CN214168126U - 一种提高镀层均匀性的化学镀槽 - Google Patents

Abstract

本申请涉及一种提高镀层均匀性的化学镀槽，涉及表面处理设备领域，其包括镀槽，镀槽包括不断补充溶液的补液腔和浸泡镀件的镀件腔，补液腔位于镀件腔的下方，补液腔与镀件腔之间设置有隔板进行分隔，隔板上贯穿开设有多个连通补液腔和镀件腔的连通孔。针对现有的化学镀槽中镀件表面镀层均匀程度难以保证的问题，本申请具有提高镀槽内溶液流动性的效果，通过提高溶液流动性使镀槽内镀件的各个部位与溶液充分反应，进而提高镀件表面镀层的均匀程度。

Description

一种提高镀层均匀性的化学镀槽

技术领域

本申请涉及表面处理设备领域，尤其是涉及一种提高镀层均匀性的化学镀槽。

背景技术

化学镀是一种在无电流通过的情况下，金属离子在同一溶液中还原剂的作用下通过可控制的氧化还原反应在具有催化表面(催化剂一般为钯、银等贵金属离子)的镀件上还原成金属，从而在镀件表面上获得金属沉积层的过程，也称自催化镀或无电镀。

相关技术中，需要使用化学镀槽作为化学镀过程的反应容器，化学镀槽内盛放化学溶液，化学镀时，将镀件没入化学溶液中。由于镀件各个位置与化学溶液的接触情况有差异，化学反应存在差异，镀件表面的金属沉积层（后文统称为镀层）的均匀程度难以保证。

针对上述中的相关技术，发明人认为存在有需要改善化学镀方式下镀件上的镀层均匀程度的问题。

实用新型内容

为了改善化学镀方式下镀件表面镀层的均匀性，本申请提供了一种提高镀层均匀性的化学镀槽，具有提高化学镀槽中化学溶液流动性的效果，通过提高溶液流动性使镀件各个部位与溶液充分接触，保证镀件表面与溶液充分反应的同时，进而保证了镀层的均匀程度。

本申请提供的一种提高镀层均匀性的化学镀槽采用如下的技术方案：

一种提高镀层均匀性的化学镀槽，包括镀槽，所述镀槽包括不断补充溶液的补液腔和浸泡镀件的镀件腔，所述补液腔位于所述镀件腔的下方，所述补液腔与所述镀件腔之间设置有隔板进行分隔，所述隔板上贯穿开设有多个连通所述补液腔和所述镀件腔的连通孔。

通过采用上述技术方案，补液腔中溶液通过隔板上的多个连通孔充入镀件腔中，多个连通孔中喷出的液流作用在镀件腔中的溶液上，进而增强整个镀件腔中溶液的流动性，溶液能够更充分的与镀件接触，以保障镀件各个部位充分与溶液接触并反应，以提高镀件表面镀层的均匀性。

优选的，所述连通孔均匀分布在所述隔板上，多个所述连通孔组成与隔板端面同心的矩形轮廓。

通过采用上述技术方案，喷孔均匀分布在隔板上，且组成与隔板端面同心的矩形轮廓，连通孔射出的液流均匀的作用在镀件腔中的溶液上，使镀件腔中的溶液均匀的流动，使得镀件各部位与溶液的均匀接触，镀件各部位的反应条件更为一直，进一步改善镀件表面镀层的均匀性。

优选的，所述连通孔包括圆台状的压缩孔段，所述压缩孔段的上底端靠近所述镀件腔。

通过采用上述技术方案，提高连通孔喷射的液流流速，进一步提高镀件腔内溶液的流动性，优化化学镀环境，进一步改善镀件表面镀层的均匀性。在补液腔的单位时间补液量不变的情况下，溶液穿过圆台状的压缩孔段时由于通流面积发生减小，液流的流速会加快，进而更有效的带动镀件腔中的溶液流动，溶液的流速更快，镀件各部位与溶液的接触也更加均匀，进一步改善镀件表面镀层的均匀性。

优选的，所述连通孔还包括同轴设置在所述压缩孔段的上底端的喷射孔段和同轴设置在所述压缩孔段的下底端的进液孔段，所述喷射孔段的孔径与所述压缩孔段的上底端的孔径相同，所述进液孔段的孔径与所述压缩孔段的下底段的孔径相同。

通过采用上述技术方案。

优选的，所述补液腔的底部设置有向所述补液腔内补充溶液的补液管，所述隔板靠近所述补液腔的一侧设置有环状的围护板，所述补液管位于所述围护板的环状轮廓内，所述连通孔设置在所述围护板轮廓内。

