CN212426174U - 一种溅射镀膜抽真空系统 - Google Patents

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李均平
邹健
向阳
李永洲
韩阳
曹丽娟
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Abstract

为了解决真空设备工作时,由于箱体内部空间很大,仅仅使用扩散泵5对真空镀膜设备腔体抽真空需要花费的很长时间,生产效率低的问题,本实用新型提出一种溅射镀膜抽真空系统,包括真空室2、通过管道与真空室2连接的抽真空机构、真空检测机构和PLC控制系统1,当开机时,在抽低真空阶段,启动扩散泵5,关闭罗茨泵4和旋片泵3,在抽高真空阶段,旋片泵3、罗茨泵4和扩散泵5可以同时运行,这样就大大减少了抽低真空的时间,提高了生产效率。

Description

一种溅射镀膜抽真空系统
技术领域
本实用新型涉及溅射镀膜技术领域,较为具体的,涉及到一种溅射镀膜抽真空系统。
背景技术
目前,真空磁控溅射镀膜机是对金属、玻璃和塑料表面进行镀膜的专用设备,其可适用于镀制耐磨损的涂层。现有技术的真空磁控溅射镀膜机,包括真空抽气系统、真空室、真空室的上料口、设置在真空室中的工件转架以及设置在真空室体上的磁控溅射装置,可利用物理气相沉积(以下简称“PVD”)技术在工件表面沉积一层几个微米薄的金属层。
真空镀膜设备由真空设备和抽真空系统两大部分组成,而抽真空系统主要利用扩散泵作为主泵达到抽真空的目的,真空设备工作时,由于箱体内部空间很大,仅仅使用扩散泵对真空镀膜设备腔体抽真空需要花费的很长时间,生产效率低。
实用新型内容
有鉴于此,为了解决真空设备工作时,由于箱体内部空间很大,仅仅使用扩散泵对真空镀膜设备腔体抽真空需要花费的很长时间,生产效率低的问题,本实用新型提出一种溅射镀膜抽真空系统,当开机时,在抽低真空阶段,启动扩散泵5,关闭罗茨泵4和旋片泵3,在抽高真空阶段,旋片泵3、罗茨泵4和扩散泵5可以同时运行,这样就大大减少了抽低真空的时间,提高了生产效率。
一种溅射镀膜抽真空系统,包括真空室2、通过管道与真空室2连接的抽真空机构、真空检测机构和PLC控制系统1;其特征在于:所述抽真空机构包括旋片泵3、罗茨泵4和扩散泵5,所述旋片泵3、罗茨泵4和扩散泵5,所述旋片泵3、罗茨泵4和扩散泵5通过管道顺序连接与真空室2之间形成一条由泵体通向真空室2的抽真空气路,所述真空检测机构包括第一真空规6、第二真空规7和第三真空规8,所述第一真空规6设置在真空室2与扩散泵5连接的管道上,第二真空规7设置在罗茨泵4和扩散泵5之间的管道上,第三真空规8设置在旋片泵3和罗茨泵4连接的管道上,所述扩散泵5、罗茨泵4和旋片泵3分别与PLC控制系统1电性连接受PLC控制系统1控制,所述第一真空规6、第二真空规7和第三真空规8分别与PLC控制系统1的信号输入端连接。
进一步的,旋片泵3电性连接马达9,通过马达9产生驱动力抽真空。
进一步的,罗茨泵4的上端与扩散泵5的中部通过管道连接,罗茨泵4与扩散泵5的管道上设有电机10,通过电机10产生驱动力抽真空。
进一步的,罗茨泵4和旋片泵3之间的管道上设置有第一阀门11。
进一步的,旋片泵3上端设置有放气管14,放气管14上安装有放气阀15。
进一步的,罗茨泵4与扩散泵5的管道上设定第二阀门12。
进一步的,真空室2与扩散泵5的管道上设定第三阀门13。
进一步的,第一阀门11、第二阀门12和第三阀门13均为电动阀,第一阀门11、第二阀门12和第三阀门13均与PLC控制系统1电性连接受PLC控制系统1控制。
本实用新型的有益效果:本实用新型提出一种溅射镀膜抽真空系统,当开机时,在抽低真空阶段,启动扩散泵5,关闭罗茨泵4和旋片泵3,在抽高真空阶段,旋片泵3、罗茨泵4和扩散泵5可以同时运行,这样就大大减少了抽低真空的时间,提高了生产效率。
附图说明
图1为本实用新型的溅射镀膜抽真空系统的系统结构示意图。
图2为本实用新型的溅射镀膜抽真空系统的结构示意图。
主要元件符号说明
Figure BDA0002535449910000021
Figure BDA0002535449910000031
如下具体实施方式将结合上述附图进一步说明本实用新型。
具体实施方式
如图1所示,为本实用新型的溅射镀膜抽真空系统的系统结构示意图;如图2所示,为本实用新型的溅射镀膜抽真空系统的结构示意图。
一种溅射镀膜抽真空系统,包括真空室2、通过管道与真空室2连接的抽真空机构、真空检测机构和PLC控制系统1;其特征在于:所述抽真空机构包括旋片泵3、罗茨泵4和扩散泵5,所述旋片泵3、罗茨泵4和扩散泵5,所述扩散泵5、罗茨泵4和旋片泵3通过管道顺序连接与真空室2之间形成一条由泵体通向真空室2的抽真空气路,所述真空检测机构包括第一真空规6、第二真空规7和第三真空规8,所述第一真空规6设置在真空室2与扩散泵5连接的管道上,第二真空规7设置在罗茨泵4和扩散泵5之间的管道上,第三真空规8设置在旋片泵3和罗茨泵4连接的管道上,所述旋片泵3、罗茨泵4和扩散泵5分别与PLC控制系统1电性连接受PLC控制系统1控制,所述第一真空规6、第二真空规7和第三真空规8分别与PLC控制系统1的信号输入端连接。
所述旋片泵3电性连接马达9,通过马达9产生驱动力抽真空。
所述罗茨泵4的上端与扩散泵5的中部通过管道连接,罗茨泵4与扩散泵5的管道上设有电机10,通过电机10产生驱动力抽真空。
所述罗茨泵4和旋片泵3之间的管道上设置有第一阀门11。
所述旋片泵3上端设置有放气管14,放气管14上安装有放气阀15。
所述罗茨泵4与扩散泵5的管道上设定第二阀门12。
所述真空室2与扩散泵5的管道上设定第三阀门13。
所述第一阀门11、第二阀门12和第三阀门13均为电动阀,第一阀门11、第二阀门12和第三阀门13均与PLC控制系统1电性连接受PLC控制系统1控制。
本实用新型的工作原理:当开机时,在抽低真空阶段,启动扩散泵5,关闭罗茨泵4和旋片泵3,在抽高真空阶段,旋片泵3、罗茨泵4和扩散泵5可以同时运行,这样就大大减少了抽低真空的时间,提高了生产效率。
以上所述实施例仅表达了本实用新型的几种实施方式,其描述较为具体和详细,但并不能因此而理解为对本实用新型专利范围的限制。应当指出的是,对于本领域的普通技术人员来说,在不脱离本实用新型构思的前提下,还可以做出若干变形和改进,这些都属于本实用新型的保护范围。因此,本实用新型专利的保护范围应以所附权利要求为准。

