CN214168127U - 一种化学镀槽 - Google Patents

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Abstract

本申请公开了一种化学镀槽,涉及电镀设备领域,其包括镀槽,还包括设置在镀槽底部的补液管和设置在镀槽周侧的收集槽,补液管与镀槽内部连通,收集槽内设置有将收集槽内的溶液送回溶液源的回流管。针对现有的化学镀槽中溶液流动性较差、化学镀层均匀程度不够好的问题,本申请具有提高化学镀槽内溶液的流动性、提高化学镀层均匀性的效果。

Description

一种化学镀槽
技术领域
本申请涉及电镀设备领域,尤其是涉及一种化学镀槽。
背景技术
化学镀是一种在无电流通过的情况下,金属离子在同一溶液中还原剂的作用下通过可控制的氧化还原反应在具有催化表面(催化剂一般为钯、银等贵金属离子)的镀件上还原成金属,从而在镀件表面上获得金属沉积层的过程,也称自催化镀或无电镀。
相关技术中,需要使用化学镀槽作为化学镀过程的反应容器,化学镀槽内盛放化学溶液,化学镀时,将镀件没入化学溶液中。由于镀件各个位置与化学溶液的接触情况有差异,化学反应存在差异,镀件表面的金属沉积层(后文统称为镀层)的均匀程度不易保证。
针对上述中的相关技术,发明人认为存在有需要改善化学镀方式下镀件上的镀层均匀性的问题。
实用新型内容
为了改善化学镀方式下镀件表面镀层的均匀性,本申请提供了一种化学镀槽,具有提高化学镀槽中化学溶液流动性进而改善提高镀层均匀性的优点。
本申请提供的一种化学镀槽采用如下的技术方案:
一种化学镀槽,包括镀槽,还包括设置在所述镀槽底部的补液管和设置在所述镀槽周侧的收集槽,所述补液管与所述镀槽内部连通,所述收集槽内设置有将收集槽内的溶液送回溶液源的回流管。
通过采用上述技术方案,溶液自补液管不断充入镀槽内,充入的溶液带动镀槽内的溶液流动,进而优化镀件表面镀层的均匀性;镀槽周侧的收集槽收集镀槽中溢出的溶液,方便对溶液进行回收利用。溶液的流动性的增强可以使镀件各部位与溶液的接触更为均匀、充分,镀件各部位的镀层生成情况较为一致,优化镀件表面镀层的均匀性;将补液管设置在镀槽的底部,保障镀槽底部的溶液也能被带动流动,镀槽内的溶液更容易被全面带动,优化设计以优化镀槽的溶液的流动性;溢出镀槽的溶液落入镀槽外的收集槽中,减少溶液浪费和预防污染车间环境,收集槽内的溶液可通过回流管回流到溶液源中,进而实现溶液的循环使用。
优选的,所述镀槽槽体内部设置有倒立设置的锥形槽底,所述补液管位于所述锥形槽底的中心位置;
所述补液管包括空心柱状的喷管和固定在所述喷管上的挡头,所述挡头位于所述喷管靠近所述镀槽内部的一端并悬于所述喷管上方。
通过采用上述技术方案,补液管喷出的液流向补液管四周喷射,并在锥形槽底的引导下形成向上的液流,补液管更均匀的带动镀槽中的溶液,进一步改善镀槽内溶液与镀件接触的均匀性,优化镀件表面镀层的均匀性。挡头挡在喷管的上方,自喷管喷射出的溶液在挡头的阻挡下变成向挡头周侧喷出的液流,且液流沿锥形的槽底形成影响范围更大的斜向上的液流,位于锥形槽底中心的补液管充入镀槽内的液流能够更加有效、更均匀的影响镀槽内各个区域的溶液以加快镀槽内溶液的流动性并提高化学镀过程的均匀性。
优选的,所述镀槽为长方体状的槽体,所述锥形槽底为两块相同规格三角板和两块相同规格的梯形板围成的锥形凹底,所述三角板和所述梯形板均固定在所述镀槽的内壁上。
通过采用上述技术方案,槽底易于加工制造,对溶液的引导效果较佳。相较于圆锥底,板体更容易制造,且板体组成的锥形槽底能够更好的配合长方体状的镀槽;板体组成的锥形槽底部,引导溶液的斜面均为平面,对液流的引导效果更佳。
优选的,所述补液管固定在两个所述梯形板之间,所述喷管靠近所述挡头一端的端面不高于两个所述梯形板的上板面交线,所述挡头位于所述梯形板上方。
通过采用上述技术方案,喷管的喷液口不高于镀槽的槽底最低位置,经喷管进入镀槽内的溶液,会沿镀槽的底部斜面向上运动,优化镀槽的锥形槽底对充入镀槽内的溶液的流向控制,进一步增强镀槽内溶液的流动性。
优选的,所述挡头靠近所述喷管的一侧,所述挡头靠近所述喷管的一侧,配合两侧的三角板设置有两个引流斜面。
通过采用上述技术方案,设置引流斜面能够配合三角板对溶液进行导向引流,引流斜面起到引导效果的同时还能降低挡头对溶液动能的损耗,相应的增强镀槽内溶液的流动性。
优选的,所述挡头靠近所述喷管的一侧,配合两侧的三角板设置有两个引流斜面。
通过采用上述技术方案,引流斜面配合三角板,进一步优化了补液管与挡头之间的喷液口的结构,使液流喷出后与镀槽的底部之间冲击降低,降低溶液的动能损耗,增强镀槽内溶液的流动性。
优选的,所述收集槽的槽壁高于所述镀槽的槽边。