通过采用上述技术方案，设置围护板在连通孔和补液管之间形成半封闭的腔室，补液管喷出的溶液能够集中供应到连通孔所在的板体范围中，有利于增强喷射液流的流速，进而更好的提高镀件腔中溶液的流动性，更好的改善镀件表面镀层的均匀性。

优选的，所述隔板可拆卸固定在所述镀槽内。

通过采用上述技术方案，可拆卸的隔板使用更加方便。拆卸隔板可对镀槽内进行整体清洁；对隔板进行更换或修复，以保障隔板功能正常发挥。

优选的，所述镀槽为柱状的槽体，所述镀槽的内壁上沿其周向设置有多个隔板固定块，所述隔板的边缘搭设在所述隔板固定块上，所述隔板通过螺栓可拆卸固定在所述隔板固定块上，所述隔板固定块上开设有与螺栓螺纹配合的螺纹孔。

通过采用上述技术方案，可拆卸固定隔板。

优选的，还包括设置在所述镀槽周围的环状的收集槽。

通过采用上述技术方案，收集镀槽中溢出或溅射出的溶液，减少浪费和对周围环境的污染。

综上所述，本申请包括以下至少一种有益技术效果：

通过在镀槽中设置补充溶液的补液腔和浸没镀件的镀件腔，并通过带有连通孔的隔板分隔两个腔室，镀件浸没在镀件腔中时，隔板上能够向上喷出多股液流，进而增强镀件槽内溶液的流动性，优化镀件表面镀层的均匀性；

通过在隔板上均匀设置多个连通孔，使隔板上喷射的液流均匀的分布在镀件腔中，提高镀件槽中溶液的流动性和均匀性，优化镀件表面镀层的均匀性。

附图说明

图1是本申请实施例的整体结构示意图；

图2是图1中A区域的放大视图；

图3是本申请实施例的俯视结构示意图；

图4是本申请实施例的俯视结构示意图（隐藏隔板）。

附图标记：1、镀槽；11、补液腔；12、镀件腔；13、隔板固定块；2、收集槽；21、折弯边；3、隔板；31、连通孔；311、进液孔段；312、压缩孔段；313、喷射孔段；32、围护板；4、补液管；5、排液管。

具体实施方式

以下结合附图1-4对本申请作进一步详细说明。

本申请实施例公开了一种提高镀层均匀性的化学镀槽，参照图1，包括长方体状的镀槽1、同轴设置在镀槽1周侧的收集槽2、安装在镀槽1内且水平设置的隔板3、设置在镀槽1底部并向镀槽1内补充溶液的补液管4和设置在收集槽2底部的排液管5；隔板3上开设有多个连通孔31，隔板3将镀槽1分隔为两个腔室，两个腔室通过隔板3上的连通孔31连通，隔板3下方腔室为补液腔11，隔板3上方腔室为放置镀件的镀件腔12。化学镀过程中补液管4不断向补液腔11中充入溶液，溶液通过隔板3上的连通孔31射入镀件腔12中，自连通孔31射入镀件腔12中的液流能够带动镀件腔12中的溶液流动，进而使镀件腔12的溶液更充分的与镀件接触，保证镀件各个部位与溶液充分接触并反应，进而提高镀件表面镀层的均匀性。

参考图1和图2，隔板3靠近补液腔11的一侧一体设置有四块垂直于隔板3的围护板32，四块围护板32配合隔板3组成下端开口的腔体，围护板32的下端靠近镀槽1的槽底或与镀槽1的槽底接触，以使得隔板3、围护板32、镀槽1槽底组成一个具有一定封闭性的腔室，溶液会难以充入围护板32外侧的腔室，补液腔11中的溶液主要从隔板3上的连通孔31进入镀件腔12中，溶液不易从隔板3与镀槽1之间的间隙穿过，保证溶液可以有效的自隔板3上的连通孔31喷出，可靠的带动镀件腔12中的溶液流动。镀槽1的内壁上固定有隔板固定块13，隔板3架设在隔板固定块13上。

参考图2，连通孔31包括圆台状的压缩孔段312、圆柱状的喷射孔段313和圆柱状的进液孔段311，三个孔段同轴且相互连通，压缩孔段312的上底端朝向镀件腔12，压缩孔段312的下底端朝向补液腔11，喷射孔段313位于压缩孔的上底端，且喷射孔段313的孔径等于压缩孔段312上底端的孔径，进液孔段311位于压缩孔的下底端，且进液孔段311的孔径等于压缩孔段312下底端的孔径。缩小通流面积，连通孔31中射出的液流更加强劲，能够更有效的带动镀件腔12中的溶液发生流动。

