孔区2之间均设置有第一连接结构3，使得掩膜版7的开孔区1对应每个非开孔区2的位置均设置有多个第一连接结构3，增加了掩膜版7非开孔区2之间连接点的数量，进一步降低了掩膜版7的张网难度。

可选地，结合图1至图3，可以设置沿第一方向XX’相邻的两个非开孔区2之间的第一连接结构3沿第一方向XX’延伸，例如第一连接结构32沿第一方向XX’延伸，沿第二方向YY’相邻的两个非开孔区2之间的第一连接结构3沿第二方向YY’延伸，例如第一连接结构31沿第二方向YY’延伸，这样有利于在利用第一连接结构3连接相邻的非开孔区2以使掩膜版7形成一体结构，进而降低掩膜版7的张网难度的同时，使得第一连接结构3为线状结构，且第一连接结构3的延伸方向垂直于该第一连接结构3两侧的开孔部分的排列方向，可以通过设置第一连接结构3沿垂直于第一连接结构3延伸方向的方向的宽度，例如可以设置第一连接结构3沿垂直于第一连接结构3延伸方向的方向的宽度小于等于蒸镀阴影区域a2沿垂直于第一连接结构3延伸方向的方向的宽度d，确保形成的待蒸镀结构9覆盖第一连接结构3所在区域，图1和图3示例性地设置第一连接结构3沿垂直于第一连接结构3延伸方向的方向的宽度等于蒸镀阴影区域a2沿垂直于第一连接结构3延伸方向的方向的宽度d，即待蒸镀结构9被第一连接结构3分割开的部分依靠蒸镀阴影能够连接在一起，避免待蒸镀结构在对应第一连接结构3的位置断路，进而使得待蒸镀结构9形成图2所示的连续网格状结构。

可选地，结合图1至图3，可以设置开孔区1包括主体部a、沿第一方向XX’位于主体部a两侧的端部b以及沿第二方向YY’位于主体部a两侧的端部b，即每个第一连接结构3将对应的开孔区1划分为主体部a和一个端部b，这样沿第一方向XX’相邻的开孔区1之间的第一连接结构32将该开孔区1划分为主体部a和沿第二方向YY’位于主体部a两侧的两个端部b，沿第二方向YY’相邻的开孔区1之间的第一连接结构31将该开孔区1划分为主体部a和沿第一方向XX’位于主体部a两侧的两个端部b，使得每两个相邻的非开孔区2之间均设置有第一连接结构3，降低掩膜版7张网难度的同时，掩膜版7的第一连接结构3的分布较均匀，提高了掩膜版7应力释放的均匀性。

可选地，结合图1和图3，可以设置至少一个开孔区1的主体部a的形状与其余开孔区1的主体部a的形状不同，例如图1中设置第一列的第一个开孔区1的主体部a的形状以及第一列的第三个开孔区1的主体部a的形状与其余开孔区1的主体部a的形状不同，设置至少一个开孔区1的主体部a的形状与其余开孔区1的主体部a的形状不同，可以通过调整包括不同形状主体部a的开孔区1在掩膜版7上的分布位置以降低掩膜版7的张网应力。需要说明的是，本发明实施例对掩膜版7的开孔区1的具体形状，以及包括不同形状主体部a的开孔区1的具体排布位置不作限定。

可选地，结合图1至图3，相邻的非开孔区2之间设置有开孔连线区4，开孔连线区4连接对应的两个相邻的开孔区1，即沿第一方向XX’相邻的两个非开孔区2之间设置有开孔连线区4，该开孔连线区4的沿第二方向YY’延伸，沿第二方向YY’相邻的两个非开孔区2之间设置有开孔连线区4，该开孔连线区4的沿第一方向XX’延伸，这样使得掩膜版7形成横纵交错的开孔连线区4，以利用掩膜版7蒸镀形成如图2所示的连续网格状结构的待蒸镀结构9。

图4为本发明实施例提供的另一种掩膜版的俯视结构示意图，与图1所示结构的掩膜版7不同的是，图4所示结构的掩膜版7的至少部分相邻的非开孔区2之间设置有至少两个开孔连线区4以及至少一个第二连接结构5，至少一个开孔连线区4与对应的相邻的两个开孔区1中的一个开孔区1连接，至少一个开孔连线区4与对应的相邻的两个开孔区1中的另一个开孔区1连接，沿开孔连线区4的延伸方向，开孔连线区4与第二连接结构5间隔排列。图4示例性地设置相邻的非开孔区2之间设置有两个开孔连线区4以及一个第二连接结构5，且示例性地设置沿第一方向XX’方向排列的，相邻的非开孔区之间设置有两个开孔连线区4以及一个第二连接结构5，也可以设置至少部分沿第二方向YY’方向排列的，相邻的非开孔区之间设置两个开孔连线区4以及一个第二连接结构5，本发明实施例对设置有至少两个开孔连线区4以及至少一个第二连接结构5的位置不作具体限定。具体地，一个开孔连线区41与对应的相邻的两个开孔区1中的一个开孔区1连接，一个开孔连线区42与对应的相邻的两个开孔区1中的另一个开孔区1连接，连接沿第一方向XX’相邻的两个开孔区1的开孔连线区4的延伸方向平行于第一方向XX’，连接沿第二方向YY’相邻的两个开孔区1的开孔连线区4的延伸方向平行于第二方向YY’，图4仅示例性地设置沿第一方向XX’延伸的开孔连线区4之间设置有第二连接结构5，也可以设置沿第二方向YY延伸的开孔连线区4之间设置有第二连接结构5。