通过采用上述技术方案,收集槽的槽壁更好的阻挡飞溅的溶液,减少浪费,预防污染。
优选的,所述收集槽的槽底为向所述回流管倾斜的斜底。
通过采用上述技术方案,更好的集中槽回收的溶液,便于回收的溶液自回流管回流,减少收集槽中滞留的溶液,减少浪费。
优选的,所述收集槽的槽底固定在所述镀槽的侧壁上且位于所述锥形槽底的上方,所述收集槽的槽底下方设置有汇集槽,所述汇集槽的底部与所述镀槽的地面平齐,所述回流管为设置在所述收集槽底部的管道,所述回流管与所述收集槽内部连通。
通过采用上述技术方案,落入收集槽中的溶液会汇集在高度较低的收集槽中,方便经回流管排出回收的溶液。
综上所述,本申请包括以下至少一种有益技术效果:
通过在镀槽的底部设置补液管,借助补液管不断向镀槽内充入溶液,以增强镀槽内溶液的流动性,使溶液与镀件之间的接触更加均匀,进而改善镀件表面镀层的均匀性;
通过在补液管上设置挡头并配合的在镀槽底部设置由三角板和梯形板组成的锥形槽底,补液管配合锥形槽底形成的液流对镀槽内溶液流动性的影响更加均匀且高效,优化镀槽结构,进一步改善镀件表面的镀层质量,补液管的管口不高于锥形槽底的最低位置,能够避免存在补液管管口之下的溶液,补液管喷出的液流能够充分影响镀槽内的所有溶液;
通过在镀槽的周围设置收集槽并在收集槽底部设置回流管,对镀槽中溢出、溅射出的溶液进行回收再领用,减少化学镀过程中的污染和浪费。
附图说明
图1是本申请实施例的俯视图;
图2是沿图1的中A-A剖切得到的剖视图;
图3是沿图1的中B-B剖切得到的剖视图;
图4是图2中C区域的放大视图;
图5是图3中D区域的放大视图。
附图标记:1、镀槽;11、锥形槽底;12、梯形板;13、三角板;2、补液管;21、挡头;22、连接柱;23、引流斜面;3、收集槽;31、折弯边;32、斜底;4、汇集槽;5、回流管。
具体实施方式
以下结合附图1-5对本申请作进一步详细说明。
本申请实施例公开了一种化学镀槽,参照图1和图2,包括盛放化学镀溶液的镀槽1、收集溢出的溶液的收集槽3和集中溢出溶液并排出的汇集槽4,镀槽1、收集槽3和汇集槽4均为上端面敞口设置的长方体状槽体,镀槽1的底部安装有与镀槽1内部连通的补液管2,溶液不断从补液管2进入镀槽1内,汇集槽4底部安装有与汇集槽4内部连通的回流管5,收集的溶液回流到储存溶液的设备中。
参考图1,收集槽3环绕镀槽1设置以回收镀槽1中溢出的溶液,参考图2,收集槽3的侧壁顶部高于镀槽1的侧壁顶部,收集槽3的侧壁可以有效阻挡飞溅的溶液,减少溶液浪费,降低车间环境受到的污染;收集槽3的侧壁上端通过弯折形成折弯边31,加强收集槽3槽口的结构强度;汇集槽4设置在收集槽3的底部且位于镀槽1的一侧,汇集槽4上端开口贯穿汇集槽4的底部使两槽连通,收集槽3的底板向汇集槽4侧倾斜形成斜底32,以便于收集槽3内的溶液流入汇集槽4中,提高溶液的回流效率。
参考图1,镀槽1的底部由两块相对设置的梯形板12和两块相对设置的三角板13组成,板体与镀槽1的侧壁焊接固定,板体与板体之间焊接固定,两块梯形板12的轮廓均为等腰梯形,两块三角板13的轮廓均为等腰三角形,梯形板12的腰和三角板13的腰的长度相等;再参考图2和图3,两块梯形板12与两块三角板13组成下凹的锥形槽底11,补液管2位于镀槽1槽底的中心位置;参考图4和图5,梯形板12上底侧的上方侧边与补液管2管口上端平面平齐;补液管2靠近镀槽1槽体内的一端设置有挡头21,挡头21为与补液管2同轴的圆柱状挡流件,挡头21的直径与补液管2的外径相等;挡头21与补液管2之间设置有两根连接柱22,连接柱22的两端分别与补液管2和挡头21一体固定,连接柱22支撑挡头21使补液管2与挡头21之间形成喷液间隙。
参考图4,挡头21靠近补液管2的一侧对应两侧的三角板13设置有两个引流斜面23。挡头21上的引流斜面23配合补液管2的形成斜向上的喷液口,能够更自然的形成斜向上的液流,降低补液管2中喷出溶液的动能损耗,增强喷射液流对镀槽1内溶液的带动效果,优化镀槽1内溶液的流动性。
本申请实施例涉及的一种化学镀槽的实施原理为:在镀槽1内填充有溶液的情况下,补液管2不断从镀槽1的底部向镀槽1内充入溶液,由于堵头的遮挡作用,溶液自补液管2和堵头之间的缝隙斜向喷出,溶液冲击在镀槽1的底板上并沿倾斜的梯形板12和三角板13形成向上的液流,上升的液流增加了镀槽1内溶液的流动性,能够有效提高镀层的均匀性;镀槽1内不断充入溶液,溶液的液面升高,在镀槽1的周侧设置收集槽3,收集自镀槽1中溢出的溶液,并进行集中回收,避免过多的浪费。
以上均为本申请的较佳实施例,并非依此限制本申请的保护范围,故:凡依本申请的结构、形状、原理所做的等效变化,均应涵盖于本申请的保护范围之内。