参考图1和图3，连通孔31设置在围护板32范围内，且多个连通孔31均匀分布在与隔板3端面同心的矩形轮廓内。

参照图3，收集槽2环绕镀槽1设置以回收镀槽1中溢出的溶液，参考图1，收集槽2的侧壁顶部高于镀槽1的侧壁顶部，收集槽2的侧壁可以有效阻挡飞溅的溶液，减少溶液浪费，降低车间环境受到的污染；参考图1，收集槽2的侧壁上端通过弯折形成折弯边21，加强收集槽2槽口的结构强度；参考图1和图3，收集槽2的底部设置有长方体状的汇集槽，汇集槽的上端与收集槽2的槽底连通；排液管5设置在汇集槽的底部，收集槽2的底板向汇集槽侧倾斜形成斜底，以便于收集槽2内的溶液流入汇集槽中，提高溶液的回收效率。

参考图1、图3和图4，镀槽1内设置有四块隔板固定块13且分别位于镀槽1的四个拐角位置，隔板固定块13上开设有螺纹孔，使用螺栓类的固定件穿过隔板3并旋拧在隔板固定块13上的螺纹孔中，旋紧螺栓，进而将隔板3固定在隔板固定块13上。

本申请实施例涉及的一种提高镀层均匀性的化学镀槽的实施原理为：在镀槽1中设置补充溶液的补液腔11和浸没镀件的镀件腔12，并通过带有连通孔31的隔板3分隔两个腔室，镀件浸没在镀件腔12中时，隔板3上能够向上喷出多股液流，进而增强镀件槽内溶液的流动性，流动溶液能够更充分的与镀件的各个部位接触，保证镀件各个部位充分与溶液反应，进而起到提高镀件表面镀层的均匀性的效果；通过在隔板3上均匀设置多个连通孔31，使隔板3上喷射的液流均匀的分布在镀件腔12中间位置中，提高镀件槽中溶液的流动性和流动的均匀性，进一步优化镀件的化学镀环境，以优化镀件表面镀层质量，改善镀层均匀性。

以上均为本申请的较佳实施例，并非依此限制本申请的保护范围，故：凡依本申请的结构、形状、原理所做的等效变化，均应涵盖于本申请的保护范围之内。

Claims (8)

1.一种提高镀层均匀性的化学镀槽，包括镀槽（1），其特征在于：所述镀槽（1）包括不断补充溶液的补液腔（11）和浸泡镀件的镀件腔（12），所述补液腔（11）位于所述镀件腔（12）的下方，所述补液腔（11）与所述镀件腔（12）之间设置有隔板（3）进行分隔，所述隔板（3）上贯穿开设有多个连通所述补液腔（11）和所述镀件腔（12）的连通孔（31）。

2.根据权利要求1所述的一种提高镀层均匀性的化学镀槽，其特征在于：所述连通孔（31）均匀分布在所述隔板（3）上，多个所述连通孔（31）组成与隔板（3）端面同心的矩形轮廓。

3.根据权利要求2所述的一种提高镀层均匀性的化学镀槽，其特征在于：所述连通孔（31）包括圆台状的压缩孔段（312），所述压缩孔段（312）的上底端靠近所述镀件腔（12）。

4.根据权利要求3所述的一种提高镀层均匀性的化学镀槽，其特征在于：所述连通孔（31）还包括同轴设置在所述压缩孔段（312）的上底端的喷射孔段（313）和同轴设置在所述压缩孔段（312）的下底端的进液孔段（311），所述喷射孔段（313）的孔径与所述压缩孔段（312）的上底端的孔径相同，所述进液孔段（311）的孔径与所述压缩孔段（312）的下底段的孔径相同。

5.根据权利要求4所述的一种提高镀层均匀性的化学镀槽，其特征在于：所述补液腔（11）的底部设置有向所述补液腔（11）内补充溶液的补液管（4），所述隔板（3）靠近所述补液腔（11）的一侧设置有环状的围护板（32），所述补液管（4）位于所述围护板（32）的环状轮廓内，所述连通孔（31）设置在所述围护板（32）轮廓内。

6.根据权利要求1所述的一种提高镀层均匀性的化学镀槽，其特征在于：所述隔板（3）可拆卸固定在所述镀槽（1）内。

7.根据权利要求5所述的一种提高镀层均匀性的化学镀槽，其特征在于：所述镀槽（1）为柱状的槽体，所述镀槽（1）的内壁上沿其周向设置有多个隔板固定块（13），所述隔板（3）的边缘搭设在所述隔板固定块（13）上，所述隔板（3）通过螺栓可拆卸固定在所述隔板固定块（13）上，所述隔板固定块（13）上开设有与螺栓螺纹配合的螺纹孔。

8.根据权利要求1所述的一种提高镀层均匀性的化学镀槽，其特征在于：还包括设置在所述镀槽（1）周围的环状的收集槽（2）。

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