结合图2至图4，由于蒸镀源6出射蒸镀材料的角度范围较大，且蒸镀源6相对于掩膜版7可水平移动，利用蒸镀阴影可以在待蒸镀基板8对应第二连接结构5的位置形成相应的膜层，避免待蒸镀基板8上对应掩膜版7第二连接结构5的位置存在断路，形成图2所示的完整的线状结构92，且第二连接结构5的设置增加了掩膜版7的非开孔区2之间的连接点的数量，进一步降低了掩膜版7的张网难度。另外，由于第二连接结构5处形成的部分线状结构92是依靠蒸镀阴影形成的，形成的线状结构的厚度较薄，容易导致该位置形成的连接线的线阻较大，可以利用移动蒸镀源6等方法，使待蒸镀基板8上对应第二连接结构5处的蒸镀阴影的宽度增加，以降低线状结构92的线阻。

本发明实施例还提供了一种蒸镀装置，如图3所示，蒸镀装置包括上述实施例所述的掩膜版7，蒸镀装置还包括蒸镀源6，蒸镀源6位于掩膜版7未设置待蒸镀基板8的一侧，沿垂直于第一连接结构3延伸方向的方向，蒸镀源6在对应第一连接结构3处形成的蒸镀阴影区域a2的宽度大于等于第一连接结构3的宽度，图1至图4示例性地设置沿垂直于第一连接结构3延伸方向的方向，蒸镀源6在对应第一连接结构3处形成的蒸镀阴影区域a2的宽度等于第一连接结构3的宽度。

具体地，结合图1至图4，掩膜版7上未被遮挡的区域使得蒸镀源6喷射出的蒸镀材料通过，进而在待蒸镀基板8对应该未被遮挡区域的位置形成待蒸镀的膜层结构90，可以设置掩膜版7中间的遮挡区域a1为第一连接结构3，由于蒸镀源6出射蒸镀材料的角度范围较大，且蒸镀源6相对于掩膜版7可水平移动，使得蒸镀源6出射的蒸镀材料除了能够在待蒸镀基板8正对未被掩膜版7遮挡的区域形成膜层结构90，还能够在待蒸镀基板8正对未被掩膜版7遮挡的区域的周围区域形成膜层结构90，可以定义前述待蒸镀基板8正对未被掩膜版7遮挡的区域的周围区域为蒸镀阴影区域a2，可以设置蒸镀阴影区域a1至少覆盖第一连接结构3，这里示例性地设置蒸镀阴影区域a2正好覆盖第一连接结构3，利用蒸镀阴影区域a2可以在待蒸镀基板8对应第一连接结构3的位置形成相应的膜层结构90，即待蒸镀结构9被第一连接结构3分割开的部分依靠蒸镀阴影能够连接在一起，在降低了掩膜版7的张网难度的同时，避免待蒸镀基板8上对应掩膜版7第一连接结构3的位置存在断路。

图5为本发明实施例提供的一种开孔区图案形成的流程示意图。结合图1至图5，可以设置沿平行于掩膜版7的方向，蒸镀源6相对于掩膜版7可移动，优选地，设置至少沿垂直于第一连接结构3延伸方向的方向，蒸镀源6相对于掩膜版7可移动。以第一列开孔区1为例，例如可以设置蒸镀源6先沿第一方向XX’移动，在待蒸镀基板8上对应沿第一方向XX’设置的第一连接结构3处形成完整膜层，如图5中左图所示，蒸镀源6再沿第二方向YY’移动，在待蒸镀基板8上对应沿第二方向YY’设置的第一连接结构3处形成完成膜层，如图5中右图所示，蒸镀源6的两次移动即可在待蒸镀基板8上形成对应掩膜版7开孔区1的完整图案。另外，也可以设置蒸镀源6先沿第二方向YY’移动，再沿第一方向XX’移动。

另外，对应沿第一方向XX’排列的第二连接结构5，也可以设置蒸镀源6沿第一方向XX’移动进而在待蒸镀基板8上对应第二连接结构5处形成完整膜层，对于沿第二方向YY’排列的第二连接结构5，可以设置蒸镀源6沿第二方向YY’移动进而在待蒸镀基板8上对应第二连接结构5处形成完整膜层，这样在利用第一连接结构3和第二连接结构5降低了掩膜版7张网难度的同时，有利于形成连续网格状结构的待蒸镀结构9。