Claims (8)

1.一种溅射镀膜抽真空系统,包括真空室(2)、通过管道与真空室(2)连接的抽真空机构、真空检测机构和PLC控制系统(1);其特征在于:所述抽真空机构包括旋片泵(3)、罗茨泵(4)和扩散泵(5),所述旋片泵(3)、罗茨泵(4)和扩散泵(5),所述扩散泵(5)、罗茨泵(4)和旋片泵(3)通过管道顺序连接与真空室(2)之间形成一条由泵体通向真空室(2)的抽真空气路,所述真空检测机构包括第一真空规(6)、第二真空规(7)和第三真空规(8),所述第一真空规(6)设置在真空室(2)与扩散泵(5)连接的管道上,第二真空规(7)设置在罗茨泵(4)和扩散泵(5)之间的管道上,第三真空规(8)设置在旋片泵(3)和罗茨泵(4)连接的管道上,所述旋片泵(3)、罗茨泵(4)和扩散泵(5)分别与PLC控制系统(1)电性连接受PLC控制系统(1)控制,所述第一真空规(6)、第二真空规(7)和第三真空规(8)分别与PLC控制系统(1)的信号输入端连接。
2.如权利要求1所述的溅射镀膜抽真空系统,其特征在于:旋片泵(3)电性连接马达(9)。
3.如权利要求1所述的溅射镀膜抽真空系统,其特征在于:罗茨泵(4)的上端与扩散泵(5)的中部通过管道连接,罗茨泵(4)与扩散泵(5)的管道上设有电机(10)。
4.如权利要求1所述的溅射镀膜抽真空系统,其特征在于:罗茨泵(4)和旋片泵(3)之间的管道上设置有第一阀门(11)。
5.如权利要求1所述的溅射镀膜抽真空系统,其特征在于:旋片泵(3)上端设置有放气管(14),放气管(14)上安装有放气阀(15)。
6.如权利要求1所述的溅射镀膜抽真空系统,其特征在于:罗茨泵(4)与扩散泵(5)的管道上设定第二阀门(12)。
7.如权利要求1所述的溅射镀膜抽真空系统,其特征在于:真空室(2)与扩散泵(5)的管道上设定第三阀门(13)。
8.如权利要求1所述的溅射镀膜抽真空系统,其特征在于:第一阀门(11)、第二阀门(12)和第三阀门(13)均为电动阀,第一阀门(11)、第二阀门(12)和第三阀门(13)均与PLC控制系统(1)电性连接受PLC控制系统(1)控制。
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