Claims (8)

1.一种化学镀槽,包括镀槽(1),其特征在于:还包括设置在所述镀槽(1)底部的补液管(2)和设置在所述镀槽(1)周侧的收集槽(3),所述补液管(2)与所述镀槽(1)内部连通,所述收集槽(3)内设置有将收集槽(3)内的溶液送回溶液源的回流管(5)。
2.根据权利要求1所述的一种化学镀槽,其特征在于:所述镀槽(1)槽体内部设置有倒立设置的锥形槽底(11),所述补液管(2)位于所述锥形槽底(11)的中心位置;
所述补液管(2)包括空心柱状的喷管和固定在所述喷管上的挡头(21),所述挡头(21)位于所述喷管靠近所述镀槽(1)内部的一端并悬于所述喷管上方。
3.根据权利要求2所述的一种化学镀槽,其特征在于:所述镀槽(1)为长方体状的槽体,所述锥形槽底(11)为两块相同规格三角板(13)和两块相同规格的梯形板(12)围成的锥形凹底,所述三角板(13)和所述梯形板(12)均固定在所述镀槽(1)的内壁上。
4.根据权利要求3所述的一种化学镀槽,其特征在于:所述补液管(2)固定在两个所述梯形板(12)之间,所述喷管靠近所述挡头(21)一端的端面不高于两个所述梯形板(12)的上板面交线,所述挡头(21)位于所述梯形板(12)上方。
5.根据权利要求4所述的一种化学镀槽,其特征在于:所述挡头(21)靠近所述喷管的一侧配合两侧的三角板(13)设置有两个引流斜面(23)。
6.根据权利要求1-5任一项所述的一种化学镀槽,其特征在于:所述收集槽(3)的槽壁高于所述镀槽(1)的槽边。
7.根据权利要求1所述的一种化学镀槽,其特征在于:所述收集槽(3)的槽底为向所述回流管(5)倾斜的斜底(32)。
8.根据权利要求2所述的一种化学镀槽,其特征在于:所述收集槽(3)的槽底固定在所述镀槽(1)的侧壁上且位于所述锥形槽底(11)的上方,所述收集槽(3)的槽底下方设置有汇集槽(4),所述回流管(5)为设置在所述收集槽(3)底部的管道,所述回流管(5)与所述收集槽(3)内部连通。
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