可选地，结合图1至图4，可以设置沿垂直于掩膜版7的方向，蒸镀源6相对于掩膜版7可移动，通过沿垂直于掩膜版7的方向移动蒸镀源6可以调节蒸镀源6经由掩膜版7的出射角度β，蒸镀源6与掩膜版7之间的距离越大，蒸镀源6经由掩膜版7的出射角度β越小，蒸镀源6与掩膜版7之间的距离越小，蒸镀源6经由掩膜版7的出射角度β越大，可以沿垂直于掩膜版7的方向移动蒸镀源6以减小蒸镀源6与掩膜版7之间的距离，加大蒸镀源6经由掩膜版7的出射角度β，进而加大蒸镀源6形成的蒸镀阴影的宽度，进一步确保待蒸镀基板8上对应第一连接结构3以及第二连接结构5处形成连续膜层。

需要说明的是，本发明实施例示附图只是示例性的表示各元件的大小，并不代表各元件的实际尺寸。

本发明实施例设置掩膜版包括开孔区和非开孔区，开孔区位于相邻的非开孔区之间，至少部分相邻的非开孔区之间设置有第一连接结构，第一连接结构贯穿位于对应的相邻非开孔区之间的开孔区，且第一连接结构划分对应的开孔区为主体部和至少一个端部，所有非开孔区与所有第一连接结构构成一体结构，有利于在实现蒸镀连续网格状结构，例如连续网格状的辅助阴极结构以提高显示面板的显示均匀性的同时，降低掩膜版的张网难度。

注意，上述仅为本发明的较佳实施例及所运用技术原理。本领域技术人员会理解，本发明不限于这里的特定实施例，对本领域技术人员来说能够进行各种明显的变化、重新调整和替代而不会脱离本发明的保护范围。因此，虽然通过以上实施例对本发明进行了较为详细的说明，但是本发明不仅仅限于以上实施例，在不脱离本发明构思的情况下，还可以包括更多其他等效实施例，而本发明的范围由所附的权利要求范围决定。

Claims (10)

1.一种掩膜版，其特征在于，所述掩膜版包括用于形成显示面板膜层的蒸镀区，所述蒸镀区包括：

多个开孔区和多个非开孔区，所述开孔区位于相邻的所述非开孔区之间，至少部分相邻的所述非开孔区之间设置有第一连接结构；其中，沿垂直于所述第一连接结构延伸方向的方向，在所述第一连接结构处形成的蒸镀阴影区域的宽度大于等于所述第一连接结构的宽度；

所述第一连接结构贯穿位于对应的相邻所述非开孔区之间的开孔区且所述第一连接结构划分对应的所述开孔区为主体部和至少一个端部，所有所述非开孔区与所有所述第一连接结构构成一体结构。

2.根据权利要求1所述的掩膜版，其特征在于，所述开孔区以及所述非开孔区均沿第一方向和第二方向矩阵排列，所述开孔区位于相邻的四个所述非开孔区之间；其中，所述第一方向与所述第二方向相互垂直；

沿所述第一方向相邻的所述非开孔区之间设置有所述第一连接结构，沿所述第二方向相邻的所述非开孔区之间设置有所述第一连接结构。

3.根据权利要求2所述的掩膜版，其特征在于，沿所述第一方向相邻的两个所述非开孔区之间的所述第一连接结构沿所述第一方向延伸，沿所述第二方向相邻的两个所述非开孔区之间的所述第一连接结构沿所述第二方向延伸。

4.根据权利要求2所述的掩膜版，其特征在于，所述开孔区包括主体部、沿所述第一方向位于所述主体部两侧的端部以及沿所述第二方向位于所述主体部两侧的端部。

5.根据权利要求4所述的掩膜版，其特征在于，至少一个所述开孔区的主体部的形状与其余所述开孔区的主体部的形状不同。

6.根据权利要求1-5任一项所述的掩膜版，其特征在于，相邻的所述开孔区之间设置有开孔连线区，所述开孔连线区连接对应的两个相邻的所述开孔区。

7.根据权利要求1-5任一项所述的掩膜版，其特征在于，至少部分相邻的所述开孔区之间设置有至少两个开孔连线区以及至少一个第二连接结构，至少一个所述开孔连线区与对应的相邻的两个所述开孔区中的一个开孔区连接，至少一个所述开孔连线区与对应的相邻的两个所述开孔区中的另一个开孔区连接；

沿所述开孔连线区的延伸方向，所述开孔连线区与所述第二连接结构间隔排列。

8.一种蒸镀装置，其特征在于，包括如权利要求1-7任一项所述的掩膜版，还包括：

蒸镀源，所述蒸镀源位于所述掩膜版未设置待蒸镀基板的一侧；

沿垂直于所述第一连接结构延伸方向的方向，所述蒸镀源在对应所述第一连接结构处形成的蒸镀阴影区域的宽度大于等于所述第一连接结构的宽度。

9.根据权利要求8所述的蒸镀装置，其特征在于，沿平行于所述掩膜版的方向，所述蒸镀源相对于所述掩膜版可移动；

至少沿垂直于所述第一连接结构延伸方向的方向，所述蒸镀源相对于所述掩膜版可移动。

10.根据权利要求8所述的蒸镀装置，其特征在于，沿垂直于所述掩膜版的方向，所述蒸镀源相对于所述掩膜版可移动。

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